JP2008058618A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶量の過不足によるアレイ基板と対向基板とのギャップむらを容易に防止できる液晶パネルを提供する。
【解決手段】画面部7の外方に位置した非表示領域8に、液晶層4の液晶量調整用の真空状の空間部63を隔壁62により内部に区画するバッファ部61を複数設ける。液晶層4の液晶組成物51を予め所定量よりも多く充填した後、バッファ部61を適宜破壊して、この破壊したバッファ部61の空間部63に液晶層4の一部を拡散させて液晶量を調整することで、液晶量の過不足が生じることを抑制し、液晶量の過不足によるアレイ基板2と対向基板3とのギャップむらを容易に防止できる。
【選択図】図1
【解決手段】画面部7の外方に位置した非表示領域8に、液晶層4の液晶量調整用の真空状の空間部63を隔壁62により内部に区画するバッファ部61を複数設ける。液晶層4の液晶組成物51を予め所定量よりも多く充填した後、バッファ部61を適宜破壊して、この破壊したバッファ部61の空間部63に液晶層4の一部を拡散させて液晶量を調整することで、液晶量の過不足が生じることを抑制し、液晶量の過不足によるアレイ基板2と対向基板3とのギャップむらを容易に防止できる。
【選択図】図1
Description
本発明は、アレイ基板と対向基板との間に介在された液晶層を有する液晶表示素子およびその製造方法に関する。
液晶表示素子としての液晶パネルは、薄型、軽量、低消費電力である等の様々な特徴を有しており、OA機器、情報端末、時計、及びテレビ等の様々な用途に応用されている。特に、薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を有する液晶パネルは、その高い応答性から、携帯テレビジョンやコンピュータなどのように多量の情報を表示するモニタとして用いられている。
近年、情報量の増加に伴い、画像の高精細化や表示速度の高速化に対する要求が高まっている。これら要求のうち画像の高精細化は、例えば、上述したTFTが形成するアレイ構造を微細化することによって実現されている。
一方、表示速度の高速化に関しては、従来の表示モードの代わりに、ネマティック液晶を用いたOCBモード、VANモード、HANモード、及びπ配列モードや、スメクティック液晶を用いた界面安定型強誘電性液晶(Surface Stabilized Ferroelectric Liquid Crystal)モードおよび反強誘電性液晶モードを採用することが検討されている。
これら表示モードは、高いコントラストを得るために、均一な液晶層厚(以下、セルギャップと呼ぶ)を形成することが重要で、セルギャップ均一化のためには液晶表示装置の内容積に応じて適正な量の液晶を充填することが必要である。近年、量産適用が頻繁に行われるようになった液晶滴下工法(ODF)では、特に液晶量の制御が重要であるが、小型液晶表示装置においては滴下量を高精度に制御することが難しく、液晶過多や液晶不足などにより均一なセルギャップが得られないことがあるという問題があった。
そこで、減圧雰囲気下でアレイ基板と対向基板とをシール材により貼り合わせ、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶組成物を充填し、この液晶組成物の広がりに応じてシール材を移動させた後、シール材を硬化することで、液晶組成物の過不足を防止する液晶パネルが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
また、アレイ基板の一主面上に、互いに異なる高さの複数の突起を対向基板側へと突設し、対向基板との間に、これら突起の高さの間に収まるように液晶組成物の滴下量を調整し、真空中においてアレイ基板と対向基板とを貼り合わせて大気圧中に戻すことで高さが高い方の突起を圧縮して、液晶組成物の過不足を防止する液晶パネルも知られている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2005−134561号公報
特開2005−189662号公報
しかしながら、上述の特許文献1記載の液晶表示素子では、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせた段階で、シール材が移動可能であるため、アレイ基板と対向基板との位置合わせが容易でないだけでなく、シール材が適切に移動するようにその粘性を厳密に選択する必要がある。
また、上述の特許文献2記載の液晶表示素子では、複数の突起の高さの差や、これら突起の高さの差に対応する液晶組成物の滴下量を厳密に設定しなければならない。
この結果、上述の液晶表示素子では、ギャップむらを防止するための工程が複雑化するという問題点を有している。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、液晶量の過不足によるアレイ基板と対向基板とのギャップむらを容易に防止できる液晶表示素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、アレイ基板と、このアレイ基板に対向配置される対向基板と、これらアレイ基板と対向基板との間に介在された液晶層と、画像を表示する表示領域と、この表示領域の外方に位置した非表示領域と、この非表示領域に設けられ、前記液晶層の液晶量調整用の少なくとも減圧された空間部を隔壁により内部に区画するバッファ部とを具備したものである。
そして、表示領域の外方に位置した非表示領域に、液晶層の液晶量調整用の少なくとも減圧された空間部を隔壁により内部に区画するバッファ部を設ける。
本発明によれば、液晶層を予め所定量よりも多く充填した後、バッファ部を適宜破壊して、この破壊したバッファ部の空間部に液晶層の一部を拡散させて液晶量を調整することで、液晶量の過不足が生じることを抑制し、この液晶量の過不足によるアレイ基板と対向基板とのギャップむらを容易に防止できる。
以下、本発明の第1の実施の形態の液晶表示素子の構成を図1ないし図3を参照して説明する。
図1において、1は液晶表示素子としてのアクティブマトリクス型の液晶パネルであり、この液晶パネル1は、略四角形平板状のアレイ基板2と、このアレイ基板2に対向配置されるカラーフィルタ基板である対向基板3と、これら基板2,3間に介在される液晶層4とを備え、基板2,3が液晶層4の周囲にて、シール部材としての紫外線硬化樹脂であるUVシール5により接着されている。
アレイ基板2は、薄膜トランジスタ(TFT)基板であって、略透明な四角形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板6を有している。
さらに、このガラス基板6の一主面である対向基板3側の主面の表面上の中央部には、表示領域としての平面視で四角形状の画面部7が形成され、この画面部7の周囲には、この画面部7の全周を囲む額縁状の非表示領域8が形成されている。そして、この非表示領域8の全周は、UVシール5により囲まれている。また、ガラス基板6上の画面部7には、複数の画素9がマトリクス状に設けられて配置されている。これら複数の画素9は、ガラス基板6の縦方向に沿ってn個形成されており、このガラス基板6の横方向に沿ってm個形成されている。したがって、これら複数の画素9は、ガラス基板6上にn×m個形成されている。さらに、これら画素9のそれぞれには、透明電極である画素電極11、蓄積容量としての画素補助容量である補助容量12(図2)および薄膜トランジスタ(TFT)13がそれぞれ1つずつ配置されている。
また、ガラス基板6の表面には、シリコン窒化膜や酸化シリコン膜などにて構成された図示しないアンダーコート層が積層されて成膜されている。このアンダーコート層上には、例えばトップゲートタイプの薄膜トランジスタ13が1画素構成要素として配設されている。この薄膜トランジスタ13は、スイッチング素子として機能するTFT素子である。そして、これら薄膜トランジスタ13は、アンダーコート層上に形成されたソース電極21およびドレイン電極22を備えている。これらソース電極21およびドレイン電極22は、所定の間隙を介して電気的に絶縁された状態で設けられている。また、ドレイン電極22は、薄膜トランジスタ13に隣接してアンダーコート層上に積層された画素電極11に電気的に接続されている。
さらに、これらソース電極21およびドレイン電極22の間には、半導体層としての活性層23が設けられている。この活性層23は、ソース電極21およびドレイン電極22を含むアンダーコート層上に設けられている。そして、この活性層23は、p−Siにて構成された半導体層である。すなわち、この活性層23は、非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)をエキシマレーザ溶解結晶化であるアニールしてからパターニングして作成した島状のp−Si薄膜である。
また、この活性層23上には、図示しないゲート絶縁膜を介して導電性を有するゲート電極24が積層されて成膜されている。ここで、このゲート電極24は、活性層23の長手方向に直交する長手方向を有している。また、このゲート電極24は、活性層23の幅寸法より小さな幅寸法を有しており、この活性層23上の中央部に設けられている。
そして、薄膜トランジスタ13間には、アレイ基板2の厚さ方向に沿った長手方向を有する細長円柱状のスペーサ31が突設されている。これらスペーサ31は、液晶層4の層厚を一定に制御するもので、画面部7の縦方向および横方向のそれぞれに向けて所定個数、設けられている。すなわち、これらスペーサ31は、アレイ基板2の画面部7上に等間隔に離間されて設けられている。また、これらスペーサ31は、例えばアクリル製の透明樹脂材料にて構成されている。
画素電極11は、薄膜トランジスタ13により駆動されるもので、例えば100nm(0.1μm)ほどの膜厚のITO(Indium Tin Oxide)膜のスパッタ法にて成膜されて形成されている。
そして、ガラス基板6の他主面である対向基板3と反対側の主面には、略四角形平板状の偏光板36が取り付けられている。
一方、対向基板3は、略透明な四角形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板41を備えている。このガラス基板41の一主面であるアレイ基板2側の主面には、図示しないアンダーコート層が積層され、このアンダーコート層上には、着色層としてのカラーフィルタ層42と、遮光層としての遮光部である遮光額縁43とが積層されて設けられている。
カラーフィルタ層42は、少なくとも2色以上である1組の色単位、例えば赤(Red:R)色の着色層である赤色フィルタ部44と、緑(Green:G)色の着色層である緑色フィルタ部45と、青(Blue:B)色の着色層である青色フィルタ部46との3つのドットがアレイ基板2の縦方向および横方向のそれぞれに向けて繰り返し配置されて構成されている。
ここで、赤色フィルタ部44は、例えば10質量%ほど赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストにて構成されている。また、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46も同様に、緑色あるいは青色の顔料を、例えば10質量%ほど分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストにて構成されている。さらに、これら赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46のそれぞれは、例えば1500nm(1.5μm)の等しい膜厚に形成されている。
そして、これら複数の赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46にて構成されたカラーフィルタ層42は、アレイ基板2の各画素9に対応して設けられており、これら各画素9内に位置する薄膜トランジスタ13を覆うように配置されている。
また、遮光額縁43は、例えばインクジェットあるいはディスペンサによる液状の遮光性材料の塗布にて形成された遮光性膜にてカラーフィルタ層42の周囲に、非表示領域8から各基板2,3の外周縁部に亘って連続して形成されている。
ここで、遮光性材料としては、カーボンあるいはチタンなどの遮光性の高い顔料が用いられた、いわゆる樹脂ブラックなどである。よって、遮光額縁43は、カラーフィルタ層42の周縁部にて硬化する以前の液状の遮光性材料による漏れを防止するため、カラーフィルタ層42の層厚より小さな厚さ寸法を有している。
さらに、カラーフィルタ層42上には、共通電極(コモン電極)としての対向電極48が積層されている。この対向電極48は、透明電極として、例えばITO膜にて構成されている。また、この対向電極48は、対向基板3の表面とアレイ基板2の表面とを対向させた際に、このアレイ基板2のガラス基板6の画面部7全体に亘って対向する四角形状の大きな電極である。言い換えると、この対向電極48は、アレイ基板2に対向基板3を対向させた際に、このアレイ基板2の画素電極11と相対するように配置されている。さらに、この対向電極48を含んだガラス基板41上の全面には、図示しない配向膜が積層されて形成されている。
そして、対向基板3は、アレイ基板2に設けられている各スペーサ31を対向基板3の対向電極48に当接させて、これらアレイ基板2と対向基板3との間に所定の間隔である液晶封止領域がスペーサ31にて保持されて形成されるように、平行に離間された状態で取り付けられている。
また、液晶層4は、液晶材料として、所定の液晶組成物51が基板2,3の各配向膜間に滴下されることで形成されている。さらに、この液晶層4は、アレイ基板2の画素電極11と対向基板3の対向電極48との間に液晶容量を形成させる。
そして、UVシール5は、液晶層4を基板2,3間に封止させるもので、アレイ基板2の段差が最も低い位置、例えばアレイ基板2の画面部7の外方の配向膜と対向基板3の遮光額縁43との間に設けられている。すなわち、このUVシール5は、アレイ基板2のガラス基板6の画面部7より外側の部分に設けられている。
また、このUVシール5の周囲には、アレイ基板2から対向電極48に電圧を印加する電極転移材である図示しないトランスファが形成されている。このトランスファは、アレイ基板2と対向基板3との間の画面周辺部に形成された電極転移電極である図示しないトランスファ・パッド上に形成されている。
さらに、ガラス基板41の他主面であるアレイ基板2と反対側の主面には、略四角形平板状の偏光板52が取り付けられている。
また、アレイ基板2のガラス基板6の表面には、図2に示すように、電極配線としてのゲート電極配線である複数の走査線54が、このガラス基板6の幅方向に沿って配設されている。これら走査線54は、ガラス基板6の横方向に向けて等間隔に平行に離間され、各薄膜トランジスタ13のゲート電極24に電気的に接続されている。また、電極配線としての画像信号配線である複数の信号線55が、ガラス基板6の縦方向に沿って配設されている。これら信号線55は、ガラス基板6の横方向に向けて等間隔に平行に離間され、各薄膜トランジスタ13のソース電極21に電気的に接続されている。
したがって、これら走査線54および信号線55は、ガラス基板6上に交差して格子状であるマトリクス状に配線されている。そして、これら走査線54および信号線55の各交点に対応して、画素電極11、補助容量12および薄膜トランジスタ13のそれぞれが画素9毎に設けられている。
一方、このガラス基板6の周縁には、信号線駆動回路としての細長四角形平板状のYドライバ回路56が配設されている。このYドライバ回路56は、ガラス基板6の横方向に沿った一側縁に設けられている。さらに、このYドライバ回路56は、ガラス基板6の縦方向に沿って設けられており、このガラス基板6上の各走査線54それぞれの一端部が電気的に接続されている。また、このガラス基板6の縦方向に沿った一端には、信号線駆動回路としての細長四角形平板状のXドライバ回路57が配設されている。このXドライバ回路57は、ガラス基板6の横方向に沿って設けられており、このガラス基板6上の各信号線55それぞれの一端部が電気的に接続されている。なお、これらYドライバ回路56およびXドライバ回路57は、Yドライバ回路56から各走査線54に供給される走査信号によって、薄膜トランジスタ13をオンオフさせるタイミングに同期して、Xドライバ回路57から各信号線55に画素信号を供給させることによって、アレイ基板2の画面部7に所定の画像を表示させる。
そして、アレイ基板2のガラス基板6のアンダーコート層上には、図3に示すように、非表示領域8の各角部である四隅近傍に、バッファ部61,61が対向基板3まで連続して壁状に突設されている。
各バッファ部61は、画面部7の四隅近傍において、この画面部7の長辺側および短辺側にそれぞれ配置され、断面が例えば略正方形の角筒状の隔壁62により、液晶組成物51が充填されず、かつ、少なくとも減圧された例えば真空状の空間部63を内部に区画して形成されている。したがって、本実施の形態において、バッファ部61は8つ形成されている。また、各バッファ部61の隔壁62は、例えばスペーサ31と同様の材料にて、このスペーサ31の形成工程において同時に形成される。
さらに、スペーサ31、各バッファ部61および画素電極11上の全面には、配向膜材料として、例えば80nmほどの膜厚の図示しない配向膜が積層されて形成されている。
次に、上記第1の実施の形態の液晶パネル1の製造方法を説明する。
まず、成膜工程とパターニング工程とを繰り返してガラス基板6上の画面部7に画素電極11、補助容量12、薄膜トランジスタ13、走査線54および信号線55のそれぞれを形成する。
次いで、このガラス基板6上に、感光性アクリル性透明樹脂(JSR株式会社製NN600)をスピンナ塗布して90℃で10分乾燥した後、フォトマスクを介して365nmの波長で、80mJ/cm2の露光量で露光し、pH11.5のアルカリ水溶液にて現像し、200℃、60分の焼成により、高さ5200nm(5.2μm)のスペーサ31を形成する。
このとき、非表示領域8に、スペーサ31と同一材料を用いて隔壁62を、例えば20000nm(20μm)の正方形の断面を有する高さ5200nm(5.2μm)の筒状に形成し、真空状の空間部63を内部に区画したバッファ部61とする。
さらに、対向基板3上に遮光額縁43とカラーフィルタ層42の各フィルタ部44,45,46をそれぞれ形成した後、対向電極48として50nmのITO膜をスパッタリング法により成膜する。
次いで、基板2,3のそれぞれに、配向膜材料としてAL−3046(JSR株式会社製)を、全面に80nm塗布して配向膜を形成する。
この後、対向基板3の配向膜の周辺に沿ってUVシール5となる紫外線硬化型接着剤を印刷するとともに、トランスファをトランスファ・パッド上に形成する。
さらに、アレイ基板2の配向膜と対向基板3の配向膜とを対向させて、このアレイ基板2上のスペーサ31それぞれを対向基板3上に当接させ、所定の液晶組成物51を適量滴下させ、真空中で基板2,3を貼り合わせ、外部から紫外光を3000mJ/cm2照射してUVシール5を硬化させた後、130℃で1時間、UVシール5を本硬化させ、各偏光板36,52を基板2,3に取り付けて、カラー表示可能な液晶パネル1を作製する。
このような液晶パネル1を、例えば500パネル作製し、点灯評価したところ、液晶組成物51の量の不足に起因すると見られる、直径1mmの気泡が、2パネルの画面部7に発生した。
そこで、液晶層4の充填量を2%増加させた液晶パネル1を500パネル作製して点灯評価し、液晶組成物51の過多に起因すると見られるギャップむらが発生した15パネルを対象として、8つのバッファ部61のうち1つの隔壁62をレーザ光により破壊し、この隔壁62により区画されていた空間部63に液晶組成物51を拡散させることで、画面部7の液晶量の適正化を測ったところ、12パネルにおいて良好なセルギャップが得られ、さらに、残り3パネルについて、もう1つのバッファ部61の隔壁62をレーザ光により破壊したところ、これら3つのパネルにおいても良好なセルギャップを得ることができた。
したがって、上記第1の実施の形態によれば、非表示領域8に、液晶層4の液晶量調整用の真空状の空間部63を隔壁62により内部に区画するバッファ部61を複数設け、液晶組成物51を予め所定量よりも多く充填しておき、バッファ部61を適宜レーザ光などにより破壊して、この破壊されたバッファ部61の空間部63に液晶組成物51を拡散させることで、画面部7内の液晶量を適正化させて液晶量の過多および不足を抑制し、このような液晶量の過不足に起因する液晶パネル1のギャップむらを容易に抑制できる。
この結果、液晶パネル1のギャップむらによる光学特性の偏りや、液晶量の不足による画面部7での気泡などの発生を防止して、優れた表示品位の液晶パネル1を提供できる。
特に、小型の液晶パネル1においては、液晶組成物51の滴下量が比較的少ないことから、液晶組成物51の滴下量を高精度に制御することが容易でなく液晶過多や液晶不足などが発生しやすいので、上記のように製造することで、小型の液晶パネル1においても容易にギャップむらを抑制できる。
また、バッファ部61を複数設けることにより、液晶量の調整幅が広がり、液晶量のばらつきに、より確実に対応できる。
さらに、バッファ部61をスペーサ31と同一の材料で形成することで、これらバッファ部61をスペーサ31の形成工程において同時に形成することが可能になり、製造工数の増加を防止でき、製造性が向上する。
次に、第2の実施の形態を図4を参照して説明する。なお、上記第1の実施の形態と同様の構成および作用については、同一符号を付してその説明を省略する。
この第2の実施の形態は、上記第1の実施の形態において、非表示領域8中の画面部7の両側方などに、バッファ部65を形成するものである。
各バッファ部65は、図4に示す上下方向に長い長方形状の断面を有する角筒状の隔壁66により、液晶組成物51が充填されず、かつ、減圧された、例えば真空状の空間部67を内部に区画して形成されている。また、各バッファ部65の隔壁66は、例えばスペーサ31と同様の材料にて、このスペーサの形成工程において同時に形成される。
したがって、各バッファ部65の空間部67は、各バッファ部61の空間部63よりも体積が大きい空間となっている。
そして、上記第2の実施の形態によれば、上記第1の実施の形態と同様に、バッファ部61,65を適宜レーザ光などで破壊して液晶量を調整することで、上記第1の実施の形態と同様の作用効果を奏することができるとともに、バッファ部61と、このバッファ部61の空間部63と体積が異なる空間部67を有するバッファ部65とを形成することにより、バッファ部61、あるいはバッファ部65などを適宜レーザ光などで破壊することで、液晶量の調整幅がより広がり、液晶量のばらつきに、より確実に対応できる。
特に、バッファ部65の空間部67は、バッファ部61の空間部63よりも体積が大きいので、バッファ部65を1つ破壊すると、バッファ部61を複数破壊する場合と同等の液晶量の調整が可能になるので、バッファ部61を複数破壊する場合と比較して、液晶量の調整がより容易になる。
なお、上記各実施の形態において、空間部63,67は、少なくとも減圧されていれば、必ずしも真空状でなくてもよい。
また、バッファ部61、あるいはバッファ部65を設ける位置は、非表示領域8中であれば、任意に設定でき、その設ける個数も、上記各構成に限定されるものではない。
1 液晶表示素子としての液晶パネル
2 アレイ基板
3 対向基板
4 液晶層
7 表示領域としての画面部
8 非表示領域
31 スペーサ
61,65 バッファ部
62,66 隔壁
63,67 空間部
2 アレイ基板
3 対向基板
4 液晶層
7 表示領域としての画面部
8 非表示領域
31 スペーサ
61,65 バッファ部
62,66 隔壁
63,67 空間部
Claims (5)
- アレイ基板と、
このアレイ基板に対向配置される対向基板と、
これらアレイ基板と対向基板との間に介在された液晶層と、
画像を表示する表示領域と、
この表示領域の外方に位置した非表示領域と、
この非表示領域に設けられ、前記液晶層の液晶量調整用の少なくとも減圧された空間部を隔壁により内部に区画するバッファ部と
を具備したことを特徴とした液晶表示素子。 - 前記アレイ基板と前記対向基板との隙間を設定するスペーサを具備し、
前記障壁は、前記スペーサと同一の材料で形成されている
ことを特徴とした請求項1記載の液晶表示素子。 - 前記バッファ部は、前記空間部の体積を互いに異ならせて複数設けられている
ことを特徴とした請求項1または2記載の液晶表示素子。 - アレイ基板と、このアレイ基板に対向配置される対向基板と、これらアレイ基板と対向基板との間に介在された液晶層と、画像を表示する表示領域と、この表示領域の外方に位置した非表示領域と、この非表示領域に設けられ、前記液晶層の液晶量調整用の少なくとも減圧された空間部を隔壁により内部に区画するバッファ部とを具備した液晶表示素子の製造方法であって、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に、前記液晶層を所定量よりも多く充填し、
前記バッファ部を破壊してこの破壊されたバッファ部の前記空間部へと前記液晶層を拡散させて液晶量を調整する
ことを特徴とした液晶表示素子の製造方法。 - 前記アレイ基板と前記対向基板との隙間を設定するスペーサと同一の材料で前記障壁を形成する
ことを特徴とした請求項4記載の液晶表示素子の製造方法。
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