JP2008041097A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008041097A5
JP2008041097A5 JP2007204346A JP2007204346A JP2008041097A5 JP 2008041097 A5 JP2008041097 A5 JP 2008041097A5 JP 2007204346 A JP2007204346 A JP 2007204346A JP 2007204346 A JP2007204346 A JP 2007204346A JP 2008041097 A5 JP2008041097 A5 JP 2008041097A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
supply voltage
logic gate
integrated circuit
semiconductor integrated
vdd
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007204346A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5265151B2 (ja
JP2008041097A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020060074455A external-priority patent/KR100749753B1/ko
Application filed filed Critical
Publication of JP2008041097A publication Critical patent/JP2008041097A/ja
Publication of JP2008041097A5 publication Critical patent/JP2008041097A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5265151B2 publication Critical patent/JP5265151B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (28)

  1. ゲートレベルで半導体集積回路をシミュレーションする方法において、
    装置のデータベースによって、第1供給電圧に対する情報を含む、前記半導体集積回路をモデリングするネットリストを提供する段階と、
    前記第1供給電圧を入力として具備し、また動作可能な(operable)ロジックゲートのロジック機能(logic function)及び前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの反応(reaction)を記述するHDL(Hardware description language)を具備するロジックゲートモジュールを提供する段階と、
    前記ネットリストと前記ロジックゲートモジュールに対するアクセスを利用して前記半導体集積回路をシミュレーションする段階と、を含むことを特徴とする方法。
  2. 前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの前記反応は前記ロジックゲートモジュールの等価の入力を具備する等価のロジックゲートの出力を記述する前記ロジックゲート モジュールの出力であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの前記反応は前記ロジックゲートモジュールのフローティング(floating)状態出力を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 前記ネットリストは第2供給電圧に対する情報を含み、
    前記ロジックゲートモジュールは前記第2供給電圧を入力で具備し、前記ロジックゲートモジュールの前記HDLは前記第1供給電圧及び前記第2供給電圧に対する前記ロジックゲートの反応を記述することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 前記第1供給電圧はVddであり、前記第2供給電圧はVssであることを特徴とする請求項4に記載の方法。
  6. 前記ロジックゲートの前記反応は、次の条件(条件:Vddはハイ状態であり、Vssはロー状態である)が満足されない場合、前記ロジックゲートの状態を示す出力を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 前記HDLは、VddとVssを演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  8. 前記HDLは前記第1供給電圧と前記第2供給電圧を演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項4に記載の方法。
  9. 前記HDLは前記第1供給電圧を演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  10. 前記シミュレーションする段階は、ゲートレベルにおいての前記ネットリストを利用して前記ゲートレベルで前記半導体集積回路をシミュレーションする段階を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  11. 前記半導体集積回路は、一つ以上の電圧島を含み、
    前記シミュレーションする段階は、前記1つ以上の電圧島をシミュレーションする段階を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  12. 前記シミュレーションする段階は、前記ゲートレベルで前記ネットリストを利用して前記電圧島をシミュレーションする段階を含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
  13. 前記ネットリストは、第2供給電圧に対する情報を含み、
    前記第1供給電圧及び前記第2供給電圧は、それぞれ正(positive)の供給電圧であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
  14. 前記第1供給電圧は、前記半導体集積回路の親地形(parent terrain)が受信した正の供給電圧であり、前記第2供給電圧は前記電圧島が受信した正の供給電圧であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
  15. 前記第1供給電圧及び前記第2供給電圧は、可変的であることを特徴とする請求項14に記載の方法。
  16. 前記第1供給電圧は可変的であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  17. ゲートレベルで半導体集積回路をシミュレーションする方法において、
    第1供給電圧を入力で具備し、また、動作可能な(operable)ロジックゲートのロジック機能及び前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの反応(reaction)を記述するHDL(Hardware description language)を具備するロジックゲートモジュールを提供する段階と、
    装置のデータベースによって、前記第1供給電圧に対する情報及び前記ロジックゲートモジュールに対する参照を含む、前記半導体集積回路をモデリングするネットリストを提供する段階と、
    前記ネットリストと前記ロジックゲートモジュールに対するアクセスを利用して前記半導体集積回路をシミュレーションする段階と、を含むことを特徴とする方法。
  18. 前記第1供給電圧は、Vddであり、前記ロジックゲートの前記反応はVddがハイ状態ではないと決定される場合、前記ロジックゲートの状態を示す出力を含むことを特徴とする請求項17に記載の方法。
  19. 前記第1供給電圧はVddであり、前記HDLは前記第1供給電圧を演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項17に記載の方法。
  20. ゲートレベルで半導体集積回路をシミュレーションする方法において、
    第1供給電圧を入力で具備し、また、ロジックゲートがハイ状態の前記第1供給電圧Vddを受信するとき、ロジックゲート動作のロジック機能を記述して前記ロジックゲートがハイ状態ではない前記第1供給電圧Vddを受信する場合、前記ロジックゲートの出力を記述するHDL(Hardware description language)を具備するロジックゲートモジュールを提供する段階と、
    装置のデータベースによって、前記第1供給電圧Vddに対する情報を含む、前記半導体集積回路をモデリングするネットリストを提供する段階と、
    前記ネットリストと前記ロジックゲートモジュールに対するアクセスを利用して前記半導体集積回路をシミュレーションする段階と、を含むことを特徴とする方法。
  21. 前記ロジックゲートの出力は、前記ロジックゲートモジュールの等価の入力を具備する等価のロジックゲートの出力を記述することを特徴とする請求項20に記載の方法。
  22. 前記ロジックゲートの出力は、前記ロジックゲートモジュールのフローティング(floating)状態出力を含むことを特徴とする請求項21に記載の方法。
  23. 前記HDLは、Vddを演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項20に記載の方法。
  24. 半導体集積回路を製造する方法において、
    前記半導体集積回路のデザインをシミュレーションする段階と、
    前記シミュレーションする段階は、
    装置のデータベースによって、第1供給電圧に対する情報を含む、前記半導体集積回路をモデリングするネットリストを提供する段階と、
    前記第1供給電圧を入力として具備し、また、動作可能な(operable)ロジックゲートのロジック機能(logic function)及び前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの反応(reaction)を記述するHDL(Hardware description language)を具備するロジックゲートモジュールを提供する段階と、
    前記ネットリストと前記ロジックゲートモジュールに対するアクセスを利用して前記半導体集積回路をシミュレーションする段階と、を含み、
    前記シミュレーションの結果に基づいて前記半導体集積回路をデザインする段階と、
    前記半導体集積回路のレイアウトを生成することを含む前記半導体集積回路を製造する段階と、を含むことを特徴とする方法。
  25. 前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの前記反応は、前記ロジックゲートモジュールの等価の入力を具備する等価のロジックゲートの出力を記述する前記ロジックゲートモジュールの出力であることを特徴とする請求項24に記載の方法。
  26. 前記第1供給電圧に対する前記ロジックゲートの前記反応は、前記ロジックゲートモジュールのフローティング(floating)状態出力を含むことを特徴とする請求項25に記載の方法。
  27. 前記第1供給電圧はVddであり、前記第2供給電圧はVssであり、
    前記HDLは、VddとVssを演算子(operand)で使用してブール(Boolean)演算を行うことを特徴とする請求項23に記載の方法。
  28. 前記第1供給電圧はVddであり、前記第2供給電圧はVssであり、
    前記ロジックゲートの前記反応は次の条件(条件:Vddはハイ状態であり、Vssはロー状態である)が満足されない場合、前記ロジックゲートの状態を示す出力を含むことを特徴とする請求項23に記載の方法。
JP2007204346A 2006-08-08 2007-08-06 ゲートレベルでの動的シミュレーション方法及び装置 Active JP5265151B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060074455A KR100749753B1 (ko) 2006-08-08 2006-08-08 게이트 레벨에서의 동적 시뮬레이션 방법, 게이트 레벨의 시뮬레이션 장치, 집적 회로의 디자인 방법, 전압 섬을 포함하는 집적 회로 칩에 대한 디자인 방법 및 칩 설계 방법
KR10-2006-0074455 2006-08-08

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008041097A JP2008041097A (ja) 2008-02-21
JP2008041097A5 true JP2008041097A5 (ja) 2010-09-16
JP5265151B2 JP5265151B2 (ja) 2013-08-14

Family

ID=38614637

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007204346A Active JP5265151B2 (ja) 2006-08-08 2007-08-06 ゲートレベルでの動的シミュレーション方法及び装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20080040091A1 (ja)
JP (1) JP5265151B2 (ja)
KR (1) KR100749753B1 (ja)
CN (1) CN101122932A (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5630870B2 (ja) * 2011-02-18 2014-11-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路のレイアウト方法及びプログラム
US8402404B1 (en) * 2011-11-17 2013-03-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Stacked die interconnect validation
KR101492743B1 (ko) * 2013-12-24 2015-02-12 서울과학기술대학교 산학협력단 SoC에서의 게이트 레벨 오류 모델링 방법
KR102284656B1 (ko) * 2014-07-31 2021-08-02 삼성전자 주식회사 전하 펌프를 포함하는 전자 회로를 시뮬레이션하는 방법
US9916415B2 (en) * 2016-04-11 2018-03-13 Globalfoundries Inc. Integrated circuit performance modeling that includes substrate-generated signal distortions
CN106529215B (zh) * 2016-10-18 2019-07-09 无锡锡芯逻辑科技有限公司 一种基于位流还原的可编程集成电路应用算法侵权判定方法
KR101943715B1 (ko) * 2016-11-01 2019-04-17 서울과학기술대학교 산학협력단 SoC의 오류를 검사하는 장치
KR102545302B1 (ko) * 2022-10-07 2023-06-20 인하대학교 산학협력단 Cmos 기반 디지털 회로의 설계 및 검증 과정 자동화 프레임워크

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5572437A (en) * 1990-04-06 1996-11-05 Lsi Logic Corporation Method and system for creating and verifying structural logic model of electronic design from behavioral description, including generation of logic and timing models
TW324101B (en) * 1995-12-21 1998-01-01 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit and its working method
JP4143550B2 (ja) * 1995-12-21 2008-09-03 エルピーダメモリ株式会社 半導体集積回路装置の回路接続検証方法
JPH11203346A (ja) * 1998-01-20 1999-07-30 Mitsubishi Electric Corp 寄生トランジスタ検証装置
US6668365B2 (en) * 2001-12-18 2003-12-23 Cadence Design Systems, Inc. Quadratic programming method for eliminating cell overlap and routing congestion in an IC layout
JP2003271696A (ja) * 2002-03-19 2003-09-26 Fujitsu Ltd 電圧変動反映遅延計算方法および電圧変動反映遅延計算システム
JP2003308357A (ja) * 2002-04-12 2003-10-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 論理回路シミュレーション方法、論理回路シミュレーションプログラム、および論理回路シミュレーション装置
JP2003345845A (ja) 2002-05-22 2003-12-05 Mitsubishi Electric Corp 自動配置配線装置
JP2004078717A (ja) * 2002-08-21 2004-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd セルライブラリデータベース、並びにこれを用いた集積回路のタイミング検証システム及び耐電圧検証システム
JP2004133525A (ja) * 2002-10-08 2004-04-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Lsi設計検証装置およびlsi設計検証方法
JP3908172B2 (ja) * 2003-01-20 2007-04-25 富士通株式会社 シミュレーション方法及びその装置
JP4738719B2 (ja) * 2003-05-09 2011-08-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体回路装置の設計方法、設計された半導体回路装置、設計システム、及び記録媒体
US6876252B2 (en) * 2003-06-28 2005-04-05 International Business Machines Corporation Non-abrupt switching of sleep transistor of power gate structure
US20050034089A1 (en) * 2003-08-06 2005-02-10 Mcguffin Tyson R. Area based power estimation
US6952113B2 (en) * 2003-08-20 2005-10-04 International Business Machines Corp. Method of reducing leakage current in sub one volt SOI circuits
US7333924B1 (en) * 2004-06-28 2008-02-19 National Semiconductor Corporation Method and system for device level simulation of large semiconductor memories and other circuits
US7705625B2 (en) * 2005-07-08 2010-04-27 Zmos Technology, Inc. Source transistor configurations and control methods
US7596769B2 (en) * 2006-04-14 2009-09-29 Cadence Design Systems, Inc. Simulation of power domain isolation

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Weste et al. CMOS VLSI design: a circuits and systems perspective
CN113544688B (zh) 用于设计集成电路的系统和方法
JP2008041097A5 (ja)
US10037401B2 (en) Methods of designing a layout of a semiconductor device including field effect transistor and methods of manufacturing a semiconductor device using the same
CN101187957B (zh) 设计集成电路的公共时钟域中的多个锁存器的布图的系统和方法
Lin Introduction to VLSI systems: a logic, circuit, and system perspective
USRE49780E1 (en) Methods of designing a layout of a semiconductor device including field effect transistor and methods of manufacturing a semiconductor device using the same
US9984192B2 (en) Cell having shifted boundary and boundary-shift scheme
US9817937B2 (en) Area efficient power switch
KR102601216B1 (ko) 반도체 장치의 설계 방법
Sharma et al. Design of low leakage variability aware ONOFIC CMOS standard cell library
Amarù et al. Efficient arithmetic logic gates using double-gate silicon nanowire FETs
US20080040091A1 (en) Method and apparatus of simulating a semiconductor integrated circuit at gate level
US7062739B2 (en) Gate reuse methodology for diffused cell-based IP blocks in platform-based silicon products
Vaidyanathan et al. Exploiting sub-20-nm complementary metal-oxide semiconductor technology challenges to design affordable systems-on-chip
Mashayekhi et al. Development of a standard cell library and ASPEC design flow for organic thin film transistor technology
TWI780660B (zh) 半導體結構、半導體元件與定義電路佈局的方法
US20220171912A1 (en) Poly-bit cells
Samal et al. Ultralow power circuit design with subthreshold/near-threshold 3-D IC technologies
Yeap et al. VLSI circuit optimization for 8051 MCU
JP2016507818A (ja) ネットリストアブストラクション
Sarhan et al. 3DCoB: A new design approach for Monolithic 3D Integrated Circuits
Llamas et al. Top-down design flow for application specific printed electronics circuits (ASPECs)
Lewis et al. Panel: Reconfigurable SoC-What will it look like
Jeong Implementation of low power adder design and analysis based on power reduction technique