JP2008034546A - Light-emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光ダイオード(Light Emitting Diode、以下「LED」ともいう)や半導体レーザ(Laser Diode、以下「LD」ともいう)等の発光素子を用いた発光装置の改良に関するものである。 The present invention relates to an improvement of a light emitting device using a light emitting element such as a light emitting diode (hereinafter also referred to as “LED”) or a semiconductor laser (hereinafter also referred to as “LD”).
LEDやLD等の発光素子は照明光源としての利用が期待されており、これらの発光素子からの光取出し効率の向上が望まれている。また、発光装置の発光素子は、封止部材によって封止されるのが一般的であり、従来はエポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂等の樹脂系の封止部材により封止されていた。
しかし、近年、発光素子の高輝度化による発熱量の増大、発光素子の波長領域や発光装置の長寿命化に伴い封止部材に要求される耐久性が高くなり、従来から使用されてきた樹脂系の封止部材では、満足した性能を実現するこが困難であった。封止部材として樹脂系、特にエポキシ系樹脂を用いた場合は、光や熱により黄変等の劣化が生じる為、透明度が低下し、光取出し効率が悪化する。また、このような不透明部分は上記劣化による強度の低下により封止部材としての機能が低下するので、発光素子の劣化を招き、発光装置としての寿命が短くなるなどの不具合を生じていた。
Light emitting elements such as LEDs and LDs are expected to be used as illumination light sources, and improvement in light extraction efficiency from these light emitting elements is desired. Further, the light emitting element of the light emitting device is generally sealed with a sealing member, and conventionally, the light emitting element has been sealed with a resin-based sealing member such as an epoxy resin or a silicone resin.
However, in recent years, the durability required for sealing members has increased due to an increase in the amount of heat generated by increasing the brightness of the light-emitting element, and the longer wavelength life of the light-emitting element and the life of the light-emitting device. In the case of the system sealing member, it has been difficult to achieve satisfactory performance. When a resin, particularly an epoxy resin, is used as the sealing member, deterioration such as yellowing occurs due to light or heat, so that transparency is lowered and light extraction efficiency is deteriorated. In addition, since the opaque portion has a reduced function due to the above-described deterioration, the function as a sealing member is deteriorated, which causes a problem such as a deterioration of the light emitting element and a shortened life as a light emitting device.
このため、特許文献1、2では、寿命の改善をするために、封止部材として低融点ガラスを用いるものが提案されている。
For this reason,
ところで、特許文献1、2のように低いガラス転移点(Tg=300℃〜500℃)を示す低融点ガラス材料で封止すると、発光素子やワイヤーボンド等を損傷することなく封止することができる。しかし、ガラス転移点(Tg)が低い材料の場合、屈折率が低く、光の取出し効率が悪いという問題がある。
By the way, if it seals with the low melting glass material which shows a low glass transition point (Tg = 300 degreeC-500 degreeC) like
そこで、本発明は、高輝度の発光素子に対応して、耐光性、耐熱性が良好な封止部材を用いて、光取出し効率を良好にした発光装置を提供することを目的とする。 In view of the above, an object of the present invention is to provide a light-emitting device having good light extraction efficiency by using a sealing member having good light resistance and heat resistance corresponding to a high-luminance light-emitting element.
上記目的は、第1の発明によれば、発光素子に駆動電流を印加して発光させる構成の発光装置において、前記発光素子を覆う透光性を有する封止部材を有し、該封止部材が前記発光素子により近接して配置される内側の層と、該内側の層よりも外側に配置される外側の層とを備え、前記内側の層の屈折率が外側の層の屈折率より高く、かつ、前記内側の層のガラス転移点は、前記外側の層のガラス転移点より低いことを特徴とする発光装置により達成される。 According to the first aspect of the present invention, in the light emitting device configured to emit light by applying a driving current to the light emitting element, the light emitting device has a light-transmitting sealing member that covers the light emitting element, and the sealing member Comprises an inner layer disposed closer to the light emitting element and an outer layer disposed outside the inner layer, and the refractive index of the inner layer is higher than the refractive index of the outer layer. And the glass transition point of the inner layer is lower than the glass transition point of the outer layer.
第2の発明は、第1の発明の構成において、 前記内側の層が屈折率1.5以上2.5以下であり、かつ、ガラス転移点(Tg)130℃以上350℃以下であることを特徴とする。 According to a second invention, in the configuration of the first invention, the inner layer has a refractive index of 1.5 or more and 2.5 or less and a glass transition point (Tg) of 130 ° C. or more and 350 ° C. or less. Features.
第3の発明は、第1の発明または第2の発明の構成において、前記内側の層がフッ化スズまたは酸化スズを含む低融点ガラスで形成されていることを特徴とする。 A third invention is characterized in that, in the configuration of the first invention or the second invention, the inner layer is formed of a low melting point glass containing tin fluoride or tin oxide.
第4の発明は、第3の発明の構成において、前記外側の層がアルミ化合物を含む低融点ガラスであることを特徴とする。 According to a fourth invention, in the structure of the third invention, the outer layer is a low-melting glass containing an aluminum compound.
第5の発明は、第4の発明の構成において、 前記アルミ化合物の一部がアルミナであり、前記アルミナを0.5wt%以上10wt%以下含むことを特徴とする。 According to a fifth invention, in the structure of the fourth invention, a part of the aluminum compound is alumina, and the alumina is contained in an amount of 0.5 wt% to 10 wt%.
第6の発明は、凹部を備えたパッケージ内部にて前記封止部材に封止されており、前記パッケージの表面と前記封止部材の表面は、シリコーン樹脂にて被覆されていることを特徴とする。 A sixth invention is characterized in that the sealing member is sealed inside a package having a recess, and the surface of the package and the surface of the sealing member are covered with a silicone resin. To do.
本発明の構成によれば、光取出し効率がよく、発光素子等を損傷させることがなく、さらに、潮解性が良好で、高輝度の発光素子であっても、長時間の耐久性を有する発光装置を提供できる。 According to the configuration of the present invention, the light extraction efficiency is high, the light emitting element and the like are not damaged, the deliquescence is good, and the light emitting element having high durability has long-term durability. Equipment can be provided.
本発明の発光装置を実施するための最良の形態を、図面を参照しつつ説明するが、本発明はこれに特定されるものではなく、本発明の作用効果を維持できる程度に変形されるものでもよい。
(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態の発光装置100の概略端面図である。発光装置100は、発光素子112に駆動電流を印加すると発光するものである。この発光素子112は、発光素子112の電極(図示せず)と端子113とをワイヤ(図示せず)で接続し、駆動電流を印加して発光するようにされている。ここで、ワイヤ(図示せず)には、発光素子112と端子113との機械的接続性、電気伝導性等が良いものが求められ、例えば、金、銀、銅、白金等やそれらの合金などを用いることができる。そして、端子113も、ワイヤ(図示せず)等との機械的接続性や電気伝導性等が良好であることが好ましく、端子113の先端部に発光素子112を載置するため、加工性の良いものが好ましく、具体的な材料として、鉄、銅等が挙げられる。この発光素子112は透明な封止部材114を有している。そして、この封止部材114は、発光素子112に近接して配置する内側の層115と、内側の層115よりも外側に配置される外側の層116と2層の低融点ガラス層で形成されている。そして、この内側の層115の屈折率は、外側の層116の屈折率より高く、そして外側の層116のガラス転移点より低いガラス転移点をもつ低融点ガラスで形成されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the light emitting device of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this, and is modified to the extent that the effects of the present invention can be maintained. But you can.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic end view of a
ここで、発光素子112は、例えば、液層成長法や有機金属化学気相蒸着(MOCVD)法により、基板上にGaAlN、ZnS、ZnSe、SiC、GaP、GaAlAs、AlN、InN、AlInGaP、InGaN、GaN、AlInGaN等の半導体を発光層として形成させたものが用いられる。半導体の構造としては、ホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構造や、量子効果を持たせるため、単一量子井戸構造や多重量子井戸構造としても良い。半導体層の材料等によって、発光波長を紫外光から赤外光まで種々選択することもでき、放出する光の色を決めることができる。そして、本発明の構成によれば、発光素子112を封止する封止部材114は低融点ガラスを使用するので、紫外線により劣化されにくいため、発光素子112の波長が400nmより短い紫外線領域或いは可視光の短波長領域を主発光波長とするものも用いることができる。
Here, the
さらに、発光装置100において、発光素子112からの光を吸収して可視光を発光することが可能な蛍光体を用いることも可能であり、複数の蛍光体からの光の混色光、もしくは、発光素子と蛍光体からの光の混色光により白色系などの発光をさせることもできる。なお、蛍光体は、後述するように封止部材114に混入して配置することもできる。
Further, in the light-
ここで、封止部材114として使用される低融点ガラスは、発光素子112からの光を透過するように透光性を有しており、紫外領域の光を発光する発光素子112を用いる場合、屈折率・融点・透過率の点からリン酸系が好ましく、その中でも透明性などの点から、アンモニア系やナトリウム系のリン酸系ガラスが好ましい。また、潮解性の点からアルミ系のリン酸系ガラスが好ましい。そして、例えば、封止部材114の内側の層115は低融点ガラスにアンモニアリン酸ガラス(ガラス転移点Tg:250℃、屈折率:1.7)を用いて形成し、外側の層116はアルミ・リン酸系ガラス(ガラス転移点Tg:400℃、屈折率:1.5〜1.6)を用いて形成すると、発光素子112やワイヤ(図示せず)を損傷することがなく、また、屈性率が外側に向かって低くされているので、光の取出し効率が良好な発光装置となる。また、外側の層116をアルミ化合物を含む低融点ガラスで形成したので、リン酸系の低融点ガラスに見られる潮解性を低減させることができる点で好ましい。
Here, the low-melting-point glass used as the sealing
また、内側の層115は、屈折率1.5以上2.5以下であり、そして、ガラス転移点
(Tg)130℃以上350℃以下の低融点ガラスであることが好ましい。内側の層115の低融点ガラスが屈折率1.5未満であると、内側の層115から外側への層116への光取り出し効率が低下するため好ましくなく、屈折率2.5より大きいと、発光素子112から内側の層115への光取り出し効率が低下するため好ましくない。また、内側の層115の低融点ガラスがガラス転移点(Tg)130℃未満であると、動作時の発光素子からの発熱により内側の層115が溶融してしまうため好ましくなく、ガラス転移点(Tg)が350℃より高いと、発光素子112が内側の層115を硬化する際に高温に晒され熱によりダメージを受けてしまうため好ましくない。従って、このように、屈折率1.5以上2.5以下であり、そして、ガラス転移点(Tg)130℃以上350℃以下の低融点ガラスとすることにより、信頼性に優れ、光取出し効率が良好な発光装置を得ることができる。
The
また、内側の層115の主成分は、フッ化スズまたは酸化スズを含む低融点ガラスであることが好ましい。低融点ガラスとフッ化スズまたは酸化スズとの配合比を調整することで、屈折率の調整やガラス転移点(Tg)の調整を容易に行うことができる。したがって、用いる発光素子に応じて、内側の層115の屈折率を所望とする値に調整することが可能となる。また、発光素子等を封止する際に、発光素子等を損傷させることがない程度に十分低いガラス転移点(Tg)に調整することも可能である。このようにフッ化スズまたは酸化スズを含むことで、フッ化スズまたは酸化スズが低融点ガラスに対し、低融点ガラスの屈折率やガラス転移点(Tg)の調整剤となり、光取出し効率を調整することが容易となる。
The main component of the
さらに、好ましくは、外側の層116に含まれるアルミ化合物の一部がアルミナである低融点ガラスである。このようにアルミ化合物を含んでいるので、リン酸ガラス中のリン−酸素結合の酸素の不対電子とアルミイオンが結合し安定化することで、ガラス表面を安定化させるため、封止部材の外気と接する側の潮解性が低減される。そして、更に、アルミ化合物の一部をアルミナとすると、後添加などで低融点ガラスの調整を容易に行うことができ、取り扱い性の良いものとすることができる。そして、アルミナが低融点ガラスのガラス転移点(Tg)を上げるという効果もある。
Furthermore, it is preferably a low-melting glass in which a part of the aluminum compound contained in the
また、好ましくは、アルミナを0.5wt%以上10wt%以下とする。アルミナの添加量が0.5wt%未満とすると、潮解性が高くなる点で好ましくなく、添加量が10wt%より多いと、低融点ガラスのガラス転移点(Tg)を上げてしまう。また、アルミナ由来の白点の存在が目立ち、透明度が下がってきてしまう点でも好ましくない。したがって、アルミナを0.5wt%以上10wt%以下加えることが好ましく、これにより、潮解性を抑えつつ、ガラス転移点(Tg)をある程度の温度で抑え、かつ、透明性を保つことができる。 Preferably, the alumina is 0.5 wt% or more and 10 wt% or less. When the addition amount of alumina is less than 0.5 wt%, it is not preferable in terms of high deliquescence, and when the addition amount is more than 10 wt%, the glass transition point (Tg) of the low melting glass is increased. Further, the presence of white spots derived from alumina is conspicuous, and the transparency is lowered. Therefore, it is preferable to add 0.5 wt% or more and 10 wt% or less of alumina, thereby suppressing the glass transition point (Tg) at a certain temperature while suppressing deliquescence and maintaining transparency.
また、封止部材114には、上述したように、発光素子112の発光波長の少なくとも一部を変換させる蛍光体を含有させることもできる。蛍光体は、発光素子からの光を吸収し、異なる波長の光に波長変換するものであり、YAG蛍光体、窒化物蛍光体、その他の蛍光体を使用可能である。例えば、Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物系蛍光体・酸窒化物系蛍光体、Eu等のランタノイド系、Mn等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類ハロゲンアパタイト蛍光体、アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体、アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体、アルカリ土類ケイ酸塩、アルカリ土類硫化物、アルカリ土類チオガレート、アルカリ土類窒化ケイ素、ゲルマン酸塩、または、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩、希土類ケイ酸塩またはEu等のランタノイド系元素で主に賦活される有機および有機錯体等から選ばれる少なくともいずれか1つ以上であることが好ましい。具体例として、下記の蛍光体を使用することができるが、これに限定されない。
Further, as described above, the sealing
(1)Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物系蛍光体は、M2 Si5 N8 :Eu(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。)などがある。また、M2 Si5 N8 :EuのほかMSi7 N10:Eu、M1.8Si5 O0.2 N8 :Eu、M0.9 Si7 O0.1 N10:Eu(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。)などもある。 (1) A nitride phosphor mainly activated by a lanthanoid element such as Eu or Ce is M 2 Si 5 N 8 : Eu (M is at least one selected from Sr, Ca, Ba, Mg, and Zn). More than seeds). In addition to M 2 Si 5 N 8 : Eu, MSi 7 N 10 : Eu, M 1.8 Si 5 O 0.2 N 8 : Eu, M 0.9 Si 7 O 0.1 N 10 : Eu (M is Sr, Ca, Ba, And at least one selected from Mg and Zn).
(2)Eu、Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される酸窒化物系蛍光体は、MSi2 O2 N2 :Eu(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。)などがある。 (2) An oxynitride phosphor mainly activated by a lanthanoid element such as Eu or Ce is MSi 2 O 2 N 2 : Eu (M is at least selected from Sr, Ca, Ba, Mg, Zn) 1 type or more).
(3)Eu等のランタノイド系、Mn等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類ハロゲンアパタイト蛍光体は、M5 (PO4 )3 X:R(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種以上である。Rは、Eu、Mn、EuとMnのいずれか1以上である。)などがある。 (3) An alkaline earth halogen apatite phosphor mainly activated by a lanthanoid-based element such as Eu or a transition metal-based element such as Mn is M 5 (PO 4 ) 3 X: R (M is Sr, Ca, At least one selected from Ba, Mg and Zn, X is at least one selected from F, Cl, Br and I. R is Eu, Mn, any one of Eu and Mn Etc.).
(4)アルカリ土類金属ホウ酸ハロゲン蛍光体は、M2 B5 O9 X:R(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種以上である。Rは、Eu、Mn、EuとMnのいずれか1以上である。)などがある。 (4) Alkaline earth metal borate halogen phosphor is M 2 B 5 O 9 X: R (M is at least one selected from Sr, Ca, Ba, Mg, Zn. X is F , Cl, Br, or I. R is Eu, Mn, or any one of Eu and Mn).
(5)アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体は、SrAl2 O4 :R、Sr4 Al14O25:R、CaAl2 O4 :R、BaMg2 Al16O27:R、BaMg2 Al16O12:R、BaMgAl10O17:R(Rは、Eu、Mn、EuとMnのいずれか1以上である。)などがある。 (5) Alkaline earth metal aluminate phosphors are SrAl 2 O 4 : R, Sr 4 Al 14 O 25 : R, CaAl 2 O 4 : R, BaMg 2 Al 16 O 27 : R, BaMg 2 Al 16 O 12 : R, BaMgAl 10 O 17 : R (R is Eu, Mn, or any one of Eu and Mn).
(6)アルカリ土類硫化物蛍光体は、La2 O2 S:Eu、Y2 O2 S:Eu、Gd2O2 S:Euなどがある。 (6) Alkaline earth sulfide phosphors include La 2 O 2 S: Eu, Y 2 O 2 S: Eu, and Gd 2 O 2 S: Eu.
(7)Ce等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩蛍光体は、Y3 Al5 O12:Ce、(Y0.8 Gd0.2 )3 Al5 O12:Ce、Y3 (Al0.8 Ga0.2)5 O12:Ce、(Y,Gd)3 (Al,Ga)5 O12の組成式で表されるYAG系蛍光体などがある。また、Yの一部もしくは全部をTb、Lu等で置換したTb3 Al5 O12:Ce、Lu3 Al5 O12:Ceなどもある。 (7) Rare earth aluminate phosphors mainly activated by lanthanoid elements such as Ce are Y 3 Al 5 O 12 : Ce, (Y 0.8 Gd 0.2 ) 3 Al 5 O 12 : Ce, Y 3 (Al 0.8 Ga 0.2) 5 O 12: Ce, and the like (Y, Gd) 3 (Al , Ga) YAG -based phosphor represented by the composition formula of 5 O 12. Further, there are Tb 3 Al 5 O 12 : Ce, Lu 3 Al 5 O 12 : Ce, etc. in which a part or all of Y is substituted with Tb, Lu, or the like.
(8)その他の蛍光体は、ZnS:Eu、Zn2 GeO4 :Mn、MGa2 S4 :Eu(Mは、Sr、Ca、Ba、Mg、Znから選ばれる少なくとも1種以上である。Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれる少なくとも1種以上である。)などがある。 (8) Other phosphors are ZnS: Eu, Zn 2 GeO 4 : Mn, MGa 2 S 4 : Eu (M is at least one selected from Sr, Ca, Ba, Mg, Zn. X Is at least one selected from F, Cl, Br, and I.).
上述した蛍光体は、必要に応じて、Euに代えてまたはEuに加えて、Tb、Cu、Ag、Au、Cr、Nd、Dy、Co、Ni、Tiから選択される1種以上を含有させることもできる。また、上記した蛍光体以外の蛍光体であって、同様の性能、効果を有する蛍光体も使用することができる。 The phosphor described above contains one or more selected from Tb, Cu, Ag, Au, Cr, Nd, Dy, Co, Ni, Ti instead of Eu or in addition to Eu, as necessary. You can also. Further, phosphors other than the above-described phosphors and having the same performance and effect can be used.
これらの蛍光体は、発光素子の励起光により、黄色、赤色、緑色、青色に発光スペクトルを有する蛍光体を使用することができるほか、これらの中間色である黄色、青緑色、橙色などに発光スペクトルを有する蛍光体も使用することができる。これらの蛍光体を様々と組み合わせて使用することにより、様々の発光色を有する発光装置を製造することができる。 These phosphors can use phosphors having emission spectra in yellow, red, green, and blue by the excitation light of the light-emitting element, and emission spectra in yellow, blue-green, orange, etc., which are intermediate colors between them. A phosphor having the following can also be used. By using these phosphors in various combinations, light emitting devices having various emission colors can be manufactured.
例えば、青色に発光するGaN系化合物半導体と青色光を吸収して黄色光を発光するY3 Al5 O12:Ceもしくは(Y0.8 Gd0.2 )3 Al5 O12:Ceとを組み合わせると、これらの混合色により白色に発光する発光装置を提供することができる。また、紫外光を発光する発光素子と、紫外光を吸収して緑色から黄色に発光するCaSi2 O2 N2 :Eu、またはSrSi2 O2 N2 :Euと、青色に発光する(Sr,Ca)5 (PO4 )3 Cl:Eu、赤色に発光する(Ca,Sr)2 Si5 N8 :Euとを組み合わせると、演色性の良好な白色に発光する発光装置を提供することができる。これは、光の三原色である赤・青・緑を使用しているので、第1の蛍光体および第2の蛍光体の配合比を変えることのみによって所望の白色光を実現することができる。 For example, when a GaN-based compound semiconductor that emits blue light and Y 3 Al 5 O 12 : Ce or (Y 0.8 Gd 0.2 ) 3 Al 5 O 12 : Ce that absorbs blue light and emits yellow light are combined, It is possible to provide a light-emitting device that emits white light with the mixed color. In addition, a light emitting element that emits ultraviolet light and CaSi 2 O 2 N 2 : Eu or SrSi 2 O 2 N 2 : Eu that absorbs ultraviolet light and emits light from green to yellow emits blue light (Sr, A combination of Ca) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu and red (Ca, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu can provide a light emitting device that emits white light with good color rendering. . Since the three primary colors of light, red, blue, and green are used, desired white light can be realized only by changing the blending ratio of the first phosphor and the second phosphor.
第1の実施形態の発光装置100によれば、発光装置100の封止部材114が2層以上の低融点ガラスで構成され、前記封止部材114の内側の層115が外側の層116の屈折率より高く、かつ、前記外側の層116のガラス転移点(Tg)より低いガラス転移点(Tg)をもつ低融点ガラスで形成されているので、光取出し効率が良好で、発光素子等を損傷することがない。また、少なくとも前記封止部材114の外側の層116がアルミ化合物を含む低融点ガラスで形成されていると、ガラス表面が安定化されるので、潮解性が低減されるという効果がある。
According to the
図1(b)は第1の実施形態の変形例の発光装置110の概略端面図である。第1の実施形態と同一符号を付した箇所は共通する構成であるので説明は省略し、異なる点を中心に説明する。第1の実施形態では、封止部材114は、発光素子112の近傍にある内側の層115と、内側の層115の外側に形成される外側の層116との2層の低融点ガラス層で形成されているものを示しているが、図1(b)に示すように、発光装置110は更に外側の層117を増やしても良い。その場合、内側の層から外側の層に向かって順次、屈折率を低くなるように調整し、そしてガラス転移点(Tg)は外側の層に向かってより高くなるような関係を有している。層数を多くして、最外層となる外側の層と空気の屈折率の差を小さくするように、内側の層から順に外側の層に向かって、段階的に屈折率を小さく調整すれば、光の取出し効率が向上するのでより好ましいものとなる。また、この場合、外側の層116の更に外側の層117には、上述したように、外側の層116と同様にアルミ化合物を含むものとして構成したり、蛍光体を含むものとして構成したりすることで、上述したように、潮解性の低減や、発光素子の発光色を変換することができる。
FIG. 1B is a schematic end view of a
(第2の実施形態)
図2は第2の実施形態である発光装置200を示している。第1の実施形態と同一の符号を付した箇所は同一の構成であるので説明を省略し、ここでは、発光装置100と異なる点を中心に説明する。発光装置100と異なる点は、発光素子112の発光面112aと反対側の方向に、反射層としての失透したガラスの層217を設けたことである。
(Second Embodiment)
FIG. 2 shows a
ここで、失透したガラスの層217は、低融点ガラス内に散乱体(図示せず)を分散させて、透明性を調整したものであり、発光素子112からの光が発光面112aから反対側の方向に抜けて、光取出し効率が低下することを防止できる層である。この散乱体は特に限定されるものではなく、低融点ガラスに分散できるものであれば良く、例えば、SiO2やAl2O3などで、フラウンホーファー散乱領域の粒径を有するものが好ましい。
Here, the devitrified
第2の実施形態の構成によれば、さらに、第1の発光装置の効果に加え、失透したガラスの層217を形成しているので、発光素子112からの発光面とは反対側の方向から抜けた光も、この失透したガラスの層217により反射され、上部112aへ散乱させることによって、頂部114a側である上面からの光取出し効率をさらに向上させることができる。
According to the configuration of the second embodiment, in addition to the effect of the first light emitting device, the devitrified
(第3の実施形態)
図3は、第3の実施形態である発光装置300を示している。第1の実施形態と同一の符号を付した箇所は同一の構成であるので説明を省略し、ここでは、発光装置100と異なる点を中心に説明する。発光装置300は、所謂表面実装型の発光装置である。発光装置100との違いは、発光素子112が、凹部319を有するパッケージ318の凹部底面部319bに固定され電気的に接続されている点である。そして、この凹部319は、低融点ガラスで充填されている。凹部底面部319bに固定している発光素子112は低融点ガラス内に埋入され、内側の層315を形成している。発光素子の近傍にある内側の層315と、内側の層315より外側に形成される外側の層316とで封止部材314を形成している。そして、内側の層315と外側の層316で用いる材料および屈折率やガラス転移点(Tg)の構成は、第1の実施形態と同様な構成である。ここで、凹部底面部319bと発光素子112は、例えば、銀、カーボン等の導電性フィラーを分散した導電ペースト・共晶材(AuSn、AgSb など)(図示せず)等を用いて固定される。具体的には、パッケージ318の凹部319には相互に離間した一対の配線導体(図示せず)が形成されており、この配線導体(図示せず)の一端部が凹部底面部319bに配置されている。そして、この凹部底面部319bにて、配線導体(図示せず)と発光素子112が導電ペースト(図示せず)等により固定されている。配線導体(図示せず)は、パッケージ318の凹部底面部319bから凹部側面部319aおよびパッケージ318の上面側318aから側面側318bを通り、回路基板との実装面となる裏側318cに延びて配置されている。本実施の形態では、発光素子112はワイヤ(図示せず)で配線導体(図示せず)に接続されているが、これに限定されず、共晶などによりフリップチップ実装することも可能である。
(Third embodiment)
FIG. 3 shows a
そして、外側の層316の形状は、好ましくは、図面上部側を凸とするR形状である。R形状とすることで、光取出し効率の向上が図れることとなるが、R形状とすることにより発光素子112からの光を集光してしまう場合もある。そこで、集光を低減させたい場合は、外側の層316に散乱剤(図示せず)を添加させるか、もしくは、外側の層316に更に一層重ねるように散乱剤を含んだ層(図示せず)を設けることで解消できる。ここで用いる散乱剤は、発光素子からの光が封止部材および散乱剤を含んだ層を通り外部に抜けていくことから、発光素子からの光を阻害しない程度に加えることが好ましい。本実施形態のその他の効果は、第1の実施形態と同様である。
The shape of the
パッケージ318の材料としては、樹脂材料や、有機物に無機物が含有されてなるガラスエポキシなどのハイブリッド材料、セラミックス材料などの無機物材料を用いることができる。特に、高耐熱性、高耐候性が望まれる場合は、ハイブリッド材料や無機物材料を用いることが好ましい。また、高輝度の発光素子を用いた場合は、発光素子からの発熱を効率よく放熱し耐久性を向上させるために、高熱伝導性の材料が好ましい。高熱伝導材料として、例えばセラミックス材料が好ましく、中でも、加工面等から窒化アルミが好ましい。
As a material of the
ここで、発光素子を載置するパッケージ318に、セラミックス材料を用いた凹型パッケージを用いた場合、セラミックス材料の凹部319内に固定された発光素子112とを予め一定温度まで加熱してから低融点ガラスで凹部319を充填し、冷却することが好ましい。これにより、低融点ガラスを充填した後の成型品において、温度に戻る際の線膨張係数の差からガラスとパッケージが固定化でき、これらの界面での剥離が低減される。
Here, when a concave package using a ceramic material is used as the
(第4の実施形態)
図4は、第4の実施形態である発光装置400を示す。この発光装置400も所謂表面実装型の発光装置である。第1の実施形態および第3の実施形態と同一符号を付した箇所は、共通の構成であるので、ここでは説明を省略し、異なる点を中心に説明する。第3の実施形態と異なる点は、発光素子112の近傍にある封止部材414である内側の層415の形状である。ここでは、内側の層415もR形状を持たせている。このように内側の層415と外側の層416を共に、R形状とすることで、平面形状と比較し、光取出し効率をさらに向上させることが可能となる。ここで、内側の層415と外側の層416で用いる材料、屈折率やガラス転移点(Tg)などの点は、第1の実施形態及び第3実施形態と同様であり、その他の効果についても同様である。
(Fourth embodiment)
FIG. 4 shows a
(第5の実施形態)
図5は、第5の実施形態である発光装置500を示す。この発光装置500も所謂表面実装型の発光装置である。第1の実施形態および第3の実施形態と同一符号を付した箇所は、共通の構成であるので、ここでは説明を省略し、異なる点を中心に説明する。第3の実施形態と異なる点は、発光素子112の近傍にある内側の層515の形状をR形状として設け、そして内側の層515のより外側に外側の層516を設けて封止部材514とし、外側の層516の更に外側にシリコーン樹脂層517を設けて、封止部材514とパッケージ318の表面をシリコーン樹脂517で被覆するように形成した点にある。
(Fifth embodiment)
FIG. 5 shows a
ここで発光素子112に紫外線領域を主発光波長とする発光素子用いた場合、白色化するに際し、封止材層514に蛍光体(図示せず)を分散させて用いるが、この蛍光体は変換効率順に配置するのが好ましい。例えば、内側の層515は、第1の低融点ガラスとして、紫外光を赤色光に変換する蛍光体を分散させたアンモニアリン酸ガラス(ガラス転移点Tg:250℃、屈折率:1.7)を用い、その外側の層516は、第2の低融点ガラスとしてアルミ・リン酸系ガラス(ガラス転移点Tg:400℃、屈折率1.5〜1.6)を用いて形成する。そして、外側の層516の更に外側に、紫外光を青色に変換する蛍光体と緑色に変換する蛍光体を分散したシリコーン樹脂517(ガラス転移点Tg:100℃、屈折率:1.4〜1.46)で被覆するように形成する。この場合も上述した第1の実施形態と同様に、内側の層から外側の層に向かって順次、屈折率を低くなるように調整し、そしてガラス転移点(Tg)は内側の層から外側の層に向かってより高くなるような関係を有しており、効果も第1の実施形態の変形例と同様な効果を示す。外側の層の更に外側に、シリコーン樹脂517で被覆するように形成しているので、更に、耐水性が良好となるという効果もある。
Here, in the case where a light emitting element having a main light emission wavelength in the ultraviolet region is used as the
また、図示はしないが、例えば、紫外線領域を主発光波長とする発光素子を封止する封止部材を、次のように構成する発光装置とすることもできる。つまり、発光素子により近接して配置される内側の層をアンモニア系の低融点ガラスを用いて形成する。ついで、紫外光を赤色光に変換する蛍光体を分散させた低融点ガラスを用いて、前記内側の層の表面に蛍光体含有層を形成する。そして、この蛍光体含有層の外側にアルミ・リン酸系の低融点ガラスを用い外側の層を形成する。そして、この外側の層の更に外側に、紫外光を青色に変換する蛍光体と緑色に変換する蛍光体を分散したシリコーン樹脂層を形成し発光装置とする。この場合、各層の屈折率は、内側の層のアンモニア系の低融点ガラスの屈折率は1.7であり、R蛍光体を分散させた低融点ガラスの屈折率は1.6であり、外側の層としてアルミ・リン酸系の低融点ガラスの屈折率は1.5、シリコーン樹脂は屈折率1.4〜1.46である。シリコーン樹脂層は、リン酸系ガラスの潮解性を防ぐ役割がある。また、さらに、上述した実施の形態に、図示はしないが、パッケージ318と封止部材314、414、514と境界部分を耐水性の材料を使って目止めする。このようにすると、隙間からの水や空気の浸入等が防げるので、パッケージ318と封止部材314、414、514との密着性が更に改善される。
Although not shown, for example, a sealing member that seals a light emitting element having a main light emission wavelength in the ultraviolet region may be a light emitting device configured as follows. That is, the inner layer disposed closer to the light emitting element is formed using ammonia-based low melting point glass. Next, a phosphor-containing layer is formed on the surface of the inner layer using a low-melting glass in which a phosphor that converts ultraviolet light into red light is dispersed. Then, an outer layer is formed on the outer side of the phosphor-containing layer using an aluminum / phosphoric acid low-melting glass. A silicone resin layer in which a phosphor that converts ultraviolet light into blue and a phosphor that converts green is dispersed is formed on the outer side of the outer layer to form a light emitting device. In this case, the refractive index of each layer is 1.7 for the ammonia-based low melting glass in the inner layer, 1.6 for the low melting glass in which the R phosphor is dispersed, The refractive index of the low melting point glass of aluminum / phosphate is 1.5, and the refractive index of the silicone resin is 1.4 to 1.46. The silicone resin layer has a role of preventing deliquescence of the phosphate glass. Furthermore, although not shown in the above-described embodiment, the
次に、第1の実施形態である発光装置100の製造方法の一例を図6(a)から(c)を用いて説明する。加熱溶融した第1の低融点ガラス615内に発光素子112を埋入する工程と、前記発光素子112を埋入した第1の低融点ガラス材料615を金型620内で冷却固化して内側の層115を形成する工程と、前記内側の層115の更に外側の層116を一体化する工程と、を含む製造方法である。
Next, an example of a method for manufacturing the
図6(a)は、第1の製造工程を示す図である。端子113と発光素子112を予め一体化しておき、稼動金型619に固定し、加熱する。加熱温度は、使用する第1の低融点ガラスのガラス転移点(Tg)との関係で決定される。例えば、第1の低融点ガラスのガラス転移点(Tg)が200℃程度である場合は、稼動金型619の加熱温度も第1の低融点程度のガラス転移点(Tg)程度とする。次に、金型620を250℃まで加熱し、溶融した第1の低融点ガラス615を金型620の砲弾型の空洞部620aに注入した。
そして、稼動金型619に固定された端子113と発光素子112を、金型620の空洞部620aに注入し、第1の低融点ガラス615内に埋入しつつ、金型620と稼動金型619を閉じた。この状態で、約100℃まで冷却し、第1の低融点ガラス615内に発光素子112を埋入したまま固化し、内側の層115を形成させる。この際、発光素子112が砲弾型の中心部に容易に位置決めできるように、金型620に位置決め用の固定ピン(図示せず)を設け、稼動金型619に固定ピンの受け部(図示せず)を設けてもよい。ここで、第1の低融点ガラスは、上述したように、屈折率やガラス転移点(Tg)を調整した材料を使用する。
FIG. 6A is a diagram showing a first manufacturing process. The terminal 113 and the
Then, the terminal 113 and the
次に、図6(b)は、第2の製造工程を示す図である。金型621は、内側の層115の形状より一回り大きい外形の空洞部621aを持つ。この金型621は、予め第2の低融点ガラス616のガラス転移点(Tg)付近まで加熱しておく。そして、この空洞部621aに溶融した第2の低融点ガラス616を注入する。次に、図6(a)で作成した内側の層115と発光体素子112および端子113を一体化したものを、金型621の第2の低融点ガラス616内に入れて、金型621と稼動金型619を閉じて、この状態で冷却する。このとき、冷却速度を約50℃/秒以下で徐々に冷却させることが好ましい。冷却がゆっくり行われるので、内側の層115と外側の層116の界面での気泡生成が抑えられ、気泡に起因する散乱が抑えられる。この工程により、内側の層115の表面に外側の層116を一体化することができる。
Next, FIG.6 (b) is a figure which shows a 2nd manufacturing process. The
図6(c)は、上述の工程で得られた、発光装置100の概略端面図である。この発光装置100の製造工程によれば、信頼性の高い発光装置を歩留まり良く製造することができる。
FIG. 6C is a schematic end view of the
また、外側の層116の更に外側に層を設ける場合は、図示はしないものの上述した、第2の低融点ガラスを用いて外側の層116を形成した場合と同様の工程で設けることができる。つまり、第2の低融点ガラスより高温のガラス転移点(Tg)を持つ第3の低融点ガラスを用い、金型をそのガラス転移点(Tg)以上に加熱しておく。次に、溶融した第3の低融点ガラスを金型の空洞部に注入する。この空洞部の外形は、外側の層116の外形寸法より一回り大きいものを使用する。次に、この第3低融点ガラス内に、上述の工程で得られた第2の低融点ガラスの外側の層116と一体化している内側の層115と発光体素子112と端子113を入れ、固定し、冷却する。冷却工程は、第2の低融点ガラスの固化工程と同様に、徐々に冷却することで、同様の効果を得ることができる。ここで、上述したように、各層に、蛍光体を含有した低融点ガラスを用いるもできる。このように、蛍光体を含有した低融点ガラスで各層を形成すると、例えば、青色の発光素子を用いて、白色の発光装置とすることも可能である。また、複層設けることで、各層に各色の蛍光体を入れることで、細分化することができる。また、複層設けることで、屈折率の調整も発光素子の近傍から、外側に向かって徐々に変化させることができるので、光取出し効率を向上させることも可能である。
In addition, when a layer is provided on the outer side of the
次に、第4の実施形態である発光装置400の製造方法の一例を図7(a)から(e)を用いて説明する。この製造方法は、第1の低融点ガラス715で予め任意の形状に成形した後に発光素子112に設置して、前記第1の低融点ガラス715のガラス転移点(Tg)以上に保たれた金型728で前記第1の低融点ガラス715の表面を任意の形状に成形して、内側の層415を形成する工程と、前記内側の層415よりも外側に第2の低融点ガラス716を配置して外側の層416を形成して内側の層415と一体化する工程と、を含んでいる。図7(a)は、第1の低融点ガラス715を金型を用いて成形する工程である。金型725は、第1の金型723と、第2の金型724からなり、成形品の上面がR形状となるような第1の金型723と、成形品の底面が略円状で中心部に発光素子を収容する収容部715bを有し、その円の外縁と繋ぐ側面部を有する第2の金型724とで構成されている。第1の金型723と第2の金型724を併せてできる空間725a内に、加熱溶融した第1の低融点ガラス715が充填され、冷却、固化して、成形する。
Next, an example of a method for manufacturing the
図7(b)は、パッケージ318の凹部319の凹部底面部319bに予め発光素子112を固定し、上述の工程で得られた第1の低融点ガラス715をパッケージ318の凹部319に載置する工程である。ここで、パッケージ318には、配線導体(図示せず)が予め形成されており、この配線導体は凹部底面部319bに離間して設けられている。そして、凹部底面部319bに配置された配線導電体(図示せず)の一端部に導電ペースト(図示せず)を介して、発光素子112が固定されている。
パッケージ318と発光素子112は、予め、第1の低融点ガラス715のガラス転移点(Tg)程度まで加熱しておく。そして、上述の成形して得られた第1の低融点ガラス715をパッケージ318の凹部319に載置する。この際、発光素子112は、成形した第1の低融点ガラス715の底面に形成された収容部715bに収容される。
In FIG. 7B, the
The
図7(c)は、パッケージ318の凹部319に第1の低融点ガラス715を固定し、発光素子112を第1の低融点ガラス715に埋入されるように収容された状態と、その第1の低融点ガラス715の上面715aの外形形状を整え、内側の層415を形成する工程である。第3の金型728は、パッケージ318と発光素子112の加熱状態を保ちつつ、第1の低融点ガラス715のガラス転移点(Tg)以上となるように設定する。加熱した第3の金型728で、上面715aを図面の矢印で示した方向に抑えて、外形形状を整え、収容部715bに収容された発光素子112は第1の低融点ガラス内に埋入され、内側の層415が形成される。
FIG. 7C illustrates a state in which the first low-melting
図7(d)は、上述の図7(c)の工程で得られた内側の層415の上面415aに、第2の低融点ガラス716を流し込む工程である。第2の低融点ガラス716は、ガラス転移点(Tg)以上に加熱し溶融した状態で、適量を内側の層415の上面415aに流し込まれる。ここで、第2の低融点ガラス716は、蛍光体等が分散されたものでもよい。また、流し込む際に、内側の層415の上面415aは、その外形形状が崩れない程度に加熱しても良い。
FIG. 7D is a step of pouring the second low-melting
図7(e)は、内側の層415の上面415aに流しこまれた第2の低融点ガラス716で外側の層416を形成する工程である。第4の金型729は、第2の低融点ガラス716のガラス転移点(Tg)以上に設定されている。この第4の金型729、内側の層415の上面415aを覆う外形形状となるように形造られている。第2の低融点ガラス716を第4の金型729で抑えつつ固定する。この状態で徐々に冷却させ、第2の低融点ガラス材料716を固化させ、固化した後第4の金型729をはずし、外側の層416を形成する。形成された外側の層416は、内側の層415の上面415aを覆うように形成されているため、内側の層415が潮解性の悪いものであっても、十分、実使用に耐え得る発光装置400となっている。
FIG. 7E shows a step of forming the
上述の工程で得られた発光装置400は、第1の低融点ガラスで予め任意の形状に成形されるので、発光素子を埋入する際に、位置決めが容易で、素子との間の空間に低融点ガラス層が入り込まない領域が低減される。つまり、空気層が介在したり、気泡が発生することがなくなるので、光取出し効率が低減することがない発光装置となる。さらに、発光素子112をパッケージ318の凹部底面部319bに固定してから予め加熱する工程を含むので、凹部319内に固定した内側の層415との密着性が良好となる。
Since the light-emitting
図8(a)、(b)を用いて、第5の実施形態である発光装置500の製造工程を説明する。発光装置500は上述しように、封止部材514の表面をシリコーン樹脂517で被覆するように形成されている。ここで図8(a)、(b)はシリコーン樹脂517を設けた場合の工程を示している。外側の層516までの形成方法は、上述した第4の実施形態である発光装置400と同様に形成することができる。図8(a)で、パッケージ318内の凹部底面部319bに発光素子112が固定され、凹部319を第1の低融点ガラスで充填して内側の層515を形成し、その外側に第2の低融点ガラスにより外側の層516を形成しており、その外側の層516の表面に液状のシリコーン樹脂817を塗布する。そして、第2の低融点ガラスの際と同様に、任意の形状とした金型825を液状のシリコーン樹脂817の硬化温度まで加熱して、図面の矢印で示した方向側から徐々に加圧して、封止部材514の表面を覆うようにする。この状態を保持し、徐々に冷却して、液状のシリコーン樹脂817を固化させて、シリコーン樹脂517を形成する。そして、金型825を取りはずし、封止部材514がシリコーン樹脂517にて被覆された図8(b)のような発光装置500を得た。また、シリコーン樹脂に代えて第3の低融点ガラスを使用して、複数層設けることもできる。このように、複数層設けると、屈折率を段階的に調整するこができ、光取出し効率を向上させることもできる。また、これらの各層に蛍光体を添加して、発光素子からの光を効率よく変更することもできる。
A manufacturing process of the
図9(a)は、発光素子112をパッケージ318の凹部底面部319bに固定し、第1の低融点ガラス915のガラス転移点(Tg)付近まで加熱・溶融した第1の低融点ガラス915をこの凹部319内に流し込む工程である。ここで、発光素子112からの光を変換する目的で、第1の低融点ガラス915内に予め上述したような蛍光体(図示せず)等を添加しても構わない。
FIG. 9A shows the first low
図9(b)は、図9(a)の第1の低融点ガラス915を金型921を用いて成形する工程を示している。金型921は第1の低融点ガラス915のガラス転移点(Tg)以上で加熱しておく。そして、金型921は、上述の工程で流しこまれた第1の低融点ガラス915で発光素子112を埋入するように、徐々に凹部319内に広げるように、図面の矢印で示した方向から押圧しつつ、一定の位置で固定する。そして、この状態で冷却し、第1の低融点ガラス915を固化して内側の層315を形成する。
FIG. 9B shows a step of forming the first low-melting
次に、図9(c)は、図9(b)で形成した内側の層315の表面に、ガラス転移点以上で加熱して溶融した第2の低融点ガラス916を所定量塗布する工程である。ここで、第2の低融点ガラス916を所定量塗布する際に、内側の層315、発光素子112及びパッケージ318の全体を発光素子112が損傷しない程度に加熱しておいても良い。加熱しておくことで、第2の低融点ガラス916を塗布する際に、気泡等の発生や巻き込みが少なくすることができるからである。そして、第2の低融点ガラス916を、金型922を用いて成形する。このとき、金型922は第2の低融点ガラス916のガラス転移点(Tg)以上に加熱されており、図面の矢印で示した方向から徐々に加圧し、第2の低融点ガラス916を内側の層315の表面に広げる。その際、金型922は第2の低融点ガラス916が任意の形状となるように加工されている。ここでは、光取出し効率の向上から、R形状とした。そして、金型922でこの形状を転写するように加圧し、加圧状態を保持したまま、第2の低融点ガラス916が固化するまで、徐々に金型922を冷却する。
Next, FIG. 9C is a step of applying a predetermined amount of the second low-melting
冷却後、金型922をはずすと、図9(d)に示すように、形状が転写された外側の層316を得ることができた。ここで、外側の層316が封止部材314の最外側の層、つまり、外気と接する場合には、用いられる第2の低融点ガラスは、アルミ化合物、特にアルミナを含んでいることが耐水性向上の面から好ましい。
When the
図10は、上述した図6で示した製造工程のうち、内側の層115を形成する工程までは同様であり、外側の層116を形成する工程が異なる。つまり、図10(a)では、外側の層116を予め内側の層115の表面に冠着するように金型930、931で形成する工程を示し、図10(b)は、外側の層116を内側の層115に冠着させる工程を示す。外側の層116は、内側の層115の外形形状とほぼ同等の凸形状を有する金型930と外側の層116と同形状の掘り込み931aを有する金型931の間に、第2の低融点ガラス616を流して、形成する。この際、金型930、931は、第2の低融点ガラス616の融点付近まで加熱されている。
そして、予め形成した外側の層116と一体化する際、内側の層115はガラス転移点(Tg)まで加熱して、外側の層116と内側の層115の界面を固定することが好ましい。そして、冠着し、固定した後に金型931を冷却して、発光装置100を得る。このような製造方法によると、予め外側の層116を一定の厚みで形成することができるので、厚みの制御が容易となる。
FIG. 10 is the same as the manufacturing process shown in FIG. 6 up to the process of forming the
When the
ここで、上述の各製造工程で使用される金型の材質は特に限定しないが、寸法安定性や加工のし易さ等を考慮すると、例えば、材質は超硬合金が挙げられ、また、金型の表面はガラスの成形及び取出しが容易となるように、プラチナコートされていても良い。また、加熱して形状を形成した後の冷却工程で、冷却スピードを調整するために、金型内に温度制御するための水や油の循環路やヒーター、熱伝対などの差込路や、取り付け部位などを設けていても構わない。 Here, the material of the mold used in each manufacturing process described above is not particularly limited, but considering the dimensional stability, ease of processing, etc., for example, the material may be cemented carbide, The surface of the mold may be platinum coated so that glass can be easily molded and removed. Also, in the cooling process after heating to form the shape, in order to adjust the cooling speed, water and oil circulation paths, heaters, thermocouples and other insertion paths for temperature control in the mold An attachment site or the like may be provided.
また、図10の製造工程の外側の層を予め形成する方法は、図7や図9で示した所謂表面実装型の発光装置の外側の層を形成する場合にも応用できる。 Further, the method of previously forming the outer layer in the manufacturing process of FIG. 10 can also be applied to the case of forming the outer layer of the so-called surface mount type light emitting device shown in FIGS.
(試料1~試料6)
図3の発光装置を用いて評価を行った。パッケージは窒素化アルミナ系のパッケージを用意し、発光素子は、紫外線領域の波長を主波長とする発光素子を用意した。このパッケージの凹部には相互に離間した一対の配線導体が形成されており、この配線導体の一端部は凹部底面部に配置されていた。そして、このパッケージの凹部底面部にて、配線導体と発光素子を銀フィラーを分散した導電ペーストにより固定しておく。
(
Evaluation was performed using the light emitting device of FIG. As the package, a nitrided alumina package was prepared, and as the light emitting element, a light emitting element having a wavelength in the ultraviolet region as a main wavelength was prepared. A pair of wiring conductors spaced apart from each other is formed in the recess of the package, and one end of the wiring conductor is disposed on the bottom surface of the recess. Then, the wiring conductor and the light emitting element are fixed with a conductive paste in which silver filler is dispersed at the bottom surface of the concave portion of the package.
そして、このパッケージとこのパッケージに固定した発光素子は、予め150℃で熱しておき、400℃に加熱し溶融したアンモニア系低融点ガラス(ガラス転移点Tg:200℃、屈折率1.7)を用いて、発光素子を埋入した。そして、50℃/秒の速度で、徐々に25℃まで冷却して、内側の層と発光素子を一体化する。 The package and the light-emitting element fixed to the package are preliminarily heated at 150 ° C. and heated to 400 ° C. to melt an ammonia-based low-melting glass (glass transition point Tg: 200 ° C., refractive index 1.7). The light emitting device was embedded. Then, it is gradually cooled to 25 ° C. at a rate of 50 ° C./second to integrate the inner layer and the light emitting element.
そして、下記の試料1〜試料6の低融点ガラスを用いて外側の層を形成する。外側の層は、下記の各試料を予めガラス転移点(Tg)まで加熱、溶融しておき、上述で得た発光素子と一体化している内側の層の上面に流し込む。次に、予め下記の各試料のガラス転移点(Tg)となるように加熱した金型を用意する。この金型は、内側の層を覆うようなR形状を有する金型である。そして、この金型を用い、内側の層の上面に流し込んだ各試料が、内側の層の上面に広がるように上側から加圧していき、パッケージと金型が当接したところで金型を固定する。そして、50℃/秒の速度で、徐々に25℃まで冷却して、外側の層を固化し、一体化し、金型をはずして、発光装置を得る。 And an outer layer is formed using the low melting glass of the following samples 1-6. For the outer layer, each of the following samples is heated and melted in advance to the glass transition point (Tg), and poured into the upper surface of the inner layer integrated with the light-emitting element obtained above. Next, a mold heated in advance so as to have a glass transition point (Tg) of each sample described below is prepared. This mold is a mold having an R shape that covers the inner layer. Then, using this mold, each sample poured into the upper surface of the inner layer is pressurized from the upper side so as to spread on the upper surface of the inner layer, and the mold is fixed when the package and the mold contact each other. . Then, it is gradually cooled to 25 ° C. at a rate of 50 ° C./second, and the outer layers are solidified and integrated, and the mold is removed to obtain a light emitting device.
外側の層として、低融点ガラス材料ニフッ化スズ(SnF2)、ヘキサメタリン酸ナトリウム((NaPO3)6)、メタリン酸アルミニウム(Al(PO3)3)に、アルミナ(以下Al2O3)の添加量を変化さて、試料1〜試料6を用意した。
As an outer layer, low melting point glass material tin difluoride (SnF 2 ), sodium hexametaphosphate ((NaPO 3 ) 6 ), aluminum metaphosphate (Al (PO 3 ) 3 ), alumina (hereinafter referred to as Al 2 O 3 )
試料1は、SnF2:(NaPO3)6:Al(PO3)3=14g:20g:1.5gである。試料2のAl2O3は0.75g(約2wt%)、試料3のAl2O3は1.50g(約4wt%)、試料4のAl2O3は2.25g(約6wt%)、試料5のAl2O3は3.00g(約7.8wt%)、試料6のAl2O3は3.75g(約9.6wt%)とした以外は、試料1と同じである。
各試料のガラス転移点(Tg:℃)の測定は、示査走査熱量天秤で行った。その結果を表1にまとめて示し、また、Al2O3の添加量とガラス転移点の関係をグラフ(図11)で示す。 The glass transition point (Tg: ° C.) of each sample was measured with an inspection scanning calorie balance. The results are summarized in Table 1, and the relationship between the added amount of Al 2 O 3 and the glass transition point is shown in a graph (FIG. 11).
試料1〜試料6の低融点ガラスのガラス転移点は、後添加のAl2O3の量の増加に伴って上昇することが分かる。これは、アルミ化合物によって、リン酸アモルファスガラスネットワークの中で、アルミイオンがリン酸ガラス中のリン酸素結合の酸素の不対電子とアルミイオンが結合し安定し、アモルファス内部での活性化エネルギーが上がるためと考えられる。従って、耐水性の向上も期待できこととなるこが分かる。ここで、アルミナの添加量が2.0gより多くなると、低融点ガラス中に分散させたアルミナが、白点として低融点ガラス中で目立つようになるため、白点の存在もなく透明性が必要な場合は、アルミナの添加量は、より好ましくは2.0g以下である。
It can be seen that the glass transition points of the low-melting
試料1〜試料6の低融点ガラスはいずれも透光性は良好であり、外側の層に試料1〜試料6の低融点ガラスを用いて形成した発光装置は、光取出し効率が良好であった。また、外側の層の耐水性も実験データは示さないものの、良好となっており、発光装置が水分による影響を受けることもなく良好であった。
All of the low melting point glasses of
(試料7〜試料13、参考例1)
図3の発光装置を用いて評価を行った。用意したパッケージや発光素子等は実施例1と同じものであり、予めパッケージに発光素子を固定し、予め150℃で熱しておくところまでは実施例1と同じである。
(Sample 7 to Sample 13, Reference Example 1)
Evaluation was performed using the light emitting device of FIG. The prepared package, light emitting element, and the like are the same as those in the first embodiment, and are the same as those in the first embodiment until the light emitting element is fixed to the package in advance and heated at 150 ° C. in advance.
次に、内側の層として試料7〜試料13、参考例1を用意する。各試料は予め各試料のガラス転移点(Tg)以上に加熱・溶融しておく。そして、この溶融した各試料は、パッケージの凹部内に注入して、発光素子を埋入した。そして、50℃/秒の速度で、徐々に25℃まで冷却して、内側の層と発光素子を一体化したものを得る。 Next, Sample 7 to Sample 13 and Reference Example 1 are prepared as inner layers. Each sample is heated and melted in advance to the glass transition point (Tg) of each sample. Then, each molten sample was injected into the recess of the package to embed the light emitting element. And it cools to 25 degreeC gradually at a speed | rate of 50 degreeC / sec, and obtains what integrated the inner layer and the light emitting element.
これに外側の層として、アルミ入りリン酸ガラスからなる低融点ガラス(ガラス転移点Tg:330℃、屈折率:1.5)を用意した。この低融点ガラスをガラス転移点まで加熱、溶融して、実施例1の場合と同様に、外側の層を形成して発光装置を得る。 As an outer layer, a low melting point glass (glass transition point Tg: 330 ° C., refractive index: 1.5) made of phosphate glass containing aluminum was prepared. This low-melting glass is heated and melted to the glass transition point, and the outer layer is formed in the same manner as in Example 1 to obtain a light emitting device.
ここで、試料7〜試料13は、低融点ガラスに対し、SnF2の添加量を変化させたものである。低融点ガラス中の(Na2PO3)6に対するSnF2の添加量は、重量比率(SnF2/(Na2PO3)6)で、試料7では0.11、試料8では0.25、試料9では0.43、試料10では0.67、試料11では1.00、試料12では1.50、試料13では2.33とする。また、参考例1として、SnF2を添加しないものを用意する。試料7〜試料13のガラス転移点(Tg:℃)の測定は、示査走査熱量天秤で測定を行った。その結果を図12にグラフで示す。また、試料8〜試料11及び参考例1の各屈折率の測定は、アッベ屈折率計(測定波長d(589nm))で測定を行った。その結果を図13にグラフで示す。 Here, Sample 7 to Sample 13 are obtained by changing the amount of SnF 2 added to the low melting point glass. The amount of SnF 2 added to (Na 2 PO 3 ) 6 in the low-melting glass is a weight ratio (SnF 2 / (Na 2 PO 3 ) 6 ), 0.11 for sample 7, 0.25 for sample 8, It is 0.43 for sample 9, 0.67 for sample 10, 1.00 for sample 11, 1.50 for sample 12, and 2.33 for sample 13. Further, as Reference Example 1, a material to which SnF 2 is not added is prepared. The glass transition points (Tg: ° C.) of Samples 7 to 13 were measured with an inspection scanning calorimetric balance. The results are shown graphically in FIG. Moreover, the measurement of each refractive index of Sample 8 to Sample 11 and Reference Example 1 was performed with an Abbe refractometer (measurement wavelength d (589 nm)). The results are shown graphically in FIG.
試料7〜試料13のガラス転移点(Tg:℃)は、それぞれ、試料7は259.4℃、試料8は247.7℃、試料9は220℃、試料10は226℃、試料11は216℃、試料12は202℃、試料13は146℃を示した。また、試料8〜試料11及び参考例1の各屈折率は、試料8は1.54、試料9は1.58、試料10は1.61、試料11は1.64、参考例1は1.48を示した。
The glass transition points (Tg: ° C.) of Sample 7 to Sample 13 are 259.4 ° C., Sample 8 is 247.7 ° C., Sample 9 is 220 ° C., Sample 10 is 226 ° C., and Sample 11 is 216, respectively. C., Sample 12 was 202.degree. C., and Sample 13 was 146.degree. The refractive indexes of Sample 8 to Sample 11 and Reference Example 1 are 1.54 for Sample 8, 1.58 for Sample 9, 1.61 for Sample 10, 1.64 for
各試料の測定結果より、屈折率はSnF2の添加量が増えると高くなることが分かる(図13)。したがって、添加量により、屈折率の調整が可能となるので、光取出し効率を調整する際に有用となる。また、これらの屈折率は、外側の層の屈折率よりも高いので、実験データは示さないものの、これらの試料を用いて形成した発光光装置の光取出し効率は参考例1を使用して形成した発光光装置と比べ良好であった。また、試料7〜試料13の低融点ガラスはガラス転移点(Tg)が低いため、発光素子等を損傷することもなかった。ガラス転移点はSnF2の添加量が増えると、低くなることが分かった(図12)。このようにSnF2を添加することにより、内側の層に用いる低融点ガラスのガラス転移点(Tg)を発光素子等が損傷しないような、より低いガラス転移点(Tg)に調整することも可能となることが分かった。 From the measurement results of each sample, it can be seen that the refractive index increases as the amount of SnF 2 added increases (FIG. 13). Therefore, the refractive index can be adjusted depending on the amount added, which is useful when adjusting the light extraction efficiency. Moreover, since these refractive indexes are higher than the refractive index of an outer layer, although experimental data are not shown, the light extraction efficiency of the light-emitting light device formed using these samples is formed using Reference Example 1. It was better than the light emitting device. Moreover, since the low melting glass of Samples 7 to 13 had a low glass transition point (Tg), the light emitting element and the like were not damaged. It has been found that the glass transition point decreases as the amount of SnF 2 added increases (FIG. 12). By adding SnF 2 in this way, it is possible to adjust the glass transition point (Tg) of the low-melting glass used for the inner layer to a lower glass transition point (Tg) that does not damage the light emitting element or the like. I found out that
100、110、200、300、400、500・・・ 発光装置
112・・・発光素子、112a・・・発光面
113・・・端子
114、314、414、514・・・封止部材
115、315、415、515・・・内側の層
116、316、416、516・・・外側の層
117・・・更に外側の層
217・・・失透したガラスの層
318・・・パッケージ
318a・・・上面側、318b・・・側面側、318c・・・裏側
319・・・凹部、319a・・・凹部側面部、319b・・・凹部底面部
415a・・・上面
517・・・シリコーン樹脂
615、715、915・・・第1の低融点ガラス
616、716、916・・・第2の低融点ガラス
619稼動金型
620、621、725、825、921、922、930、931・・・金型
620a、621a・・・空洞部
715a・・・上面、715b・・・収容部
723・・・第1の金型
724・・・第2の金型
725a・・・空間
728・・・第3の金型
729・・・第4の金型
817・・・液状のシリコーン樹脂
931a・・・掘り込み
100, 110, 200, 300, 400, 500 ...
Claims (6)
前記発光素子を覆う透光性を有する封止部材を有し、
該封止部材が前記発光素子により近接して配置される内側の層と、該内側の層よりも外側に配置される外側の層とを備え、
前記内側の層の屈折率が外側の層の屈折率より高く、
かつ、前記内側の層のガラス転移点は、前記外側の層のガラス転移点より低いことを特徴とする発光装置。 In the light emitting device configured to emit light by applying a driving current to the light emitting element,
A sealing member having translucency covering the light emitting element;
The sealing member includes an inner layer disposed closer to the light emitting element, and an outer layer disposed outside the inner layer,
The refractive index of the inner layer is higher than the refractive index of the outer layer;
And the glass transition point of the said inner layer is lower than the glass transition point of the said outer layer, The light-emitting device characterized by the above-mentioned.
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011065322A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | Method for manufacturing light emitting diode unit |
WO2011065321A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | Method for manufacturing light emitting diode unit |
JP2011519173A (en) * | 2008-04-29 | 2011-06-30 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | (W) Light converter system for LED |
CN102163682A (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-24 | Lg伊诺特有限公司 | Light emitting device package |
JP2011171476A (en) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Konica Minolta Opto Inc | Method for manufacturing light emitting diode unit |
JP2011210787A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Konica Minolta Opto Inc | Method for manufacturing light emitting-diode unit |
WO2011138169A1 (en) * | 2010-05-07 | 2011-11-10 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelectronic semiconductor part containing alkali-free and halogen-free metal phosphate |
WO2012038164A1 (en) * | 2010-09-21 | 2012-03-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Electronic component |
JP2012064787A (en) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Toyoda Gosei Co Ltd | Method of manufacturing light-emitting device |
US8405111B2 (en) | 2008-11-13 | 2013-03-26 | National University Corporation Nagoya University | Semiconductor light-emitting device with sealing material including a phosphor |
WO2013189809A1 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Osram Gmbh | Device for supplying electromagnetic radiation |
CN104365181A (en) * | 2012-06-15 | 2015-02-18 | 欧司朗股份有限公司 | Optoelectronic semiconductor component |
JP2017088781A (en) * | 2015-11-13 | 2017-05-25 | 日本電気硝子株式会社 | Manufacturing method of wavelength conversion member and wavelength conversion member |
TWI588513B (en) * | 2012-02-09 | 2017-06-21 | 道康寧公司 | Gradient polymer structures and methods |
WO2017169289A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | セントラル硝子株式会社 | Method for manufacturing optical device |
JP2021132176A (en) * | 2020-02-21 | 2021-09-09 | 日亜化学工業株式会社 | Light-emitting device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4974174A (en) * | 1972-10-19 | 1974-07-17 | ||
JP2001048574A (en) * | 1999-07-29 | 2001-02-20 | Sumita Optical Glass Inc | Low melting point glass |
WO2004082036A1 (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Solid element device and method for manufacture thereof |
-
2006
- 2006-07-27 JP JP2006205064A patent/JP4930830B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4974174A (en) * | 1972-10-19 | 1974-07-17 | ||
JP2001048574A (en) * | 1999-07-29 | 2001-02-20 | Sumita Optical Glass Inc | Low melting point glass |
WO2004082036A1 (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Solid element device and method for manufacture thereof |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011519173A (en) * | 2008-04-29 | 2011-06-30 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | (W) Light converter system for LED |
US8405111B2 (en) | 2008-11-13 | 2013-03-26 | National University Corporation Nagoya University | Semiconductor light-emitting device with sealing material including a phosphor |
WO2011065321A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | Method for manufacturing light emitting diode unit |
WO2011065322A1 (en) * | 2009-11-30 | 2011-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | Method for manufacturing light emitting diode unit |
CN102163682A (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-24 | Lg伊诺特有限公司 | Light emitting device package |
EP2355194A3 (en) * | 2010-01-28 | 2014-05-14 | LG Innotek Co., Ltd. | Light emitting device package |
JP2011171476A (en) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Konica Minolta Opto Inc | Method for manufacturing light emitting diode unit |
JP2011210787A (en) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Konica Minolta Opto Inc | Method for manufacturing light emitting-diode unit |
WO2011138169A1 (en) * | 2010-05-07 | 2011-11-10 | Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelectronic semiconductor part containing alkali-free and halogen-free metal phosphate |
US8772821B2 (en) | 2010-05-07 | 2014-07-08 | Osram Gmbh | Optoelectronic semiconductor part containing alkali-free and halogen-free metal phosphate |
CN102884016A (en) * | 2010-05-07 | 2013-01-16 | 欧司朗股份有限公司 | Optoelectronic semiconductor part containing alkali-free and halogen-free metal phosphate |
US9315416B2 (en) | 2010-09-16 | 2016-04-19 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method of manufacturing light-emitting device |
JP2012064787A (en) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Toyoda Gosei Co Ltd | Method of manufacturing light-emitting device |
US9029901B2 (en) | 2010-09-21 | 2015-05-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Electronic component |
WO2012038164A1 (en) * | 2010-09-21 | 2012-03-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Electronic component |
TWI588513B (en) * | 2012-02-09 | 2017-06-21 | 道康寧公司 | Gradient polymer structures and methods |
US10297729B2 (en) | 2012-06-15 | 2019-05-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronics semiconductor component |
CN104365181A (en) * | 2012-06-15 | 2015-02-18 | 欧司朗股份有限公司 | Optoelectronic semiconductor component |
JP2015521791A (en) * | 2012-06-15 | 2015-07-30 | オスラム ゲーエムベーハーOSRAM GmbH | Optoelectronic semiconductor elements |
CN104365181B (en) * | 2012-06-15 | 2017-10-31 | 欧司朗光电半导体有限公司 | Opto-electronic semiconductor module |
US9360175B2 (en) | 2012-06-18 | 2016-06-07 | Osram Gmbh | Device for supplying electromagnetic radiation |
WO2013189809A1 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Osram Gmbh | Device for supplying electromagnetic radiation |
JP2017088781A (en) * | 2015-11-13 | 2017-05-25 | 日本電気硝子株式会社 | Manufacturing method of wavelength conversion member and wavelength conversion member |
WO2017169289A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | セントラル硝子株式会社 | Method for manufacturing optical device |
JP2021132176A (en) * | 2020-02-21 | 2021-09-09 | 日亜化学工業株式会社 | Light-emitting device |
JP7445120B2 (en) | 2020-02-21 | 2024-03-07 | 日亜化学工業株式会社 | light emitting device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4930830B2 (en) | 2012-05-16 |
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