JP2008010294A - ビーム照射装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ステージ移動機構の動作異常を検出する。
【解決手段】 電子銃1からのビームが照射される試料4を載置したステージ6、ステージ6を移動させるステージ移動機構、高さ検出器21、ステージ駆動装置10によりステージ6を移動させた時に高さ検出器21が検出した試料表面の異なった箇所の高さ間の差分を算出する差分算出回路33、基準値設定器34からの基準値と差分算出回路33からの各差分を順次比較し、基準値を越えた時にステージ移動機構の動作異常信号を発生する比較回路35を備えた。
【選択図】図2
【解決手段】 電子銃1からのビームが照射される試料4を載置したステージ6、ステージ6を移動させるステージ移動機構、高さ検出器21、ステージ駆動装置10によりステージ6を移動させた時に高さ検出器21が検出した試料表面の異なった箇所の高さ間の差分を算出する差分算出回路33、基準値設定器34からの基準値と差分算出回路33からの各差分を順次比較し、基準値を越えた時にステージ移動機構の動作異常信号を発生する比較回路35を備えた。
【選択図】図2
Description
本発明は、ステージ移動機構の動作異常を検出するシステムを備えたビーム照射装置に関する。
図1はビーム照射装置の1例である走査型電子顕微鏡の1概略図である。
図中1は電子銃、2,3は、それぞれ、前記電子銃1からの電子ビームを試料4上に集束するための集束レンズ,対物レンズである。
5X,5Yは前記電子銃1からの電子ビームで前記試料4上を、それぞれ、X方向,Y方向に走査するためのX方向偏向器,Y方向偏向器である。
6X,6Yは前記試料4を載置して、それぞれ、X方向,Y方向に移動するXステージ,Yステージである。
7は各種指令及び演算等を行う中央制御装置である。8は前記中央制御装置7の指令に基づいてX方向,Y方向走査信号を作成し、それぞれを、前記X方向,Y方向偏向器5X,5Yに供給する走査信号作成回路である。
9は前記中央制御装置7の指令に基づいて前記Xステージ6Xを駆動させるXステージ駆動装置10X,前記Yステージ6Yを駆動させるYステージ駆動装置10Yに、それぞれ、X方向移動信号、Y方向移動信号を供給するステージ移動制御ユニットである。
11は前記試料4からの二次電子を検出する二次電子検出器で、該二次電子検出器の出力信号は、アンプ12,A/D変換器13を介して前記中央制御装置7に送られる。
14は前記中央制御装置7の指令に基づいて前記試料4の二次電子像等を表示する表示装置である。
尚、図中15はD/A変換器、16X及び16Yはアンプ、17は例えばキーボードの如き入力装置である。
この様な構成の走査型電子顕微鏡において、入力装置17から試料上で観察したい領域(以後、観察領域と称す)を中央制御装置7に入力する。該中央制御装置7はD/A変換器15を介して、走査信号作成回路8に、前記観察領域を走査するための走査信号の作成指令を送る。
該走査信号作成回路8は、前記観察領域を走査するためのX方向走査信号,Y方向走査信号を作成して、それぞれ、X方向偏向器5X,Y方向偏向器5Yに供給する。
すると、集束レンズ2と対物レンズ3によって試料4上に集束された電子ビームは、前記X方向偏向器5X,Y方向偏向器5Yにより、前記試料4上の観察領域内を二次元走査する。
該走査により試料表面から発生した二次電子は二次電子検出器11により検出される。この二次電子検出器の出力信号は、アンプ12及びA/D変換器13を介して前記中央制御装置7に送られる。
該中央制御装置7は送られてきた前記観察領域からの二次電子信号に画像化のための処理を施して表示装置14に送るので、該表示装置14に、前記試料4の観察領域の二次電子像が表示される。
さて、前記の如き走査型電子顕微鏡において、観察領域が電子ビーム光軸上若しくは該光軸に極めて近いところにあると、電子ビーム走査のみでも偏向歪みの影響が少ない二次電子像が得られるが、観察領域が電子ビーム光軸から離れると、電子ビーム走査のみでは偏向歪みの影響が大きい二次電子像が表示され、試料観察に支障を来してしまう。
そこで、通常、観察領域の中心が、電子ビーム光軸上に来るように、前記中央制御装置7からステージ移動制御ユニット9にステージ移動指令を発する。
該ステージ移動指令を受けた前記ステージ移動制御ユニット9は観察領域の中心が電子ビーム光軸上に来るようなX方向移動信号を前記Xステージ駆動装置10Xに、Y方向移動信号を前記Yステージ駆動装置10Yに供給する。前記Xステージ駆動装置10Xと前記Yステージ駆動装置10Yは、それぞれ、前記Xステージ6X,Yステージ6Yを前記X方向移動信号,Y方向移動信号に基づいて移動させるので、前記観察領域の中心が電子ビーム光軸上に来る。
該ステージ移動指令を受けた前記ステージ移動制御ユニット9は観察領域の中心が電子ビーム光軸上に来るようなX方向移動信号を前記Xステージ駆動装置10Xに、Y方向移動信号を前記Yステージ駆動装置10Yに供給する。前記Xステージ駆動装置10Xと前記Yステージ駆動装置10Yは、それぞれ、前記Xステージ6X,Yステージ6Yを前記X方向移動信号,Y方向移動信号に基づいて移動させるので、前記観察領域の中心が電子ビーム光軸上に来る。
所で、観察領域は光軸上若しくはその近傍にあることは少ないので、実際には、ステージを頻繁に移動させる事になる。そうすると、経時的に、XステージやYステージのステージ移動機構の構成部品が消耗してくる。この様な消耗が大きくなると、ステージ移動機構に大きな負荷がかかり、やがて動作不能に陥ってしまう。又、ステージ移動機構に異物が入り込んだまま長く使用していると、やがてステージ移動機構の構成部品の消耗が大きくなり、動作不能に陥ってしまう
そうなると、装置全体を完全に止めて、ステージ移動機構一式を交換しなければならなくなり、著しく大きな時間浪費を発生させてしまうことになる。
そうなると、装置全体を完全に止めて、ステージ移動機構一式を交換しなければならなくなり、著しく大きな時間浪費を発生させてしまうことになる。
本発明はこの様な問題を解決する新規なビーム照射装置を提供することを目的とするものである。
本発明のビーム照射装置は、ビーム発生源、該ビーム発生源からのビームが照射される被ビーム照射物を載置したステージ、該ステージを移動させるステージ移動機構、該ステージ移動機構により前記ステージを移動させた時に前記被ビーム照射物のビーム照射面の高さを検出する手段、及び、該高さ検出手段が検出した高さの単位時間当りの変化分を測定する手段を備え、該測定した高さ変化分に基づいて前記ステージ移動機構の動作異常を検出するように成した
ことを特徴とする。
ことを特徴とする。
本発明のビーム照射装置は、ビーム発生源、該ビーム発生源からのビームが照射される被ビーム照射物を載置したステージ、該ステージを移動させるステージ移動機構、該ステージ移動機構にステージ移動信号を供給するステージ移動制御手段、前記ステージ移動機構によりステージを連続的に移動させた時に前記被ビーム照射物のビーム照射面の高さを検出する手段、及び、該高さ検出手段が検出した高さの単位時間当りの変化分を測定する手段を備え、該測定した高さ変化分と予めステージ移動機構の動作異常に対応させて設定した基準値とを比較し、該比較の結果に基づいて前記ステージ移動機構の動作異常を検出するように成したことを特徴とする。
本発明は、予め設定された時間において、被ビーム照射物表面の各箇所間の高さ変化分を検出し、該検出した高さ変化分に基づいてステージ移動機構の動作異常を検出するようにしたので、タイムリーにステージ移動機構の動作異常を検出することが可能となるので、装置を部分的に止め、ステージ移動機構の一部部品の修理若しくは交換のみの短時間の作業で済む。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図2は本発明のビーム照射装置の一例である走査型電子顕微鏡の一概略図である。
図中、前記図1にて使用された記号と同一記号の付されたものは同一構成要素を示す。
図中21は試料4の上方に取り付けられ、該試料4の高さを検出するための高さ検出器である。この様な高さ検出器としては、例えば、高さ検出器に設けられた電極板と高さを測定すべき試料間の静電容量を検出し、該検出値を試料表面の高さの値に変換する方式のもの(例えば、特開平05−198662号公報参照)や、高さを測定すべき試料表面に光を当て、その反射光の結像位置を検出し、該検出位置を試料表面の高さの値に変換する方式のもの(例えば、特開平11−307034号公報参照)等が既に公知である。
22は、前記高さ変位検出器21からの高さ信号からステージ移動機構に異常が発生したか否かを判定する異常検出ユニットである。
この異常検出ユニット22は、図3に示す如き構成を成している。
即ち、異常判定ユニット22は、ステージ移動制御ユニット9が内蔵しているサンプリング発生器(図示しないが、ステージが一定量移動する度にサンプリングパルス信号を発生するもの)からのサンプリングパルス信号に基づいて、前記高さ検出器21からの高さ信号をデジタル信号に変換するA/D変換器31、該A/D変換器31からの高さ信号を一旦記憶するメモリ32、該メモリ32から高さ信号を順次読み出し、該読み出された高さ信号間の差分を次々算出する差分算出回路33、前記入力装置17によりステージ移動機構の動作異常の判断基準となる基準値が前記制御装置7を介して設定される基準値設定器34,及び、前記差分算出回路33からの信号と前記基準値設定器34かの基準値を比較し、差分値が基準値を越えた場合に動作異常信号を、越えない場合に動作正常信号を前記中央制御装置7に送る比較器35を備えている。
この様な構成の走査型電子顕微鏡において、走査電子顕微鏡の本来の機能である観察の動作に入る前、或いは、観察が一段落した後、或いは、予め設定した時等に、試料上への電子ビーム照射を停止して、次の様にして、ステージ移動機構の動作異常の判定を行う。
先ず、入力装置17により基準値設定器34にステージ移動機構の動作異常の判断基準となる基準値を設定する。
同時に、前記高さ検出器21直下を試料4表面がその中心を含むX軸方向に連続的に通過し、次に、同中心を含むY軸方向に連続的に通過する様に、前記中央制御装置7からステージ移動制御ユニット9にステージ移動指令を発する。該ステージ移動指令を受けた前記ステージ移動制御ユニット9は、前記高さ検出器21直下を試料4表面がその中心を含むX軸方向に連続的に通過する様なX方向移動信号,前記高さ検出器21直下を試料4表面がその中心を含むY軸方向に連続的に通過する様なY方向移動信号を,Yステージ駆動装置10Yに送る。
該Xステージ駆動装置10Xは前記Xステージ6Xを前記X方向移動信号に基づいて連続的に移動させ、次に、該Yステージ駆動装置10Yは前記Yステージ6Yを前記Y方向移動信号に基づいて連続的に移動させるので、前記高さ検出器21直下を試料4表面がその中心を含むX軸方向に連続的に通過し、次に、同中心を含むY軸方向に連続的に通過する。
この様な連続的な移動中に、前記高さ検出器21は、その直下を連続的に通過する試料表面の中心を含むX方向に沿ったライン上の各位置とY方向に沿ったライン上の各位置の高さを検出し、A/D変換器31に送る。
該A/D変換器31は、前記ステージ移動制御ユニット9が内蔵しているサンプリング発生器(図示せず)からのサンプリングパルス信号に基づいて、前記高さ検出器21から送られてくる高さ信号を順次デジタル信号に変換し、メモリ32に送る。
該メモリ32は順次送られてくるデジタル高さ信号を記憶する。
次に、差分算出回路33は、前記メモリ32から順次高さ信号を読み出し、順次読み出されてくる高さ信号値間の差分を算出し、算出した差分を順次比較回路35に送る。
図4(a)は、Y軸方向に移動した際に、移動に伴ってサンプリングされた高さ信号をプロットした図である。この図から判るように、高さ検出器により検出される試料表面の高さは、試料表面のうなりや反りによりゆっくりと変化し、また、試料表面にうねりや反りがなかったとしても、ステージ移動機構にうねりがあると、これも試料移動に伴ってゆっくりと変化する。小刻みな変動も見受けられる。
ところが、ステージ移動機構に破損や欠損(例えば、ベアリングの損傷)によるガタや振動が発生すると、これも高さ変化につながるが、この場合には、図4(a)において丸印で囲んだように、瞬間的に比較的大きな高さ変化が発生することが多い。
図4(b)は、差分検出回路33の出力の変化を示しているが、徐々に高さが低下して来ている。図4(a)の左側部分では負の小さな値を示し、一方、徐々に上昇している右側部分では正の小さな値を示している。それに対し、丸印で囲まれた部分における差分値は、大きな正、負の値を示す。
前記基準値は、単位時間当りの高さ変化が、通常の試料表面やステージ移動機構の小刻みな変化によるものと、ステージ移動機構の異常によるものとを区別できる閾値、例えば、±Lに選定される。
該比較回路35では、順次送られてくる差分値と前記基準設定器34からの基準値を順次比較し、差分値が基準値を越えた場合に動作異常信号を、越えない場合に動作正常信号を前記中央制御装置7に送る。
該中央制御装置7は、前記Xステージ6Xが移動している時に検出された際に得られた動作正常信号に対しては前記Xステージ6Xの移動機構の動作に問題が起きていないと判断し、動作異常信号に対してはXステージ6Xの移動機構の動作に問題が起きていると判断し、後者の場合には前記Xステージ6Xの移動機構の動作に異常があることを示す警告信号を表示装置14に送る。該表示装置14は、「X方向のステージ移動機構に異常あり」との文字表示を行ったり、或いは、該内容に対応した色の表示を行う。同様に、前記Yステージ6Yが移動している時に検出された際に得られた動作正常信号に対してはYステージ6Yの移動機構に問題が起きていないと判断し、動作異常信号に対してはYステージ6Yの移動機構の動作に問題が起きていると判断し、後者の場合には前記Yステージ6Yの移動機構の動作に異常があることを示す警告信号を表示装置14に送る。該表示装置14は、「Y方向のステージ移動機構に異常あり」との文字表示を行ったり、或いは、該内容に対応した色の表示を行う。
尚、前記例では、ステージをX方向に沿って直線状に連続的移動させた後、Y方向にも直線状に連続的に移動させ、試料表面の高さを検出する様にしたが、ステージをジグザグ状に連続的に移動させ、その移動中に試料表面の高さを検出する様にしても良い。
又、前記例では、所定の時間間隔で順次送られてくる高さ信号間の差を取って単位時間当りの高さ変化分を求める様にしたが、連続的に送られてくる高さ信号を時間微分することにより、高さ信号の単位時間当りの変化分を算出するようにしても良い。
又、前記例では本発明のビーム照射装置として走査型電子顕微鏡を例に挙げて説明したが、ステージを備えた他の荷電粒子ビーム装置、例えば、電子ビーム描画装置や収束イオンビーム加工装置、或いは、ステージを備えたレーザー顕微鏡の如き光ビーム照射装置にも本発明は応用可能である。
又、前記例では、ステージ移動機構の動作異常を表示装置14上で目に見える表示を行うようにしたが、ステージ移動機構の動作異常を、警告ブザー等の音で表現するようにしても良い。
1…電子銃
2…集束レンズ
3…対物レンズ
4…試料
5X…X方向偏向器
5Y…Y方向偏向器
6X…Xステージ
6Y…Yステージ
7…中央制御装置
8…走査信号作成回路
9…ステージ移動制御ユニット
10X…Xステージ駆動装置
10Y…Yステージ駆動装置
11…二次電子検出器
12,16X,16Y…アンプ
13,31…A/D変換器
14…表示装置
15…D/A変換器
17…入力装置
21…高さ検出器
22…異常検出ユニット
32…メモリ
33…差分算出回路
34…基準値設定器
2…集束レンズ
3…対物レンズ
4…試料
5X…X方向偏向器
5Y…Y方向偏向器
6X…Xステージ
6Y…Yステージ
7…中央制御装置
8…走査信号作成回路
9…ステージ移動制御ユニット
10X…Xステージ駆動装置
10Y…Yステージ駆動装置
11…二次電子検出器
12,16X,16Y…アンプ
13,31…A/D変換器
14…表示装置
15…D/A変換器
17…入力装置
21…高さ検出器
22…異常検出ユニット
32…メモリ
33…差分算出回路
34…基準値設定器
Claims (4)
- ビーム発生源、該ビーム発生源からのビームが照射される被ビーム照射物を載置したステージ、該ステージを移動させるステージ移動機構、該ステージ移動機構により前記ステージを移動させた時に前記被ビーム照射物のビーム照射面の高さを検出する手段、及び、該高さ検出手段が検出した高さの単位時間当りの変化分を測定する手段を備え、該測定した高さ変化分に基づいて前記ステージ移動機構の動作異常を検出するように成したビーム照射装置。
- ビーム発生源、該ビーム発生源からのビームが照射される被ビーム照射物を載置したステージ、該ステージを移動させるステージ移動機構、該ステージ移動機構にステージ移動信号を供給するステージ移動制御手段、前記ステージ移動機構によりステージを連続的に移動させた時に前記被ビーム照射物のビーム照射面の高さを検出する手段、及び、該高さ検出手段が検出した高さの単位時間当りの変化分を測定する手段を備え、該測定した高さ変化分と予めステージ移動機構の動作異常に対応させて設定した基準値とを比較し、該比較の結果に基づいて前記ステージ移動機構の動作異常を検出するように成したビーム照射装置。
- 前記動作異常を表示する表示手段を設けた請求項1若しくは2記載のビーム照射装置。
- 前記ステージはX方向移動用ステージとY方向移動用ステージから成り、それぞれ、X方向ステージ移動機構,Y方向ステージ移動機構により移動される請求項1若しくは2記載のビーム照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006179158A JP2008010294A (ja) | 2006-06-29 | 2006-06-29 | ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006179158A JP2008010294A (ja) | 2006-06-29 | 2006-06-29 | ビーム照射装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008010294A true JP2008010294A (ja) | 2008-01-17 |
Family
ID=39068310
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---|---|---|---|
JP2006179158A Withdrawn JP2008010294A (ja) | 2006-06-29 | 2006-06-29 | ビーム照射装置 |
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---|---|
JP (1) | JP2008010294A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012028284A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
-
2006
- 2006-06-29 JP JP2006179158A patent/JP2008010294A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012028284A (ja) * | 2010-07-28 | 2012-02-09 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
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