JP2008009125A - 波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】積層する膜の総数を少なくすることができ、かつ積層する各層の厚みを薄くすることができるとともに、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができ、かつ阻止帯域を従来よりも広くすることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタを得る。
【解決手段】高屈折率材料からなる第1の薄膜と低屈折率材料からなる第2の薄膜とを交互に積層した構成を備える波長分離膜であって、第1の薄膜がSi薄膜であり、第2の薄膜が、Ta2O5薄膜、Nb2O5薄膜、ZrO2薄膜、またはAl2O3薄膜であることを特徴としている。
【選択図】図5
【解決手段】高屈折率材料からなる第1の薄膜と低屈折率材料からなる第2の薄膜とを交互に積層した構成を備える波長分離膜であって、第1の薄膜がSi薄膜であり、第2の薄膜が、Ta2O5薄膜、Nb2O5薄膜、ZrO2薄膜、またはAl2O3薄膜であることを特徴としている。
【選択図】図5
Description
本発明は、透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタに関するものである。
光ファイバにより双方向に伝送される光を送受信する光送受信モジュールとして、光ファイバの先端面の光軸上に第1の波長の光を光軸方向に通過させ、かつ第2の波長の光を光軸と垂直方向に反射させる光分離プリズムが設けられたモジュールが知られている(特許文献1など)。光分離プリズム内には、光の入射方向に対して45度に傾斜して波長分離膜が設けられている。このような波長分離膜は、高屈折率材料からなる第1の薄膜と低屈折率材料からなる第2の薄膜とを交互に積層することにより構成されている。従来は一般に、高屈折率の第1の薄膜としてTiO2が用いられ、低屈折率の第2の薄膜としてSiO2が用いられており、これらの薄膜を交互に60層程度積層して波長分離膜が形成されている。
しかしながら、このようなTiO2とSiO2の薄膜を積層して構成された波長分離膜においては、波長分離膜に対する光の入射角度にずれが生じると、透過帯域及び阻止帯域に大きなずれが生じ、所望の光学特性が得られないという問題があった。
このような問題を解決するため、特許文献2においては、TiO2薄膜またはSiO2薄膜と、Si薄膜とを交互に積層した波長分離膜を用いた光分離プリズムが提案されている。しかしながら、これらの積層薄膜においても、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の積層数を減少させていくと、阻止帯域が狭くなったり、光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅が大きくなるという問題があった。
特開2000−180671号公報
特開2000−162413号公報
本発明の目的は、積層する膜の総数を少なくすることができ、かつ積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができ、かつ阻止帯域を従来よりも広くすることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタを提供することにある。
本発明の波長分離膜は、高屈折率材料からなる第1の薄膜と低屈折率材料からなる第2の薄膜とを交互に積層した構成を備える波長分離膜であって、第1の薄膜がSi薄膜であり、第2の薄膜が、Ta2O5薄膜、Nb2O5薄膜、ZrO2薄膜、またはAl2O3薄膜であることを特徴としている。
本発明の波長分離膜においては、Si薄膜からなる第1の薄膜と、Ta2O5薄膜、Nb2O5薄膜、ZrO2薄膜、またはAl2O3薄膜からなる第2の薄膜とを交互に積層して波長分離膜としている。本発明においては、第1の薄膜及び第2の薄膜として、それぞれ屈折率の大きな材料を用いているので、各薄膜の厚みを薄くすることができ、その結果として、従来よりも膜全体の厚みを薄くすることができる。また、第1の薄膜(Si薄膜)と、第2の薄膜(Ta2O5薄膜等)との屈折率の差が大きいため、積層する膜の総数を少なくすることができる。例えば、従来のSi薄膜とTiO2薄膜の積層膜から波長分離膜を構成する場合、積層数が44層であり、厚みが10μm程度であったものを、本発明では、27層の積層数にすることができ、全体の厚みを4μm程度にすることができる。
本発明によれば、積層する各膜の厚みを薄くすることができ、かつ積層する膜の総数を少なくすることができるので、従来よりも製造工程を簡略化することができる。また、TiO2薄膜はTiO2の結晶化により、しばしば光散乱による透過損失が発生するが、本発明においては、TiO2薄膜を用いていないので、このような問題を解消することができる。
また、第1の薄膜及び第2の薄膜のそれぞれに、従来に比べ屈折率の高い材料を用いているので、光の入射角による透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができる。また、第1の薄膜と第2の薄膜の屈折率の差が大きいため、阻止帯域を拡げることが可能となる。
本発明において、第1の薄膜及び第2の薄膜の各薄膜の厚みは、透過帯域及び阻止帯域の設定により適宜選択されるものであるが、一般には50〜250nmの膜厚の範囲内で選択される。また、積層する膜の総数は、特に限定されるものではないが、例えば、20〜40層の範囲とするのが一般的である。
本発明の光通信用フィルタは、上記本発明の波長分離膜を光入射方向に対して傾斜して配置し、波長分離膜の透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴としている。
本発明の光通信用フィルタにおいて、波長分離膜は、光入射方向に対して実質的に45度に傾斜して配置されることが好ましい。実質的に45度とは、45度±2度を意味している。
本発明の光通信用フィルタとしては、後述するような波長分離プリズム、波長分離平板などが挙げられる。
本発明によれば、積層する膜の総数を少なくすることができ、かつ積層する各膜の厚みを薄くすることができる。従って、波長分離膜全体の厚みを薄くすることができる。
また、本発明によれば、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができ、かつ阻止帯域を従来よりも広くすることができる。
以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
図1は、本発明に従う光通信用フィルタの一実施例である波長分離プリズムを示す模式的断面図である。図1に示すように、波長分離プリズム1は、直角二等辺三角柱状のガラスなどからなるプリズム片2及び3を、波長分離膜4を介して傾斜面同士で貼り合わせることにより構成されている。貼り合わせには、例えば紫外線硬化型接着剤を用いることができる。貼り合わせるプリズム片の一方の傾斜面上に、本発明に従う波長分離膜4を形成することにより、プリズム片2及び3の傾斜面に波長分離膜4を配置することができる。
図2は、図1に示す波長分離プリズムを用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。波長分離プリズム1は、紫外線硬化型接着剤を用いて、フェルール10の先端に接合されている。フェルール10内には、光ファイバ11が設けられている。発光素子であるレーザーダイオード(LD)13から出射された波長1490nmの光は、レンズ12により集光され、波長分離プリズム1に入射する。波長分離プリズム1に入射した光は、波長分離膜4の透過帯域の光であるので、波長分離膜4を透過し、光ファイバ11の端部から入射し、光ファイバ11内を伝搬する。
一方、光ファイバ11から出射された波長1310nmの光は、波長分離プリズム1に入射し、波長分離膜4の阻止帯域の光であるので、波長分離膜4で反射し、下方に設けられたレンズ14を通り、受光素子であるフォトダイオード(PD)15に入射する。
以上のように、LD13から出射した光を透過し、光ファイバ11から出射した光を反射するように波長分離プリズム1の波長分離膜4を設定しておくことにより、光ファイバ11を用いた双方向の通信が可能となる。
波長分離プリズム1において、波長分離膜4は、45度に傾斜するように配置されている。しかしながら、LD13から出射した光はレンズ12により集光され光ファイバ11に入射するが、広がりをもった状態で波長分離膜4に入射する。例えば、入射角45度を中心に±2度の広がりをもった光として入射する。波長分離膜4に対して、入射角45度±2度の広がりで光が入射するため、光の入射角のずれにより透過帯域及び阻止帯域が大きくシフトすると、所望の光学特性が得られない場合がある。
本発明の波長分離膜は、上述のように光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができるので、光の入射角のずれによる光学特性の影響を低減することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、設計上及び管理上の許容度を大きくすることでき、所望の光学特性を容易に得ることができる。
図3は、本発明に従う波長分離膜を用いた波長分離平板を示す模式的断面図である。図3に示すように、波長分離平板5は、ガラスなどからなる透光性基板7の一方面上に波長分離膜4を形成し、他方面上に反射防止膜(AR膜)を形成することにより構成されている。波長分離膜4としては、本発明に従う波長分離膜を形成することができ、反射防止膜6としては、例えば、TiO2もしくはTa2O5とSiO2の4層交互層からなる膜を形成することができる。なお、図2に示す波長分離プリズム1においても、波長分離膜4のLD13側に反射防止膜を形成することが好ましい。
図4は、図3に示す波長分離平板5を用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。図4に示す光送受信モジュールにおいては、光ファイバ11とLD13を結ぶ光軸に対して、波長分離膜4及びAR膜6が45度に傾斜するように波長分離平板5が設置されている。図4に示す光送受信モジュールにおいても、図2に示す光送受信モジュールと同様に、LD13から出射された光を光ファイバ11内に入射し伝搬させることができ、光ファイバ11から出射される光を波長分離膜4で反射して、PD15に入射させることができる。
図4に示す光送受信モジュールにおいても、波長分離平板5の波長分離膜4に入射する光は、入射角45度を中心に、例えば±2度の広がりをもった光が入射するが、本発明に従う波長分離膜を用いることにより、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができるので、入射角のずれによる光学特性の低下を抑制することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、所望の光学特性を容易に得ることができる。
(実施例1)
ガラス基板の上に、Si薄膜とTa2O5薄膜とを交互に27層積層し、本発明に従う波長分離膜を形成した。従って、波長分離膜の最外層はSi薄膜が形成された。Si薄膜の各厚み、Ta2O5薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。
ガラス基板の上に、Si薄膜とTa2O5薄膜とを交互に27層積層し、本発明に従う波長分離膜を形成した。従って、波長分離膜の最外層はSi薄膜が形成された。Si薄膜の各厚み、Ta2O5薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。
なお、Si薄膜及びTa2O5薄膜は、真空蒸着法により形成した。以下の実施例及び比較例においても、各薄膜は同様の方法で形成した。
以上のようにして作製した波長分離膜について、45度入射時の波長と透過率の関係及び43度入射時の波長と透過率の関係について評価した。
図5は、横軸が波長(nm)を示し、縦軸が透過率(%)を示している。太線(長波長側の線)は、43度の入射角のときの光学特性を示しており、細線(短波長側の線)は、45度の入射角のときの光学特性を示している。
(実施例2)
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、Nb2O5薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、Nb2O5薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図6に光学特性を示した。
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、Nb2O5薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、Nb2O5薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図6に光学特性を示した。
(実施例3)
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、Al2O3薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、Al2O3薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図7に光学特性を示した。
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、Al2O3薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、Al2O3薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図7に光学特性を示した。
(実施例4)
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、ZrO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、ZrO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図8に光学特性を示した。
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、ZrO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、ZrO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図8に光学特性を示した。
(比較例1)
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、TiO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、TiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図9に光学特性を示した。
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、TiO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、TiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図9に光学特性を示した。
(比較例2)
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、SiO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、SiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図10に光学特性を示した。
第2の薄膜として、Ta2O5薄膜に代えて、SiO2薄膜を形成する以外は、上記実施例1と同様に波長分離膜を形成した。Si薄膜の各厚み、SiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。図10に光学特性を示した。
(比較例3)
ガラス基板の上に、第1の薄膜としてTiO2薄膜を形成し、第2の薄膜としてSiO2薄膜を形成した。TiO2薄膜とSiO2薄膜を交互に44層積層した。ガラス基板の上にはTiO2薄膜を形成し、最外層にはSiO2薄膜を形成した。SiO2薄膜の各厚み、TiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。光学特性を評価し、図11に示した。
ガラス基板の上に、第1の薄膜としてTiO2薄膜を形成し、第2の薄膜としてSiO2薄膜を形成した。TiO2薄膜とSiO2薄膜を交互に44層積層した。ガラス基板の上にはTiO2薄膜を形成し、最外層にはSiO2薄膜を形成した。SiO2薄膜の各厚み、TiO2薄膜の各厚み及び波長分離膜全体の厚みは表1に示す通りであった。光学特性を評価し、図11に示した。
Si薄膜:3.08
Ta2O5薄膜:2.14
Nb2O5薄膜:2.23
Al2O3薄膜:1.60
ZrO2薄膜:2.02
TiO2薄膜:2.31
SiO2薄膜:1.45
本発明に従う実施例1〜4の光学特性を示す図5〜図8と、比較例1〜3の光学特性を示す図9〜図11を比較すると、本発明に従う実施例1〜4においては、43度の光学特性を示す曲線と45度の光学特性を示す曲線のシフト幅が比較例2(図10)及び比較例3(図11)と比べ小さくなっていることがわかる。特に、第2の薄膜としてTa2O5薄膜、Nb2O5薄膜、及びZrO2薄膜を用いた場合にシフト幅が著しく小さくなっていることがわかる。
Ta2O5薄膜:2.14
Nb2O5薄膜:2.23
Al2O3薄膜:1.60
ZrO2薄膜:2.02
TiO2薄膜:2.31
SiO2薄膜:1.45
本発明に従う実施例1〜4の光学特性を示す図5〜図8と、比較例1〜3の光学特性を示す図9〜図11を比較すると、本発明に従う実施例1〜4においては、43度の光学特性を示す曲線と45度の光学特性を示す曲線のシフト幅が比較例2(図10)及び比較例3(図11)と比べ小さくなっていることがわかる。特に、第2の薄膜としてTa2O5薄膜、Nb2O5薄膜、及びZrO2薄膜を用いた場合にシフト幅が著しく小さくなっていることがわかる。
また、実施例1〜4(図5〜図8)は、比較例1(図9)及び比較例3(図11)に比べ、阻止帯域が広くなっていることがわかる。
Si薄膜とTiO2薄膜を積層した比較例1の波長分離膜においては、第1の薄膜と第2の薄膜の屈折率の差が小さいため、阻止帯域が狭くなっていることがわかる。
また、Si薄膜とSiO2薄膜を積層した比較例2においては、膜全体の屈折率が低くなっているため、光の入射角のずれによるシフト幅が大きくなっていることがわかる。
以上のように、本発明に従えば、積層する膜の総数を少なくすることができ、かつ積層する各膜の厚みを薄くすることができるので、波長分離膜全体の厚みを薄くすることができる。また、本発明によれば、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さくすることができ、かつ阻止帯域を従来よりも広くすることができる。
1…波長分離プリズム
2,3…プリズム片
4…波長分離膜
5…波長分離平板
6…反射防止膜
7…透光性基板
10…フェルール
11…光ファイバ
12…レンズ
13…レーザーダイオード(LD)
14…レンズ
15…フォトダイオード(PD)
2,3…プリズム片
4…波長分離膜
5…波長分離平板
6…反射防止膜
7…透光性基板
10…フェルール
11…光ファイバ
12…レンズ
13…レーザーダイオード(LD)
14…レンズ
15…フォトダイオード(PD)
Claims (3)
- 高屈折率材料からなる第1の薄膜と低屈折率材料からなる第2の薄膜とを交互に積層した構成を備える波長分離膜であって、
前記第1の薄膜がSi薄膜であり、前記第2の薄膜が、Ta2O5薄膜、Nb2O5薄膜、ZrO2薄膜、またはAl2O3薄膜であることを特徴とする波長分離膜。 - 請求項1に記載の波長分離膜を光の入射方向に対して傾斜して配置し、前記波長分離膜の透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴とする光通信用フィルタ。
- 前記波長分離膜が光入射方向に対して実質的に45度に傾斜して配置されていることを特徴とする請求項2に記載の光通信用フィルタ。
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JP2006179347A JP2008009125A (ja) | 2006-06-29 | 2006-06-29 | 波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタ |
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- 2006-06-29 JP JP2006179347A patent/JP2008009125A/ja active Pending
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