JP2007538386A - 改善されたパーマロイ・センサ - Google Patents
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Description
Claims (9)
- 基板と、
前記基板上のセンサと、
前記センサは、第1の表面を有し、前記第1の表面は、ウェーハ・レベル異方性を所与の方向に有し、
前記センサが約90°の異方性を有するべく個々のランナーの各機械的長さが前記ウェーハ・レベル異方性に対して垂直であるように前記第1の表面に被着されている前記個々のランナーのパーマロイ抵抗パターンと、
を備える高感度を有するパーマロイ・センサ装置。 - 前記のパーマロイは薄膜として被着されている、請求項1に記載のパーマロイ・センサ装置。
- 前記基板はシリコン・ウェーハである、請求項2に記載のパーマロイ・センサ装置。
- センサの本体を形成し、且つ第1の表面を有し、前記第1の表面がウェーハ・レベル異方性を所与の方向に有する、基板手段と、
前記センサが約90°の異方性を生じるように個々のランナーの各機械的長さが前記ウェーハ・レベル異方性に対して垂直であるような前記第1の表面に被着されている前記個々のランナーのパーマロイ抵抗パターンと、
を備える高感度を有するパーマロイ・センサ。 - 前記のパーマロイは薄膜として被着されている、請求項4に記載のパーマロイ・センサ。
- 前記基板はシリコン・ウェーハである、請求項5に記載のパーマロイ・センサ。
- 基板と、この基板上にウェーハ・レベル異方性を所与の方向に有する第1の表面を有するセンサとを設けるステップと、
前記センサが約90°の異方性を有するべく個々のランナーの各機械的長さが前記ウェーハ・レベル異方性に対して垂直であるようにパーマロイ抵抗パターンを前記第1の表面に被着するステップと、
を含むパーマロイ・センサを形成する方法。 - 前記のパーマロイは薄膜として被着されている、請求項7記載の方法。
- 前記基板はシリコン・ウェーハである、請求項8記載の方法。
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