JP2007535082A - 超解像情報記録媒体 - Google Patents

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Abstract

本発明は、超解像情報記録媒体を提供する。
入射された光ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生できる情報記録媒体であって、基板と、基板の上部に備えられた第1超解像層と、第1超解像層の上部に備えられた第2超解像層と、第1超解像層と第2超解像層との間に配置された挿入層とを備えることを特徴とする情報記録媒体である。これにより、分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生するとき、C/N特性を向上させて、反復再生による劣化を防止して、超解像で情報を再生可能にする。これにより、情報記録媒体の記録密度の高密度化及び大容量化が具現できる。

Description

本発明は、超解像情報記録媒体に係り、さらに詳細には、再生ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生でき、信号対ノイズ比(C/N)及び信号再生の安定性を向上させた情報記録媒体に関する。
光記録媒体は、非接触式で情報の記録再生を行う光ピックアップ装置の情報記録媒体として利用されるものであって、産業が発展するにつれて、保存される情報の高密度化が要求されている。このために、レーザービームの分解能以下の大きさの記録マークを有する超解像現象を利用可能な光記録媒体が開発されている。
一般的に、記録媒体の情報を再生するための光源の波長がλであり、対物レンズの開口数がNAであるとき、λ/4NAが再生分解能の限界となる。すなわち、光源から照射された光が、λ/4NAより小さな大きさを有する記録マークは区分できないため、情報再生の不可能なことが一般的である。
ところが、分解能限界を超える大きさを有する記録マークが再生される超解像現象が発生し、このような超解像現象に対する原因分析及び研究開発が進められている。超解像現象によれば、分解能限界を超える大きさを有する記録マークに対しても再生可能であるため、超解像記録媒体は、高密度及び高容量の要求を画期的に充足させうる。
超解像記録媒体が商用化されるには、記録媒体として基本的に要求される記録特性及び再生特性を満足させねばならない。基本的な記録特性及び再生特性は多いが、そのうち重要な特性は、信号対ノイズ比(以下、C/Nという)及びC/Nの安定性である。特に、超解像情報記録媒体は、一般的な情報記録媒体に比べて相対的に高いパワーの記録ビーム及び再生ビームを使用するため、このようなC/N及びC/N安定性の具現が超解像記録媒体の主な課題となる。
本発明の目的は、信号対ノイズ比(C/N)を向上させ、反復再生による記録マークの変形を防止して、再生安定性及び信頼性を向上させる情報記録媒体を提供するところにある。
前記目的を達成するために、本発明に係る情報記録媒体は、入射された光ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生できる情報記録媒体であって、基板と、前記基板の上部に備えられた第1超解像層と、前記第1超解像層の上部に備えられた第2超解像層と、前記第1超解像層と第2超解像層との間に配置された挿入層とを備える。
前記挿入層は、誘電体材質からなりうる。
前記挿入層は、ZnS−SiO、SiOx、SiNx、AlOx及びAlNxのうち少なくとも何れか一つからなりうる。
前記第1超解像層及び第2超解像層は、PtOx、AuOx、PdOxまたはAgOx(ここで、xは、正数)からなる金属酸化物から選択された少なくとも何れか一つの材質または高分子化合物からなることが望ましい。
前記情報記録媒体は、入射された光ビームの熱によって光学的特性が変化する少なくとも一つの熱吸収層を備えることを特徴とする。
前記目的を達成するために、本発明に係る情報記録媒体は、入射された光ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生できる情報記録媒体であって、基板と、前記基板上に形成された第1誘電体層と、前記第1誘電体層上に形成され、入射光ビームにより変形される第1熱吸収層と、前記第1熱吸収層上に形成された第2誘電体層と、前記第2誘電体層上に形成され、入射光ビームが照射された部分に、第1光学的な特性が変化されて超解像現象を発生させる第1超解像層と、前記第1超解像層上に形成され、前記入射光ビームが照射された部分に、第2光学的な特性が変化されて超解像現象を発生させる第2超解像層と、前記第1超解像層と第2超解像層との間に備えられた挿入層と、前記第2超解像層の上部に配置された第3誘電体層とを備えることを特徴とする。
前記第3誘電体層上に形成された第2熱吸収層と、前記第2熱吸収層上に形成された第4誘電体層とをさらに備える。
本発明の付加的な目的及び/または利点は、後述する説明で部分的に記述され、部分的には、説明から明らかになり、または本発明の実施例により習得され得る。
本発明の実施例、添付された図面に示す例についての参照が詳細に行われ、詳細な説明で類似した参照番号は、類似した部材を示す。実施例は、図面を参照して本発明を説明するために、次に説明される。
本発明の情報記録媒体は、再生ビーム分解能の限界より小さな大きさを有する記録マークを有する記録媒体に/から情報を記録/再生できる超解像情報記録媒体である。
図1に示すように、このような超解像現象が発生するように、記録ビームまたは再生ビームの照射により熱的変形が起こる少なくとも一つの熱吸収層14と、第1超解像層18及び第2超解像層22とを備える。そして、第1超解像層18と第2超解像層22との間に挿入層20が挿入される。
本発明の第1実施例に係る情報記録媒体は、図1に示すように、基板10と、記録ビームまたは再生ビームの熱吸収によって変形が起こる少なくとも一つの熱変形層14と、第1超解像層18及び第2超解像層22と第1超解像層18及び第2超解像層22との間に備えられた挿入層20と、を備える。
基板10は、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、非晶質ポリオレフィン(APO)及びガラス材質から選択された何れか一つの材質から形成される。
第1超解像層18及び第2超解像層22は、PtOx、PdOx、AuOx及びAgOx(ここで、xは、正数)から選択された少なくとも何れか一つの材質または高分子化合物からなることが望ましい。超解像層は、記録ビームまたは再生ビームによる熱を吸収して変形される。
挿入層20は、再生ビームの反復的な照射によって、第1超解像層18及び第2超解像層22の変形が広がることを防止するためのものであって、誘電体材質からなることが望ましい。例えば、挿入層20は、ZnS−SiO、SiOx、SiNx、AlOx及びAlNxから選択された少なくとも一つからなることが望ましい。
または、挿入層20は、半導体材質からなることが望ましい。
熱吸収層14は、基板10と第1超解像層18との間に配置されるか、または第2超解像層22の上部に配置されうる。熱吸収層14は、Ge−Sb−Te系の合金またはAg−In−Sb−Te系の合金から構成され得る。熱吸収層14は、再生ビームにより変形されて、第1超解像層18及び第2超解像層22での変形を補助する役割を行う。一方、記録ビーム及び再生ビームは、基板10の下側から基板10に向かって照射されるか、または基板の反対側から照射されてもよい。
熱吸収層14は、第1超解像層18及び第2超解像層22を基準に下部または上部に配置されうるが、記録ビームまたは再生ビームが照射される方向から近い側に配置されることが望ましい。
本発明の第1実施例に係る情報記録媒体についての一回の機能動作を説明する。ここで、第1超解像層18及び第2超解像層22が白金酸化物(PtOx)から構成された場合を例として挙げて説明する。
第1超解像層18及び第2超解像層22に、記録用パワーのレーザービームを照射すれば、レーザービームが結ばれた領域に変形が起こる。所定温度以上のレーザービームが照射されれば、PtOxが、白金と酸素とに分離されて、酸素がバブル状に膨らんで、光スポットが結ばれた部分に体積の膨脹が発生する。この変形に対応して、熱吸収層14も変形される。このような変形によって、記録マークmが形成される。前記記録マークmは、記録ビームより小さなパワーの再生ビームにより変わらずに、そのまま維持される。
一方、前記記録マークmは、前述したように、バブル状への変形以外に、相変化により形成され得る。この場合、熱吸収層14が、Ge−Sb−Te系の合金またはAg−In−Sb−Te系の合金のような相変化材質からなり、記録ビームが照射された部分が非晶質状態になって、記録マークが形成され得る。熱吸収層14に記録マークが形成される場合には、記録及び消去の可能な情報記録媒体になる。
また、本発明に係る情報記録媒体は、再生専用の情報記録媒体でありうる。再生専用である場合には、基板10上に記録マークがピット状に記録される。前記ピットが分解能の限界を超える大きさを有する再生専用の情報記録媒体の再生時、再生ビームにより熱吸収層14と第1超解像層18及び第2超解像層22とが熱的変形を起こして、超解像現象が発生しつつデータの再生が具現される。
一方、基板10と熱吸収層14との間に第1誘電体層12が、熱吸収層14と第1超解像層18との間に第2誘電体層16が、第2超解像層22の上部に第3誘電体層24がさらに備えられ得る。
次に、本発明の第2実施例に係る情報記録媒体について説明する。
図2に示すように、本第2実施例に係る情報記録媒体は、基板30と、基板30上に備えられた第1超解像層38及び第2超解像層42と、第1超解像層38と第2超解像層42との間に備えられた挿入層40と、第1熱吸収層34及び第2熱吸収層46とを備える。第2実施例では、熱吸収層が二層になっている。
また、基板30と第1熱吸収層34との間に第1誘電体層32が、第1熱吸収層34と第1超解像層38との間に第2誘電体層34が、第2超解像層42と第2熱吸収層46との間に第3誘電体層44が、第2熱吸収層46の上部に第4誘電体層48がさらに備えられうる。
前述しように、本発明に係る情報記録媒体は、第1超解像層18、38と第2超解像層22、42との間に挿入層20、40を備えることを特徴とする。
次に、第1超解像層と第2超解像層との間に挿入層20、40が備えられた場合及び備えられていない場合に対して、C/N及び反復再生による劣化特性を実験した結果を比較しようとする。
C/N測定及び安定性の測定に使用された本発明に係る情報記録媒体は、図3Aに示すように、基板の厚さが1.1(mm)、第1誘電体層(ZnS−SiO)が85(nm)、第1熱吸収層(Ge−Sb−Te)が15(nm)、第2誘電体層(ZnS−SiO)が25(nm)、第1超解像層(PtOx)が1.75(nm)、挿入層(ZnS−SiO)が1(nm)、第2超解像層(PtOx)が1.75(nm)、第3誘電体層(ZnS−SiO)が25(nm)、第2熱吸収層(Ge−Sb−Te)が15(nm)、第4誘電体層(ZnS−SiO)が95(nm)、カバーレイヤーが0.1(mm)である。
そして、比較例の情報記録媒体は、図3Bに示すように、基板の厚さが1.1(mm)、第1誘電体層(ZnS−SiO)が85(nm)、第1熱吸収層(Ge−Sb−Te)が15(nm)、第2誘電体層(ZnS−SiO)が25(nm)、超解像層(PtOx)(xは、正数)が3.5(nm)、第3誘電体層(ZnS−SiO)が25(nm)、第2熱吸収層(Ge−Sb−Te)が15(nm)、第4誘電体層(ZnS−SiO)が95(nm)、カバーレイヤーが0.1(mm)である。
図4は、本発明に係る情報記録媒体(図3Aを参照)及び比較例の情報記録媒体(図3Bを参照)に75nm長さのマークで記録された情報を再生したとき、再生パワーによるC/Nの変化を示すグラフである。このグラフによれば、挿入層が備えられていない情報記録媒体は、挿入層が備えられた情報記録媒体(本発明の情報記録媒体)に比べてC/Nが少ないことが分かる。また、挿入層が備えられていない情報記録媒体は、再生ビームの再生パワーを1.0〜2.0(mW)に変化させて再生したとき、データ再生時に最小限に要求されるC/N値である40dBに達していない値を表した。
これに対し、本発明に係る情報記録媒体は、再生パワーが約1.3(mW)以上では、C/Nが40dBより大きかった。この結果によれば、挿入層によりC/N特性が向上したことが分かる。
図5Aは、挿入層が挿入された本発明の情報記録媒体に形成された記録マーク(円で表示されたA部分)の形状を示すTEM(Transmission Electric Microscope)写真である。また、図5Bは、比較例の情報記録媒体に形成された記録マーク(円で表示されたB部分)の形状を示すTEM写真である。
図5Aと図5Bとを比較すれば、本発明に係る情報記録媒体に記録されたマークが、比較例の情報記録媒体に記録されたマークに比べて顕著に鮮明である。この写真からも、本発明に係る情報記録媒体のC/N特性が優秀であるということが確認された。
次に、図6Aは、本発明に係る情報記録媒体からのRF信号を、図6Bは、挿入層が備えられていない情報記録媒体(以下、比較例という)からのRF信号をそれぞれ示す図である。このグラフを比較すれば、本発明と同様に、第1超解像層と第2超解像層との間に挿入層が挿入されたとき、挿入層が挿入されていないときに比べて、RF信号が鮮明である。
一方、本発明に係る情報記録媒体の安定性を測定した。ここで、安定性は、情報記録媒体の反復再生による劣化特性を調べるためであり、数回反復再生しつつC/Nを測定し、このC/Nの変化量を測定する。図7は、100,000回の反復再生時、2T及び8Tに対する再生安定性を測定したグラフである。このとき、情報記録媒体を5m/sec速度zで回転させ、2Tに対して記録パワーを12(mW)、8Tに対して記録パワーを11.5(mW)として記録し、再生パワーを1.5(mW)としてC/Nを測定した。
この結果によれば、100,000回の反復再生時にも、C/Nがほとんど変化しないということがわかる。情報記録媒体の使用初期に、C/N値が再生可能な範囲内にあったとしても、反復再生されるにことによってC/N値が小さくなれば、情報記録媒体の商用化が難しくなる。
一方、図8は、比較例の情報記録媒体の再生回数によるC/N変化を示すグラフであって、再生ビームが反復的に照射されるにつれて、劣化が高速で進行されることが確認できる。ここで、約8Tの場合に20,000回の再生時、52.5(dB)から49.5(dB)に、2Tの場合に40,000回の再生時、42(dB)から39.5(dB)に低下した。
図9は、本発明の情報記録媒体を3.5(mW)の再生パワーで100回反復再生時、信号劣化が進行される過程を示すTEM写真である。一般的に、本発明の超解像情報記録媒体を再生するとき、再生ビームの再生パワーが1.2〜1.3(mW)であることを考慮すれば、3.5(mW)は、非常に高い再生パワーである。本発明の情報記録媒体は、100,000回以上反復再生しても劣化しなかったが、本発明の情報記録媒体に挿入される挿入層が劣化の防止に何なる役割を行うかを調べるために、正常な再生パワーより高パワーの再生パワーで反復再生して劣化を誘導した。
図9に示すように、反復再生時、記録マーク内の酸素(O)が膨脹し続けて広がりつつ、熱吸収層にまで反応が起こって、記録マークが不明確になるにつれて劣化が起こると考えられる。再生初期には、C/Nが43(dB)であったが、3.5(mW)で100回再生した後には、C/Nが33(dB)に低下した。このような現象を考慮すれば、本発明での挿入層は、反復再生時に金属酸化層での熱的反応が、隣接する熱吸収層にまで広がらないように遮断する役割を行うということがわかる。
次に、本発明に係る情報記録媒体の記録/再生方法は、図1及び図2に示すように、所定温度以上の記録ビームを第1超解像層18及び第2超解像層22、38、42に照射して超解像層を体積膨脹させることによって、分解能以下の大きさを有するマークを記録し、前記超解像層にプラズモンを生成させる。このとき、第1超解像層18及び第2超解像層22の体積膨脹によって、熱吸収層14、36、46が変形される。そして、超解像層18、22、38、42に再生ビームを照射して前記プラズモンを励起させることによって、記録マークを再生する。
情報記録媒体に記録された情報を再生するために、再生ビームの照射時、前記第1超解像層と第2超解像層との間に挿入された挿入層20、40により、再生ビームの熱による前記超解像層の熱的反応を、隣接する他の層に広げない。これにより、反復再生による劣化を効果的に防止できる。
図10は、前記のような本発明に係る情報記録媒体を記録/再生するシステムを概略的に示す図である。この記録/再生システムは、ピックアップ部50、記録/再生信号処理部60及び制御部70を備えて構成される。さらに具体的には、記録/再生システムは、光を照射するレーザーダイオード51、レーザーダイオード51から照射される光を平行にするコリメーティングレンズ52、入射光の進行経路を変換するビームスプリッタ54、ビームスプリッタ54を通過した光を情報記録媒体Dに集束させる対物レンズ56を備える。
前記情報記録媒体Dで反射された光が、ビームスプリッタ54により反射されて光検出器、例えば、4分割光検出器57に受光される。光検出器57に受光された光は、演算回路部58を経て電気信号に変換されてRF信号、すなわち、サム信号として検出されるチャンネル1 Ch1及びプッシュ・プル方式に信号を検出する差動信号チャンネルCh2として出力される。
制御部70で、分解能以下の大きさを有する記録マークを形成するために、情報記録媒体の材質の特性によって要求される所定のパワー以上の記録ビームを、ピックアップ部50を介して照射させる。この記録ビームにより前記情報記録媒体Dにデータが記録される。そして、前記記録ビームより低パワーの再生ビームが、ピックアップ部50を介して情報記録媒体Dに結ばれれば、情報記録媒体Dで超解像現象が発生する。本発明の情報記録媒体Dの超解像現象については、前述した通りであるので、ここでは、その詳細な説明を省略する。
前記情報記録媒体Dから反射されたビームが、対物レンズ56及びビームスプリッタ54を介して光検出器57に入力される。光検出器57に入力された信号は、演算回路部58により電気信号に変換されてRF信号として出力される。RF信号は、図6Aに示すように、鮮明であるので、情報記録媒体に記録された情報の再生が可能である。前記情報記録媒体Dは、挿入層20、40によりC/N特性及び安定性が向上して、反復再生によっても再生特性が変わらないため、信号処理部60及び制御部70によりデータの記録/再生が円滑に行われ得る。
本発明ではいくつかの実施例が例示及び説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、特許請求の範囲に記載された発明の思想の範囲とその均等な範囲内で当業者により多様な変形され得る。
本発明に係る情報記録媒体は、分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生するとき、C/N特性を向上させて、反復再生による劣化を防止して、超解像で情報を再生可能にする。これにより、情報記録媒体の記録密度の高密度化及び大容量化が具現できる。
本発明の第1実施例に係る情報記録媒体の断面図である。 本発明の第2実施例に係る情報記録媒体の断面図である。 本発明に係る情報記録媒体のC/N特性及び安定性を測定するために構成された情報記録媒体の断面図である。 本発明に係る情報記録媒体とC/N特性及び安定性とを比較するために、挿入層を備えていない比較例の断面図である。 本発明に係る情報記録媒体及び比較例の情報記録媒体で、再生ビームパワーによるC/N変化を表したグラフである。 本発明に係る情報記録媒体に形成された記録マークを示すためのTEM写真である。 比較例の情報記録媒体に形成された記録マークを示すためのTEM写真である。 本発明に係る情報記録媒体のRF信号を示す写真である。 比較例の情報記録媒体のRF信号を示す写真である。 本発明に係る情報記録媒体を100,000回反復再生したとき、再生回数によるC/N変化を2T、8Tに対してそれぞれ示すグラフである。 図3Bの情報記録媒体の再生回数によるC/N変化を2T、8Tに対してそれぞれ示すグラフである。 本発明に係る情報記録媒体に備えられた挿入層により、反復的な再生による劣化が防止される原理を説明するための図である。 本発明に係る情報記録媒体の記録/再生システムを概略的に示す図である。

Claims (20)

  1. 入射された光ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生できる情報記録媒体であって、
    基板と、
    前記基板の上部に備えられた第1超解像層と、
    前記第1超解像層の上部に備えられた第2超解像層と、
    前記第1超解像層と第2超解像層との間に配置された挿入層とを備えることを特徴とする情報記録媒体。
  2. 前記挿入層は、誘電体材質からなることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
  3. 前記挿入層は、ZnS−SiO、SiOx、SiNx、AlOxまたはAlNx(ここで、xは、正数)のうち少なくとも何れか一つからなることを特徴とする請求項2に記載の情報記録媒体。
  4. 前記第1超解像層及び第2超解像層は、
    PtOx、AuOx、PdOxまたはAgOx(ここで、xは、正数)からなる金属酸化物から選択された少なくとも何れか一つの材質または高分子化合物からなることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
  5. 前記情報記録媒体は、入射された光ビームの熱を吸収する少なくとも一つの熱吸収層を備えることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
  6. 前記熱吸収層は、前記基板と第1超解像層との間に配置されることを特徴とする請求項5に記載の情報記録媒体。
  7. 前記少なくとも一つの熱吸収層は、前記第2超解像層の上部に配置されることを特徴とする請求項5に記載の情報記録媒体。
  8. 前記少なくとも一つの熱吸収層は、前記第1超解像層及び第2超解像層を照射するのに使用される再生ビームの経路に配置されることを特徴とする請求項5に記載の情報記録媒体。
  9. 前記基板と熱吸収層との間に第1誘電体層が備えられ、前記第2超解像層の上部に第2誘電体層が備えられることを特徴とする請求項5に記載の情報記録媒体。
  10. 前記熱吸収層は、第1熱吸収層及び第2熱吸収層を備えることを特徴とする請求項5に記載の情報記録媒体。
  11. 前記第1熱吸収層は、前記第1超解像層と基板との間に、前記第2熱吸収層は、前記第2超解像層の上部にそれぞれ配置されることを特徴とする請求項10に記載の情報記録媒体。
  12. 前記挿入層は、半導体材質からなることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
  13. 入射された光ビームの分解能以下の大きさを有する記録マークで記録された情報を再生できる情報記録媒体であって、
    基板と、
    前記基板上に形成された第1誘電体層と、
    前記第1誘電体層上に形成され、入射光ビームにより変形される第1熱吸収層と、
    前記第1熱吸収層上に形成された第2誘電体層と、
    前記第2誘電体層上に形成され、入射光ビームが照射された部分に、第1光学的な特性が変化されて超解像現象を発生させる第1超解像層と、
    前記第1超解像層上に形成され、前記入射光ビームが照射された部分に、第2光学的な特性が変化されて超解像現象を発生させる第2超解像層と、
    前記第1超解像層と第2超解像層との間に備えられた挿入層と、
    前記第2超解像層の上部に配置された第3誘電体層とを備えることを特徴とする情報記録媒体。
  14. 前記第3誘電体層上に形成された第2熱吸収層と、
    前記第2熱吸収層上に形成された第4誘電体層とをさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の情報記録媒体。
  15. 前記挿入層は、誘電体材質からなることを特徴とする請求項13に記載の情報記録媒体。
  16. 前記挿入層は、ZnS−SiO、SiOx、SiNx、AlOxまたはAlNx(ここで、xは、正数)のうち少なくとも何れか一つからなることを特徴とする請求項13に記載の情報記録媒体。
  17. 前記第1超解像層及び第2超解像層は、
    PtOx、AuOx、PdOx及びAgOx(ここで、xは、正数)からなる金属酸化物から選択された少なくとも何れか一つの材質または高分子化合物からなることを特徴とする請求項13に記載の情報記録媒体。
  18. 前記挿入層は、半導体材質からなることを特徴とする請求項13に記載の情報記録媒体。
  19. 入射された光ビームの分解能より小さな大きさを有する記録マークで情報が記録または再生される情報記録媒体を記録及び/または再生する方法において、
    レーザービームが集束される第1超解像層及び第2超解像層の領域を変形するように、情報記録媒体の第1超解像層及び第2超解像層上に所定の温度より高い温度及び記録パワーのレーザービームを照射するステップであって、前記第1超解像層及び第2超解像層は、PtOx、AuOx、PdOx、またはAgOx(ここで、xは、正数)または高分子ポリマーを含むステップと、
    PtOx、AuOx、PdOx、またはAgOxの化合物から酸素のバブルリングを通じてレーザービームが集束される領域を変形させて、前記領域の一部を膨張させるステップとを含み、
    情報記録媒体の熱吸収層は、第1超解像層及び第2超解像層の領域の変形に合わせて変形されて記録マークを形成し、前記記録マークが記録ビームより低いパワーを有する再生ビームにより変形されないことを特徴とする方法。
  20. 照射入射ビームの分解能より小さな大きさを有する記録マークで情報が記録または再生される情報記録媒体を記録及び/または再生する方法において、
    レーザービームが集束される第1超解像層及び第2超解像層の領域を変形するように、情報記録媒体の第1超解像層及び第2超解像層上に所定の温度より高い温度及び記録パワーのレーザービームを照射するステップであって、前記情報記録媒体がGe−Sb−Te系の合金またはAg−In−Sb−Te系の合金を含む少なくとも一つの熱吸収層を含むステップと、
    記録マークを形成するように、記録ビームが照射される熱吸収層の部分を非晶質状態に変化させることによって、Ge−Sb−Te系の合金またはAg−In−Sb−Te系の合金の相変化を通じてレーザービームが集束される領域を変形するステップとを含み、
    前記記録マークは、記録ビームより低いパワーを有する再生ビームにより変形されないことを特徴とする方法。
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