JP2007533155A - 温度制御方法及び温度制御装置 - Google Patents
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Description
Claims (31)
- 基材処理が行われる下側表面と上側表面を有する基材の温度を制御する装置であって、
前記基材の前記下側表面を支持する熱表面を有する基材テーブルと、
前記基材テーブルに配置され、前記熱表面と熱的に接続し、熱輸送流体を輸送するチャネルを有する熱組立体と、
前記熱輸送流体の温度を調整するように構成され配置される流体熱ユニットとを有し、
前記流体熱ユニットが、
前記熱輸送流体の温度を第1温度に制御するように構成され配置される第1流体ユニットと、
前記熱輸送流体の温度を第2温度に制御するように構成され配置される第2流体ユニットと、
前記熱組立体の前記チャネル、前記第1流体ユニットと前記第2流体ユニットと流路連通し、第1温度を有する熱輸送流体と第2温度を有する熱輸送流体の少なくとも1つまたはこれらの組み合わせを含む制御された熱輸送流体を前記チャネルに供給するように構成され配置される出口流制御ユニットとを有することを特徴とする装置。 - 請求項1記載の装置であって、前記熱組立体の前記チャネル、前記第1流体ユニットと前記第2流体ユニットと流路連通し、前記第1流体ユニットに流れる制御された熱輸送流体の体積、流量、又は体積と流量の組み合わせと、前記第2流体ユニットに流れる制御された熱輸送流体の体積、流量、又は体積と流量の組み合わせを制御するように構成され配置される入口配分ユニットを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記第1流体ユニットと前記第2流体ユニットの各々が貯蔵流体タンク、給排気装置、ヒータ及びクーラーを有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材表面、前記熱表面と前記チャネルにおける前記制御された熱輸送流体の内の1の温度に基づいて前記制御された熱輸送流体の供給を制御するように構成され配置される温度制御システムを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材表面、前記熱表面と前記チャネルにおける前記制御された熱輸送流体の内の1の温度を検出するように構成され配置される温度センサを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記第1流体ユニットと前記第2流体ユニットの各々が前記ユニット内の前記熱輸送流体の温度を検出するセンサを有することを特徴とする装置。
- 請求項3記載の装置であって、前記第1流体ユニットと前記第2流体ユニットの各々が、貯蔵流体タンク内の熱輸送流体の量を検出するように構成されるレベルセンサを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項2記載の装置であって、前記出口流制御ユニットが前記入口配分ユニットと協働関係にあり、前記第1ユニット及び前記第2ユニットの各々に位置する熱輸送流体の量が実質的に一定であることを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記出口流制御ユニットが、第1温度を有する前記熱輸送流体が前記第1流体ユニットから流れることを可能とするように構成され配置される第1バルブと第2温度を有する前記熱輸送流体が前記第2流体ユニットから流れることを可能とするように構成され配置される第2バルブを有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記第1流体ユニットが貯蔵流体タンクとヒータを有し、前記第2流体ユニットが貯蔵流体タンクとクーラーを有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記第1流体ユニット及び前記第2流体ユニットの1つが前記基材テーブルから離れて配置されることを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記熱表面が真空処理容器内に配置されることを特徴とする装置。
- 請求項12記載の装置であって、前記真空処理容器がプラズマ処理容器であることを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材テーブルに配置され、前記基材を前記基材テーブルの前記熱表面に静電的にクランプするように構成される電極を更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記熱表面と熱的に接続された第2熱組立体を更に有することを特徴とする装置。
- 請求項15記載の装置であって、前記第2熱組立体が複数の熱電モジュールを有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材テーブルを通り、前記熱表面に開口する第1端部と前記第1端部の反対にある第2端部とを有するガス導管を更に有し、ガスが前記導管を通して流れることができ、かつ前記基材に背圧を与えることができることを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材テーブルに配置される高周波(RF)電力プレートと、前記高周波(RF)電力プレートを高周波(RF)電力源に接続する高周波(RF)電力コネクタを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、少なくとも1個のピンが前記熱組立体を通る前記熱表面において前記基材を設置し取り除くように構成され配置される少なくとも1個のピンを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項1記載の装置であって、前記基材をクランプするための機械的クランプまたは吸引クランプを更に有することを特徴とする装置。
- 請求項4記載の装置であって、前記温度制御システムが、前記熱表面の急速加熱または急速冷却の間に温度のオーバーシュートを防止するように更に構成されることを特徴とする装置。
- 請求項21記載の装置であって、前記熱表面の前記温度が急速加熱の間に迅速に増加し、前記熱表面の前記温度が所望の温度に近づくときにゆっくりと増加することを特徴とする装置。
- 請求項21記載の装置であって、前記熱表面の前記温度が急速加熱の間に迅速に減少し、前記熱表面の前記温度が所望の温度に近づくときにゆっくりと減少することを特徴とする装置。
- 各々が熱輸送流体を輸送するチャネルを有する複数の機器の温度を制御する配分温度制御システムであって、
前記配分温度制御システムが、前記複数の機器の各々の前記熱輸送流体の温度を調整するように構成され配置される流体熱ユニットを有し、
前記流体熱ユニットが、
前記熱輸送流体の温度を第1温度に制御するように構成され配置される第1流体ユニットと、
前記熱輸送流体の温度を第2温度に制御するように構成され配置される第2流体ユニットと、
前記複数の機器の各々の前記チャネル、前記第1流体ユニット及び前記第2流体ユニットと流路連通し、第1温度を有する熱輸送流体と第2温度を有する熱輸送流体の少なくとも1つまたはこれらの組み合わせを含む制御された熱輸送流体を前記複数の機器の各々の前記チャネルに供給するように構成され配置される出口流制御ユニットとを有することを特徴とする装置。 - 熱表面と熱的に接続する流体熱組立体を有する基材テーブルの前記熱表面によって支持される基材の温度を制御する方法であって、
第1の熱輸送流体源の熱輸送流体を第1温度に調整する過程と、
第2の熱輸送流体源の熱輸送流体を第2温度に調整する過程と、
前記第1の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体または前記第2の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体またはこれらの組み合わせからなる制御された熱輸送流体を前記流体熱組立体に供給する過程を有することを特徴とする方法。 - 請求項25記載の方法であって、加熱又は冷却の最初の段階の間に、前記供給する過程が、前記第1の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体または前記第2の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体のみを前記流体熱組立体に供給する過程からなることを特徴とする方法。
- 請求項26記載の方法であって、前記第1の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体または前記第2の熱輸送流体源からの前記熱輸送流体を過加熱または過冷却する過程を更に有することを特徴とする方法。
- 請求項25記載の方法であって、加熱段階または冷却段階の予想において、前記方法が、前記第1の熱輸送流体源または前記第2の熱輸送流体源において熱輸送流体の量を増加する過程を更に有することを特徴とする方法。
- 請求項26記載の方法であって、前記方法が、前記流体熱組立体に供給される前記制御された熱輸送流体の流量を増加する過程を更に有することを特徴とする方法。
- 請求項25記載の方法であって、前記制御された熱輸送流体、前記熱表面または前記基材の温度を検出する過程と、検出された前記温度に基づいて前記供給する過程を制御する過程を更に有することを特徴とする方法。
- 請求項25記載の方法であって、プログラムされたプロセスシナリオの読み取り可能な指示に基づいて前記供給する過程を制御する過程を更に有することを特徴とする方法。
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