JP2007532772A - 貴金属の回収 - Google Patents
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Abstract
Description
これに関連して、用語貴金属は、金属、例えば白金及びパラジウム、及び同様の金属、例えばイリジウム及びレニウムを言う。銀が半貴金属としてのみ考えられるのに対し、金も貴金属として考えられるであろう。卑金属は、金属、例えば銅及びニッケルを言う。
本発明に従い、過剰な卑金属が含まれる溶液から貴金属を選択的に取り除く方法が提供され、該方法は、イオン選択膜により分けられた第一の電極と第二の電極を含むセル中において、該溶液を電気分解することから成り、並びに該方法は、該溶液のpHの制御、第一の電極に隣接した溶液の通過、及び電極に適用する電圧を十分に低く維持することを確実にして、卑金属が溶液中に残存する一方で、貴金属を第一の電極上に優先的に堆積させることを含む。
該堆積は、陽極におけるものであり、及びこれは水和酸化物の形成を伴っても良い。該陽極は、導電性酸化物、例えば酸化イリジウム/酸化ニオブ(IrO2/Nb2O5)、又は酸化チタン(Ti4O7)、又はあるいは炭素から成るものであって良い。
代替的には、該堆積は、金属そのものの堆積を伴う陰極におけるものでもよい。好ましくは、該堆積は、その後に電解で再溶解され、例えば陰極で堆積した貴金属は、続いて塩化水素の酸性溶液中で該電極を陽極にすることにより溶解しても良い。
原理上は、該電気化学的なセルは、多くの異なった構造、例えば円筒形、平行平板、回転電極、充填床又は流動床のうちのいずれか一つを有しても良い。しかしながら、正確な電位制御を確実にするためには、並列な構造を有する各電極の間の比較的狭い隙間が必要である。従って、充填床及び流動床は、あまり適切なものではない。イオン選択膜は、いかなるレドックスシャトル(例えばCu+/Cu++)も抑制するであろう。該膜は、好ましくは耐酸性である。
本発明は、該方法を行う装置も提供する。
この例において、溶液は最初に、低い濃度で塩化物としてのイリジウム、白金、パラジウム及びルテニウムを、及び非常により高い濃度の塩化銅を含み、かつ該溶液は酸性である。少なくとも、いくつかの貴金属は、クロロ錯体の形態にあっても良い。該溶液は、二つの連続するセル10及び12を通って循環する。第一のセル10は電気透析セルであり、該セル中では、該溶液は陰極14及び陽極15の間の、一価の陽イオン及び一価の陰イオン選択膜(C及びAとマークした)の間を通過する。該金属の陽イオンは一価ではなく、かつ貴金属のクロロ錯体も一価ではなく、従ってこれらは影響されず、よって、クロリドイオンが除去され(陰イオン膜Aを通って)、かつ陽イオン、例えば水素及びナトリウムが除去される(陽イオン膜Cを通って)ことが全体としての結果であり、これによりpHが徐々に増加する。pHは、セル10に供給される電流を制御することにより約pH4に上げられ、かつpHはpHセンサー電極16により監視される。pHをpH5より下に保つことが望ましいこと、又は水酸化銅が沈殿する傾向にあるであろうことが理解されるであろう。
陽極18は、これらの条件下において、それ自身が電気分解を受けて陽イオンを形成しない材料からなるものでなければならない。陽極18は、導電性酸化物、例えば酸化イリジウム/酸化ニオブ(IrO2/Nb2O5)、又は酸化チタン(Ti4O7)、又は炭素からなるものであってよい;該材料は、固形物の形態において、又はポリマー結合複合材料、例えば結合剤としてPTFE又はPVdFを用いたものとして使用しても良い。電極それ自体の抵抗が小さいことが望ましく、従って該電極は良好な導電体の金属基材を好ましく含む。例えば、該基材は、銅の電流支線に接続されたチタンからなるものであってよい。
次いで、イリジウム、白金及びパラジウムが堆積した電極18は、例えば別のセル(表示しない)中で、又はまさに同じセル中で、電解質としての希釈酸を用いて処理され、電極18をそれほど陽極性ではないようにして、堆積物を再溶解させ、貴金属の濃縮溶液を形成することができる。
該セル12を上記のやり方と異なるやり方において操作してもよいと言うことが理解されるであろう。特に、該セルはわずか1.2又は1.3Vで操作されてもよく、それによりイリジウム、白金及びパラジウムは、全て一緒に堆積される。操作の正確な様式は、溶液中に存在する貴金属及び卑金属に依存するであろうことも、理解されるであろう。例えば、ニッケル、銀又は鉛が存在する場合、pHは約pH1(又はこれより低く)で望ましく保持される。これは、図2において示す電気透析セル30を用いて達成されてもよく、該セルを参照すると、陰イオン選択膜Aの代わりに双極性膜Bが用いられている点のみがセル10と異なる。本セル30の操作は、ナトリウムイオンの濃度を減少に導くが、クロリドイオンの減少は導かず、及び水素イオンのより少ない増加を導く;従ってpHは低下する。pH1より低いpHで、ニッケル、銀及び鉛は陽極18で堆積しないのに対して、最初に述べたように貴金属は堆積するであろう。
代替において、代替的な電極堆積セル40を示す図3に言及すると、貴金属は、代わりに陰極上で金属として堆積しても良い。この場合において、該セル40は、一価の陰イオン選択膜Aにより分割され、及び処理される溶液は陰極液として、陰極42の付近に対して供給される。陽極44は、材料、例えば導電性酸化チタン(セル12中におけるような)からなるものであり、及び陽極液は塩酸である。金属が陰極で堆積する電気条件は、表2において示すように、対応する標準的な電極電位E0(標準的な水素電極に対する比較)により再度まとめることができる。
図1に関して述べたように再循環方法による液体のバッチ処理の代わりに、該溶液は、連続した方法としていくつかのセル12又は40を連続して通過してもよいことが理解されるであろう。該連続的な方法は、陽極か又は陰極への堆積のいずれかを使用しても良い。
電気透析的なpH制御セルを用意して、使用のために循環しても良い酸性及び塩基性の出力ストリームを提供しても良いことも、理解されるであろう。例えば、図1のセル10は、図4の電気透析的なセル50により置き換えられても良い。これは、膜C及びA(これらの間を供給溶液が流れる)が、二極性膜Bによって陰極14及び陽極15から分けられている点においてのみ、セル10と異なる。従って、水酸化ナトリウム溶液は、陽イオン選択膜Cの後ろで発生し、及び塩酸溶液が陰イオン選択膜Aの後ろで発生する。これによって、前述のように、供給溶液のpHは上昇する。
Claims (6)
- 過剰な卑金属を含む溶液から貴金属を選択的に除く方法であって、以下から成る方法:
該方法が、イオン選択膜により分けられた第一の電極及び第二の電極を含むセル中において、該溶液を電気分解することを含み、かつ
該方法が、該溶液のpHの制御、第一の電極に隣接した溶液の通過、及び電極に適用する電圧を十分に低く維持することを確実にして、卑金属が溶液中に残る一方で、貴金属を優先的に第一の電極に堆積させることを含む、方法。 - 該堆積が陽極で起こる、請求項1に記載の方法。
- 該陽極が、導電性酸化物、例えば酸化イリジウム/酸化ニオブ(IrO2/Nb2O5)又は酸化チタン(Ti4O7)から成る、請求項1又は2に記載の方法。
- 該溶液のpHが、電気透析法により制御される、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 該堆積を、その後電解で再溶解させる、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 該溶液を異なる電圧で連続的に電気分解処理することにより、複数の貴金属が連続して除去される、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
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FR2969508B1 (fr) * | 2010-12-22 | 2015-11-13 | Univ Bordeaux 1 | Particules dissymetriques (particules de janus) et leur procede de synthese par electrochimie bipolaire. |
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Family Cites Families (20)
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---|---|---|---|---|
US1996985A (en) * | 1931-05-04 | 1935-04-09 | Truthe Wilhelm | Process for parting residues, sweepings, and the like containing precious metals |
US3840443A (en) * | 1967-02-10 | 1974-10-08 | Chemnor Corp | Method of making an electrode having a coating comprising a platinum metal oxide |
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GB8323390D0 (en) * | 1983-08-31 | 1983-10-05 | Ici Plc | Production of cathode |
NL8503090A (nl) * | 1985-11-11 | 1987-06-01 | Harshaw Chemie Bv | Werkwijze voor het bereiden van gedragen katalysator systemen. |
DE3767359D1 (de) * | 1986-05-16 | 1991-02-21 | Electroplating Eng | Verfahren und geraet zur wiedergewinnung einer edelmetallverbindung. |
US4834850A (en) * | 1987-07-27 | 1989-05-30 | Eltech Systems Corporation | Efficient electrolytic precious metal recovery system |
JPH0238536A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-07 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | イリジウム酸性溶液中の貴金属分離法 |
DE3929121C1 (ja) * | 1989-09-01 | 1991-02-28 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | |
US5282934A (en) * | 1992-02-14 | 1994-02-01 | Academy Corporation | Metal recovery by batch electroplating with directed circulation |
FR2688235B1 (fr) * | 1992-03-05 | 1995-06-23 | Sorapec | Procede d'obtention d'hydroxydes metalliques. |
DE4243697C1 (de) * | 1992-12-18 | 1994-03-17 | Mib Metallurg Und Oberflaechen | Elektrolytisches Verfahren zur Gewinnung von Platin hoher Reinheit aus Platinlegierungen |
DE4243698C1 (de) * | 1992-12-18 | 1994-03-24 | Mib Metallurg Und Oberflaechen | Elektrolytisches Verfahren zum Lösen von Platin, Platinmetallverunreinigungen und/oder Platinmetallegierungen |
FR2731235B1 (fr) * | 1995-03-03 | 1997-04-25 | Kodak Pathe | Procede d'electro-oxydation de solutions photographiques |
ZA962117B (en) * | 1995-03-27 | 1996-09-26 | Electrocatalytic Inc | Process and apparatus for generating bromine |
US5942098A (en) * | 1996-04-12 | 1999-08-24 | Technologies Unlimited, Inc. | Method of treatment of water and method and composition for recovery of precious metal |
GB9613094D0 (en) * | 1996-06-21 | 1996-08-28 | Norcan Environmental Associate | In-situ electrolysis for improving the extraction of metal by heap or dump leaching |
GB2368349A (en) * | 2000-10-27 | 2002-05-01 | Imperial College | Electrolytic extraction of metals; recycling |
GB0031413D0 (en) * | 2000-12-21 | 2001-02-07 | Aea Technology Plc | Electrochemical processing |
WO2003046258A2 (en) * | 2001-11-22 | 2003-06-05 | Qit - Fer Et Titane Inc. | A method for electrowinning of titanium metal or alloy from titanium oxide containing compound in the liquid state |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022543601A (ja) * | 2019-08-01 | 2022-10-13 | アクア メタルズ インコーポレイテッド | 鉛含有電解液からの金属回収 |
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