JP2007523084A - 酸無水物および／または酸ハロゲン化物、並びに三酸化硫黄からの立体障害第二級アミノエーテルアルコールの合成 - Google Patents

Abstract

高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールは、酸無水物または有機カルボン酸ハロゲン化物をＳＯ_３と反応させて、スルホン酸カルボン酸無水物化合物を得ることによって調製される。これは、次いで、ジオキサンと反応されて、ジオキサン環が開裂され、開裂生成物が得られる。これは、次いでアルキルアミンでアミノ化され、塩基で加水分解されて、高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールが得られる。
【選択図】なし

Description

本発明は、高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの調製方法に関する。これは、硫化水素を、硫化水素を含み、かつ二酸化炭素をも含むであろうガス状ストリームから除去するのに有用である。

酸性ガス（ＣＯ_２、Ｈ_２Ｓ、ＣＳ_２、ＨＣＮ、ＣＯＳ、および酸素を含む）、およびＣ_１〜Ｃ_４炭化水素の硫黄誘導体を含む混合物などのガスおよび液体を、アミン溶液を用いて処理して、これらの酸性ガスを除去することは、技術的に周知である。アミンは、通常、吸収塔で、酸性ガス、および液体（水溶液はアミンを含む）に接触する。その際、アミン水溶液は、酸性流体と向流して接触する。通常、この接触により、実質量のＣＯ_２およびＨ_２Ｓの両者が同時に除去される。特許文献１では、例えば、立体障害アミンが用いられて、ＣＯ_２およびＨ_２Ｓ酸性ガスがほぼ完全に除去される。この方法は、特に、ＣＯ_２および関連ガスの分圧が低い系に対して適切である。ＣＯ_２の分圧が高いか、または多数の酸性ガス（例えばＨ_２Ｓ、ＣＯＳ、ＣＨ_３ＳＨ、ＣＳ_２等）が存在する系に対しては、アミンを物理吸着剤と組み合わせて用いる方法（「非水溶媒方法」と呼ばれる）が行われる。これらの系は、特許文献２に記載される。

Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２の両者を含む酸性ガス系からのＨ_２Ｓの選択的な除去は、しかし、非常に望ましい。これらの選択的除去は、分離された酸性ガスにおける比較的高いＨ_２Ｓ／ＣＯ_２比をもたらす。これは、Ｈ_２Ｓの元素硫黄へのその後の転化（クラウス法）を促進する。

水性第二および第三アミンと、ＣＯ_２およびＨ_２Ｓとの典型的な反応は、次のように表されるであろう。

（式中、Ｒは、同じかまたは異なる有機基であり、水酸基で置換されるであろう）
反応は可逆的であることから、それらは、反応が生じる程度の決定因子であるＣＯ_２およびＨ_２Ｓの分圧に影響されやすい。

選択的なＨ_２Ｓの除去は、特に、低いＨ_２Ｓ／ＣＯ_２比、およびＣＯ_２のそれに比べて比較的低いＨ_２Ｓ分圧を有する系において望ましい。これらの系においてＨ_２Ｓを選択的に除去するアミンの能力は、非常に低い。

モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、ジイソプロパノールアミン（ＤＰＡ）、およびヒドロキシエトキシエチルアミン（ＤＥＡ）などの第一および第二アミン溶液は、Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２の両者を吸着する。従って、ＣＯ_２を除くＨ_２Ｓの選択的な除去には不十分であることが示された。ＣＯ_２は、これらのアミンと、比較的容易にカルバメートを形成する。

Ｈ_２Ｓは、ジイソプロパノールアミン（ＤＩＰＡ）を、単独か、または非水物理溶媒（スルホランなど）と混合されるかのいずれかで用いることによって、選択的に、Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２を含むガスから除去された。接触時間は、しかし、ＣＯ_２とアミンとの反応速度に比べて、Ｈ_２Ｓとアミンとのより速い反応を利用するために、短く維持されなければならない。

非特許文献１には、第三アミンメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）は、ＣＯ_２に比べて、Ｈ_２Ｓ吸着に対してより選択的であることが示された。ＣＯ_２は、第三アミンとＨ_２Ｓとの急速な反応に比べて、第三アミンと比較的ゆっくり反応する。しかし、それは、比較的低いＨ_２Ｓ充填能力を有するという欠点を有し、Ｈ_２Ｓ含有量を、ある種のガスで経験される低いＨ_２Ｓ圧で所望レベルへ低減する能力を限定する。

特許文献３には、Ｈ_２Ｓの選択的除去について、ジアルキルモノアルカノールアミン水溶液、例えばジエチルモノエタノールアミン（ＤＥＡＥ）の使用が開示される。これらの物質は、Ｈ_２Ｓ除去に対して、より高い充填レベルで、ＭＤＥＡより高い選択性および能力を有する。ＤＥＡＥは、しかし、１６１℃という低い沸点という欠点を有する。これは、それを比較的高揮発性にし、大きな物質損をもたらす。

特許文献４（その全教示は、本明細書に引用して含まれる）には、ＣＯ_２に比べて、Ｈ_２Ｓに対して高い選択性を有する高度立体障害非環式第二級アミノエーテルアルコールが教示される。選択性は、高いＨ_２ＳおよびＣＯ_２充填で維持される。

特許文献４の高度立体障害非環式アミノエーテルアルコールは、一般式：

（式中、Ｒ_１およびＲ_２は、それぞれ独立に、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され；Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、それぞれ独立に、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、但し、Ｒ_３が水素である場合、窒素原子に直接結合した炭素原子に結合するＲ_４およびＲ_５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基であり；ｘおよびｙは、それぞれ２〜４の範囲の正整数であり；ｚは、１〜４の範囲の正整数である）
で表される。これらの物質は、水素源の存在下に、第二または第三アルキル第一アミンと、カルボニル官能基を含むエーテルアルコールとの、またはハロアルコキシアルカノールとの高温反応（好ましくは溶媒の存在下）によって調製される。好ましくは、組成物は、一般式：

（式中、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝ＨまたはＣＨ_３；Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝Ｒ_６＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３ＣＨ_２−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、または
Ｒ_１≠Ｒ_２≠Ｒ_３＝Ｈ、ＣＨ_３−、ＣＨ_３ＣＨ_２−、Ｒ_４≠Ｒ_５≠Ｒ_６＝Ｈ、ＣＨ_３−
であり、ｘ＝２または３である）
で表される。

特許文献５は、水素添加触媒の存在下に高い温度および圧力で、第一アミノ化合物をポリアルケニルエーテルグリコールと反応させることによって、高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールを調製するための方法に関する。用いられる第一アミノ化合物は、次の一般式：
Ｒ^１−ＮＨ_２
（式中、Ｒ^１は、炭素原子３〜８個を有する第二または第三アルキル基および炭素原子３〜８個を有するシクロアルキル基からなる群から選択される）
を有する。用いられるポリアルケニルエーテルグリコールは、一般式：

（式中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４およびＲ_５は、それぞれ独立に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基およびＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基からなる群から選択され、但し、窒素原子に直接結合したＲ_１の炭素原子が第二級である場合、水酸基に結合した炭素に直接結合するＲ_２およびＲ_３の少なくとも一方は、アルキルまたはシクロアルキル基であり；ｘおよびｙは、それぞれ独立に、２〜４の範囲の正整数であり；ｚは、１〜１０、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４である）
を有する。前記方法は、触媒有効量の担持第ＶＩＩＩ族金属含有水素添加触媒の存在下に、高い温度および圧力で行われる。アミノ化合物／ポリアルケニルエーテルグリコールのモル比は、ｚが１超である場合に、２：１未満である。

米国特許第４，１１２，０５２号明細書 米国特許第４，１１２，０５１号明細書 英国特許出願公開第２，０１７，５２４Ａ号明細書 米国特許第４，４７１，１３８号明細書 米国特許第４，４８７，９６７号明細書 Ｆａｒｚｉｅｒ、およびＫｏｈｌ著（Ｉｎｄ．ａｎｄ Ｅｎｇ．Ｃｈｅｍ．、第４２巻、第２２８８頁、１９５０年） Ｋｒａｇｅｒ、およびＭａｚｕｒ著「混合スルホン酸−カルボン酸無水物によるエーテルの開裂」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９０巻、第３８７８〜３８７９頁、１９６８年） 「混合スルホン酸−カルボン酸無水物Ｉ。合成および熱安定性、スルホン酸無水物の新規合成」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３６巻、第５２８頁、１９７１年） 「混合スルホン酸−カルボン酸無水物ＩＩ。脂肪族エーテルおよびアミンとの反応」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３６巻、第５３２頁、１９７１年）

本発明は、一般式１：

（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、またはＲ^１およびＲ^２は、それらが結合する炭素原子と共に、炭素３〜８個を有するシクロアルキル基を形成し；Ｒ^３は、水素、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基またはヒドロキシアルキル基およびそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくは炭素原子１〜４個、より好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキルまたはヒドロキシアルキル基であり；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基またはヒドロキシアルキル基および炭素３〜８個を有するシクロアルキル基からなる群から選択され、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、およびＲ^１１は、好ましくは水素である。但し、Ｒ^３が水素である場合、窒素に直接結合した炭素に結合するＲ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である）
で表される高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの製造方法に関し、前記方法は、次式：

（式中、Ｒ^１２はおよびＲ^１３は、同じかまたは異なり、それぞれ、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個、最も好ましくはメチル基を有するアルキル基、アリール基（好ましくは、水素、または炭素原子１〜１０個、好ましくは炭素原子１〜４個を有するアルキル基、最も好ましくはメチル基または水素でパラ位置に置換されるフェニル基）およびそれらの混合物からなる群から選択され；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉおよびそれらの混合物からなる群から選択されるハロゲンであり、好ましくはＣｌである）
で表される有機カルボン酸無水物、有機カルボン酸ハロゲン化物またはそれらの混合物を、三酸化硫黄（ＳＯ_３）と反応させて、次式２：

（式中、Ｒ^{１２／１３}は、生成物において、Ｒ基が、Ｒ^１２、Ｒ^１３またはそれらの混合物であろうことを意味する）
で表される混合スルホン酸−カルボン酸無水物、または（混合無水物）ハロゲン化スルホニル無水物を得、これを次式３：

（式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素１〜４個、好ましくは炭素１〜２個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基、並びに炭素３〜８個を有するシクロアルキル基からなる群から選択され、より好ましくはＲ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、水素である）
で表されるジオキサンと反応させて、一般式４：

で表される開裂生成物物質、もしくはそれらの混合物を得る工程を含む。各反応工程からの生成物が、引続く反応工程の反応体と反応される前に、この時点までに単離されることは必要でない。開裂生成物は、依然として製造される。有機カルボン酸無水物、有機カルボン酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物と、三酸化硫黄およびジオキサンとの混合は、いかなる順序または手順でもあろう。従って、無水物、酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物は、三酸化硫黄と混合され、次いでジオキサンと混合されるか、またはジオキサンが、先ず三酸化硫黄と混合され、次いで無水物、酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物が添加されるか、もしくは好ましくは無水物、酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物が、ジオキサンと混合され、続いて三酸化硫黄が、添加されるであろう。従って、無水物、酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物と、ジオキサンおよび三酸化硫黄との組み合わせは、単一の反応混合物に組み合わされ、混合物として反応されるであろう。これは、所望の開裂生成物の一段製造をもたらす。次いでこの開裂生成物を、次式５：

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、前に定義したものと同じである）
で表されるアミンでアミノ化して、一般式６：

で表される物質を得る。続いてこれを塩基で加水分解して、生成物１を得る。

一般式１によって定義される好ましい化合物には、次が含まれる。

典型的な出発物質は、次式で表されるカルボン酸無水物またはカルボン酸ハロゲン化物である。

他の異性体は、容易に想像されるであろう。好ましい無水物は、無水酢酸である。

一方、好ましい酸ハロゲン化物は、次のものである。

無水物または酸ハロゲン化物は、三酸化硫黄（ＳＯ_３）と反応されて、一般式２（ａ）または２（ｂ）で表される混合スルホン酸−カルボン酸無水物または（混合無水物）ハロゲン化スルホニル無水物が得られる。

文献によれば、三酸化硫黄は、無水酢酸と反応されて、混合無水物ジアセチルスルフェート２（ａ）が形成される。その際、Ｒ^{１２／１３}は、ＣＨ_３−基（８０ＪＣＳ（ＰＩ））６６２〜６６８である。ジアセチルスルフェート（２（ａ））は、溶液中で、−２０℃未満の温度で比較的安定な化合物である。

この反応は、約−７０℃〜約５０℃、好ましくは約−３０℃〜約２５℃、最も好ましくは約−３０℃〜約０℃で行われる。反応は、スルホラン、ヘキサン、アセトニトリルなどの不活性溶媒中で行われるであろう。好ましくは、次の開裂反応のためのジオキサンが、溶媒として用いられる。これは、統合第一工程をもたらす。その際、反応混合物は、無水物、酸ハロゲン化物、またはそれらの混合物、並びに三酸化硫黄およびジオキサンを含む。この反応混合物は、次いで、ジオキサン開裂反応のために、次に記載される条件下で反応される。

混合スルホン酸−カルボン酸無水物２は、次式で典型的に表されるであろうジオキサン３と反応される。

他の置換異性体は、容易に想像されるであろう。好ましくは、１，４−ジオキサンは、次のものである。

反応は、ジオキサン環が開裂され、かつ生成物への転化率約６０〜９０％が達成されるのに十分な時間行われる。ジオキサンはまた、反応溶媒として資する。ジオキサン／スルホランのモル比は、約１：１〜約１０：１、好ましくは約１：１〜約８：１、最も好ましくは約１：１〜約５：１の範囲であろう。

ジオキサンの開裂は、非特許文献２によってより詳細に記載される。また、非特許文献３および非特許文献４を参照されたい。

反応は、いかなる添加溶媒（例えば、溶媒として資するジオキサン）もなしに行われるか、もしくはアセトニトリルまたはトルエンなどの添加溶媒が用いられるであろう。その際、反応は、約５０℃〜約２００℃、好ましくは約７０℃〜約１６０℃、より好ましくは約８０℃〜約１４０℃の温度で行われる。

好ましくは、反応は、いかなる添加溶媒もなしに行われるであろう。その際、ジオキサンは、約５０℃〜２００℃、好ましくは約７０℃〜１６０℃、より好ましくは約８０℃〜１４０℃の範囲の温度で、溶媒および反応体の両者として機能する。

この開裂生成物は、次いで、次式：

で典型的に表されるアミン５で、開裂生成物４中のスルホネート基がアミン５と置換されるのに十分な時間を掛けてアミノ化されるであろう。一般に、アミン／スルホネート基のモル比は、約化学量論量〜約１０：１、好ましくは約化学量論量〜約８：１、より好ましくは約化学量論量〜約４：１の範囲にあろう。

このアミノ化工程は、技術的に典型的ないかなる条件下でも行われるであろう。アミノ化は、大気圧または高圧で行われるであろう。その際、高圧は、特に、アミノ化がｔ−ブチルアミンなどの比較的低沸点アミンを用いて行われる場合に適切である。

このアミノ化は、約大気圧（１バール）〜約１００バール、好ましくは約１〜約５０バールの圧力、および約４０℃〜約２００℃、好ましくは約４０℃〜約１２５℃の温度で行われるであろう。アミノ化は、還流を用いて行われるであろう。しかし、これは、絶対に必要ではない。不活性溶媒は、任意に用いられるであろう。ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ヘキサンなどである。

最終的に、アミノ化生成物６は、塩基中で加水分解されて、最終の所望生成物１が得られる。典型的な塩基には、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、またはアルカリ金属アルコキシドが含まれる。例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等である。塩基の混合物が、用いられるであろう。反応は、約２０℃〜約１１０℃、好ましくは約２０℃〜約５０℃で行われる。本方法は、還流下で行われるであろう。

溶媒の使用は、加水分解反応に対しては任意である。それは、反応体が既に液体形態でない場合には用いられる。溶媒には、水、アルコール、およびそれらの混合物が含まれるであろう。

アルコールが用いられる場合には、それらは、同じ炭素数のものであるか、またはアルコキシド塩基自体が誘導されると同じアルコールであろう。従って、メタノールは、塩基がアルカリメトキシドである場合に用いるのに適切であろう。

実施例１：ｐ−ジオキサン開裂のための三酸化硫黄−無水酢酸混合物
三酸化硫黄（２．５ｇ、３ミリモル、ポリマー）および無水酢酸（３．４ｇ、３．１５ｍｌ、３３ミリモル）を、５℃で１，４−ジオキサン（４０ｍｌ）に添加した。混合物を、１時間に亘って室温に加温させ、室温で２４時間攪拌した。反応は全く起こらなかった。反応混合物を、８０〜９０℃で１２時間攪拌した。過剰のジオキサンを、減圧で蒸発させて、残渣（８ｇ）を油として得た。この残渣のＮＭＲ試験では、一組の信号が示された。そのいくつかは、次の化合物とされるであろう。

ｔ−ブチルアミンによる試行アミノ化では、得られた生成物の組は明らかにされなかった。

実施例２：無水酢酸との反応のための三酸化硫黄−ジオキサン混合物
業者からの新規三酸化硫黄は、３６〜３７℃で融解されないであろうポリマーである。三酸化硫黄の溶液を、５０〜６０℃で過剰のジオキサンと混合して、それを解重合した。

１００ｍｌフラスコを、窒素下に１，４−ジオキサン（１１ｇ、１１ｍｌ）で充填し、氷浴中で冷却した。三酸化硫黄（１．０ｇ、１２．５ミリモル）を添加し、混合物を、室温で３０分間、次いで５０〜６０℃で更なる時間攪拌して、三酸化硫黄を解重合した。この混合物を、５℃に冷却した。無水酢酸（１．４３ｇ、１４ミリモル）を、５℃で添加し、反応混合物を、室温で１時間攪拌した。混合物の^１Ｈ ＮＭＲスペクトルでは、３．５〜４．２ｐｐｍの範囲の開裂生成物に対応する特性信号が全く示さなれなかった。反応混合物を、次いで１２時間還流した。^１Ｈ ＮＭＲスペクトルでは、３．６７〜３．８１ｐｐｍ、４．２２〜４．２８ｐｐｍ、および４．４９〜４．５３ｐｐｍの範囲に新規信号が示された。これは、開裂生成物の混合物に対応する。

生成物のカラムクロマトグラフィまたはシリカゲルによる分離は、不首尾であり、未同定生成物の混合物のみが単離された。

実施例３：反応体添加の順序の変更
１００ｍｌフラスコを、窒素雰囲気下に１，４−ジオキサン（２０ｇ、２０ｍｌ、０．２３モル）で充填し、無水酢酸（４ｍｌ、４．２ｇ、４１ミリモル）を、室温で添加した。三酸化硫黄（１．６ｇ、２０ミリモル）を５〜１０℃で添加した。混合物を、９５〜１００℃で２０時間攪拌した。混合物の^１Ｈ ＮＭＲ試験では、開裂生成物の存在が、ジオキサンとの比率約１：１０で示された。

攪拌を、同じ温度で、更に１２時間継続した。^１Ｈ ＮＭＲ分析では、信号の同じ組が示された。

実施例４：ｔｅｒｔ−ブチルアミンとの反応
前に試行された開裂生成物の分離が不首尾であったことから、実施例３からの粗生成物を、乾燥するまで蒸発させ、トルエン（５０ｍｌ）を、残渣油に添加した。ｔｅｒｔ−ブチルアミン（２０ｍｌ、１３．９２ｇ、０．１９モル）を添加し、反応混合物を、大気圧下で１８時間還流した。反応混合物を、室温に冷却し、室温で炭酸カリウム水溶液で洗浄した。低温および短時接触時間のために、炭酸カリウム水溶液によるこの洗浄は、加水分解をもたらさなかった。水層を、ジエチルエーテルで抽出した。組み合わせ有機層を、減圧で蒸発させて、純度約７０％のアミノ化生成物３．９ｇが得られた。

実施例５：ＮａＯＨによる加水分解
メタノール中ＮａＯＨの２Ｎ溶液（３ｍｌ、６ミリモル）を、実施例４のアミノ化生成物（１ｇ、５ミリモル）／メタノール（５０ｍｌ）に添加した。反応混合物を、３時間還流した。反応混合物を蒸発させ、ジエチルエーテルを、残渣に添加した。懸濁物が形成された。これを、ろ過した。沈殿物を、ジエチルエーテルで洗浄した。ろ過物を、減圧で蒸発させた。ジエチルエーテルを、残渣油に添加して、ナトリウム塩が沈殿された。この溶液を、ろ過し、溶媒を、減圧で除去して、黄み色の油（０．９ｇ）が回収された。この油のＮＭＲ分析では、所望の生成物、２−（２−ｔｅｒｔブチルアミノメトキシ）エタノール（ＥＥＴＢ）が、純度約９０％で示された。

実施例６：三酸化硫黄／無水酢酸／ジオキサン比（１：２：４）
１，４−ジオキサン開裂の反応時間は、１２０〜１２５℃で２時間であり、ｔ−ブチルアミンによるアミノ化については、１４０〜１４５℃で３０分であった。５０ｍｌ一口フラスコを、窒素雰囲気下で１，４−ジオキサン（１２ｍｌ、１２．４ｇ、１４０ミリモル）で充填した。次いで、三酸化硫黄（２．６ｇ、３２．５ミリモル、ポリマー）を、添加し、続いて１０〜１５℃で無水酢酸（６．２ｍｌ、６．６ｇ、６５ミリモル）を添加した。反応混合物を、２０〜２５℃で１５分間攪拌し、三酸化硫黄が溶解された（時間は、顕著に、ＳＯ_３片のサイズによるであろう）。反応混合物を、次いで、封管に移し、１２０〜１２５℃で２時間加熱した。冷却後、混合物を、一口１００ｍｌフラスコに移し、減圧下（１ｍｍ）で、６０〜６５℃で濃縮した。１，４−ジオキサン（５ｍｌ、５．２ｇ、５８．７ミリモル）およびｔｅｒｔ−ブチルアミン（２０ｍｌ、１４ｇ、１９０ミリモル）を、攪拌および冷却しながら残渣に添加した。混合物を、封管に移し、１４０〜１４５℃で３０分間加熱した。次いで、反応混合物を、室温に冷却した。トルエン（４０ｍｌ）を、攪拌しながら添加し、混合物を、減圧下でろ過した。沈殿物を、トルエン（１０ｍｌ）で洗浄し、次いで減圧下で２５〜３０ｍｌに濃縮した。トルエン層を、不溶性のボトム油から分離し、溶媒を、減圧下で除去して、粗生成物２−（２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノエトキシ）エチルアセテート（３．８ｇ、２０ミリモル、約６２．５％）が得られた。

Claims (10)

1. 次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシルアルキル基からなる群から選択され、またはそれらが結合する炭素原子と共に、炭素原子３〜８個を有するシクロアルキル基を形成し；Ｒ^３は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、但し、Ｒ^３が水素である場合、窒素原子に直接結合した炭素原子に結合するＲ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である）
   で表される高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの合成方法であって、
   一般式：
   

   

   （式中、Ｒ^１２およびＲ^１３は、同じかまたは異なり、それぞれ、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、水素またはそれを置換するＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基を有するアリール基およびそれらの混合物からなる群から選択され；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉおよびそれらの混合物からなる群から選択されるハロゲンである）
   で表される有機カルボン酸無水物、有機カルボン酸ハロゲン化物またはそれらの混合物を、三酸化硫黄（ＳＯ_３）と反応させて、次式（２）：
   

   

   で表される混合スルホン酸−カルボン酸無水物または（混合無水物）ハロゲン化スルホニル無水物を得、これを次式（３）：
   

   

   （式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、並びに炭素１〜４個を有するアルキルおよびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される）
   で表されるジオキサンと反応させて、
   

   

   を得、次いでこれを次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、前に定義したものと同じである）
   で表されるアルキルアミンでアミノ化して、次式（６）：
   

   

   を得、続いてこれを塩基で加水分解して、生成物（１）を得る工程
   を含むことを特徴とする合成方法。
2. 一般式：
   

   

   で表される有機カルボン酸無水物を用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
3. 一般式：
   

   

   で表される有機カルボン酸ハロゲン化物を用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
4. Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、メチル基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の合成方法。
5. Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、水素であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の合成方法。
6. Ｒ^１２およびＲ^１３は、同じかまたは異なり、メチル基、および水素またはメチル基をパラ位置に有するフェニル基からなる群から選択されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の合成方法。
7. 前記塩基は、アルキル金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシドおよびアルカリ金属炭酸塩からなる群から選択されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の合成方法。
8. Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、メチル基であり、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は水素であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の合成方法。
9. 前記無水物または酸ハロゲン化物およびＳＯ_３を、温度−７０゜〜５０℃で反応させ、得られた混合スルホン酸−カルボン酸無水物または混合無水物ハロゲン化スルホニル無水物（生成物２）および前記ジオキサンを、ジオキサン／生成物２のモル比１：１〜１０：１、温度５０℃〜２００℃で反応させて、開裂生成物を製造し、前記開裂生成物と前記アルキルアミンを、アミン／開裂生成物の比率化学量論量〜１０：１、圧力大気圧（１バール）〜１００バール、温度４０℃〜２００℃で反応させ、得られたアミノ化生成物を、温度２０℃〜１１０℃で塩基と反応させることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の合成方法。
10. 前記無水物、酸ハロゲン化物またはそれらの混合物、ＳＯ_３および前記ジオキサンの前記混合を、単一工程で組み合わせ、反応混合物を、温度５０℃〜２００℃で加熱して、開裂生成物を製造し、前記開裂生成物と前記アルキルアミンを、アミン／開裂生成物の比率化学量論量〜１０：１、圧力大気圧（１バール）〜１００バール、温度４０℃〜２００℃で反応させ、得られたアミノ化生成物を、温度２０℃〜１１０℃で塩基と反応させることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の合成方法。