JP4604049B2 - 立体障害第二級アミノエーテルアルコールの合成 - Google Patents

Description

本発明は、高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの調製方法に関する。これは、硫化水素を、硫化水素を含み、かつ二酸化炭素をも含むであろうガス状ストリームから除去するのに有用である。

酸性ガス（ＣＯ_２、Ｈ_２Ｓ、ＣＳ_２、ＨＣＮ、ＣＯＳ、および酸素を含む）、およびＣ_１〜Ｃ_４炭化水素の硫黄誘導体を含む混合物などのガスおよび液体を、アミン溶液を用いて処理して、これらの酸性ガスを除去することは、技術的に周知である。アミンは、通常、吸収塔で、酸性ガス、および液体（水溶液はアミンを含む）に接触する。その際、アミン水溶液は、酸性流体と向流して接触する。通常、この接触により、実質量のＣＯ_２およびＨ_２Ｓの両者が同時に除去される。特許文献１では、例えば、立体障害アミンが用いられて、ＣＯ_２およびＨ_２Ｓ酸性ガスがほぼ完全に除去される。この方法は、特に、ＣＯ_２および関連ガスの分圧が低い系に対して適切である。ＣＯ_２の分圧が高いか、または多数の酸性ガス（例えばＨ_２Ｓ、ＣＯＳ、ＣＨ_３ＳＨ、ＣＳ_２等）が存在する系に対しては、アミンを物理吸着剤と組み合わせて用いる方法（「非水溶媒方法」と呼ばれる）が行われる。これらの系は、特許文献２に記載される。

Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２の両者を含む酸性ガス系からのＨ_２Ｓの選択的な除去は、しかし、非常に望ましい。これらの選択的除去は、分離された酸性ガスにおける比較的高いＨ_２Ｓ／ＣＯ_２比をもたらす。これは、Ｈ_２Ｓの元素硫黄へのその後の転化（クラウス法）を促進する。

水性第二および第三アミンと、ＣＯ_２およびＨ_２Ｓとの典型的な反応は、次のように表されるであろう。

（式中、Ｒは、同じかまたは異なる有機基であり、水酸基で置換されるであろう）
反応は可逆的であることから、それらは、反応が生じる程度の決定因子であるＣＯ_２およびＨ_２Ｓの分圧に影響されやすい。

選択的なＨ_２Ｓの除去は、特に、低いＨ_２Ｓ／ＣＯ_２比、およびＣＯ_２のそれに比べて比較的低いＨ_２Ｓ分圧を有する系において望ましい。これらの系においてＨ_２Ｓを選択的に除去するアミンの能力は、非常に低い。

モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、ジイソプロパノールアミン（ＤＰＡ）、およびヒドロキシエトキシエチルアミン（ＤＥＡ）などの第一および第二アミン溶液は、Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２の両者を吸着する。従って、ＣＯ_２を除くＨ_２Ｓの選択的な除去には不十分であることが示された。ＣＯ_２は、これらのアミンと、比較的容易にカルバメートを形成する。

Ｈ_２Ｓは、ジイソプロパノールアミン（ＤＩＰＡ）を、単独か、または非水物理溶媒（スルホランなど）と混合されるかのいずれかで用いることによって、選択的に、Ｈ_２ＳおよびＣＯ_２を含むガスから除去された。接触時間は、しかし、ＣＯ_２とアミンとの反応速度に比べて、Ｈ_２Ｓとアミンとのより速い反応を利用するために、短く維持されなければならない。

非特許文献１には、第三アミンメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）は、ＣＯ_２に比べて、Ｈ_２Ｓ吸着に対してより選択的であることが示された。ＣＯ_２は、第三アミンとＨ_２Ｓとの急速な反応に比べて、第三アミンと比較的ゆっくり反応する。しかし、それは、比較的低いＨ_２Ｓ充填能力を有するという欠点を有し、Ｈ_２Ｓ含有量を、ある種のガスで経験される低いＨ_２Ｓ圧で所望レベルへ低減する能力を限定する。

特許文献３には、Ｈ_２Ｓの選択的除去について、ジアルキルモノアルカノールアミン水溶液、例えばジエチルモノエタノールアミン（ＤＥＡＥ）の使用が開示される。これらの物質は、Ｈ_２Ｓ除去に対して、より高い充填レベルで、ＭＤＥＡより高い選択性および能力を有する。ＤＥＡＥは、しかし、１６１℃という低い沸点という欠点を有する。これは、それを比較的高揮発性にし、大きな物質損をもたらす。

特許文献４（その全教示は、本明細書に引用して含まれる）には、ＣＯ_２に比べて、Ｈ_２Ｓに対して高い選択性を有する高度立体障害非環式第二級アミノエーテルアルコールが教示される。選択性は、高いＨ_２ＳおよびＣＯ_２充填で維持される。

特許文献４の高度立体障害非環式アミンエーテルアルコールは、一般式：

（式中、Ｒ_１およびＲ_２は、それぞれ独立に、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され；Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、それぞれ独立に、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、但し、Ｒ_３が水素である場合、窒素原子に直接結合した炭素原子に結合するＲ_４およびＲ_５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基であり；ｘおよびｙは、それぞれ２〜４の範囲の正整数であり；ｚは、１〜４の範囲の正整数である）
で表される。これらの物質は、水素源の存在下に、第二または第三アルキル第一アミンと、カルボニル官能基を含むエーテルアルコールとの、またはハロアルコキシアルカノールとの高温反応（好ましくは溶媒の存在下）によって調製される。好ましくは、組成物は、一般式：

（式中、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝ＨまたはＣＨ_３；Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝Ｒ_６＝ＣＨ_３−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｈ、
Ｒ_１＝Ｒ_２＝Ｒ_３＝ＣＨ_３ＣＨ_２−；Ｒ_４＝Ｒ_５＝Ｒ_６＝Ｈ、または
Ｒ_１≠Ｒ_２≠Ｒ_３＝Ｈ、ＣＨ_３−、ＣＨ_３ＣＨ_２−；Ｒ_４≠Ｒ_５≠Ｒ_６＝Ｈ、ＣＨ_３−
であり、ｘ＝２または３である）
で表される。

特許文献５は、水素添加触媒の存在下に高い温度および圧力で、第一アミノ化合物をポリアルケニルエーテルグリコールと反応させることによって、高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールを調製するための方法に関する。用いられる第一アミノ化合物は、次の一般式：
Ｒ^１−ＮＨ_２
（式中、Ｒ^１は、炭素原子３〜８個を有する第二または第三アルキル基および炭素原子３〜８個を有するシクロアルキル基からなる群から選択される）
を有する。用いられるポリアルケニルエーテルグリコールは、一般式：

（式中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４およびＲ_５は、それぞれ独立に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基およびＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基からなる群から選択され、但し、窒素原子に直接結合したＲ_１の炭素原子が第二級である場合、水酸基に結合した炭素に直接結合するＲ_２およびＲ_３の少なくとも一方は、アルキルまたはシクロアルキル基であり；ｘおよびｙは、それぞれ独立に、２〜４の範囲の正整数であり；ｚは、１〜１０、好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４である）
を有する。前記方法は、触媒有効量の担持第ＶＩＩＩ族金属含有水素添加触媒の存在下に、高い温度および圧力で行われる。アミノ化合物／ポリアルケニルエーテルグリコールのモル比は、ｚが１超である場合に、２：１未満である。

米国特許第４，１１２，０５２号明細書 米国特許第４，１１２，０５１号明細書 英国特許出願公開第２，０１７，５２４Ａ号明細書 米国特許第４，４７１，１３８号明細書 米国特許第４，４８７，９６７号明細書 Ｆａｒｚｉｅｒ、およびＫｏｈｌ著（Ｉｎｄ．ａｎｄ Ｅｎｇ．Ｃｈｅｍ．、第４２巻、第２２８８頁、１９５０年） Ｋａｒｇｅｒ、およびＭａｚｕｒ著「混合スルホン酸−カルボン酸無水物によるエーテルの開裂」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９０巻、第３８７８〜３８７９頁、１９６８年） 「混合スルホン酸−カルボン酸無水物Ｉ。合成および熱安定性、スルホン酸無水物の新規合成」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３６巻、第５２８頁、１９７１年） 「混合スルホン酸−カルボン酸無水物ＩＩ。脂肪族エーテルおよびアミンによる反応」（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３６巻、第５３２頁、１９７１年） Ｈｅｌｌｅｒ，Ｍ．Ｓ．、Ｌｏｒａｈ、Ｄ．Ｐ．、およびＣｏｘ，Ｃ．Ｐ．著（Ｃｈｅｍ．Ｅｎｇ．Ｄａｔａ、第２７巻、第１３４頁、１９８３年）

新規方法は、一般式１：

（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基およびおよびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、またはＲ^１およびＲ^２は、それらが結合する炭素原子と共に、炭素３〜８個を有するシクロアルキル基を形成し；Ｒ^３は、水素、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基、並びにそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくは炭素原子１〜４個、より好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基またはヒドロキシアルキル基であり；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基、並びに炭素３〜８個を有するシクロアルキル基からなる群から選択され、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、好ましくは水素であり、但しＲ^３が水素である場合、窒素原子に直接結合した炭素に結合するＲ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である）
で表される高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの製造について開示される。前記方法は、次式：

（式中、Ｒ^１２は、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個、最も好ましくはメチルを有するアルキル基、アリール基、置換アリール基（好ましくは、水素、または炭素原子１〜１０個、好ましくは炭素原子１〜４個、最も好ましくはメチルを有する一個以上のアルキル基でパラ位置に置換されるフェニル）およびそれらの混合物からなる群から選択され；Ｙは、水素、アルカリ金属、アンモニウムおよびそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくは水素またはナトリウムである）
で表される有機カルボン酸またはカルボン酸塩を、次式：
Ｒ^１４ＳＯ_２Ｘ、ＳＯ_２Ｘ_２、Ｒ^１４ＯＳＯ_２Ｘ、またはＲ_２ ^{１４，１４’}ＮＳＯ_２Ｘ （３）
（式中、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉおよびそれらの混合物からなる群から選択され、好ましくはＦ、Ｃｌ、最も好ましくはＣｌであり；Ｒ^１４およびＲ^１４’は、同じかまたは異なり、それぞれ、炭素原子１〜４個、好ましくは炭素原子１〜２個、最も好ましくはメチルを有するアルキル基、式 Ｃ_ｎＨ_{（２ｎ＋１）−ｗ}Ｚ_ｗ（式中、ｎは１〜４、好ましくは１〜２、最も好ましくは１であり、Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群から選択され、好ましくはＦおよびＣｌ、最も好ましくはＦであり、ｗは、１〜５、好ましくは１〜３の範囲であり、最も好ましくは３である）で表されるハロアルキル基、次式：

（式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、同じかまたは異なり、水素および炭素原子１〜２０個を有するアルキル基から選択され、好ましくは、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１８およびＲ^１９は、水素であり、Ｒ^１７は、水素および炭素１〜４個、好ましくは炭素１〜２、より好ましくはメチル基を有するアルキル基から選択される）で表されるアリール基４、およびそれらの混合物からなる群から選択される）
で表されるハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステルまたは混合ハロゲン化スルフリルアミドと反応させて、次式５：

で表されるスルホン酸−カルボン酸無水物化合物を得、次いでこれを次式６：

（式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素１〜４個、好ましくは炭素１〜２個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基、並びに炭素３〜８個を有するシクロアルキル基から選択され、より好ましくは、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は水素である）
で表されるジオキサンと反応させて、次式７：

で表される開裂生成物物質、もしくはそれらの混合物を得る工程を含む。各反応工程からの生成物が、引続く反応工程の反応体と反応される前に、この時点までに単離されることは必要でない。開裂生成物は、依然として製造される。有機カルボン酸またはそれらの塩と、ハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステルまたは混合ハロゲン化スルフリルアミド、およびジオキサンとの混合は、いかなる順序または手順でもあろう。従って、有機カルボン酸またはそれらの塩は、ハロゲン化スルホニル等と混合され、次いでジオキサンと混合されるか、もしくはジオキサンが、先ずハロゲン化スルホニル等と混合され、次いで有機カルボン酸またはそれらの塩が添加されるか、または有機カルボン酸またはそれらの塩およびジオキサンが混合され、続いてハロゲン化スルホニル等が添加されるであろう。従って、有機カルボン酸またはそれらの塩と、ジオキサン、およびハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステル、または混合ハロゲン化スルフリルアミドとの組み合わせは、単一の反応混合物に組み合わされ、所望の開裂生成物の一工程製造において、単一の混合物として反応されるであろう。次いでこの開裂生成物を、次式８：

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、先に定義されたものである）
で表されるアルキルアミンと反応させて、次式９：

を得、引続いてこれを塩基で加水分解して、次式１：

を得る。

上記の一般式によって定義される好ましい化合物には、次のものが含まれる。即ち、

である。

第一の成分として用いるのに典型的な出発物質は、次のものである。即ち、

である。

上記されるタイプの他の物質は、容易に想像されるであろう。

この物質は、次いで第二の成分と反応される。典型的には次のものである。即ち、

およびそれらの混合物である。

同様に、上記されるタイプの他の物質は、容易に想像されるであろう。

二種のこれら成分の反応により、アシルスルホネート５ａ、５ｂ、５ｃおよび５ｄが得られる。反応は、温度約−２０〜２００℃、好ましくは約−２０〜１５０℃、より好ましくは約０〜１２０℃、および圧力約１バール〜１００バール、好ましくは約１バール〜５０バール、より好ましくは約１バール〜１０バールで行われるであろう。

反応は、混ぜ物なし、即ちいかなる溶媒もなしに行われるであろう。但し、反応体のどれかが、液体であり、かつ非液体の反応体を溶解可能であるか、または両者とも液体である。別に、不活性の添加溶媒が用いられるであろう。スルホラン、ヘキサン、またはアセトニトリルなどである。好ましくは、その後の開裂反応のためのジオキサンが、溶媒として用いられる。これは、統合第一工程に存在される全三種の反応体をもたらす。その際、反応混合物は、ジオキサン、有機カルボン酸またはそれらの塩、およびハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステル、または混合ハロゲン化スルフリルアミドを含む。この反応混合物は、次いで、ジオキサンの開裂反応のために、次に記載される条件下で反応されるであろう。これにより、一般式４によって記載される開裂生成物が得られる。

スルホネート５ａおよび／または５ｂは、１，４−ジオキサンと反応される。これは、典型的には次式で表される。即ち、

である。他の置換異性体は、容易に想像されるであろう。好ましくは、１，４−ジオキサンは次のものである。

高温での反応は、ジオキサン環を開裂し、開裂生成物への転化率約６０〜９０％を達成するのに十分な時間を掛けて行われる。ジオキサンはまた、反応のための溶媒として資する。ジオキサン／スルホネートのモル比は、約１：１〜約１０：１、好ましくは約１：１〜約８：１、最も好ましくは約１：１〜約５：１の範囲であろう。反応は、いかなる添加溶媒もなしに（例えばジオキサンが溶媒として資する）行われるか、またはアセトニトリルまたはトルエンなどの添加溶媒が用いられるであろう。反応は、温度約５０℃〜約２００℃、好ましくは約７０℃〜約１６０℃、より好ましくは約８０℃〜約１４０℃で行われる。

好ましくは、反応は、いかなる添加溶媒もなしに（ジオキサンが、反応体および溶媒の両者として資する）、温度約５０℃〜約１６０℃、好ましくは約７０℃〜約１６０℃、より好ましくは約８０℃〜約１４０℃で行われる。

上記に述べられるジオキサンの開裂工程は、非特許文献２によって、より詳しく記載される。非特許文献３および非特許文献４をまた参照されたい。

開裂生成物７ａ、７ｂ、７ｃ、および／または７ｄは、次いで、典型的には次式：

で表されるアミン８で、−Ｏ−ＳＯ_２−Ｒ^１４、または７ａ、７ｂ、７ｃおよび／または７ｄのスルホネート基を、アミン８によって置換するのに十分な時間をかけてアミノ化される。物質７ａ、７ｃおよび７ｄをアミノ化する場合には、アミン／スルホネート基のモル比は、約１：１〜約１０：１、好ましくは約１：１〜約８：１、より好ましくは約１：１〜４：１の範囲にあり、一方物質７ｂをアミノ化する場合には、アミン／スルホネート基の比率は、約２：１〜約１０：１、好ましくは約２：１〜約８：１、より好ましくは約２：１〜約４：１の範囲にある。別に表現すると、一般に、アミン／置換される基のモル比は、約化学量論量〜約１０：１、好ましくは約化学量論量〜約８：１、より好ましくは約化学量論量〜約４：１の範囲であろう。

このアミノ化工程は、技術的に典型的ないかなる条件下でも行われるであろう。アミノ化は、大気圧または高圧で行われるであろう。高圧は、特に、アミノ化がｔ−ブチルアミンなどの比較的低沸点のアミンを用いて行われる場合に適切である。

アミノ化は、圧力約大気圧（１バール）〜約１００バール、好ましくは約１〜約５０バール、および温度約４０℃〜約２００℃、好ましくは約４０℃〜約１２５℃で行われるであろう。アミノ化は、還流を用いて行われるであろう。しかし、これは、絶対に必要ではない。不活性溶媒は、任意に用いられるであろう。ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、ヘキサンなどである。

最終的に、得られる次式９：

は、塩基を用いて加水分解されて、最終の所望生成物１が得られる。典型的な塩基には、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、またはアルカリ金属アルコキシドが含まれる。水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等などである。反応は、約２０℃〜約１１０℃、好ましくは約２０℃〜約５０℃で行われる。還流下での反応は、効果的であり、望ましい技術である。

溶媒の使用は、加水分解反応に対して任意である。それは、反応体が、既に液体形態でない場合に用いられる。溶媒には、水、またはアルコール、およびそれらの混合物が含まれるであろう。

アルコールが用いられる場合には、それらは、アルコキシド塩基自体が誘導されると同じ炭素数のものであろう。または、それと同じアルコールである。従って、メタノールは、塩基がアルカリメトキシドである場合に用いるのに適切な溶媒であろう。

トリエチルアミンの存在下にメチルクロロスルホネートおよび酢酸を用いて現場で生成されたメチルアセチルスルフェートによる開裂
メチルクロロスルホネートを、知られた手順（非特許文献５）に従って、次のように、塩化スルフリルをメタノールと反応させることによって調製した。即ち、メタノール（１５ｇ、０．４７モル）を、０℃（氷浴冷却）で、塩化スルフリルに滴状で添加し、反応混合物を、０℃で３時間攪拌した。塩化水素の放出が停止した後、反応混合物を減圧下で蒸留して、メチルクロロスルホネート（２３．５ｇ、３８％、沸点６２℃／５２〜５３ｍｍＨｇ；非特許文献５では５５〜５６℃／３９ｍｍＨｇ）が得られた。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ４．２１（ｓ、３Ｈ）、^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ６１．２であった。

ジオキサンの開裂
２５ｍｌ一口フラスコを、室温で窒素下に、酢酸（０．９７ｍｌ、１．０ｇ、１６．７ミリモル）、ジオキサン（７ｍｌ、７．０ｇ、８０ミリモル）、メチルクロロスルホネート（２．０ｇ、１５．３ミリモル）、および次いでトリエチルアミン（２．１５３ｍｌ、１．５６ｇ、１５．３ミリモル）で充填した。反応混合物を、７２時間還流した。反応の進行を、ＮＭＲによって監視した。反応混合物を、次いで減圧下で蒸発させた。乾燥トルエン（１５ｍｌ）およびｔｅｒｔ−ブチルアミン（８．４ｍｌ、５．８５ｇ、８０ミリモル）を、残分に添加し、混合物を、穏やかに２４時間還流した。反応混合物を、次いで室温に冷却し、ろ過した。固形分を、トルエンで洗浄した。組み合わせろ過物を、減圧下で蒸発させた。残分をトルエンで抽出し、エキストラクトをろ過し、減圧下で蒸発させて、褐色の油０．３ｇが得られた。ＮＭＲ試験では、所望の生成物（ｔ−ＢｕＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＡｃ）の痕跡量の存在が示された。^１Ｈ ＮＭＲスペクトルの信号から、アセテート（ＨＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＡｃ）および／または（ＡｃＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＡｃ）の存在が示唆される。

Claims (13)

1. 次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、またはそれらが結合する炭素原子と共に、炭素原子３〜８個を有するシクロアルキル基を形成し；Ｒ^３は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基、並びにそれらの混合物からなる群から選択され；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択され、但し、Ｒ^３が水素である場合、窒素原子に直接結合した炭素原子に結合するＲ^４およびＲ^５の少なくとも一方は、アルキル基またはヒドロキシアルキル基である）
   で表される高度立体障害第二級アミノエーテルアルコールの合成方法であって、
   次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１２は、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、水素またはそれを置換する一個以上のＣ_１〜Ｃ_１０アルキル基を有するアリール基、およびそれらの混合物からなる群から選択され；Ｙは、水素、アルカリ金属、アンモニウムおよびそれらの混合物からなる群から選択される）
   で表される有機カルボン酸またはカルボン酸塩を、次式：
   Ｒ^１４ＳＯ_２Ｘ、ＳＯ_２Ｘ_２、Ｒ^１４ＯＳＯ_２ＸまたはＲ_２ ^{１４，１４’}ＮＳＯ_２Ｘ
   （式中、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉおよびそれらの混合物からなる群から選択され；Ｒ^１４およびＲ^１４’は、同じかまたは異なり、それぞれ、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、式Ｃ_ｎＨ_{（２ｎ＋１）−ｗ}Ｚ_ｗ（式中、ｎは、１〜４であり、Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉおよびそれらの混合物からなる群から選択され、ｗは、１〜５の範囲である）で表されるハロアルキル基および次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、同じかまたは異なり、水素、炭素原子１〜２０個を有するアルキル基およびそれらの混合物からなる群から選択される）
   で表されるアリール基からなる群から選択される）
   で表されるハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステルまたは混合ハロゲン化スルフリルアミドと反応させて、一般式：
   

   

   で表されるアシルスルホネート物質を得、次いでこれを次式：
   

   

   （式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、同じかまたは異なり、水素、炭素１〜４個を有するアルキル基およびヒドロキシアルキル基からなる群から選択される）
   で表されるジオキサンと反応させて、
   

   

   を得、次いでこれを次式：
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、前に定義されたものである）
   で表されるアルキルアミンでアミノ化して、
   

   

   を得、続いてこれを塩基で加水分解して、
   

   

   を得る工程
   を含むことを特徴とする合成方法。
2. 式Ｒ^１４ＳＯ_２Ｘで表されるハロゲン化スルホニルを用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
3. 式ＳＯ_２Ｘ_２で表されるハロゲン化スルフリルを用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
4. 式Ｒ^１４ＯＳＯ_２Ｘで表される混合ハロゲン化スルフリルエステルを用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
5. 式Ｒ_２ ^{１４，１４’}ＮＳＯ_２Ｘで表される混合ハロゲン化スルフリルアミドを用いることを特徴とする請求項１に記載の合成方法。
6. Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、メチル基であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の合成方法。
7. Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は水素であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の合成方法。
8. Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１８およびＲ^１９は水素であり、Ｒ^１７は水素またはメチル基であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の合成方法。
9. 前記塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシドおよびアルカリ金属炭酸塩からなる群から選択されることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の合成方法。
10. Ｙは水素またはナトリウムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の合成方法。
11. Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であり；Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は水素であり；Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１８およびＲ^１９は水素であり；Ｒ^１７は水素またはメチル基であり；Ｙは水素、ナトリウムまたはアンモニウムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の合成方法。
12. 前記有機カルボン酸またはカルボン酸塩を、温度−２０〜２００℃、圧力１バール〜１００バールで、前記ハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステルまたは混合ハロゲン化スルフリルアミドと反応させることによって、前記アシルスルホネートを製造し、前記アシルスルホネートを、前記ジオキサンと、ジオキサン／アシルスルホネートのモル比１：１〜１０：１、温度５０℃〜２００℃で反応させて、開裂生成物を製造し、前記開裂生成物と前記アルキルアミンを、アミン／スルホネート基の比率化学量論量〜１０：１、圧力大気圧（１バール）〜１００バール、温度４０℃〜２００℃で反応させ、得られたアミノ化生成物を、温度２０℃〜１１０℃で塩基で加水分解することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の合成方法。
13. 前記有機カルボン酸またはそれらの塩、前記ハロゲン化スルホニル、ハロゲン化スルフリル、混合ハロゲン化スルフリルエステルまたは混合ハロゲン化スルフリルアミドおよび前記ジオキサンを、注意深く単一工程で組み合わせて、反応混合物を製造し、前記反応混合物を、温度５０℃〜２００℃で加熱して、開裂生成物を製造し、前記開裂生成物と前記アルキルアミンを、アミン／開裂生成物の比率化学量論量〜１０：１、圧力大気圧（１バール）〜１００バール、温度４０℃〜２００℃で反応させ、得られたアミノ化生成物を、温度２０℃〜１１０℃で塩基と反応させることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の合成方法。