JP2007522712A - 非準静的位相ロックループ分周回路 - Google Patents

非準静的位相ロックループ分周回路 Download PDF

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Abstract

非準静的MOS分周回路は、差動入力信号を引き起こすアンテナコイル、アンテナ共振キャパシタ、整流器、電圧制御リング発振器、位相検出器およびループフィルタを含む、位相ロックループ構成を用いる。用いられる全てのトランジスタは、PMOS、NMOS、もしくはPMOSとNMOSの両方の、有機MOSデバイスである。電圧制御発振器は、複数の遅延ステージリング発振器を含む。位相検出器は、個々の発振器ステージ電圧をループフィルタにサンプリングするため、サンプリングスイッチとして接続されたトランジスタを含む。サンプリングトランジスタは、コイルに接続されたゲートを有する。ループフィルタは、ほぼ直流をループ増幅器に、そして電圧制御発振器の遅延制御入力に提供する。この構成は、アンテナ信号周波数と同調し、この約数である、電圧制御発振器周波数をもたらす。サンプリングトランジスタゲートは全て、コイルに接続され、それにより、無線周波数並列共振ネットワークのキャパシタンスの部分となる。トランジスタゲートはそこで、無線周波数信号のレートで、コイル電圧に対して遅延なく、効果的にスイッチする。位相検出有機トランジスタの動作は、トランジスタの非準静的挙動に基づく。非準静的動作は、トランジスタのユニティゲインバンド幅の準静的制限よりもずっと高い周波数における位相検出をもたらす。

Description

発明の背景
本出願は、2005年1月6日に上記のタイトルで出願された米国本出願[番号未定]、2004年1月15日に出願された米国仮出願第60/536,603号“ポリマー電子的処理におけるRFIDタグの設計の回路構成”、2004年1月27日に出願された米国仮出願第60/539,611“RFID有機処理方法”、2004年1月27日に出願された米国仮出願第60/539,612“RFID有機回路設計”、2004年1月27日に出願された米国仮出願第60/539,610“RFID有機フレキソ印刷プリントライン方法”に関連し、優先権を主張するものである。これら5つの出願の開示は、参照されることによりここにその全体が具体的に組み込まれる。
発明の分野
本発明は有機トランジスタに関し、より具体的には、有機トランジスタの性能制約を所与として、使用に適した位相ロックループ回路および周波数分割方法に関する。
関連技術の説明
有機MOSトランジスタは、動作においてシリコン金属酸化物半導体トランジスタと類似する。構成における大きな違いは、より一般的な無機シリコンMOSデバイスで用いられるシリコン層と異なり、有機MOSトランジスタが、半導体有機ポリマー膜の薄い層を用いてデバイスの半導体としての機能を果たすことである。
ここで図1を参照すると、トップゲートのボトムコンタクト型の有機MOSトランジスタ100の断面図が示される。金属領域122が、絶縁基板112上に積層され、有機MOSデバイス100のゲート122を形成する。薄い誘電体領域120が、ゲート領域122の上に配置されてそれを他の層から電気的に隔離し、MOSゲート絶縁体の機能を果たす。金属導電体118および116が、ゲート金属122と重なる導電体116と118との間にギャップ124が存在するように、ゲート領域122の上の誘電体領域120上に形成される。ギャップ124はトランジスタ100のチャネル領域として知られる。有機半導体物質114の薄膜が、誘電体領域120上に、金属導電体116と118の少なくとも一部分を覆って積層される。ゲート122とソース118の間に印加される電圧は、半導体領域124と誘電体120の間の界面の近くのギャップ領域124内の有機半導体膜114の抵抗を変化させる。このことは“電界効果”と定義される。他の電圧がソース118とドレイン116との間に印加される時、ゲート-ソース間電圧とドレイン-ソース間電圧の両方に依存する値の電流が、ドレインとソースの間を流れる。
有機トランジスタ200はまた、図2に示されるようなトップゲートのトップコンタクト構造として構成されてもよい。導電層222が基板212上に積層され、パターン形成される。誘電体層220が導電層222上に積層される。半導体物質214の薄膜が誘電体層220の上に積層される。導電膜が有機半導体2164上に積層され、パターン形成されて、下にあるゲート金属層224に重なるギャップ224が存在するように、導電ソースおよびドレインの領域216および218を形成する。ギャップ224はトランジスタ200のチャネル領域として知られる。電界効果を通じて、電圧がゲート導電体222とソース218との間に印加され、半導体領域214と誘電体220との間の界面付近のギャップ領域224内の有機半導体214の抵抗を変化させる。他の電圧がソース218とドレイン216との間に印加される時、ゲート-ソース間電圧とドレイン-ソース間電圧の両方に依存する値の電流が、ドレインとソースの間を流れる。
有機トランジスタ300はまた、図3に示されるようなトップゲート構造として構成されてもよい。導電膜が絶縁基板312上に積層され、パターン形成されて、導電領域318および316を形成する。これら導電領域のうちの1つはソース318として、もう1つはドレイン316として知られている。ソース318とドレイン316との間のギャップ324は、トランジスタ300のチャネル領域として知られる。これらの導電領域の上に、ギャップ324の全体と導電領域ソース318およびドレイン316の少なくとも宇一部分とが覆われるように、薄い有機半導体層326が積層される。誘電体層320が半導体層326の上に積層される。下にあるギャップ324において、およびソース316とドレイン316の少なくとも一部分が覆われるように、導電層322が積層され、パターン形成される。ゲート322とソース318との間に電圧が印加されると、電界効果が、半導体326と誘電体320との間の界面近くのギャップ324内部の有機半導体326の抵抗を減少させるであろう。他の電圧がソース318とドレイン316との間に印加される場合、ソース318とドレイン316との間に電流が流れる。電流値はゲート322とソース318との間の電圧に依存する。
図1から3に示される全ての構造において、ゲート導電体がチャネル領域ギャップおよびソースとドレインの少なくとも一部分に重なる限りは、全ての層はパターン形成されてよく、有機半導体と誘電体とは、ゲート導電体およびソース/ドレイン導電体が電気的に隔離されるように配置される。
有機半導体物質はしばしば、ポリマー、低分子量、もしくはハイブリッドに分類される。ペンタセン、ヘシチフェン、TPD、およびPBDが低分子量の例である。ポリチオフェン、パラチニレンビニレン、およびポリフェニレンエチレンがポリマー半導体の例である。ポリビニルカルバゾールがハイブリッド物質の例である。これらの物質は絶縁体もしくは導電体として分類されない。有機半導体は、無機半導体におけるバンド理論に類似の用語で説明できるような方法で振る舞う。しかし、有機半導体内に電荷キャリヤを発生させる実際の方法は、無機半導体と大幅に異なる。シリコンなどの無機半導体においては、キャリヤは、異なる価数の原子を母体結晶格子に導入することで生成され、その量は伝導帯に注入されたキャリヤ数として記され、その動作は波動ベクトルkとして示すことができる。有機半導体においては、キャリヤは、p電子と呼ばれる弱く結合した電子が非局在化されて、もともとその電子を発生させた原子から比較的遠い距離を移動するある物質内に、炭素分子のハイブリッド形成により発生する。この効果は、共役分子もしくはベンゼン環構造を含む物質において、とりわけ顕著である。非局在化のため、これらのp電子は伝導帯にあるものと大まかに記されてよい。この構造は、低い電荷の移動度を発生させ、電荷の移動度とは、これらのキャリヤが半導体の中を動くことのできるスピードを記す量であり、無機半導体と比較して有機半導体の格段に低い電流特性という結果を生じる。
低い移動度に加えて、キャリヤ発生の化学反応は、有機MOSトランジスタと無機半導体における動作の間の他の決定的な違いを引き起こす。無機半導体の一般的な動作において、チャネル領域の抵抗は、半導体内に少数派として存在するタイプの電荷からなる電荷キャリヤから構成される“反転層”により変化する。シリコンバルクは、伝導に用いられるものと比較して反対のタイプのキャリヤでドーピングされる。たとえば、p型無機半導体はn型半導体でつくられるが、ホールとも呼ばれるp型キャリヤを用い、ソースとドレイン間の電流を伝導させる。しかし、有機半導体の一般的な動作において、チャネル領域の抵抗は、半導体内に多数派として存在するタイプの電荷からなる電荷キャリヤから構成される“蓄積層”によって変化する。たとえば、PMOS有機トランジスタはP型半導体とp型キャリヤ、つまりホールを用い、一般的な動作において電流を発生させる。
一般的な有機トランジスタにおける動作を充分に理解するために、“非準静的MOSト
ランジスタ動作”が説明されなければならない。有機および無機のMOSトランジスタは通常、ゲート-ソース間電圧を印加すると、デバイスのソースとドレイン間に即時に電流が流れると考えられる。このことは“準静的”条件と呼ばれ、大変シンプルなMOSデバイスの過渡効果モデルの開発を可能にする。トランジスタが、電荷キャリヤの最大周波数レスポンスよりも大幅に低い動作周波数で動作する場合にのみ、この条件は当てはまる。このことが、無機半導体を用いるほとんどの一般的な適用に関して当てはまる一方、高速で動作する有機トランジスタに関しては当てはまらない。ゲート-ソース間電圧の印加と電流を発生させる電荷キャリヤの動作との間に顕著な遅延がある場合、これらの電荷キャリヤの過渡的挙動を考慮に入れる必要がある。
この遅延は2つの要素を有する:電流の流れのない期間と、一定に安定した電流の流れが形成されるまで電流の流れが増加する期間とである。このことは図4に示される。図4のタイミング図は、ゲート電圧パルス424と、従来のシリコンMOSトランジスタに見られるような準静的ドレイン電流パルス428と、高速で動作する有機トランジスタに見られるような“非準静的”ドレイン電流パルス426とを含む。電流がそれ以上増加しないポイントを超えた電圧パルス426を参照すると、デバイスは準静的(“QS”)挙動を有する。遅延領域は非準静的(“NQS”)挙動を形作る。この遅延は一般的に、100ピコ秒以上のパルス周期で動作するシリコンMOS回路に関しておよそ数ピコ秒であるため、この領域は通常無視される。この場合、NQS遅延は一般的なシリコンMOS回路の注目している信号周期に対して重要でないため、非準静的挙動は無視してよい。有機トランジスタにおいて、この遅延はおよそ10ナノ秒であり、したがって、トランジスタが数100キロヘルツ以上の帯域で動作する時、この効果を説明することが必要である。トランジスタのユニティゲイン周波数は、トランジスタが入力電圧と等しい出力電圧を有するところの動作の周波数として定義される。トランジスタがこれより低い周波数で動作する場合、出力電圧は入力電圧より大きくなるであろう。トランジスタがこれより高い周波数で動作する場合、トランジスタのゲインはユニティよりも低く、それは出力電圧が入力電圧よりも低いことを意味する。ユニティゲインは常に、非準静的挙動が観測でき、かつ無視できない効果を生じる周波数を大幅に下回る。
有機トランジスタは無機トランジスタよりも大変低い性能を有するが、有機トランジスタを製造する材料および加工技術は、無機トランジスタを製造するのに用いられる材料および加工技術よりも大幅に安い。したがって、有機トランジスタ技術は、低いコストが求められ、低い性能が許容できる場合に適用される。したがって、有機トランジスタの効果的性能が増加するにつれ、有機トランジスタ技術の適用数もまた増加する。このタイプの適用の例は無線IC(RFID)タグである。任意の周波数で動作するRFIDタグが製造されることができるが、一般的な適用で用いられる周波数帯域を用いるRFIDタグを製造することが好ましい。このようなRFIDタグの一般的な周波数の1つは、13.56MHzであり、これは有機トランジスタのユニティゲイン周波数をはるかに上回り、非準静的挙動が考慮に入れられる必要のある帯域の周波数である。
したがって求められるのは、非準静的挙動を考慮に入れる必要のある、ユニティゲインバンド帯を大きく上回る周波数で有機トランジスタを動作させて作用する、位相ロックループのような実用的な回路である。
発明の概要
本発明の一実施形態によると、非準静的MOS分周回路は、差動入力信号を誘起するアンテナコイル、アンテナ同調キャパシタ、整流器、電圧制御リング発振器、位相検出器およびループフィルタを備える、位相ロックループ構成を用いる。電圧制御発振器は、供給
されたアンテナ電圧の周波数よりも低い周波数で動作し、反転フィードバック経路を有する一連の遅延ステージを含む。リング発振器のステージの数は、周波数分割比を規定する。リング発振器の出力は、リング発振器の各ステージに1もしくは2の有機MOSトランジスタを含む位相検出器を駆動する。トランジスタは、ループフィルタで用いるために各ステージの出力をサンプリングするサンプリングスイッチとしての役割を果たす。アンテナからの信号は整流器を駆動し、直流電力を生じ、それぞれ整流器の出力の負の電圧を上回り整流器の出力の正の電圧を下回る平均値で動作する、アンテナ端子電圧をもたらす。アンテナからの差動入力信号は、位相検出トランジスタゲートに接続され、位相検出サンプリング動作を制御する。位相検出トランジスタゲートの容量性の負荷の影響は、アンテナ同調回路のキャパシタンスに吸収され、ゲートにおける大きな信号電圧をもたらす。ゲートは、トランジスタを強制的に非準静的モードにする、対応のトランジスタの遷移周波数を超える周波数で動作する。各トランジスタは、リング発振器と対応する遅延段からのサンプリングされたレベルに応じた電流の小さなパルスをパスする。電流パルスはループフィルタネットワークによりサンプリングされ、ほぼ直流の信号に変換される。信号レベルはループ増幅器により増加し、電圧制御発振器の制御電圧入力に戻る。制御電圧入力は、発振器の各遅延ステージの遅延を変化させ、それにより振幅の周波数を変化させる。これは、位相ロックループのフィードバック結合を完成させる。電圧制御発振器周波数もしくは位相における変動は、分割されたアンテナ信号と電圧制御発振器との間の周波数誤差が修正されるように、ループフィルタの平均出力電圧の変化をもたらす。ループは、電圧制御発振器が、発振器内の遅延ステージの数により規定される、同期したアンテナ信号周波数の約数である周波数を得て、維持するように構成される。位相検出トランジスタはアンテナ回路により、13.56MHzであるコイルの無線周波数における半周期により規定される、36.9ナノ秒よりも短いチャネル形成時間の間にスイッチされ、本発明の回路は分周器として動作する。
類似の参照番号は同様の要素を示す、添付の図面において、本発明は一例として示され、制限されるものではない。
詳細な説明
ここで図5を参照すると、本発明の第1実施形態による位相ロックループ分周器500は、アンテナコイル502から差動入力信号を受信する第1および第2の入力端子と、電圧制御発振器508によって生成された同期出力信号を提供する出力端子532とを含む。キャパシタ504は第1および第2の入力端子間に接続される。電圧制御発振器508は、フィードバックインバータステージ522と供に、遅延ステージ510、512、514、516、518および520を含む。ステージ520の実現構成によっては、反転ステージ522がステージ520の一部として含まれてもよい。遅延ステージは、ループ増幅器526により供給される遅延制御入力を含む。電圧制御発振器508は、リング発振器を実現する。電圧制御発振器の各遅延ステージは、発振ループを通るパルス信号の時間遅延および位相反転を提供する。フィードバックインバータ522は、電圧制御発振器508内のフィードバックループの全体が、リング発振器の発振必要条件である、奇数回の反転を有することを必要とする。個々のステージの出力は、位相検出有機PMOSサンプリングトランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6を介して、トランジスタのソース接続を通じて、ループフィルタ524に接続される。トランジスタM1、M3およびM5のゲートは、アンテナコイル502の第1の出力に接続される。トランジスタM2、M4およびM6のゲートは、アンテナコイル502の第2の出力に接続される。結果としてもたらされるゲート相互接続は、同じアンテナコイル502端子に接続されるサンプリングトランジスタを有する、相互電圧制御発振器の遅延ステージ出力をもたらす。M1、M3およびM5のドレイン接続は、ループフィルタ524の第1端子に接続される。M2、M4およびM6のドレイン接続は、ループフィルタ524の第2端子に接続される
。ループフィルタ524の第1端子は、アンテナコイル502の第1端子に同時に接続された、自身に接続されたトランジスタを有する。ループフィルタ524の第2端子は、アンテナコイル502の第2端子に同時に接続された、自身に接続されたトランジスタを有する。ループフィルタ524の出力は、ループ増幅器526に接続される。この接続は通常、位相ロックループのインパルス雑音感度を減少させるため差動接続である。ループ増幅器526の出力は、ループ増幅器526もしくは電圧制御発振器508の実現構成の詳細によっては、シングルエンド接続もしくは差動接続であってもよい。
リング発振器の長さは、図示される6つのステージから変更されてもよい。フィードバックインバータ522が含まれる場合、遅延ステージの全体数は偶数でなければならず、したがって、ステージN520に関して、Nの値は発振を維持するために偶数でなければならない。ステージの数Nが奇数の場合、フィードバックインバータ522は取り除かれなければならず、遅延ステージ520の出力は、発振を維持するために遅延ステージ510の入力と接続される。フィードバックインバータの時間遅延は、遅延ステージの時間遅延よりも小さい。1つのPMOS位相検出サンプリングトランジスタは、Nの全体値に関わらず、電圧制御発振器508内の全ての遅延ステージに関して、M1、M2、M3、M4、M5およびM6に関して示されたのと同じ方法で接続されなければならない。
アンテナコイル502は、同調キャパシタ504と、PMOSトランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6のゲートキャパシタンスとの並列接続により共振する。アンテナコイル502は、アンテナコイル502と、同調キャパシタ504と、整流器506と、トランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6とを含む負荷アンテナ回路の共振のために選択された周波数において、交流磁界を感知する。トランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6への電圧駆動は共振時に最大化され、トランジスタは、アンテナに存在する信号周波数でスイッチするようにする。アンテナの周波数は、トランジスタの遷移周波数よりも高い。したがってトランジスタは、非準静的モードで動作する。コイルの電圧が、全波整流器506により提供される直流電源の電圧よりも大きいことが保証されるため、トランジスタは完全に使用可能もしくは使用不可能にされる。全波整流器506は、直流出力528および530を、電圧制御発振器508およびループ増幅器526の電源として提供する。遅延ステージのための電源入力は、以下に、特に図9から12を参照してより詳細に示され説明される。整流器506の第2の効果は、アンテナコイル電圧が、整流器506の負の出力530より小さな電圧から、整流器506の正の出力528よりも大きな電圧までスイングすることである。負の出力530は電源接地であり、正の出力528は正の電源電圧である。電圧制御発振器508のトランジスタは、この電源を用いる。したがって、電源値を上回るトランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6のゲート電圧によって、位相検出サンプリングトランジスタは、使用可能状態と使用不可能状態との間のトランジスタチャネル電荷流の最大差でスイッチするであろう。
有機MOSトランジスタを用いて構成された位相ロックループ回路508の位相検出器のトランジスタは、従来のシリコンベースの回路のように、信号周波数においてゲインを生じる必要はない。さらに、トランジスタのゲートに対する信号駆動は、並列同調インダクタ-キャパシタネットワークから電圧モードである。ゲートのキャパシタンスは、同調ネットワークのキャパシタンスの全体に吸収される。その結果、ゲート電圧は、ネットワークのQもしくは品質係数によって大きくなりうる。位相ロックループ500の目的は、電圧制御発振器508の周波数を入力交流(AC)信号の約数とすることである。
図6を参照すると、ロックされた状態での位相ロックループのタイミングのプロットが示される。入力電圧は、13.56MHzで動作する正弦曲線である。説明の趣旨として、4である分割比Nが選択される。このことは、電圧制御発振器に4つの遅延ステージが
あることを必要とする。4つのステージ510、512、514および516の出力のみを図示する。4ステージの動作のため、ステージ518および520は用いられず、ステージ516の出力が、フィードバックインバータ522の入力に接続される。垂直方向の破線は、スイッチのサンプリングの瞬間の中心を示す。1つおきのサンプリングの瞬間において、スイッチのグループが交互にサンプリングを行う。したがって、あるサンプリングの瞬間において、ループフィルタ524の正の入力が駆動され、次のサンプリングの瞬間において、ループフィルタ524の負の入力が駆動される。サンプリングトランジスタの駆動正弦波のピークへの非準静的なレスポンスのため、サンプリング期間は極めて短い。サンプリングトランジスタM1からM6の弱い電流駆動のため、それらの関連する出力は電流信号として現れる。ループフィルタ524の入力への同じ信号上で、同時に2以上のスイッチが使用可能であるため、電流は合計される。したがって、両方のスイッチM1およびM3が使用可能である間に、負の信号が遅延ステージ510の出力において発生し、正の信号が遅延ステージ512の出力において発生すると、スイッチ内の電流は反対方向にあり、打ち消され、結果として関連するループフィルタ524の入力のループフィルタに向かう電流が生じない。スイッチM1およびM3の両方が使用可能である間、正の信号が遅延ステージ510の出力において発生し、正の信号が遅延ステージ512の出力において発生すると、スイッチ内の電流は助長する方向にあり、結果としてループフィルタに向かう電流は、関連するループフィルタ524入力において正である。
ロックされた状態において、電圧制御発振器の出力周波数は、正確に、Nで分割されたものであり、すなわち図6に示される例に関しては、アンテナ入力周波数の4分の1である。図示された第1の例は、トランジスタM1およびM3を介して、ステージ1、510およびステージ3、514の出力からループフィルタ524の正の入力に伝達されたものである。次のサンプリングの瞬間では、ステージ2、512およびステージ4、516からの出力が、M2およびM4を介して、ループフィルタ524の負の入力に伝達される。ループフィルタ524およびループ増幅器526の差動的な性質が、2つの入力電流信号を減算し、結果として図6の下部のループフィルタの差分値プロットをもたらす。ループフィルタの入力への効果は、これが負の方向に2つの電流パルスを、次に正の方向に4つの電流パルスを、そして負の方向にさらに2つの電流パルスを受け取ることである。この処理は、アンテナおよび出力信号532が目標の周波数比で同期されるまで、いつまでも繰り返される。パルス列の平均は0であり、アンテナ信号と電圧制御発振器の出力532との間の周波数関係が正しいことを示す。ループフィルタ524は、出力532における一定の周波数を維持するために、この信号を統合して、電圧制御発振器508に印加された電圧を維持する。
図7を参照すると、ロックされない状態における位相ロックループのタイミングのプロットが示される。入力電圧は、13.56MHzで動作する正弦曲線である。説明の目的のため、図6の実施例と同じく、4である分割比Nが選択される。
ロックされない状態において、電圧制御発振器508の出力周波数は、Nで分割されるものではなく、すなわちこの図に関しては、アンテナ入力周波数の4分の1ではない。示された第1の例は、トランジスタM1およびM3を介して、ステージ1、510およびステージ3、514の出力からループフィルタ524の正の入力に伝達されたものである。次のサンプリングの瞬間では、ステージ2、512およびステージ4、516からの出力が、M2およびM4を介して、ループフィルタ524の負の入力に伝達される。ループフィルタ524およびループ増幅器526の差動的な性質が、2つの入力電流信号を減算し、結果として図7の下部のループフィルタの差分値プロットをもたらす。アンテナ信号と電圧制御発振器の出力532との間の周波数関係がおよそ3分の1であるため、ループフィルタの入力への効果は、これが負の方向に1つの電流パルスを、次に正の方向に2つの電流パルスを、そして負の方向にさらに1つの電流パルスを受け取ることである。次の2
つのサンプルは0である。初めの6つのサンプルに関して平均は0である。しかし、7番目のサンプルでは、出力は負であり、大きな正のサンプルが続く。9番目と10番目のサンプルは0であり、別の大きな正のサンプルが続く。この時点で、ループフィルタ差分値の平均は実質的に正であり、アンテナ信号と電圧制御発振器の出力532との間の周波数関係が不正であることを示す。ループフィルタはサンプルの正の平均を統合する。フィルタからの出力信号はループ増幅器526内で増幅され、電圧制御発振器508に加えられて、再びロックが実現されるまで出力周波数を減少させる。この位相検出スキームは、周波数の増加または減少からもたらされる位相誤差を感知し、修正措置をもたらす。
有機MOSトランジスタ電圧制御発振器について、現在最先端の技術で可能な、最も速い電圧制御発振器周波数は、約1MHzから2MHzである。RFID動作に関して、要求される電圧制御発振器周波数は423.75kHzであり、約3μのゲート長さで0.1V−cmを上回るトランジスタ移動度で、極めて簡単に達成できる。分割比は、423.75kHzで分割された13.56MHzであり、32である分割比Nがもたらされ、それにより、32の遅延ステージを用いることが必要とされる。位相検出サンプリングトランジスタM1からM6の非準静的遅延は約20ナノ秒であり、13.56MHz動作における半周期の36.9ナノ秒を下回る。結果として、位相検出器は、必要とされるRFID周波数より高い周波数動作し、必要とされるRFIDデータ処理を支えることが可能な発振器を制御することができる。
図5に示されるものの他に、代替的な回路構成が用いられてよい。ここで図8を参照すると、本発明の第2実施形態による位相ロックループ分周器800は、PMOSトランジスタM1、M2、M3、M4、M5およびM6がNMOSトランジスタM7、M8、M9、M10、M11およびM12に置き換えられた以外は、図5の第1実施形態500における分周器と実質的に同一である。NMOSトランジスタM7、M8、M9、M10、M11およびM12が、それらの対応するゲートに正の電圧が印加されると、使用可能になり、負の電圧が印加されると使用不可能になることを除いて、位相ロックループ800の動作は位相ロックループ500の動作と同様である。
図9を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808において用いられる遅延回路900の第1実施形態は、PMOSトランジスタM97およびM98を含む。トランジスタM97は、正の電源に接続されたソースと、遅延ステージの入力902に接続されたゲートと、遅延ステージの出力904に接続されたドレインとを有する。トランジスタM98は、遅延ステージの出力904に接続されたソースと、遅延制御の入力906に接続されたゲートと、電源接地に接続されたドレインとを有する。立ち上がり入力信号902は、立ち下がり出力信号904をもたらす。出力信号の変更レートは、遅延入力806の電圧により設定される、M98に引かれる電流により制御される。立ち下がり入力信号902および立ち上がり出力信号904に関して、同様の挙動が起こる。遅延制御電圧906の変動は、入力902から出力904へのパルス信号の遅延の変動を引き起こす。
図10を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808で用いられる遅延回路1000の第2実施形態は、PMOSトランジスタM105、M106、M107およびM108を含む。トランジスタM105は、正の電源に接続されたソースと、遅延ステージの入力1002に接続されたゲートと、トランジスタM108のゲートに接続されたドレインとを有する。トランジスタM106は、トランジスタM108のゲートに接続されたソースと、遅延制御の入力1006に接続されたゲートと、電源接地に接続されたドレインとを有する。トランジスタM108は、遅延ステージの出力1004に接続されたソースと、M105のドレインに接続されたゲートと、電源接地に接続されたドレインとを有する。トランジスタM107は、正の電源に接続されたソースと、バイアス電圧1008に接続されたゲートと、ステージ遅延の出力1004に接続されたドレインとを有する。ト
ランジスタM105およびM106は、前述の遅延セル900におけるのと同じように動作する。トランジスタM107およびM108は、電圧レベルシフターのように動作する。レベルシフターは、ステージの出力電圧遷移レベルを、入力遷移レベルに近い電圧に動かすことで、発振器の遅延ステージ間の信号互換性を改善する。バイアス電圧1008はこのバランスを最適化するよう設定される。立ち上がり入力信号1002は、立ち下がり出力信号1004を引き起こす。出力信号の変更レートは、遅延入力1006の電圧により設定される、M106により引かれる電流により制御される。立ち下がり入力信号1002および立ち上がり信号1004について、同様の挙動が起こる。遅延制御電圧1006の変動は、入力1002から出力1004のパルス信号の遅延の変動を引き起こすであろう。
図11を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808で用いられる遅延回路1100の第3実施形態は、PMOSトランジスタM114、M115、M116、M117およびM118を含む。トランジスタM114は、正の電源に接続されたソースと、遅延ステージの入力1102に接続されたゲートと、トランジスタM115およびM116のソースに接続されたドレインとを有する。M115およびM116は、ゲートがそれぞれ正の入力1104および負の入力1106に接続され、ドレインがそれぞれ負の出力1110および正の出力1108に接続された、差動増幅器として構成される。負荷トランジスタM116およびM118は、電源接地に接続されたドレインを有する。M116およびM118は、関連するドレインに接続された自身のゲートに接続された定電流源である。M116のドレインは負の出力1110に接続され、M118のドレインは正の出力1108に接続される。遅延制御の入力1102における電圧の変更は、負荷デバイスM116およびM118の間のM115およびM117によりスイッチされる、利用可能な電流を変更させる。M114からの利用可能な電流の減少は、入力1104および1106から出力1108および1110への信号の時間遅延を増加させる効果により、出力1108および1110に接続される隣接する遅延ステージの入力キャパシタンスを充電するのにより時間がかかるという結果をもたらす。
図12を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808で用いられる遅延回路1200の第4実施形態は、PMOSトランジスタM125、M126およびNMOSトランジスタM127、M128を含む。トランジスタM125は電流源として、遅延P1202の電圧の制御に従う電流の正の電源に接続される。トランジスタM128は電流源として、遅延N1206の電圧の制御に従う電流の電源接地に接続される。トランジスタM126およびM127は、入力1204および出力1208を有する相補のMOSインバータを含む。電流源M125およびM128からの電流の減少により、インバータは電流不足となる。結果として生じる入力1204および出力1208の間の信号の時間遅延の増加とともに、出力1208に存在する負荷キャパシタンスの充電時間は増加する。遅延制御のこの方法は、ループ増幅器524からの2つの制御信号1202および1206を必要とし、これらは性質上、差動的である。
図13を参照すると、位相ロックループ500もしくは800で用いられるループフィルタ回路1300の第1実施形態は、PMOSトランジスタM132〜M137を含む。トランジスタM133、M134、M136およびM137は、電源接地へのソースおよびドレイン接続の両方を有する。これらはキャパシタとして動作する。M132およびM135は、そのゲートをバイアス電圧1304に接続することでバイアス抵抗として動作する。その時M132は、M133のゲートを、自身のソース-ドレインチャネルを介して、正の入力/出力1302に接続する。そして同様に、M135は、M136のゲートを、自身のソース-ドレインチャネルを介して、負の入力/出力1306に接続する。M134のゲートは、正の入力/出力1302に接続される。M137のゲートは、正の入力/出力1302に接続される。回路は、位相ロックループとともに使用するために、比
例積分制御(PPI)ループフィルタを実施する。2つの入力は、サンプリング位相検出器の2つの出力からの信号を受信する。位相検出器は、サンプリングトランジスタの比較的低い導電性により、有限直列抵抗を有する。位相検出器の抵抗は、M132およびM135の抵抗と直列である。M133およびM136が無限に大きなキャパシタであったならば、2つの抵抗は、遅延ステージの出力からループフィルタの出力への信号ロスを生じるように、電圧分割器を実現する。これはPPIフィルタの比例要素である。M133およびM136の有限キャパシタンスは、M132およびM135と相互作用し、フィルタの伝達関数として0を実現する。これはレスポンスの重要な部分である。PPIフィルタ技術は、位相ロックループの安定した二次閉ループシステムを提供するのに用いられる。他のフィルタが用いられてもよいが、PPIアプローチは最大の柔軟性と帯域幅を有する。トランジスタM134およびM137は、全体的な位相ロックループ閉ループ周波数レスポンスの第3のポールを実施する。これは、位相検出トランジスタのスイッチングによる、ループフィルタの出力の残存交流リップルを減少させるのに用いられる。
図14を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808で用いられるループフィルタ回路1400の第2実施形態は、NMOSトランジスタM142〜M147を含む。これは、PMOSトランジスタがNMOSトランジスタに置き換えられたことを除いて、前述のループフィルタ回路1300と同様である。動作は、バイアス電圧1404が調整されてM142およびM145の抵抗動作をもたらす必要があることを除いて、ループフィルタ回路1300の動作と同一である。
図15を参照すると、電圧制御発振器508もしくは808で用いられるループフィルタ回路1500の第3実施形態は、NMOSトランジスタM152、M155およびキャパシタC153、C154、C156、C157を含む。これは、トランジスタに接続されたNMOSキャパシタがキャパシタ要素に置き換えられたことを除いて、前述のループフィルタ回路1400と同様である。動作は、ループフィルタ回路1400の動作と同一である。
本発明は、本発明を実施する現在好適な形態を含む特定の実施例に関して説明されたが、当業者は、添付の特許請求の範囲に規定される発明の精神および範囲に含まれる上述のシステムおよび技術の、数多くの変形および置き換えがあることを認識するであろう。
従来技術による、絶縁基板、有機ポリマー膜、誘電体層、および導電体ゲートを含む、有機MOSトランジスタの断面図 従来技術による、絶縁基板、有機ポリマー膜、誘電体層、および導電体ゲートを含む、有機MOSトランジスタの断面図 従来技術による、絶縁基板、有機ポリマー膜、誘電体層、および導電体ゲートを含む、有機MOSトランジスタの断面図 理想的なシリコンMOSトランジスタにおいてみられる準静的動作モードについて、また一般的な有機MOSトランジスタにおいてみられる非準静的動作モードについて、付随するドレイン電流レスポンスと同じくゲート電圧パルスを示すタイミング図 本発明の第1実施形態による、アンテナコイル、アンテナ共振キャパシタ、PMOS有機トランジスタ位相検出回路、電圧制御発振器、ループフィルタおよびループ増幅器を含む、位相ロックロープ分周回路の回路図 ロックモードで動作する、アンテナ入力電圧の波形、電圧制御発振器ステージの波形、正負のループフィルタ入力電流の波形およびループフィルタ入力電流差を含む、図5の回路のタイミング図 ロックされていないモードで動作する、アンテナ入力電圧の波形、電圧制御発振器ステージの波形、正負のループフィルタ入力電流の波形およびループフィルタ入力電流差を含む、図5の回路のタイミング図 本発明の第2実施形態による、アンテナコイル、アンテナ共振キャパシタ、NMOS有機トランジスタ位相検出回路、電圧制御発振器、ループフィルタおよびループ増幅器を含む、位相ロックループ分周回路の回路図 図5および図8の電圧制御発振器で用いられる、PMOS有機トランジスタを用いる、第1の型の遅延回路の回路図 図5および図8の電圧制御発振器で用いられる、PMOS有機トランジスタを用いる、第2の型の遅延回路の回路図 図5および図8の電圧制御発振器で用いられる、PMOS有機トランジスタを用いる、第3の型の遅延回路の回路図 図5および図8の電圧制御発振器で用いられる、PMOSおよびNMOSの両方の有機トランジスタを用いる、第4の型の遅延回路の回路図 図5および図8の回路で用いる、PMOS有機トランジスタを用いる、第1の型のループフィルタ回路の回路図 図5および図8の回路で用いる、NMOS有機トランジスタを用いる、第2の型のループフィルタ回路の回路図 図5および図8の回路で用いる、キャパシタおよび有機トランジスタを用いる、第3の型のループフィルタ回路の回路図

Claims (30)

  1. 非準静的動作モードで動作する複数の有機MOSトランジスタを備える、位相ロックループ回路。
  2. 差動入力信号を供給するためのアンテナコイルをさらに備える、請求項1に記載の位相ロックループ回路。
  3. 前記有機MOSトランジスタのゲートキャパシタンス以上の充分な追加キャパシタンスを提供し、並列同調ネットワークを所定の周波数に共振させるキャパシタをさらに備える、請求項1に記載の位相ロックループ回路。
  4. 有機MOS位相検出回路をさらに備える、請求項1に記載の位相ロックループ回路。
  5. 差分入力信号を受信するための第1および第2の入力端子を有する有機トランジスタ位相検出器と、
    同期出力信号を供給するための出力端子を有する位相検出器に接続された電圧制御発振器と、
    前記位相検出器に接続されたフィルタと、
    前記電圧制御発振器に電圧制御を提供するための前記フィルタに接続された増幅器とを備える、位相ロックループ分周器。
  6. 前記第1および第2の入力端子の間に接続されるキャパシタをさらに備える、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  7. 前記第1および第2の入力端子の間に接続されるアンテナをさらに備える、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  8. 前記電圧制御発振器は、複数の遅延ステージを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  9. 前記遅延ステージは、2つの接続されたPMOS有機トランジスタを含む、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  10. 前記遅延ステージは、第2の組の2つの接続されたPMOS有機トランジスタに接続された、第1の組の2つの接続されたPMOS有機トランジスタを含む、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  11. 前記遅延ステージは、有機トランジスタ差分増幅器を含む、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  12. 前記遅延ステージは、電流不足の有機トランジスタインバータを含む、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  13. 前記遅延ステージは、フィードバックインバータステージをさらに含む、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  14. 偶数個の複数の遅延ステージをさらに備える、請求項8に記載の位相ロックループ分周器。
  15. 前記位相検出器は、PMOS有機トランジスタを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  16. 前記位相検出器は、NMOS有機トランジスタを含む、請求項5に記載の位相ロックループ周波数分割器。
  17. 前記増幅器は、シングルエンド出力を含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  18. 前記増幅器は、差分出力を含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  19. 前記位相検出器の有機トランジスタは、非準静的モードで動作する、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  20. 前記第1および第2の入力端子に接続され、前記電圧制限発振器に電力を供給するための出力を有する整流器をさらに備える、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  21. 前記第1および第2の入力端子に接続され、前記増幅器に電力を供給するための出力を有する整流器をさらに備える、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  22. 前記フィルタは、2つのキャパシタ接続PMOS有機トランジスタを含む第1のPMOSトランジスタステージと、2つのキャパシタ接続PMOS有機トランジスタを含む第2のPMOSトランジスタステージとを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  23. 前記フィルタは、2つのキャパシタ接続NMOS有機トランジスタを含む第1のNMOSトランジスタステージと、2つのキャパシタ接続NMOS有機トランジスタを含む第2のNMOSトランジスタステージとを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  24. 前記フィルタは、2つのキャパシタを含む第1のNMOSトランジスタステージと、2つのキャパシタを含む第2のNMOSトランジスタステージとを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  25. 前記フィルタは、比例積分制御(PPI)ループフィルタを含む、請求項5に記載の位相ロックループ分周器。
  26. 非準静的動作モードで動作する複数の有機MOSトランジスタを含む、差動入力信号を受信するための位相検出器と、
    同調出力信号を供給し、前記位相検出器に反応する電圧制御発振器とを備える、位相ロックループ回路。
  27. 前記差動入力信号を供給するためのアンテナコイルをさらに備える、請求項26に記載の位相ロックループ回路。
  28. 前記位相検出器の前記有機MOSトランジスタのゲートキャパシタンス以上の充分な追加キャパシタンスを提供し、並列同調ネットワークを所定の周波数に共振させるキャパシタをさらに備える、請求項26に記載の位相ロックループ回路。
  29. 前記複数の有機MOSトランジスタは、複数個の有機PMOSトランジスタを含む、請求項26に記載の位相ロックループ回路。
  30. 前記複数の有機MOSトランジスタは、複数個の有機NMOSトランジスタを含む、請求項26に記載の位相ロックループ回路。
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