JP2007501111A - 強く付着しているコーティングの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し;
(b)無機又は有機の基材に、1種類以上の光開始剤、又は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは/及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し;
(c)ステップ(b)の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ(b)の層に電磁波を照射し;
そして、
(d)光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる。
プラズマ生成の原理及び維持の原理は、例えば、上記で記載したA.T.Bell及びH.Suhrによる総説論文に記載されている。
(a)フリーラジカル重合(通常、高圧及び高温下)による方法。
(b)触媒を用いた方法(ここで、触媒は、通常、IVb族、Vb族、VIb族又はVIII族の1種類以上の金属を含んでいる)。一般に、これらの金属は、1つ以上の配位子、例えば、酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリール(π配位又はσ配位のいずれでもよい)を有する。そのような金属錯体は、遊離していてもよいか、又は担体(例えば、活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウム又は酸化ケイ素など)に固定されていてもよい。そのような触媒は、重合媒体に可溶性であっても又は不溶性であってもよい。触媒は、重合の際にそれ自体活性を有し得るか、又はさらなる活性化剤、例えば、金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物又は金属アルキルオキサンなどを用いてもよく、ここで、金属は、Ia族、IIa族及び/又はIIIa族の元素である。活性化剤は、例えば、さらなるエステル基、エーテル基、アミン基又はシリルエーテル基で修飾されたものであってもよい。通常、そのような触媒系は、フィリップス触媒、Standard Oil Indiana触媒、チーグラー触媒(チーグラー−ナッタ触媒)、TNZ触媒(DuPont)、メタロセン触媒又は単一部位触媒(single site catalyst;SSC)と呼ばれる。
(IN)は、光開始剤の基本構造であり;
Aは、スペーサー基又は単結合であり;
(RG)は、水素であるか、又は少なくとも1つの官能性エチレン性不飽和基であり;
(RG’)は、単結合であるか、又は少なくとも1つの官能性エチレン性不飽和基を含んでいる二価の基であるか、又は三価の基である]
で表される化合物である。
(IN)が、式(II)又は式(III):
R1が、基(A)、基(B)若しくは基(C):
nが、0〜6の数であり;
R2が、水素、C1〜C12アルキル、ハロゲン若しくは基(RG)−A−であるか、又はR1が基(A)である場合は、カルボニル基に対してオルト位にある2つの基R2が一緒になって、−S−若しくは:
R3及びR4が、それぞれ互いに独立して、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルカノイル、フェニル又はベンゾイルであり、ここで、基フェニル及び基ベンゾイルは、それぞれ、置換されていないか、又はハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルキルチオ若しくはC1〜C6アルコキシで置換されており;
R5が、水素、ハロゲン、C1〜C12アルキル若しくはC1〜C12アルコキシであるか、又は基(RG)−A−であり;
R6が、OR9若しくはN(R9)2であるか、又は:
R7及びR8が、それぞれ互いに独立して、水素、C1〜C12アルキル、C2〜C12アルケニル、C1〜C12アルコキシ、フェニル若しくはベンジルであるか、又はR7とR8が一緒になって、C2〜C6アルキレンであり;
R9が、水素、C1〜C6アルキル又はC1〜C6アルカノイルであり;
R10が、水素、C1〜C12アルキル又はフェニルであり;
R11が、C1〜C4アルキルであるか、又は:
X1が、酸素又は硫黄である;
式(I)又は式(Ia)で表される化合物である。
(RG)は、水素又はRcRbC=CRa−、特に、RcRbC=CRa−であり;
(RG’)は、単結合:
Ra、Rb及びRcは、それぞれ、H又はC1〜C6アルキル、特に、H又はCH3である。
不飽和アセトフェノン誘導体及び不飽和ベンゾフェノン誘導体は、例えば、US 3,214,492、US 3,429,852、US 3,622,848及びUS 4,304,895に記載されていて、例えば:
又は、式:
のような構造単位も意味する。
13.56MHzで10W〜100Wの可変出力のプラズマ反応器内で、プラズマ処理を実施した。室温で5Paの圧力下、出力20Wのアルゴン/酸素プラズマ(ガス流:アルゴン10sccm,酸素2.5sccm)に、ポリエチレンホイル(PEホイル)を1秒間さらした。次いで、空気を入れ、サンプルに、4μmバーを用いて、
1%の光開始剤P38(共重合可能なベンゾフェノン;UCB製);
0.2%のビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニル−ホスフィンオキシド(Irgacure 819;Ciba Specialty Chemicals(スイス)製);
1%のトリス(ヒドロキシエチル)−イソシアヌラート−トリアクリラート(Sartomer 368;Cray Valley製);
そして、
イソプロパノール;
を含んでいる配合物S1を適用した。
乾燥後、50m/分のベルト速度で、80W/cmの水銀ランプを用いてサンプルに照射した。
光開始剤層でコーティングした後、同じ反応器内で、2・10−4mbarの圧力下、陽極光灯法(VALICO法)で銅層を堆積させた。ポット温度は、1500〜1600℃である。約1分で、1μmの厚さの層が堆積した。
付着強度は、粘着テープを引き剥がすことにより決定した。銅層は、その粘着テープでは剥がれなかった。
本実施例の手順は、実施例1で記載した手順と同様であるが、但し、PEホイルの代わりに2軸延伸ポリプロピレン(BOPP)ホイルを使用した。粘着テープを使用した試験において、銅層は剥がれなかった。
本実施例の手順は、実施例1で記載した手順と同様であるが、但し、配合物S1の代わりに、以下の、
1%の光開始剤P38(共重合可能なベンゾフェノン;UCB製);
0.2%のビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニル−ホスフィンオキシド(Irgacure 819;Ciba Specialty Chemicals(スイス)製);
1%の芳香族酸メタクリラート半エステル(Sarbox 400;Sartomer製);
及び、
イソプロパノール;
を含んでいる配合物S2を使用した。この場合も先と同様に、試験において、銅層は粘着テープでは剥がれなかった。
本実施例の手順は、実施例1で記載した手順と同様であるが、但し、配合物1の代わりに配合物2を使用し、また、基材として、PEホイルをBOPPホイルで置き換えた。テープを用いた試験は、銅層が基材上に充分に付着していることを示していることを示した。
ポリエチレンホイル(PEホイル)をコロナ処理(600W 5m/分)に付す。コロナで処理した基材上に、配合物1を適用し、照射した。そのサンプルを実施例1で使用したのと同様の反応器内に移し、2・10−4mbarの圧力下、陽極光灯法(VALICO法)で銅層を堆積させた。ポット温度は、1500〜1600℃である。約1分で、1μmの厚さの層が堆積した。試験において、銅層は、粘着テープでは剥がれなかった。
本実施例の手順は、実施例5で記載した手順と同様であるが、但し、PEホイルをBOPPホイルと替えた。試験の結果は、基材上に堆積させた銅層が良好に付着していることを示した。
本実施例の手順は、実施例5で記載した手順と同様であるが、但し、配合物S1を配合物S2に替えた。銅層は、基材上への良好な付着を示した。
本実施例の手順は、実施例5で記載した手順と同様であるが、但し、PEホイルをBOPPホイルに替え、配合物1を配合物2に替えた。試験の結果は、基材上に堆積させた銅層が良好に付着していることを示した。
Claims (19)
- 無機又は有機の基材に強く付着している金属コーティングを製造する方法であって、
(a)無機又は有機の基材上に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理又は火炎処理を実施し;
(b)無機又は有機の基材に、1種類以上の光開始剤、又は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含んでいるモノマー若しくは/及びオリゴマーと光開始剤との混合物、或いは前記物質の溶液、懸濁液若しくは乳濁液を適用し;
(c)ステップ(b)の層を場合により乾燥させ、そして、ステップ(b)の層に電磁波を照射し;そして
(d)光開始剤でプレコーティングした基材に、気相から、金属、半金属又は金属酸化物を堆積させる方法。 - ステップ(d)において、気相から、金属、半金属若しくは金属酸化物を堆積させている間又は堆積させた後で、電磁波の照射を実施する、請求項1に記載の方法。
- 光開始剤が、ベンゾイン、ベンジルケタール、アセトフェノン、ヒドロキシアルキルフェノン、アミノアルキルフェノン、アシルホスフィンオキシド、アシルホスフィンスルフィド、アシルオキシイミノケトン、ペルオキシ化合物、ハロゲン化アセトフェノン、フェニルグリオキシラート、二量体性フェニルグリオキシラート、ベンゾフェノン、オキシム及びオキシムエステル、チオキサントン、チアゾリン、フェロセン、クマリン、ジニトリル化合物、チタノセン、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩、ホウ酸塩、トリアジン、ビスイミダゾール、ポリシラン並びに染料の群からの化合物又はそのような化合物の組合せ、並びに更に対応する助開始剤及び/又は増感剤である、請求項1記載の方法。
- 式(I)又は式(Ia)で表される化合物において、
(IN)が、式(II)又は式(III):
で表される光開始剤の基本構造であり、
R1が、基(A)、基(B)若しくは基(C):
であるか、又は基(III)であり;
nが、0〜6の数であり;
R2が、水素、C1〜C12アルキル、ハロゲン若しくは基(RG)−A−であるか、又はR1が基(A)である場合は、カルボニル基に対してオルト位にある2つの基R2が一緒になって、−S−若しくは:
であってもよく;
R3及びR4が、それぞれ互いに独立して、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルカノイル、フェニル又はベンゾイルであり、ここで、基フェニル及び基ベンゾイルは、それぞれ、置換されていないか、又はハロゲン、C1〜C6アルキル、C1〜C6アルキルチオ若しくはC1〜C6アルコキシで置換されており;
R5が、水素、ハロゲン、C1〜C12アルキル若しくはC1〜C12アルコキシであるか、又は基(RG)−A−であり;
R6が、OR9若しくはN(R9)2であるか、又は:
であり;
R7及びR8が、それぞれ互いに独立して、水素、C1〜C12アルキル、C2〜C12アルケニル、C1〜C12アルコキシ、フェニル若しくはベンジルであるか、又はR7とR8が一緒になって、C2〜C6アルキレンであり;
R9が、水素、C1〜C6アルキル又はC1〜C6アルカノイルであり;
R10が、水素、C1〜C12アルキル又はフェニルであり;
R11が、C1〜C4アルキルであるか、又は:
であり;
X1が、酸素又は硫黄である、請求項4記載の方法。 - 光開始剤、又は光開始剤とモノマー若しくはオリゴマーの混合物を、1種類以上の液体(例えば、溶媒又は水)と組み合わせて、溶液、懸濁液及び乳濁液の形態で用いる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- プラズマガスとして、不活性ガスを用いるか、又は不活性ガスと反応性ガスの混合物を用いる、請求項1又は2のいずれかに記載の方法。
- 空気、H2、CO2、He、Ar、Kr、Xe、N2、O2又はH2Oを、単独で用いるか、又は混合物の形態で用いる、請求項8記載の方法。
- 適用された光開始剤層が、500nm以下の層厚、特に、単分子層から200nmまでの範囲の層厚を有する、請求項1に記載の方法。
- 本方法のステップ(b)を、本方法のステップ(a)の直後に実施するか、又は本方法のステップ(a)の後で24時間以内に実施する、請求項1に記載の方法。
- 本方法のステップ(b)における1種類又は複数種の光開始剤の濃度が、0.01〜99.5%、好ましくは、0.1〜80%である、請求項1に記載の方法。
- 本方法のステップ(c)を、本方法のステップ(b)の直後に実施するか、又は本方法のステップ(b)の後で24時間以内に実施する、請求項1に記載の方法。
- 本方法のステップ(c)における乾燥を、オーブン内で、熱ガス、加熱したローラー又はIR若しくはマイクロ波放熱体を用いて実施するか、又は吸収によって実施する、請求項1に記載の方法。
- 本方法のステップ(c)及び/又は本方法のステップ(d)における照射を、200nm〜700nmの範囲内の波長の電磁波を放射する線源を用いて実施するか、又は電子ビームにより実施する、請求項1又は2に記載の方法。
- 本方法のステップ(b)で適用された、光開始剤又はモノマー及び/若しくはオリゴマーと光開始剤の混合物の、本方法のステップ(c)における照射の後で架橋していない部分を、溶媒及び/若しくは水による処理によって除去するか、並びに/又は機械的に除去する、請求項1記載の方法。
- 本方法のステップ(d)における照射後に、コーティングの一部を、溶媒及び/若しくは水による処理によって除去するか、並びに/又は機械的に除去する、請求項1記載の方法。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法における、光開始剤、特に、不飽和光開始剤の使用。
- 請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法により得ることができる、強く付着しているコーティング。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011083894A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsubishi Plastics Inc | 表面処理ポリアミド系積層フィルム及びその製造方法 |
JP2012502130A (ja) * | 2008-09-09 | 2012-01-26 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 放射線硬化性組成物 |
JP2012502131A (ja) * | 2008-09-09 | 2012-01-26 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 重合可能光開始剤及び放射線硬化性組成物 |
JP2013534935A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-09-09 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | D1479安定液体bap光開始剤および放射線硬化性組成物におけるその使用 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006067061A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for the production of strongly adherent coatings |
EP2246330A1 (en) * | 2009-04-30 | 2010-11-03 | Siegwerk Benelux SA | New photoinitiators |
TWI569972B (zh) * | 2011-07-28 | 2017-02-11 | 凸版印刷股份有限公司 | 積層體、阻氣薄膜及其等之製造方法 |
CN104159734B (zh) | 2011-08-15 | 2017-11-21 | 纳幕尔杜邦公司 | 用于保护批量运输和冷链用途的可透气产品 |
DE102012104357A1 (de) * | 2012-05-21 | 2013-11-21 | Rehau Ag + Co. | Verfahren zur Beschichtung eines Formteils |
GB2527764B (en) * | 2014-06-30 | 2017-02-22 | Innovia Films Ltd | Process for producing a security film |
FR3043679B1 (fr) * | 2015-11-12 | 2021-07-23 | Aptar Stelmi Sas | Procede de traitement d'un element de conditionnement en elastomere, et element de conditionnement ainsi traite. |
CN105568216A (zh) * | 2016-01-27 | 2016-05-11 | 太仓捷公精密金属材料有限公司 | 一种金属制品的表面处理工艺 |
CN108795168A (zh) * | 2018-07-17 | 2018-11-13 | 合肥雅克丽新型建材有限公司 | 一种高稳定性的防辐射内墙装饰涂料 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002528568A (ja) * | 1998-10-28 | 2002-09-03 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 密着性の優れた表面被覆の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4233130A (en) * | 1973-03-22 | 1980-11-11 | Union Carbide Corporation | Ink and coating compositions and method |
TW322613B (en) * | 1997-03-10 | 1997-12-11 | guang-long Lin | Continuous method of implementing solder bump on semiconductor wafer electrode |
SE9904080D0 (sv) * | 1998-12-03 | 1999-11-11 | Ciba Sc Holding Ag | Fotoinitiatorberedning |
DE19953433A1 (de) * | 1999-11-06 | 2001-05-10 | Michael Bauer | Verfahren zur Herstellung haftfester, strukturierbarer Metallbeschichtungen |
US7112351B2 (en) * | 2002-02-26 | 2006-09-26 | Sion Power Corporation | Methods and apparatus for vacuum thin film deposition |
JP2005175321A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Hitachi Ltd | エッチングレジスト前駆体組成物及びそれを用いた配線基板の製造方法、並びに配線基板 |
-
2004
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-
2006
- 2006-01-09 ZA ZA200600205A patent/ZA200600205B/en unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002528568A (ja) * | 1998-10-28 | 2002-09-03 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 密着性の優れた表面被覆の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012502130A (ja) * | 2008-09-09 | 2012-01-26 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 放射線硬化性組成物 |
JP2012502131A (ja) * | 2008-09-09 | 2012-01-26 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 重合可能光開始剤及び放射線硬化性組成物 |
JP2011083894A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsubishi Plastics Inc | 表面処理ポリアミド系積層フィルム及びその製造方法 |
JP2013534935A (ja) * | 2010-06-30 | 2013-09-09 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | D1479安定液体bap光開始剤および放射線硬化性組成物におけるその使用 |
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---|---|
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