JP2007335507A - Semiconductor device and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure reliability for a structure which is used for sealing up a semiconductor device in accordance with miniaturization. <P>SOLUTION: The semiconductor device 10 has a configuration that a semiconductor device 12 formed of a photoelectric conversion element is mounted on a substrate 11, and a sealing structure 21 used for sealing the semiconductor device 12 is installed on the substrate 11. The sealing structure 21 is composed of a structure main body 22 and a light condensing means 23. The structure main body 22 is equipped with a stage member 22C formed on the outer peripheral side of a lens mounting unit 22A, and a thick-walled member 22D extending in the direction of a Z axis is provided below the stage member 22C. One end 25a of a venthole 25 is opened at the stage member 22C, and the other end 25b is opened at the lower surface of the thick-walled member 22D. The venthole 25 is formed as long as L1 in the direction of a Z axis and increased in internal capacity, and an adhesive agent capable of filling the inside of the venthole 25 is increased in amount. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板上に半導体素子が形成されてなる半導体装置に係り、特には該半導体素子が封止構造体により封止された構造を有する半導体装置および半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device in which a semiconductor element is formed on a substrate, and more particularly to a semiconductor device having a structure in which the semiconductor element is sealed with a sealing structure and a method for manufacturing the semiconductor device.

近年、情報通信技術の急速な進歩発展により、データ通信速度の向上やデータ通信量の拡大が実現し、携帯電話やノートパソコンなどのモバイル系の電子機器にはCCD(電荷結合素子)イメージセンサやCMOSイメージセンサなどの半導体装置(撮像装置)が組み込まれているものが普及してきている。これらのモバイル機器は、文字データのほかに、上記の撮像装置により撮像した画像データを送受信することが可能になっている。   In recent years, the rapid progress and development of information communication technology has led to an increase in data communication speed and an increase in data communication volume. For mobile electronic devices such as mobile phones and laptop computers, CCD (charge coupled device) image sensors and A device incorporating a semiconductor device (imaging device) such as a CMOS image sensor has become widespread. These mobile devices can transmit and receive image data captured by the above-described imaging device in addition to character data.

上記のモバイル機器に用いられる半導体装置(撮像装置)の構成の一例について図1に示す。   An example of a structure of a semiconductor device (imaging device) used for the mobile device is shown in FIG.

図1を参照するに、本図に示す半導体装置(撮像装置)100の概要は、基板101上に、例えばCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサなどの光電変換素子よりなる半導体素子102が設置され、当該半導体素子102を封止する封止構造体201が、当該基板101上に設置された構造となっている。   Referring to FIG. 1, an outline of a semiconductor device (imaging device) 100 shown in FIG. 1 is that a semiconductor element 102 made of a photoelectric conversion element such as a CCD image sensor or a CMOS image sensor is installed on a substrate 101. A sealing structure 201 for sealing the semiconductor element 102 is provided on the substrate 101.

封止構造体201は、例えば、径の異なる略円筒形状が接続された構造を有する構造体本体202と、当該構造体本体202の開口部を塞ぐように設置された、例えばレンズなどの集光手段203より構成されている。   The sealing structure 201 includes, for example, a structure main body 202 having a structure in which substantially cylindrical shapes having different diameters are connected, and a light condensing unit such as a lens installed so as to close the opening of the structure main body 202. It is comprised from the means 203.

構造体本体202は、集光手段203が設置された側の反対側の開口部を、基板101上に接するようにして設置されている。また、構造体本体202と基板101は、熱硬化型の接着剤104で接着され、基板101上の、半導体素子102を含む内部空間103を封止している。このため、内部空間103は外気より隔絶され、例えば半導体素子102上に、ごみが付着するなどして半導体素子に入射する入射光がさえぎられることを防止している。   The structure body 202 is installed so that the opening on the side opposite to the side where the light condensing means 203 is installed is in contact with the substrate 101. The structure body 202 and the substrate 101 are bonded with a thermosetting adhesive 104 to seal the internal space 103 including the semiconductor element 102 on the substrate 101. For this reason, the internal space 103 is isolated from the outside air, and prevents incident light incident on the semiconductor element from being blocked by, for example, dust adhering to the semiconductor element 102.

上記接着剤104を塗布した後は、加熱することで構造体本体202の内側及び外側に塗布された接着剤104を硬化させてして構造体本体202を基板101上に接着する。その際、上記加熱処理(キュア処理)において、内部空間103の圧力が上昇することを防止するため、構造体本体202の段部202Aには、内部空間103の気体を外部に排出する通気孔204が貫通している。そのため、加熱処理の際は、温度上昇に伴う内部空間103の内外の圧力差により内部空間103の気体が通気孔204から外部に排出されて内部空間103の圧力上昇が防止される。   After the adhesive 104 is applied, the adhesive 104 applied to the inside and the outside of the structure body 202 is cured by heating to bond the structure body 202 onto the substrate 101. At that time, in the heat treatment (curing treatment), in order to prevent the pressure in the internal space 103 from rising, a vent hole 204 for discharging the gas in the internal space 103 to the outside is provided in the step portion 202A of the structure body 202. Has penetrated. Therefore, during the heat treatment, the gas in the internal space 103 is discharged from the vent hole 204 to the outside due to the pressure difference between the inside and outside of the internal space 103 due to the temperature rise, and the pressure rise in the internal space 103 is prevented.

この通気孔204は、上記加熱処理が終了した後に紫外線硬化型の接着剤が滴下され、その後紫外線が照射されて接着剤が硬化することで閉塞される。
特開2005−39152号公報
The air holes 204 are closed by dropping an ultraviolet curable adhesive after the heat treatment is completed, and then irradiating the ultraviolet rays to cure the adhesive.
JP-A-2005-39152

しかし、上記の半導体装置100において、通気孔204を閉塞する作業としては、紫外線硬化型の接着剤を通気孔204に流し込んで閉塞する方法が行われているが、上記半導体素子102及び構造体本体202の小型化により通気孔204の内径が小さく形成される傾向にある。一方、接着剤の供給量は、接着剤を供給するディスペンサーより一滴ずつ通気孔204に滴下するため、通気孔204の内径に比例して減少させることが難しい。   However, in the semiconductor device 100 described above, as a work for closing the vent hole 204, a method of pouring and closing the ultraviolet curable adhesive into the vent hole 204 is performed. Due to the miniaturization of 202, the inner diameter of the vent hole 204 tends to be reduced. On the other hand, since the supply amount of the adhesive is dropped into the vent hole 204 one by one from the dispenser that supplies the adhesive, it is difficult to reduce it in proportion to the inner diameter of the vent hole 204.

そのため、従来は、通気孔204に接着剤を滴下させた際、接着剤の一部が通気孔204から段部202Aに溢れてしまい、構造体本体202の外壁面にはみ出してしまう問題が生じていた。   Therefore, conventionally, when an adhesive is dropped onto the vent hole 204, a part of the adhesive overflows from the vent hole 204 to the stepped portion 202 </ b> A, causing a problem that the adhesive protrudes to the outer wall surface of the structure body 202. It was.

また、通気孔204から溢れた接着剤が段部202Aから突出した状態で硬化した場合、例えば、段部202Aを半導体装置100が組み込まれるケースなどの位置合わせ面に当接させる際に段部202Aが位置合わせ面から浮いてしまい、組み付け精度が低下するおそれがあった。   Further, when the adhesive overflowing from the vent hole 204 is hardened in a state of protruding from the stepped portion 202A, for example, when the stepped portion 202A is brought into contact with an alignment surface such as a case in which the semiconductor device 100 is incorporated, the stepped portion 202A. May float from the alignment surface, and assembly accuracy may be reduced.

また、構造体本体202は、半導体素子102の電磁シールドの機能を兼ねているため、当該構造体本体202は接地されていることが好ましい。例えば、構造体本体202の接地を行う場合に、当該構造体本体202の外壁面を介して行う場合、外壁面に絶縁性の樹脂からなる接着剤が付着していると、接地回路の電気的な接続の信頼性に問題が生じる場合があった。このため、接地が不十分となって、電磁シールド効果が得られず、半導体素子にノイズの影響が生じる懸念があった。   In addition, since the structure main body 202 also functions as an electromagnetic shield of the semiconductor element 102, the structure main body 202 is preferably grounded. For example, when the structure main body 202 is grounded through the outer wall surface of the structure main body 202, if an adhesive made of an insulating resin adheres to the outer wall surface, In some cases, there was a problem with the reliability of the correct connection. For this reason, there is a concern that the grounding becomes insufficient, the electromagnetic shielding effect cannot be obtained, and the influence of noise occurs on the semiconductor element.

そこで、本発明では上記の問題を解決した、新規で有用な半導体装置および半導体装置の製造方法を提供することを統括的課題としている。   In view of the above, the present invention has a general object to provide a new and useful semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device, which solve the above problems.

本発明の具体的な課題は、基板上で半導体素子が封止された構造を有する半導体装置であって、半導体素子を封止する構造の信頼性が良好であり、電気的な接続の信頼性が高い半導体装置および半導体装置の製造方法を提供することである。   A specific problem of the present invention is a semiconductor device having a structure in which a semiconductor element is sealed on a substrate, the structure for sealing the semiconductor element has good reliability, and the reliability of electrical connection The present invention is to provide a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device that are high in cost.

本発明の第1の観点では、上記の課題を、半導体素子が設置された基板と、前記半導体素子を覆うように前記基板に接着剤により接合される封止構造体と、前記封止構造体に設けられた通気孔と、を有する半導体装置であって、前記通気孔の一端を前記封止構造体の外側に開口し、前記通気孔の他端を前記基板近傍で開口するように前記封止構造体の内側に延在形成することを特徴とする半導体装置により、解決する。   In a first aspect of the present invention, the above-described problems are solved by a substrate on which a semiconductor element is installed, a sealing structure bonded to the substrate with an adhesive so as to cover the semiconductor element, and the sealing structure A vent hole provided in the sealing device, wherein one end of the vent hole is opened outside the sealing structure, and the other end of the vent hole is opened near the substrate. The problem is solved by a semiconductor device characterized by extending inside the stop structure.

前記通気孔は、前記一端の開口を前記他端の開口よりも大きくすることが望ましい。   As for the said vent hole, it is desirable to make the opening of the said one end larger than the opening of the said other end.

前記通気孔は、前記一端の内径が前記他端の内径よりも大径となるようテーパ状に形成されていることが望ましい。   The vent is preferably formed in a tapered shape so that the inner diameter of the one end is larger than the inner diameter of the other end.

前記通気孔は、前記一端の開口が前記他端の開口よりも大径となるよう異なる内径の孔を連通することが望ましい。   It is desirable that the vent holes communicate holes having different inner diameters so that the opening at the one end has a larger diameter than the opening at the other end.

前記通気孔は、前記一端の開口が拡径されるテーパ状に形成され、前記他端の開口が前記一端よりも小径に形成されていることが望ましい。   The vent is preferably formed in a tapered shape in which the opening at the one end is enlarged, and the opening at the other end is formed to have a smaller diameter than the one end.

また、前記半導体素子は光電変換素子であると、光電変換素子を封止する構造の信頼性が良好であり、電気的な接続の信頼性が高い半導体装置を提供することが可能となる。   In addition, when the semiconductor element is a photoelectric conversion element, it is possible to provide a semiconductor device in which the reliability of the structure for sealing the photoelectric conversion element is high and the reliability of electrical connection is high.

また、前記封止構造体は、前記半導体素子に入射光を集光するための集光手段を有することで、電気的な接続の信頼性が高い撮像機能を有する半導体装置を提供することが可能となる。   In addition, since the sealing structure includes a light collecting unit for collecting incident light on the semiconductor element, it is possible to provide a semiconductor device having an imaging function with high reliability of electrical connection. It becomes.

また、前記構造体本体は、導電材料を含むと、当該構造体本体が前記半導体素子の電磁シールドとして機能する。   Further, when the structure body includes a conductive material, the structure body functions as an electromagnetic shield for the semiconductor element.

また、本発明の第2の観点では、上記の課題を、基板上に半導体素子を設置する工程と、前記半導体素子を封止する封止構造体に通気孔を形成し、前記通気孔の一端を前記封止構造体の外側に開口し、前記通気孔の他端を前記基板近傍に前記封止構造体の内側に延在形成する工程と、前記封止構造体の縁部を接着剤により前記基板上に接着する工程と、前記接着剤を加熱して硬化させると共に、前記封止構造体の内部に形成された内部空間の気体を前記封止構造体に設けられた通気孔より排出させる工程と、前記通気孔の一端開口に接着剤を滴下して前記通気孔を閉塞する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法により、解決する。   In the second aspect of the present invention, the above-described problem is solved by a step of installing a semiconductor element on a substrate, a vent hole formed in a sealing structure for sealing the semiconductor element, and one end of the vent hole. Opening the outside of the sealing structure, and forming the other end of the vent hole in the vicinity of the substrate inside the sealing structure; and an edge of the sealing structure with an adhesive The step of bonding onto the substrate and the adhesive are heated and cured, and the gas in the internal space formed inside the sealing structure is discharged from the vent hole provided in the sealing structure. The problem is solved by a method of manufacturing a semiconductor device comprising: a step; and a step of dripping an adhesive into one end opening of the vent hole to close the vent hole.

また、前記半導体素子は光電変換素子であると、光電変換素子を封止する構造の信頼性が良好であり、電気的な接続の信頼性が高い半導体装置を提供することが可能となり、さらに封止構造体は、光電変換素子に入射光を供給するための集光手段を有することで、電気的な接続の信頼性が高い撮像機能を有する半導体装置の製造方法を提供することが可能となる。   In addition, when the semiconductor element is a photoelectric conversion element, it is possible to provide a semiconductor device in which the reliability of the structure for sealing the photoelectric conversion element is favorable and the electrical connection is highly reliable. The stop structure has a light collecting means for supplying incident light to the photoelectric conversion element, whereby a method for manufacturing a semiconductor device having an imaging function with high reliability of electrical connection can be provided. .

本発明によれば、通気孔の一端を封止構造体の外側に開口し、通気孔の他端を基板近傍で開口するように封止構造体の内側に延在形成することより、接着剤が通気孔から溢れて封止構造体の段部や外側にはみ出すことを防止することができ、半導体装置の小型化により通気孔が小径化されても通気孔を閉塞する際に封止構造体の外側に絶縁性を有する接着剤が付着することを防止できるので、半導体素子を封止する構造の信頼性が良好であり、且つ電気的な接続の信頼性が高い半導体装置を提供することが可能となる。   According to the present invention, the adhesive is formed by extending one end of the vent hole to the outside of the sealing structure and extending the other end of the vent hole to the inside of the sealing structure so as to open near the substrate. Can be prevented from overflowing from the stepped portion and the outside of the sealing structure body when the ventilation hole is closed even if the diameter of the ventilation hole is reduced by downsizing of the semiconductor device. It is possible to prevent an adhesive having an insulating property from adhering to the outside of the semiconductor device, and thus to provide a semiconductor device in which the reliability of the structure for sealing the semiconductor element is high and the reliability of electrical connection is high. It becomes possible.

次に、本発明の実施の形態について図面に基づき、以下に説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図2は、本発明の実施例1による半導体装置10を、模式的に示した断面図である。図2を参照するに、本実施例による半導体装置10の概要は、基板11上に、例えばCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサなどの光電変換素子よりなる半導体素子12が実装され、当該半導体素子12を封止する封止構造体21が、当該基板11上に設置された構造となっている。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the semiconductor device 10 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the outline of the semiconductor device 10 according to the present embodiment is that a semiconductor element 12 made of a photoelectric conversion element such as a CCD image sensor or a CMOS image sensor is mounted on a substrate 11. A sealing structure 21 to be sealed is installed on the substrate 11.

封止構造体21は、例えば、径の異なる略円筒形状が接続されたキャップ状の構造を有する構造体本体22と、当該構造体本体22のレンズ取付部22Aに設けられた集光手段23より構成されている。   The sealing structure 21 includes, for example, a structure main body 22 having a cap-like structure to which substantially cylindrical shapes having different diameters are connected, and light collecting means 23 provided on the lens mounting portion 22A of the structure main body 22. It is configured.

集光手段23は、レンズ部23Aと取り付け部23Bを含む構造を有しており、取り付け部23Bには、ねじ部が形成してある。また、取り付け部23Bが接する構造体本体22の内壁面には、取り付け部23Bの雄ねじ部に対応する雌ねじ部が形成されている。このため、集光手段23を回転させることにより、集光手段23と、半導体素子12の距離fを調整することが可能な構造とされている。よって、集光手段23は、光電変換素子である半導体素子12に対する焦点距離が調節可能となっている。   The condensing means 23 has a structure including a lens portion 23A and an attachment portion 23B, and a screw portion is formed on the attachment portion 23B. Moreover, the internal thread part corresponding to the external thread part of the attachment part 23B is formed in the inner wall surface of the structure main body 22 which the attachment part 23B contacts. For this reason, it is set as the structure which can adjust the distance f of the condensing means 23 and the semiconductor element 12 by rotating the condensing means 23. FIG. Therefore, the condensing means 23 can adjust the focal distance with respect to the semiconductor element 12 which is a photoelectric conversion element.

また、集光手段23の下方には、赤外線を吸収または反射して入射光の赤外線領域を遮断するIRカットガラス24が取り付けられている。   An IR cut glass 24 that absorbs or reflects infrared rays and blocks the infrared region of incident light is attached below the light condensing means 23.

構造体本体22は、レンズ取付部22Aと反対側の下部周縁部22Bを、基板11上に接するようにして設置されている。構造体本体22の下部周縁部22Bと基板11は、接着剤14で接着され、基板11上の、半導体素子12を含む内部空間13を封止している。このため、内部空間13は外気より隔絶され、例えば半導体素子12上に、ごみが付着するなどして半導体素子に入射する入射光が遮られることを防止している。   The structure body 22 is installed so that the lower peripheral edge portion 22B opposite to the lens attachment portion 22A is in contact with the substrate 11. The lower peripheral edge 22B of the structure body 22 and the substrate 11 are bonded with an adhesive 14 to seal the internal space 13 including the semiconductor element 12 on the substrate 11. For this reason, the internal space 13 is isolated from the outside air, and prevents incident light incident on the semiconductor element from being blocked by, for example, dust adhering to the semiconductor element 12.

さらに、構造体本体22は、レンズ取付部22Aの外周側に形成された段部22Cを有しており、この段部22CにはZ軸方向に延在する通気孔25が貫通している。また、段部22Cの下方には、Z軸方向の肉厚部22Dが形成されている。通気孔25は、一端25aが段部22Cに開口し、他端25bが肉厚部22Dの下面に開口しており、基板11の近傍で開口するように封止構造体22の内側に延在形成されている。   Furthermore, the structure body 22 has a step portion 22C formed on the outer peripheral side of the lens mounting portion 22A, and a vent hole 25 extending in the Z-axis direction passes through the step portion 22C. A thick portion 22D in the Z-axis direction is formed below the step portion 22C. The vent hole 25 has one end 25a opened to the step portion 22C and the other end 25b opened to the lower surface of the thick portion 22D, and extends inside the sealing structure 22 so as to open near the substrate 11. Is formed.

この肉厚部22DのZ軸方向寸法L1は、他の段部22CのZ軸方向寸法L2(従来の長さ)よりも長く(厚く)なっている(L1>L2)。そのため、通気孔25もZ軸方向寸法L1の長さで形成されており、通気孔25の内部容積が増大されている。本実施例では、Z軸方向寸法L1がZ軸方向寸法L2の2倍以上に設定されているので、通気孔25の内部に注入可能な接着剤の注入量も2倍以上となる。   The Z-axis direction dimension L1 of the thick part 22D is longer (thicker) than the Z-axis direction dimension L2 (conventional length) of the other stepped part 22C (L1> L2). Therefore, the vent hole 25 is also formed with a length of the Z-axis direction dimension L1, and the internal volume of the vent hole 25 is increased. In this embodiment, since the Z-axis direction dimension L1 is set to be twice or more the Z-axis direction dimension L2, the injection amount of the adhesive that can be injected into the vent hole 25 is also twice or more.

通気孔25は、接着剤14を加熱して硬化させる際に内部空間13の気体を外部に排出させて内部空間13の圧力上昇を防止するものである。そして、加熱処理が終了して接着剤14が硬化すると、通気孔25に紫外線硬化型の接着剤を滴下して閉塞する。   The air vent 25 prevents the pressure in the internal space 13 from rising by discharging the gas in the internal space 13 to the outside when the adhesive 14 is cured by heating. When the heat treatment is completed and the adhesive 14 is cured, an ultraviolet curable adhesive is dropped into the vent hole 25 to close it.

図3は通気孔25を閉塞した状態を示す縦断面図である。図3に示されるように、構造体本体22を基板11上に接合した後、通気孔25に紫外線硬化型の接着剤26(梨地模様で示す)を注入する。接着剤26は、接着剤を供給するディスペンサーのノズル(図示せず)の先端口から一滴が滴下される。半導体装置10は小型化されており、通気孔25の孔径も小径(例えば、内径=200μm程度)になっており、一滴以上滴下された場合には、接着剤26が通気孔25から溢れる可能性がある。しかしながら、本実施例では、通気孔25のZ軸方向の全長が寸法L1に延長されているため、通気孔25の全体の内部容積が増大している分、接着剤26の収納可能量が増大しているので、接着剤26が通気孔25から溢れることが防止される。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing a state in which the vent hole 25 is closed. As shown in FIG. 3, after the structure body 22 is bonded onto the substrate 11, an ultraviolet curable adhesive 26 (shown with a satin pattern) is injected into the vent hole 25. One drop of the adhesive 26 is dropped from the tip end of a nozzle (not shown) of a dispenser that supplies the adhesive. The semiconductor device 10 is miniaturized, and the hole diameter of the vent hole 25 is also small (for example, inner diameter = about 200 μm), and the adhesive 26 may overflow from the vent hole 25 when one or more drops are dropped. There is. However, in this embodiment, since the entire length of the vent hole 25 in the Z-axis direction is extended to the dimension L1, the amount of adhesive 26 that can be accommodated increases as the entire internal volume of the vent hole 25 increases. Therefore, the adhesive 26 is prevented from overflowing from the vent hole 25.

このため、接着剤14は、構造体本体22の外壁面にはみ出すことがなく、当該外壁面が接着剤で覆われることがない。また、本実施例による半導体装置では、接着剤26が通気孔25から溢れることがないので、上記段部22Cを位置合わせ面に当接させる際の位置合わせが正確に行える。また、構造体本体22の外壁面が汚れることが防止されるのみならず、高密度に半導体装置を実装することが可能になっている。例えば、はみ出した接着剤が、他の電子部品等に干渉することを防止できるため、半導体装置10を、マザーボード上などに高密度に設置することが可能になっている。   For this reason, the adhesive 14 does not protrude from the outer wall surface of the structure body 22, and the outer wall surface is not covered with the adhesive. Further, in the semiconductor device according to the present embodiment, since the adhesive 26 does not overflow from the vent hole 25, the alignment when the stepped portion 22C is brought into contact with the alignment surface can be performed accurately. Further, not only the outer wall surface of the structure body 22 is prevented from being soiled, but also the semiconductor device can be mounted at a high density. For example, since the protruding adhesive can be prevented from interfering with other electronic components and the like, it is possible to install the semiconductor device 10 on a motherboard or the like with high density.

また、構造体本体22は、例えばポリカーボネード樹脂に、導電性材料(Niとカーボンの粒子)を添加して、射出成型して形成している。このため、構造体本体22は、半導体素子12の電磁シールドの機能を有し、半導体素子12がノイズの影響を受けることを抑制している。また、射出成型により形成されるため、例えばねじ部などの微細な加工に対応することが可能になっている。   The structure body 22 is formed by adding a conductive material (Ni and carbon particles) to, for example, polycarbonate resin and injection molding. For this reason, the structure main body 22 has a function of electromagnetic shielding of the semiconductor element 12 and suppresses the semiconductor element 12 from being affected by noise. Moreover, since it is formed by injection molding, it is possible to cope with fine processing such as a threaded portion.

また、上記の電磁シールド機能を良好とするために、構造体本体22は、接地されていることが好ましい。本実施例による半導体装置10では、構造体本体22の外壁面での接着剤のはみ出しが抑制されているため、当該外壁面を用いて当該構造体本体22を接地する場合の接地回路の電気的な接続の信頼性が良好となる。このため、十分な電磁シールド効果を得ることが可能となり、半導体素子に対するノイズの影響を排除して信頼性の高い半導体装置を構成することが可能となっている。   Moreover, in order to make said electromagnetic shielding function favorable, it is preferable that the structure main body 22 is earth | grounded. In the semiconductor device 10 according to the present embodiment, since the protrusion of the adhesive on the outer wall surface of the structure body 22 is suppressed, the electrical circuit of the ground circuit when the structure body 22 is grounded using the outer wall surface. Connection reliability is improved. Therefore, it is possible to obtain a sufficient electromagnetic shielding effect, and it is possible to configure a highly reliable semiconductor device by eliminating the influence of noise on the semiconductor element.

また、構造体本体22の表面の電気抵抗値をさらに低減するために、当該構造体本体表面に、金属材料よりなる導電性の薄膜(例えばAl膜など)を、例えばスパッタリングなどの方法により、形成するとさらに好ましい。   Further, in order to further reduce the electrical resistance value of the surface of the structure body 22, a conductive thin film (for example, an Al film) made of a metal material is formed on the surface of the structure body by a method such as sputtering. More preferably.

例えば、図4は、上記の半導体装置10が実装される構造の一例を模式的に示した図である。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   For example, FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of a structure in which the semiconductor device 10 is mounted. However, in the figure, the same reference numerals are given to the parts described above, and the description will be omitted.

図4を参照するに、半導体装置10は、例えば金属製の保持容器(ソケット)31に収納されるようにして当該保持容器31を介してマザーボート40に設置される。保持容器31は、金属の弾性力によって半導体装置10を挟持するようにして保持する接地部31Aを有している。接地部31Aは、弾性力によって構造体本体22を保持すると共に、構造体本体22に接触することで構造体本体22を接地している。   Referring to FIG. 4, the semiconductor device 10 is installed in the mother boat 40 through the holding container 31 so as to be housed in, for example, a metal holding container (socket) 31. The holding container 31 has a grounding portion 31 </ b> A that holds the semiconductor device 10 so as to be held by the elastic force of metal. The grounding portion 31 </ b> A holds the structure main body 22 by elastic force and contacts the structure main body 22 to ground the structure main body 22.

この場合、本実施例による構造体本体22では、接着剤14のはみ出しが抑制されているため、接地回路の接続の信頼性が良好となって、構造体本体22の電磁シールド効果が良好となっている。また、溝部22Aは、接地部31Aと構造本体22との電気的な接続に干渉しないように、接触部31Aと構造本体22の接触部よりも基板11の側に形成されていることが好ましい。   In this case, since the protrusion of the adhesive 14 is suppressed in the structure body 22 according to the present embodiment, the reliability of the connection of the ground circuit is improved, and the electromagnetic shielding effect of the structure body 22 is improved. ing. The groove 22A is preferably formed closer to the substrate 11 than the contact between the contact portion 31A and the structure main body 22 so as not to interfere with the electrical connection between the grounding portion 31A and the structure main body 22.

また、保持容器31の底部には、例えば接続ピン33が形成された基板32が設置され、前記半導体素子12とマザーボード40の回路が接続可能に構成されている。   In addition, for example, a substrate 32 on which connection pins 33 are formed is installed at the bottom of the holding container 31 so that the circuit of the semiconductor element 12 and the mother board 40 can be connected.

次に、上記の半導体装置10の製造方法の一例について、図5A〜図5Fに基づき、手順を追って説明する。ただし図中、先に説明した部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。   Next, an example of a method for manufacturing the semiconductor device 10 will be described step by step based on FIGS. 5A to 5F. However, in the figure, the same reference numerals are given to the parts described above, and the description will be omitted.

まず、図5Aに示す工程では、前記基板11上に、半導体素子12を実装する。例えば、半導体素子12は、ボンディングワイヤ(図示せず)で、基板11の配線と電気的に接続される。   First, in the step shown in FIG. 5A, the semiconductor element 12 is mounted on the substrate 11. For example, the semiconductor element 12 is electrically connected to the wiring of the substrate 11 with a bonding wire (not shown).

次に、図5Bに示す工程において、前述した封止構造体21(図2参照)を用意する。この封止構造体21は、構造体本体22と、集光手段23とより構成されており、構造体本体22は樹脂成型法により一体成型される。そして、構造体本体22の段部22C及び肉厚部22Dを貫通する通気孔25を貫通させる。また、通気孔25は、構造体本体22を成型した後に機械加工により切削しても良いし、あるいは構造体本体22を成型する金型に通気孔25を成型するためのピンを設けることで構造体本体22を成型する過程で同時に成型する方法を用いて良い。   Next, in the step shown in FIG. 5B, the above-described sealing structure 21 (see FIG. 2) is prepared. The sealing structure 21 includes a structure body 22 and a light collecting unit 23, and the structure body 22 is integrally formed by a resin molding method. And the ventilation hole 25 which penetrates the step part 22C and the thick part 22D of the structure main body 22 is penetrated. The vent hole 25 may be cut by machining after the structure body 22 is molded, or may be structured by providing a pin for molding the vent hole 25 in a mold for molding the structure body 22. A method of simultaneously molding the body main body 22 in the process of molding may be used.

また、構造体本体22の下部周縁部22Bには、基板11の凹部(図示せず)に嵌合する突起22Eが突出している。この突起22Eは、基板11上の構造体本体22の取付位置を位置決めするものである。   Further, a protrusion 22E that fits into a recess (not shown) of the substrate 11 protrudes from the lower peripheral edge 22B of the structure body 22. The protrusion 22E is for positioning the mounting position of the structure body 22 on the substrate 11.

次に、図5Cに示す工程では、基板11上の所定位置にディスペンサーDを用いて接合用の接着剤14を配設する。この接着剤14の配設位置は、構造体本体22の下端の形状と対応するようにされている。また、接合用の接着剤14としては、接合性が良好であって接合信頼性の高い熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。   Next, in the step shown in FIG. 5C, the bonding adhesive 14 is disposed at a predetermined position on the substrate 11 using the dispenser D. The arrangement position of the adhesive 14 corresponds to the shape of the lower end of the structure body 22. Further, as the bonding adhesive 14, it is preferable to use a thermosetting resin that has good bonding properties and high bonding reliability.

次に、図5Dに示す工程において、構造体本体22の下部周縁部22Bを接着剤14の配設位置に押し付け、これにより構造体本体22の下部周縁部22Bを基板11に接着する。その際、上記下部周縁部22Bの突起22Eを基板11の凹部(図示せず)に嵌合させて構造体本体22の取付位置が位置決めされる。   Next, in the step shown in FIG. 5D, the lower peripheral edge portion 22B of the structure body 22 is pressed against the position where the adhesive 14 is disposed, thereby bonding the lower peripheral edge portion 22B of the structure body 22 to the substrate 11. At that time, the protrusion 22E of the lower peripheral edge portion 22B is fitted into a concave portion (not shown) of the substrate 11, and the mounting position of the structure body 22 is positioned.

次に、図5Eに示す工程において、構造体本体22が接着された基板11をキュア装置に装着し、加熱処理(キュア処理)をすることにより、接着剤14を硬化させて接着力を良好とする。尚、加熱処理の加熱温度は、接着剤14の材質に応じた硬化温度に応じた加熱温度となるように設定されている。その際、構造体本体22の内部空間13においては、温度上昇に伴う内部空間13の内外の圧力差により内部空間103の気体が通気孔25から外部に排出されて内部空間13の圧力上昇が防止される。   Next, in the step shown in FIG. 5E, the substrate 11 to which the structure body 22 is bonded is attached to a curing device, and heat treatment (curing treatment) is performed to cure the adhesive 14 and improve the adhesive strength. To do. Note that the heating temperature of the heat treatment is set to be a heating temperature corresponding to the curing temperature corresponding to the material of the adhesive 14. At that time, in the internal space 13 of the structure body 22, the gas in the internal space 103 is discharged from the vent hole 25 to the outside due to the pressure difference between the inside and outside of the internal space 13 due to the temperature rise, and the pressure rise in the internal space 13 is prevented. Is done.

次に、図5Fに示す工程において、ディスペンサーDのノズルを通気孔25の上方に移動させ、紫外線硬化型の接着剤26を滴下する。通気孔25は、小径であるが、毛管現象により液状の接着剤26が流入する。そして、接着剤26は、構造体本体22の段部22Cに開口する通気孔25の一端から通気孔25の内部に流入して下方の他端へ降下する。また、通気孔25は、前述したようにZ軸方向の長さが寸法L1に延長されており、通気孔25の内部容積が増大されている。そのため、構造体本体22の段部22Cに滴下された接着剤26は、全て通気孔25に浸透される。   Next, in the step shown in FIG. 5F, the nozzle of the dispenser D is moved above the vent hole 25 and the ultraviolet curable adhesive 26 is dropped. The vent hole 25 has a small diameter, but the liquid adhesive 26 flows in by capillary action. Then, the adhesive 26 flows into one of the vent holes 25 from one end of the vent hole 25 opened in the step portion 22C of the structure body 22 and descends to the other lower end. Further, as described above, the length of the vent hole 25 in the Z-axis direction is extended to the dimension L1, and the internal volume of the vent hole 25 is increased. Therefore, all of the adhesive 26 dropped on the step portion 22 </ b> C of the structure body 22 penetrates into the vent hole 25.

次に、図5Gに示す工程において、構造体本体22が接着された基板11を紫外線照射装置に装着し、構造体本体22に対して紫外線灯50から紫外線を照射して紫外線照射処理をすることにより、通気孔25に注入された接着剤26を硬化させて通気孔25を閉塞する。このようにして、図2に示す半導体装置10を形成することができる。   Next, in the step shown in FIG. 5G, the substrate 11 to which the structure body 22 is bonded is attached to the ultraviolet irradiation device, and the structure body 22 is irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 50 to perform ultraviolet irradiation treatment. As a result, the adhesive 26 injected into the vent hole 25 is cured to close the vent hole 25. In this way, the semiconductor device 10 shown in FIG. 2 can be formed.

図6は実施例2による半導体装置を示す縦断面図である。尚、図6において、上記実施例1と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。   FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to the second embodiment. In FIG. 6, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図6に示されるように、通気孔125は、一端125aの内径が他端125bの内径よりも大径となるようテーパ状に形成されている。このように、テーパ状に形成された通気孔125は、一端125aの開口面積が大きくなっているため、ディスペンサーDのノズルの位置が若干ずれたとしても吐出された接着剤26が外れることがないので、ディスペンサーDのノズルの位置制御が容易に行える。   As shown in FIG. 6, the vent hole 125 is tapered so that the inner diameter of one end 125a is larger than the inner diameter of the other end 125b. Thus, since the opening area of the one end 125a of the vent hole 125 formed in a tapered shape is large, even if the position of the nozzle of the dispenser D is slightly shifted, the discharged adhesive 26 does not come off. Therefore, the nozzle position of the dispenser D can be easily controlled.

さらに、通気孔125は、半径方向の容積も拡大されているので、例えディスペンサーDのノズルから2滴の接着剤26が滴下されてとしても接着剤26が通気孔125から溢れることが防止される。   Furthermore, since the volume of the vent hole 125 is increased in the radial direction, even if two drops of the adhesive 26 are dropped from the nozzle of the dispenser D, the adhesive 26 is prevented from overflowing from the vent hole 125. .

図7は実施例3による半導体装置を示す縦断面図である。尚、図7において、上記実施例1と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。   FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to the third embodiment. In FIG. 7, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図7に示されるように、通気孔225は、一端225aの内径が他端225bの内径よりも大径となるよう異なる孔径に形成されている。このように、内部が段差形状に形成された通気孔225は、一端225aの開口面積が大きくなっているため、ディスペンサーDのノズルの位置が若干ずれたとしても吐出された接着剤26が外れることがないので、ディスペンサーDのノズルの位置制御が容易に行える。   As shown in FIG. 7, the vent hole 225 has a different hole diameter so that the inner diameter of the one end 225a is larger than the inner diameter of the other end 225b. As described above, the vent hole 225 formed in a stepped shape has a large opening area at the one end 225a, so that the discharged adhesive 26 can be removed even if the position of the nozzle of the dispenser D is slightly shifted. Therefore, the position of the nozzle of the dispenser D can be easily controlled.

さらに、通気孔225は、一端225aの半径方向の容積も拡大されているので、例えディスペンサーDのノズルから2滴の接着剤26が滴下されてとしても接着剤26が通気孔225から溢れることが防止される。   Further, the vent hole 225 has an enlarged volume in the radial direction at the one end 225a. Therefore, even if two drops of the adhesive 26 are dropped from the nozzle of the dispenser D, the adhesive 26 may overflow from the vent hole 225. Is prevented.

図8は実施例4による半導体装置を示す縦断面図である。図9は実施例4による半導体装置を示す平面図である。尚、図8及び図9において、上記実施例1と同一部分には、同一符号を付してその説明を省略する。   FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to the fourth embodiment. FIG. 9 is a plan view showing a semiconductor device according to the fourth embodiment. 8 and 9, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図8及び図9に示されるように、通気孔325は、一端325aが上方からみると円弧状に幅広凹部形状に形成されている。従って、通気孔325の一端325aは、孔よりも大幅に拡大された開口であり、且つ内面が擂り鉢状に湾曲しているので、滴下された接着剤26を幅広凹部の傾斜面により他端325bへ導くことが可能である。
そして、通気孔325の他端325bは小径な孔としてZ方向に延在形成されている。
As shown in FIGS. 8 and 9, the vent hole 325 is formed in a wide concave shape in an arc shape when one end 325 a is viewed from above. Accordingly, the one end 325a of the vent hole 325 is an opening that is greatly enlarged than the hole, and the inner surface is curved in a bowl shape, so that the dripped adhesive 26 is disposed at the other end by the inclined surface of the wide recess. It is possible to lead to 325b.
The other end 325b of the vent hole 325 is formed to extend in the Z direction as a small diameter hole.

このように、通気孔325の一端325aが幅広凹部形状に形成されているため、ディスペンサーDのノズルの位置が若干ずれたとしても吐出された接着剤26が外れることがないので、ディスペンサーDのノズルの位置制御が容易に行える。   Thus, since the one end 325a of the vent hole 325 is formed in a wide concave shape, even if the position of the nozzle of the dispenser D is slightly shifted, the discharged adhesive 26 does not come off, so the nozzle of the dispenser D Can be easily controlled.

さらに、通気孔325は、一端325aの半径方向(面方向)の容積も拡大されているので、例えディスペンサーDのノズルから2滴の接着剤26が滴下されてとしても接着剤26が通気孔325から溢れることが防止される。   Further, since the vent hole 325 has an enlarged volume in the radial direction (surface direction) of the one end 325a, even if two drops of the adhesive 26 are dropped from the nozzle of the dispenser D, the adhesive 26 remains in the vent 325. Is prevented from overflowing.

また、上記に示した半導体装置の構造およびその製造方法は、本発明の一例であり、様々に変形・変更することが可能である。例えば、前記構造体本体22を構成する樹脂材料は、ポリカーボネート樹脂に限定されず、他の樹脂材料を用いることが可能である。同様に、当該樹脂材料に添加される導電材料や、また表面に形成される金属膜は、上記の実施例に記載した材料に限定されず、様々な材料を用いて形成することが可能である。   The structure of the semiconductor device and the manufacturing method thereof described above are examples of the present invention, and can be variously modified and changed. For example, the resin material constituting the structure body 22 is not limited to polycarbonate resin, and other resin materials can be used. Similarly, the conductive material added to the resin material and the metal film formed on the surface are not limited to the materials described in the above embodiments, and can be formed using various materials. .

本発明によれば、基板上で半導体素子が封止された構造を有する半導体装置であって、半導体素子を封止する構造の信頼性が良好であり、電気的な接続の信頼性が高い半導体装置を提供することが可能となる。   According to the present invention, a semiconductor device having a structure in which a semiconductor element is sealed on a substrate, a semiconductor having a good structure for sealing the semiconductor element and high electrical connection reliability An apparatus can be provided.

また、上記実施例では、半導体素子としてCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサなどの光電変換素子を例示したが、これに限らず、他の半導体素子あるいは光を受光すると信号を出力するように構成された光電変換素子にも適用することができるのは勿論である。   Moreover, in the said Example, although photoelectric conversion elements, such as a CCD image sensor and a CMOS image sensor, were illustrated as a semiconductor element, not only this but it was comprised so that a signal might be output when light-receiving another semiconductor element or light. Of course, the present invention can also be applied to a photoelectric conversion element.

従来の半導体装置の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the conventional semiconductor device. 実施例1による半導体装置の構造を示す図である。1 is a diagram illustrating a structure of a semiconductor device according to Example 1. FIG. 実施例1による半導体装置の通気孔を閉塞した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which block | closed the air vent of the semiconductor device by Example 1. FIG. 図2の半導体装置の実装の一例である。It is an example of mounting of the semiconductor device of FIG. 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その1)である。FIG. 3 is a diagram (part 1) illustrating a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その2)である。FIG. 3 is a diagram (No. 2) illustrating a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その3)である。FIG. 3 is a diagram (No. 3) illustrating a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その4)である。FIG. 4 is a diagram (No. 4) illustrating a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その5)である。FIG. 5 is a view (No. 5) showing a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その6)である。FIG. 6 is a view (No. 6) showing a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 図2の半導体装置の製造方法を示す図(その7)である。FIG. 7 is a view (No. 7) showing a method for manufacturing the semiconductor device of FIG. 2; 実施例2による半導体装置を示す縦断面図である。6 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to Example 2. FIG. 実施例3による半導体装置を示す縦断面図である。7 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to Example 3. FIG. 実施例4による半導体装置を示す縦断面図である。6 is a longitudinal sectional view showing a semiconductor device according to Example 4. FIG. 実施例4による半導体装置を示す平面図である。6 is a plan view showing a semiconductor device according to Example 4. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 半導体装置
11 基板
12 半導体素子
13 内部空間
14,26 接着剤
21 封止構造体
22 構造体本体
22A レンズ取付部
22B 下部周縁部
22C 段部
22D 肉厚部
23 集光手段
23A レンズ部
23B 取り付け部
25 通気孔
25a 一端
25b 他端
31 保持容器
31A 接地部
32 基板
33 ピン
40 マザーボード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor device 11 Board | substrate 12 Semiconductor element 13 Internal space 14,26 Adhesive 21 Sealing structure 22 Structure main body 22A Lens attachment part 22B Lower peripheral part 22C Step part 22D Thick part 23 Condensing means 23A Lens part 23B Attachment part 25 Vent 25a One end 25b The other end 31 Holding container 31A Grounding part 32 Substrate 33 Pin 40 Motherboard

Claims (10)

半導体素子が設置された基板と、
前記半導体素子を覆うように前記基板に接着剤により接合される封止構造体と、
前記封止構造体に設けられた通気孔と、を有する半導体装置であって、
前記通気孔の一端を前記封止構造体の外側に開口し、前記通気孔の他端を前記基板近傍で開口するように前記封止構造体の内側に延在形成することを特徴とする半導体装置。
A substrate on which a semiconductor element is installed;
A sealing structure bonded to the substrate by an adhesive so as to cover the semiconductor element;
A semiconductor device having a vent hole provided in the sealing structure,
One end of the vent hole is opened outside the sealing structure, and the other end of the vent hole is formed to extend inside the sealing structure so as to open near the substrate. apparatus.
前記通気孔は、前記一端の開口を前記他端の開口よりも大きくすることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the vent hole has an opening at the one end larger than an opening at the other end. 前記通気孔は、前記一端の内径が前記他端の内径よりも大径となるようテーパ状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the vent hole is formed in a tapered shape so that an inner diameter of the one end is larger than an inner diameter of the other end. 前記通気孔は、前記一端の開口が前記他端の開口よりも大径となるよう異なる内径の孔を連通することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the vent hole communicates a hole having a different inner diameter so that the opening at the one end has a larger diameter than the opening at the other end. 前記通気孔は、前記一端の開口が拡径されるテーパ状に形成され、前記他端の開口が前記一端よりも小径に形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the vent hole is formed in a tapered shape in which the opening at the one end is enlarged in diameter, and the opening at the other end is formed in a smaller diameter than the one end. 前記半導体素子は光電変換素子であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor element is a photoelectric conversion element. 前記封止構造体は、前記光電変換素子に入射光を集光するための集光手段を有することを特徴とする請求項6記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 6, wherein the sealing structure includes a condensing unit for condensing incident light on the photoelectric conversion element. 前記構造体本体は、導電材料を含み、当該構造体本体が前記半導体素子の電磁シールドとして機能することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the structure body includes a conductive material, and the structure body functions as an electromagnetic shield of the semiconductor element. 基板上に半導体素子を設置する工程と、
前記半導体素子を封止する封止構造体に通気孔を形成し、前記通気孔の一端を前記封止構造体の外側に開口し、前記通気孔の他端を前記基板近傍に前記封止構造体の内側に延在形成する工程と、
前記封止構造体の縁部を接着剤により前記基板上に接着する工程と、
前記接着剤を加熱して硬化させると共に、前記封止構造体の内部に形成された内部空間の気体を前記封止構造体に設けられた通気孔より排出させる工程と、
前記通気孔の一端開口に接着剤を滴下して前記通気孔を閉塞する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Installing a semiconductor element on a substrate;
A vent is formed in a sealing structure that seals the semiconductor element, one end of the vent is opened to the outside of the sealing structure, and the other end of the vent is near the substrate. Extending to the inside of the body,
Bonding the edge of the sealing structure onto the substrate with an adhesive;
Heating and curing the adhesive, and discharging the gas in the internal space formed inside the sealing structure from a vent provided in the sealing structure;
A step of dripping an adhesive into one end opening of the vent hole to close the vent hole;
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
前記半導体素子は光電変換素子であり、
前記封止構造体は、前記光電変換素子に入射光を供給するための集光手段を有することを特徴とする請求項9記載の半導体装置の製造方法。
The semiconductor element is a photoelectric conversion element,
The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 9, wherein the sealing structure includes a light collecting unit for supplying incident light to the photoelectric conversion element.
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