JP2007324487A - ビーム処理装置及びビーム処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ビーム処理装置は、複数のウェハ110を回転ディスク100上に装着してディスク軸を中心に回転ディスクを回転させるよう構成するとともに、回転ディスクをディスク軸と直交する方向に往復運動させるよう構成し、ウェハに対し、回転ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせることにより、ビームを照射する。回転ディスクは、内側オーバースキャン位置と外側オーバースキャン位置との間で往復スキャンするよう構成されている。ビーム処理装置は制御手段を備え、この制御手段は、回転ディスクの単位時間当たりの回転数と、往復スキャンのスキャン速度及び往復スキャン回数と、ビームの計測ビーム幅の測定値もしくはビームのビーム幅の既定値とに基づいて、ビームサイズにかかわらず、ウェハに対し必ずビームが重ね照射されるように制御する機能を持つ。
【選択図】 図1
Description
3.Yスキャンの反転開始タイミングの制御方法としては以下の2通りある。
回転ディスク回転数:150〜800RPM
Yスキャン回数:1〜100往復回
Yスキャン速度:0.1〜10cm/sec
計測ビーム幅:1〜100mm
回転ディスク100の回転数が400rpm以下の場合、以下の式に基づく不均一性のリスク低減判断指数を目安として用いる。つまり、不均一性のリスク低減判断指数と均一性測定値により、「目標均一性%」の目安とする。
(ビームサイズ/スキャンピッチ)×√Yスキャン回数
更に、本発明は以下のような態様で実施されても良い。
回転ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、ウェハに対し毎回必ずビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を受けるように、回転ディスクの一回転の所要時間に進むYスキャンの距離がビームの計測ビーム幅の測定値もしくはビームのビーム幅の既定値より小さくなるようYスキャンのスキャン速度を設定して、Yスキャン回数を決定したあとに、Yスキャンの反転開始タイミングを設定する制御手段を備えるビーム処理装置。
回転ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、ウェハに対しビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のあるビーム照射を全スキャン往復回数の結果として必ず受けるように、回転ディスクの一回転の所要時間に進むYスキャンの距離がビームの計測ビーム幅の設定値もしくはビームのビーム幅の既定値より大きくなるようYスキャンのYスキャン速度を設定して、Yスキャン回数を選択したあとに、Yスキャンの反転開始タイミングを設定する制御手段を備えるビーム処理装置。
回転ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、ウェハに対し毎回必ずビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を受けるように、回転ディスクの一回転の所要時間に進むYスキャンの距離がビームの計測ビーム幅の測定値もしくはビームのビーム幅の既定値より小さくなるようYスキャンのYスキャン速度を設定して、Yスキャン回数を決定したあとに、Yスキャンの反転開始タイミングを設定するビーム処理方法。
回転ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のあるビーム照射を全スキャン往復回数の結果として必ず受けるように、回転ディスクの一回転の所要時間に進むYスキャンの距離がビームの計測ビーム幅の設定値もしくはビームのビーム幅の既定値より大きくなるようYスキャンのYスキャン速度を設定して、Yスキャン回数を選択したあとに、Yスキャンの反転開始タイミングを設定するビーム処理方法。
101 初期位置検出部
110 ウェハ
120 ビーム
Claims (26)
- 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理装置において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数と、前記往復スキャンのスキャン速度および往復スキャン回数と、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングと、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値と、に基づいて、
前記被処理物に対して連続又は不連続に前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を必ず受けるよう制御する制御手段を備えたことを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理装置。 - 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値と処理ビームの断面上のスキャン方向上の一端位置および他端位置とを測定することにより設定することを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 要求総ビーム照射量に応じて、前記往復スキャンのスキャン速度および往復スキャン回数を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載のビーム処理装置。
- 前記制御手段は、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、スキャン毎に規則的に遅らせることにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 前記ディスクの近傍には前記ディスクの所定位置に設けられた初期位置検出部を前記ディスクの回転中に検出して検出信号を出力するための検出手段を備え、
前記制御手段は前記検出信号を基準として前記反転開始タイミングを遅らせることを特徴とする請求項4に記載のビーム処理装置。 - 前記制御手段は、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、スキャン毎に前記ディスクの回転周期Tを往復スキャン回数N(但し、前記ディスクの一回の往復スキャンを一往復スキャンとする)に基づいて設定される値Nxで割った遅延時間(T/Nx)ずつ遅らせることにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 前記ディスクの近傍には前記ディスクの所定位置に設けられた初期位置検出部を前記ディスクの回転中に検出して検出信号を出力するための検出手段を備え、
前記制御手段は前記検出信号を基準として前記反転開始タイミングを遅らせることを特徴とする請求項6に記載のビーム処理装置。 - 前記往復スキャン回数Nが大きい場合には、往復スキャン回数がNに近づくにつれて前記Nxが段階的に大きくなるように設定されることを特徴とする請求項6又は7に記載のビーム処理装置。
- 前記制御手段は、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、乱数に基づいてランダムに制御することにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 前記制御手段は、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、プログラム化された前記ディスクの回転数と前記往復スキャン回数と前記スキャン速度及び計測ビーム幅により、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 前記制御手段は、前記ディスクの回転数と前記往復スキャン回数との関係をあらかじめテーブルデータとして保持しており、該テーブルデータに基づいて前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを制御することにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のビーム処理装置。
- 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理方法において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数と、前記往復スキャンのスキャン速度および往復スキャン回数と、前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングと、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値と、に基づいて、
前記被処理物に対して連続又は不連続に前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を必ず受けるようにすることを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理方法。 - 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値と処理ビームの断面上のスキャン方向上の一端位置および他端位置とを測定することにより設定することを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 要求総ビーム照射量に応じて、前記往復スキャンのスキャン速度および往復スキャン回数を決定することを特徴とする請求項12又は13に記載のビーム処理方法。
- 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、スキャン毎に規則的に遅らせることにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分以上重なり領域が確保されることを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 前記反転開始タイミングを遅らせる基準として、前記ディスクの所定位置に設けられた初期位置検出部を前記ディスクの回転中に検出して得られる検出信号を用いることを特徴とする請求項15に記載のビーム処理方法。
- 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、スキャン毎に前記ディスクの回転周期Tを往復スキャン回数N(但し、前記ディスクの一回の往復スキャンを一往復スキャンとする)に基づいて設定される値Nxで割った遅延時間(T/Nx)ずつ遅らせることにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されることを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 前記反転開始タイミングを遅らせる基準として、前記ディスクの所定位置に設けられた初期位置検出部を前記ディスクの回転中に検出して得られる検出信号を用いることを特徴とする請求項17に記載のビーム処理方法。
- 前記往復スキャン回数Nが大きい場合には、往復スキャン回数がNに近づくにつれて前記Nxが段階的に大きくなるように設定することを特徴とする請求項17又は18に記載のビーム処理方法。
- 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、乱数に基づいてランダムに制御することにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されることを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを、プログラム化された前記ディスクの回転数と前記往復スキャン回数と前記スキャン速度及び計測ビーム幅との関係に基づいて制御することにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されることを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 前記ディスクの回転数と前記往復スキャン回数との関係をあらかじめテーブルデータとして用意し、該テーブルデータに基づいて前記内側オーバースキャン位置と前記外側オーバースキャン位置のうち少なくとも一方の位置での前記ディスクの反転開始タイミングを制御することにより、前記各被処理物に対するビーム照射領域に少なくとも半分の重なり領域が確保されることを特徴とする請求項12に記載のビーム処理方法。
- 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理装置において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、
前記被処理物に対し毎回必ず前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を受けるように、前記ディスクの一回転の所要時間に進む往復スキャンの距離が前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値より小さくなるよう前記往復スキャンのスキャン速度を設定して、往復スキャン回数を決定したあとに、往復スキャンの反転開始タイミングを設定する制御手段を備えたことを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理装置。 - 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理装置において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、
前記被処理物に対し前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のあるビーム照射を全スキャン往復回数の結果として必ず受けるように、前記ディスクの一回転の所要時間に進む往復スキャンの距離が処理ビームの計測ビーム幅の設定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値より大きくなるよう前記往復スキャンのスキャン速度を設定して、往復スキャン回数を選択したあとに、往復スキャンの反転開始タイミングを設定する制御手段を備えたことを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理装置。 - 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理方法において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、
前記被処理物に対し毎回必ず前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のある照射を受けるように、前記ディスクの一回転の所要時間に進む往復スキャンの距離が処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値より小さくなるよう前記往復スキャンのスキャン速度を設定して、往復スキャン回数を決定したあとに、往復スキャンの反転開始タイミングを設定することを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理方法。 - 複数の被処理物をディスクの同一円周上に装着してディスク軸を中心に該ディスクを回転させるよう構成するとともに、該回転しているディスクを前記ディスク軸と直交する方向に一定の区間内を往復運動させるよう構成して、前記複数の被処理物に対し、該ディスクの回転と往復運動とを同時に行わせる回転スキャンにより、処理ビームを複数の被処理物に均一に照射するビーム処理方法において、
前記ディスクは、前記処理ビームの照射が該ディスクの内側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる内側オーバースキャン位置と、前記処理ビームの照射が該ディスクの外側寄りにおいて前記被処理物の通過領域から外れる外側オーバースキャン位置とを、前記処理ビームの計測ビーム幅の測定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値に応じて設定し、処理ビームの一端位置となる内側オーバースキャン位置と処理ビームの他端位置となる外側オーバースキャン位置との設定したスキャン区間で往復スキャンするよう構成され、
前記ディスクの単位時間当たりの回転数の選択設定に基づいて、
前記処理ビームの以前の照射に対して少なくとも半分以上の重なり領域のあるビーム照射を全スキャン往復回数の結果として必ず受けるように、前記ディスクの一回転の所要時間に進む往復スキャンの距離が処理ビームの計測ビーム幅の設定値もしくは前記処理ビームのビーム幅の既定値より大きくなるよう前記往復スキャンのスキャン速度を設定して、往復スキャン回数を選択したあとに、往復スキャンの反転開始タイミングを設定することを特徴とするディスク回転とディスクの往復スキャンによるビーム処理方法。
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