JP2007324348A - Aligner - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、露光装置に関し、より詳細には、半導体や、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly to an exposure apparatus used when manufacturing a large flat panel display such as a semiconductor, a liquid crystal display panel, or a plasma display.
従来の露光装置としては、マスク(レチクル)と基板(ウェハ)を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光(電子線)を照射し、これにより、基板にマスクパターンを露光転写する装置が知られている(例えば、特許文献1及び2参照。)。 As a conventional exposure apparatus, light (electron beam) for pattern exposure is irradiated through a mask in a state where a mask (reticle) and a substrate (wafer) are brought close to each other, thereby exposing and transferring the mask pattern onto the substrate. An apparatus is known (for example, refer to Patent Documents 1 and 2).
特許文献1に記載の露光装置は、マスクが配置される2つの枠体と、2つの枠体のそれぞれに対応して基板が載置される2つの基板ステージと、2つの基板ステージにそれぞれ対応して配置された2つのアライメント機構と、を備え、それぞれの枠体と基板ステージとを組み合わせた状態で、交互に露光位置に移動させて露光転写するステージ移動機構が知られている。これにより、ステージ移動機構は、2つの基板ステージでアライメントと露光とを同時に行って、タクトタイムの短縮を図っている。 The exposure apparatus described in Patent Document 1 corresponds to each of two frames on which a mask is arranged, two substrate stages on which a substrate is placed corresponding to each of the two frames, and two substrate stages. There is known a stage moving mechanism that includes two alignment mechanisms arranged in this manner, and in which the frame bodies and the substrate stage are combined and moved to an exposure position and exposed and transferred alternately. As a result, the stage moving mechanism simultaneously performs alignment and exposure on the two substrate stages to shorten the tact time.
また、特許文献2に記載の露光装置は、2軸ステージのスライダに制振用アクチュエータ及び制振マスを配設してステージの振動を低減させ、これによりステージの整定時間を短縮して位置決め精度の向上を図っている。
ところで、特許文献1に記載の露光装置では、2つの基板ステージを利用することで基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出を同時に行ってタクトタイムの短縮を図っているが、基板の搬入出時に発生する振動について考慮されておらず、この振動が露光精度に影響を及ぼす可能性があり、更なる改善の余地があった。 By the way, in the exposure apparatus described in Patent Document 1, the tact time is reduced by simultaneously performing exposure transfer of the substrate and loading and unloading of the substrate to and from the substrate stage by using two substrate stages. The vibration generated during loading / unloading is not taken into consideration, and this vibration may affect the exposure accuracy, and there is room for further improvement.
また、特許文献2に記載の露光装置は、1台の基板ステージにおける残留振動を低減し、ステージの整定時間の短縮を図っているが、基板の搬入出時に発生する振動について考慮されておらず、2つの基板ステージの利用についても記載がない。
In addition, the exposure apparatus described in
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and its purpose is to simultaneously perform exposure transfer of a substrate and loading of a substrate onto a substrate stage, thereby reducing tact time and occurring at the time of substrate loading. It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that can perform exposure transfer with high accuracy by eliminating the influence of vibrations on exposure accuracy.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
メインベッドの側方に配置される第1サブベッド及び第2サブベッドと、
メインベッドと第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、
メインベッドと第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、
メインベッド上に位置する第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
を備える露光装置であって、
第1及び第2サブベッドは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) a mask stage for holding a mask;
A main bed located below the mask stage;
A first sub-bed and a second sub-bed disposed on the side of the main bed;
A first substrate stage movable between the main bed and the first sub-bed;
A second substrate stage movable between the main bed and the second sub-bed;
An irradiation apparatus for irradiating the substrate held on the first and second substrate stages located on the main bed with light for pattern exposure through a mask;
An exposure apparatus comprising:
Each of the first and second sub-beds includes an active damping device having a vibration detector that detects vibration and a vibrator that oscillates vibration having a phase opposite to that of the vibration detected by the vibration detector. Exposure equipment to do.
(2) マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置する露光位置と第1待機位置間で移動可能な第1基板ステージと、
露光位置と第2待機位置間で移動可能な第2基板ステージと、
露光位置に移動した第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
第1待機位置に位置する第1基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第1基板ローダと、
第2待機位置に位置する第2基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第2基板ローダと、
を備える露光装置であって、
第1及び第2基板ローダは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
(2) a mask stage for holding a mask;
A first substrate stage movable between an exposure position located below the mask stage and a first standby position;
A second substrate stage movable between an exposure position and a second standby position;
An irradiation device that irradiates the substrate held by the first and second substrate stages moved to the exposure position with light for pattern exposure through a mask;
A first substrate loader for loading and unloading a substrate with respect to a first substrate stage located at a first standby position;
A second substrate loader for loading and unloading the substrate with respect to the second substrate stage located at the second standby position;
An exposure apparatus comprising:
Each of the first and second substrate loaders includes an active damping device having a vibration detector that detects vibration and a vibrator that oscillates vibration having a phase opposite to that of the vibration detected by the vibration detector. An exposure apparatus.
(3) マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置する露光位置と待機位置間で移動可能な基板ステージと、
露光位置に移動した基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
待機位置に位置する基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する基板ローダと、
を備える露光装置であって、
マスクステージ、基板ステージ、基板ローダは、基台によって支持されており、該基台は、除振装置を介して床面上に配置されていることを特徴とする露光装置。
(3) a mask stage for holding a mask;
A substrate stage movable between an exposure position below the mask stage and a standby position;
An irradiation device that irradiates the substrate held by the substrate stage moved to the exposure position with light for pattern exposure through a mask;
A substrate loader for loading and unloading the substrate with respect to the substrate stage located at the standby position;
An exposure apparatus comprising:
An exposure apparatus, wherein a mask stage, a substrate stage, and a substrate loader are supported by a base, and the base is disposed on a floor surface via a vibration isolation device.
本発明の露光装置によれば、マスクステージの下方に位置するメインベッドとその側方に配置される第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、メインベッドとその側方に配置される第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、を備えることで、基板の露光転写と第1及び第2基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ることができ、また、第1及び第2サブベッドは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えるので、第1及び第2基板ステージに基板を搬入出する際に第1及び第2サブベッド上で生じる振動が露光時のメインベッドに伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクのマスクパターンを高精度で基板に露光転写することができる。 According to the exposure apparatus of the present invention, the first substrate stage movable between the main bed located below the mask stage and the first sub-bed arranged on the side thereof, and the main bed and the side thereof are arranged. By providing the second substrate stage movable between the second sub-beds, the exposure transfer of the substrate and the loading and unloading of the substrate to and from the first and second substrate stages are performed at the same time, and the tact time is shortened. And the first and second sub-beds each have an active vibration control device having a vibration detector that detects vibration and a vibration exciter that oscillates in a phase opposite to that detected by the vibration detector. Thus, it is possible to prevent the vibration generated on the first and second subbeds from being transferred to the main bed during exposure when the substrates are carried in and out of the first and second substrate stages. Thus, the influence of vibration on the exposure accuracy can be eliminated and the mask pattern of the mask can be exposed and transferred to the substrate with high accuracy.
また、本発明の露光装置によれば、マスクステージの下方に位置する露光位置と第1待機位置間で移動可能な第1基板ステージと、露光位置と第2待機位置間で移動可能な第2基板ステージと、を備えることで、基板の露光転写と第1及び第2基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ることができ、また、第1及び第2基板ローダは、振動を検出する振動検出器と、振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えるので、第1及び第2基板ステージに基板を搬入出する際に第1及び第2基板ローダで生じる振動が露光時の基板ステージに伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクのマスクパターンを高精度で基板に露光転写することができる。 According to the exposure apparatus of the present invention, the first substrate stage movable between the exposure position located below the mask stage and the first standby position, and the second movable between the exposure position and the second standby position. The substrate stage, the exposure transfer of the substrate and the loading and unloading of the substrate to and from the first and second substrate stages can be performed simultaneously, and the tact time can be shortened. Since the substrate loader includes active vibration control devices each including a vibration detector that detects vibration and a vibration generator that oscillates vibration in the opposite phase to the vibration detected by the vibration detector, the first and second substrates are provided. It is possible to prevent vibration generated by the first and second substrate loaders when the substrate is carried in and out of the stage from being transmitted to the substrate stage during exposure. Thus, the influence of vibration on the exposure accuracy can be eliminated and the mask pattern of the mask can be exposed and transferred to the substrate with high accuracy.
以下、本発明に係る露光装置の各実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of an exposure apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図、図2は図1の露光装置の要部正面図、図3は第1及び第2基板ローダの側面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view schematically showing the overall configuration of an exposure apparatus according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a front view of the main part of the exposure apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of first and second substrate loaders. It is.
図1及び図2に示すように、第1実施形態の露光装置PEは、マスクステージ10、第1ステージ11、第2基板ステージ12、照射装置13、第1基板ローダ14、第2基板ローダ15、及びマスクローダ16を備え、それぞれ基台17上に載置されている。また、基台17上には、マスクステージ10の下方に配置されるメインベッド19と、このメインベッド19の側方で、メインベッド19に対して互いに対向配置される第1及び第2サブベッド21,22とが設けられており、第1基板ステージ11は、メインベッド19及び第1サブベッド21間を、第2基板ステージ12は、メインベッド19及び第2サブベッド22間を、それぞれ移動する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the exposure apparatus PE of the first embodiment includes a
マスクステージ10は、メインベッド19に設けられた複数の支柱23によってメインベッド上に支持されている。複数の支柱23は、第1及び第2基板ステージ11,12がY方向(図1中左右方向)に移動してマスクステージ10の下方に進出可能なようにメインベッド19の上方にスペースを形成している。
The
マスクステージ10は、中央に矩形の開口25aを有して、マスクステージ10に対してX,Y,θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部25を備え、露光すべきパターンを有するマスクMがこの開口25aに臨むようにしてマスク保持部25に保持されている。また、マスクステージ10には、マスク保持部25に対するマスクMの位置を検出するマスク用アライメントカメラ(図示せず)と、マスクMと基板Wとの間のギャップを検出するギャップセンサ(図示せず)とが設けられている。
The
図2に示すように、第1及び第2基板ステージ11,12は、被露光材としての基板Wを保持する基板保持部31a,31bを上面にそれぞれ有する。また、第1及び第2基板ステージ11,12の下方には、Y軸テーブル33、Y軸送り機構34、X軸テーブル35、X軸送り機構36、及びZ−チルト調整機構37を備える基板ステージ移動機構32,32がそれぞれ設けられる。
As shown in FIG. 2, the first and
Y軸送り機構34は、リニアガイド38と送り駆動機構39とを備えて構成され、Y軸テーブル33の裏面に取り付けられたスライダ40が、転動体(図示せず)を介してメインベッド19と第1及び第2サイドベッド21,22に亘って延びる2本の案内レール41に跨架されると共に、固定子42と可動子43とを有するリニアモータによってY軸テーブル33を案内レール41に沿って駆動する。
The Y-
なお、X軸送り機構36もY軸送り機構34と同様の構成を有し、Z−チルト調整機構37は、くさび状の移動体と送り駆動機構とを組み合わせてなる可動くさび機構によって構成される。なお、送り駆動機構は、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよく、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよい。
The
これにより、各基板ステージ移動機構32,32は、第1及び第2基板ステージ11,12をX方向及びY方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの間の隙間を微調整するように、第1及び第2基板ステージ11,12をZ軸方向に微動且つチルトする。
Thereby, the substrate
また、第1及び第2基板ステージ11,12には、各基板保持部31a,31bのX方向側部とY方向側部にそれぞれバーミラー61,62が取り付けられている。また、第1サブベッド21及び第2サブベッド22のY軸方向の両側端と、メインベッド19のX軸方向の一側には、3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第1及び第2ステージ11,12の位置を検出する。
Further, on the first and second substrate stages 11 and 12, bar mirrors 61 and 62 are respectively attached to the X direction side portion and the Y direction side portion of each
図2に示すように、照明装置13はマスク保持部25の開口25a上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照明装置13は、露光位置EP、即ち、メインベッド19上に移動した第1及び第2基板ステージ11,12の基板保持部31a,31bに保持された基板Wに、パターン露光用の光をマスクMを介して照射する。これにより、基板Wには、マスクMのマスクパターンPが露光転写される。
As shown in FIG. 2, the
また、第1基板ローダ14、及び第2基板ローダ15は、図示しない基板カセットと、第1サブベッド21上に位置する第1基板ステージ11、及び第2サブベッド22上に位置する第2基板ステージ12との間で、基板Wの搬入・搬出を行い、マスクローダ17は、図示しないマスクカセットとマスクステージ10との間で、マスクMの搬入・搬出を行う。
The
図3に示すように、第1及び第2基板ローダ14,15は、基台21上のコラム支持台80に立設されたコラム81に複数の搬送部82,83が揺動自在に配置されるローダロボットである。複数の搬送部82,83は、昇降機構(図示せず)によってコラム81に沿って上下移動すると共に、それぞれサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される。各搬送部82,83は、第1及び第2アーム84,85と、第1アーム84の先端に、複数の棒状部材86が平行して植設された基板載置台87とを有する。そして、それぞれのサーボモータを制御して作動させることにより、基板載置台87を昇降、回転、及び移動させて、基板載置台87上の基板Wを搬送する。なお、マスクローダ17も、第1及び第2基板ローダ14,15と同様の構成を有する。
As shown in FIG. 3, the first and
ここで、第1及び第2サブベッド21,22は、振動を検出する振動検出器51と、該振動検出器51により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器52とを有するアクティブ制振装置53,54をそれぞれ備える。アクティブ制振装置53,54は、第1及び第2サブベッド21,22内のメインベッド19寄りの位置に設けられており、振動検出器51によって検出された検出信号が図示しない制御装置に送られ、加振器52が制御装置からの指令に基づいて、検出された振動と逆位相の振動を発振する。これにより、第1及び第2サブベッド21,22に生じた振動が加振器52によって生じた振動によって相殺され、第1及び第2サブベッド21,22からメインベッド19に伝達される振動が低減される。
Here, the first and second sub-beds 21 and 22 are active having a
また、第1及び第2基板ローダ14,15も、振動を検出する振動検出器55と、該振動検出器55により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器56とを有するアクティブ制振装置57,58をそれぞれ備える。アクティブ制振装置57,58は、基台17上でコラム81を支持するコラム支持台80内に設けられており、振動検出器55によって検出された検出信号が図示しない制御装置に送られ、加振器56が制御装置からの指令に基づいて、検出された振動と逆位相の振動を発振する。これにより、第1及び第2基板ローダ14,15に生じた振動が加振器56によって生じた振動によって相殺され、第1及び第2基板ローダ14,15から基台17を介してメインベッド19に伝達される振動が低減される。
The first and
本実施形態の露光装置PEでは、第1及び第2基板ステージ11,12の基板ステージ移動機構32によって、第1基板ステージ11は、露光位置EPと第1待機位置WP1との間、第2基板ステージ12は、露光位置EPと第2待機位置WP2との間で互いに連動する。そして、第1基板ステージ11が露光位置EP(図2の鎖線位置)、第2基板ステージ12が第2待機位置WP2(図2の実線位置)に位置する際には、第1基板ステージ11に保持された基板WにマスクMのマスクパターンPが露光転写され、第2基板ステージ12では、第2基板ローダ15による基板Wの入れ替え作業、即ち、露光後の基板Wの基板カセットへの搬出と基板カセットから基板保持器31bへの基板Wの搬入が同時に行われる。
In the exposure apparatus PE of the present embodiment, the
ここで、入れ替え作業中の第2基板ステージ12では、第2サブベッド22に振動が生じると、アクティブ制振装置54の振動検出器51が第2サブベッド22に生じた振動を検出して制御装置に検出信号を送信する。そして、加振器52が、制御装置からの指令に基づいて振動検出器51により検出された振動と逆位相の振動を発生させ、第2サブベッド22の振動を相殺する。これにより、第2サブベッド22の振動が除振され、第2サブベッド22に生じた振動がメインベッド19に伝達されることがなくなり、第1基板ステージ11上で露光中の基板Wに影響を及ぼすことがない。
Here, in the
さらに、入れ替え作業中、第2基板ローダ15が駆動することで第2基板ローダ15に振動が生じた場合には、アクティブ除振装置58の振動検出器55が第2基板ローダ15に発生した振動を検出して制御装置に検出信号を送信し、加振器56が、制御装置からの指令に基づいて振動検出器55により検出された振動と逆位相の振動を発生させ、第2基板ローダ15の振動を相殺する。これにより、第2基板ローダ15の振動が除振され、第2基板ローダ15に生じた振動が基台21を介してメインベッド19に伝達されることがなくなり、第1基板ステージ11上で露光中の基板Wに影響を及ぼすことがない。
Further, during the replacement work, when the
また、第2基板ステージ12が露光位置EP(図2の鎖線位置)、第1基板ステージ11が第1待機位置WP1(図2の実線位置)に位置する際には、第2基板ステージ12に保持された基板WにマスクMのマスクパターンPが露光転写され、第1基板ステージ11では、第1基板ローダ14による基板Wの入れ替え作業、即ち、露光後の基板Wの基板カセットへの搬出と基板カセットから基板保持器31aへの基板Wの搬入が同時に行われる。
Further, when the
この場合にも、入れ替え作業中の第1基板ステージ11では、アクティブ制振装置53が上述したアクティブ制振装置54と同様に、第1サブベッド21の振動を除振し、また、第1基板ローダ14内に配置されたアクティブ制振装置57も、上述したアクティブ制振装置58と同様に、第1基板ローダ14が駆動することで生じた振動を除振する。これにより、第1サブベッド21や第1基板ローダ14に生じた振動がメインベッド19に伝達されることがなくなり、第2基板ステージ12上で露光中の基板Wに影響を及ぼすことがない。
Also in this case, in the
上記したように、本実施形態の露光装置PEによれば、マスクステージ10の下方に位置するメインベッド19(露光位置EP)とその側方に配置される第1サブベッド21(第1待機位置WP1)間で移動可能な第1基板ステージ11と、メインベッド19(露光位置)とその側方に配置される第2サブベッド22(第2待機位置WP2)間で移動可能な第2基板ステージ12と、を備えることで、基板Wの露光転写と第1及び第2基板ステージ11,12への基板Wの搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ることができる。
As described above, according to the exposure apparatus PE of the present embodiment, the main bed 19 (exposure position EP) located below the
また、第1及び第2サブベッド21,22は、振動を検出する振動検出器51と、振動検出器51により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器52とを有するアクティブ制振装置53,54をそれぞれ備えるので、第1及び第2基板ステージ11,12に基板Wを搬入出する際に第1及び第2サブベッド21,22上で生じる振動が露光時のメインベッド19に伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクMのマスクパターンPを高精度で基板Wに露光転写することができる。
The first and second sub-beds 21 and 22 also have an active vibration suppression device including a
さらに、第1及び第2基板ローダ14,15も、振動を検出する振動検出器55と、振動検出器55により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器56とを有するアクティブ制振装置57,58をそれぞれ備えるので、第1及び第2基板ステージ11,12に基板Wを搬入出する際に第1及び第2基板ローダ14,15で生じる振動がメインベッド19を介して露光時の第1及び第2基板ステージ11,12に伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクMのマスクパターンPを高精度で基板Wに露光転写することができる。
Further, the first and
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態である露光装置について図4及び図5を参照して詳細に説明する。なお、第2実施形態は、基台17と床面FLとの間に除振装置90を配置した点を特徴としている。このため、第1実施形態と同等部分については、同一符号を付して説明を省略或は簡略化する。また、第1実施形態のアクティブ制振装置53,54,57,58については図示されていないが、本実施形態と組み合わせても適用可能である。
(Second Embodiment)
Next, an exposure apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. The second embodiment is characterized in that a
図5に示すように、基台17は、コンクリート定盤によって形成されており、図示しない基板カセットやマスクカセットを含む、上述した露光装置PEの構成部品を支持している。
As shown in FIG. 5, the
そして、図4及び図5に示すように、この基台17と床面FLとの間には、除振装置90である空気ばねシステムが複数配置されており、基台17は、床面FLより上方に位置するスラブ床91と略同じ高さに配置されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, a plurality of air spring systems, which are
なお、空気ばねシステムは、ゴム膜の中に圧縮空気を封入して空気の弾性を利用したばねであり、ベローズ型、ダイヤフラム型、ローリングシール型等が知られている。空気ばねは、構造が柔軟で、軸方向だけでなく、横方向、回転方向の振動を絶縁可能である。 The air spring system is a spring that utilizes the elasticity of air by enclosing compressed air in a rubber film, and a bellows type, a diaphragm type, a rolling seal type, and the like are known. The air spring has a flexible structure and can insulate vibrations not only in the axial direction but also in the lateral and rotational directions.
従って、本実施形態によれば、露光装置PEの構成部品を支持する基台17と、床面FLとの間に除振装置90が配置されているので、露光装置PEとコンクリート底盤からなる基台17とを床面FLから浮上させ、周辺から発生するさまざまな振動を除振することができ、例えば、第1及び第2基板ステージ11,12に基板Wを搬入出する際に第1及び第2サブベッド21,22や第1及び第2基板ローダ14,15等の各種構成部品で生じる振動が床面FLから露光時の第1及び第2基板ステージ11,12に伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクMのマスクパターンPを高精度で基板Wに露光転写することができる。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。また、本実施形態の除振装置90は、二つの基板ステージを備えて露光作業と入れ替え作業が同時に行える露光装置の他に、一つの基板ステージで露光作業と入れ替え作業が交互に行われる露光装置にも適用可能である。
Therefore, according to the present embodiment, since the
Other configurations and operations are the same as those in the first embodiment. Further, the
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が可能である。
第1実施形態では、アクティブ制振装置53,54の振動検出器51は、加振器52に隣接して配置されているが、第1及び第2サブベッド21,22の任意の位置に配置されればよく、内蔵型でなくてもよい。また、加振器52も第1及び第2サブベッド21,22の内部に効率的に加振できる位置に配置されればよい。
In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
In the first embodiment, the
さらに、アクティブ制振装置57,58の振動検出器55も、第1及び第2基板ローダ14,15の任意の位置に配置されればよく、内蔵型でなくてもよい。加振器56も第1及び第2基板ローダ14,15の内部に効率的に加振できる位置に配置されればよい。
Furthermore, the
10 マスクステージ
11 第1基板ステージ
12 第2基板ステージ
13 照射装置
19 メインベッド
21 第1サブベッド
22 第2サブベッド
51,55 振動検出器
52,56 加振器
53,54,57,58 アクティブ制振装置
90 除振装置
M マスク
PE 露光装置
W 基板
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
前記メインベッドの側方に配置される第1サブベッド及び第2サブベッドと、
前記メインベッドと前記第1サブベッド間で移動可能な第1基板ステージと、
前記メインベッドと前記第2サブベッド間で移動可能な第2基板ステージと、
前記メインベッド上に位置する前記第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
を備える露光装置であって、
前記第1及び第2サブベッドは、振動を検出する振動検出器と、該振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。 A mask stage for holding the mask;
A main bed located below the mask stage;
A first subbed and a second subbed disposed on a side of the main bed;
A first substrate stage movable between the main bed and the first sub-bed;
A second substrate stage movable between the main bed and the second sub-bed;
An irradiation device for irradiating the substrate held on the first and second substrate stages located on the main bed with light for pattern exposure through the mask;
An exposure apparatus comprising:
Each of the first and second sub-beds includes an active vibration suppression device having a vibration detector that detects vibration and a vibration generator that oscillates vibration having a phase opposite to that of the vibration detected by the vibration detector. A featured exposure apparatus.
該マスクステージの下方に位置する露光位置と第1待機位置間で移動可能な第1基板ステージと、
前記露光位置と第2待機位置間で移動可能な第2基板ステージと、
前記露光位置に移動した前記第1及び第2基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記第1待機位置に位置する前記第1基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第1基板ローダと、
前記第2待機位置に位置する前記第2基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第2基板ローダと、
を備える露光装置であって、
前記第1及び第2基板ローダは、振動を検出する振動検出器と、該振動検出器により検出された振動と逆位相の振動を発振する加振器とを有するアクティブ制振装置をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。 A mask stage for holding the mask;
A first substrate stage movable between an exposure position below the mask stage and a first standby position;
A second substrate stage movable between the exposure position and a second standby position;
An irradiation device that irradiates the substrate held by the first and second substrate stages moved to the exposure position with light for pattern exposure through the mask;
A first substrate loader for loading and unloading the substrate with respect to the first substrate stage located at the first standby position;
A second substrate loader for loading and unloading the substrate with respect to the second substrate stage located at the second standby position;
An exposure apparatus comprising:
Each of the first and second substrate loaders includes an active vibration suppression device having a vibration detector that detects vibration and a vibrator that oscillates vibration having a phase opposite to that of the vibration detected by the vibration detector. An exposure apparatus characterized by the above.
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