JP2007322335A - 検査方法および検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】予備走査を必要とせず、被検査体とプローブの衝突を回避しつつ効率のよい走査を実現する。
【解決手段】光源１０からの光を光プローブ４０に伝播させてプローブ先端部に伝播光スポットを形成し、光プローブ４０により被検査体５０の検査面を相対的に走査しつつ、プローブ先端部を検査面の表面凹凸形状に追従させ、検査面を介した検査用伝播光を検出し、その検出信号に基づいて走査の走査速度を制御しつつ、被検査体５０の検査面を検査する。
【選択図】図１

Description

この発明は、検査方法および検査装置に関する。

プローブの走査によりナノメートルオーダーの測定が実現されつつある。
例えば、電子間力顕微鏡（ＡＦＭ）や走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）、走査型近接場光顕微鏡（ＳＮＯＭ）が知られている。
ＡＦＴやＳＴＭでは被検査体の検査面の表面形状を測定対象とするが、ＳＮＯＭは検査面の表面形状のみならず、被検査体の光学特性や組成分析も行なうことができ、被検査体に関する多くの情報を得ることができる。

これらの顕微鏡では、走査の際にプローブが検査面の凹凸形状に追従して変位させられるが、コントローラやスキャンの周波数不足により追従が間に合わず、プローブと被検査体が衝突する場合がある。衝突を避けるためには、凹凸形状への追従に必要な時間を得るために走査を低速で行なう必要があるが、走査エリアが大きくなるとエリア全体を走査するのに多大な時間がかかる。

例えば、ｎｍオーダーの高精度な測定を「μｍ^２オーダーのエリア」に対して行なう場合であると、走査に数十分〜数時間を要し、この間に熱ドリフトや振動等の外乱が混入して正確な測定が行えなかったり、測定誤差が生じてしまう場合がある。

被検査体とプローブの衝突を回避しつつ走査の高速化を図る方策として、プローブ制御信号の追従誤差が所定の値よりも大きくなったときに走査速度を遅くすることが知られている（特許文献１）。

また、検査に先立って被検査体の表面凹凸形状を予備走査して記憶し、本走査時に「予備走査で得られたデータに基づき、表面凹凸形状の「起伏の激しい箇所」では走査速度を遅くし、起伏の少ない平坦な箇所では走査速度を速くすることで、プローブと被検査体との衝突を回避して本走査の時間を短縮することが知られている（特許文献２）。

特開２００１−１３３３８１ 特開２００３− １４６０５

この発明は、上述したところに鑑み、予備走査を必要とせず、被検査体とプローブの衝突を回避しつつ効率のよい走査を実現することを課題とする。

この発明の検査方法は、光源からの光を光プローブに伝播させてプローブ先端部に伝播光スポットを形成し、光プローブにより被検査体の検査面を相対的に走査しつつ、プローブ先端部を検査面の表面凹凸形状に追従させ、検査面を介した検査用伝播光を検出し、その検出信号に基づいて走査の走査速度を制御しつつ、被検査体の検査面を検査することを特徴とする（請求項１）。

このように、この発明の検査方法においては、被検査体の検査面を走査するプローブとして「光プローブ」を用いる。光プローブは「光源からの光を伝播させて先端部に伝播光スポットを形成させる機能」を有する。光プローブによる「検査面の走査」は１次元的もしくは２次元的である。

この明細書において「検査」は、被検査体の検査面の「形状測定や光学物性の測定・検査」のみならず、伝播光スポットや後述の近接場光スポットによる「検査面の加工」をも含む概念である。

光プローブは検査面を相対的に走査しつつ、検査面の表面凹凸形状に追従して変位されるので、走査に伴う光プローブ先端の「検査面に対する変位情報」により検査面の表面形状を測定することができる。光プローブによる検査面の走査は「相対的」に行なわれるので、走査は、光プローブを検査面に対して変位させて行ってもよいし、光プローブに対して被検査体を変位させて行なってもよく、光プローブと被検査体の双方を変位させて走査を行ってもよい。

伝播光スポットは光プローブのプローブ先端部に形成されるので、光プローブによる検査面の走査が行われるとき「プローブ先端部と検査面の近接部位を含む検査面領域」が伝播光スポットにより照射される。

このように検査面を照射した伝播光スポットは、被検査体を透過しあるいは検査面により反射される。このような透過光あるいは反射光が「検査面を介した検査用伝播光」であり、検査面の表面凹凸形状の情報を含んでいる。

「検査面を介した検査用伝播光」を検出することにより、伝播光スポットによる照射領域内の表面凹凸形状の情報を取得できる。伝播光スポットによる照射領域は「プローブ先端部と検査面との近接部位」に比して広い領域であり、プローブ先端部による走査は「伝播光スポットによる検査面照射により先行されている」ので、検査用伝播光の検出信号により、プローブ先端部の走査進行方向における「表面凹凸形状」における起伏の様子を知ることができる。従って、上記検出信号に応じて走査速度を制御することにより、光プローブを上記表面凹凸形状に無理なく追従させることができ、光プローブと被検査体の衝突を回避できる。

即ち、例えば、検査用伝播光の有する「表面凹凸形状の情報に対応する検出信号」に、凹凸の起伏の大小に対応させて閾値を設け、検出信号が閾値以下の部分では走査速度を高速にし、検出信号が閾値より大きい場合には走査速度を低速化する。従って、走査を効率よく行なうことができる。

請求項１記載の検査方法においては、伝播光スポットを、その光強度分布が走査方向に「より長いスポット形状」に形成することが好ましい（請求項２）。
請求項１または２記載の検査方法においては「伝播光スポットを形成する光とは異なる波長の光」を別の光源（伝播光スポット形成用の光を放射する光源とは異なる光源）から放射して光プローブに伝播させ、プローブ先端部に近接場光スポットを伝播光スポットとともに形成し「近接場光スポットと検査面との相互作用により発生する散乱光」を検査光として検出することができる（請求項３）。この請求項３記載の検査方法によれば、近接場光スポットによる被検査体の光学特性検査や組成分析、あるいは近接場光スポットによる検査面の加工を行なうこともできる。

請求項３記載の検査方法においては、伝播光スポットおよび近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を制御して、所望の偏光状態の検査伝播光および検査光として検出することが好ましい（請求項４）。この場合、伝播光スポットを発生させる光の偏光状態を直線偏光とし、近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を楕円偏光とすることが好ましい（請求項５）。このように偏光制御を行なうことにより、検査用伝播光、検査光の検出のＳＮ比を良好にできる。

上記請求項１〜５の任意の１に記載の検査方法において、検査用伝播光を検出するのに、光プローブ内部で「伝播光スポット用の光が反射された反射光」と「検査面で反射した検査用伝播光」との干渉強度により、検査面の表面凹凸形状を検出して走査速度を制御することができる（請求項６）。

この発明の検査装置は、被検査体の検査面を検査する装置であって、伝播光スポット用光源と、光プローブと、走査手段と、追従制御手段と、検査用伝播光検出手段と、走査速度制御手段とを有する（請求項７）。
「伝播光スポット用光源」は、伝播光スポット形成用の光を放射する光源である。

「光プローブ」は、伝播光スポット用光源からの光を伝播させ、プローブ先端部近傍に伝播光スポットを形成する機能を有する光プローブである。
「走査手段」は、被検査体の検査面を光プローブにより相対的に走査する手段である。

「追従制御手段」は、走査手段による走査の際に、プローブ先端部を検査面の表面凹凸形状に追従させる手段である。
「検査用伝播光検出手段」は、検査面を介した検査用伝播光を検出する手段である。
「走査速度制御手段」は、走査手段の走査速度を制御する手段であり、検査用伝播光検出手段による検出信号に基づいて走査速度を制御する。

請求項７記載の光検査装置は、光プローブが「走査方向により長い光強度分布を持つ伝播光スポット」を形成するものであることが好ましい（請求項８）。
請求項７または請求項８記載の光検査装置における光プローブは「光射出面の少なくとも一部」に遮光性の薄膜が形成されていることができる（請求項９）。

請求項７〜９の任意の１に記載の検査装置は、さらに、近接場光スポット用光源と、検査光検出手段とを有することができる。
「近接場光スポット用光源」は、伝播光スポットとは異なる波長の近接場光スポット用の光を放射する光源である。近接場光スポット用光源から放射される光は「伝播光スポット用光源から放射される光」とは異なる波長のものであり、プローブ先端部に近接場光スポットを形成する。従って光プローブは「近接場光スポットと伝播光スポットとを形成」する。

「検査光検出手段」は、近接場光スポットと検査面が相互作用することによって発生する散乱光を検査光として検出する手段である。この検査光の齎す情報により、検査面の光学特性や組成を知ることができる。また、近接場光スポットは「検査面の加工」に供することもできる。

請求項１０記載の光検査装置はまた、偏光状態制御手段を有することができる（請求項１１）。
「偏光状態制御手段」は、伝播光スポットおよび／または近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を制御する手段である。この場合、検査用伝播光検出手段および／または検査光検出手段は「所望の偏光成分」を選択して検出する。
この場合、偏光状態制御手段は「伝播光スポットを発生させる光を直線偏光、近接場光スポットを発生させる光を楕円偏光とする」ことが好ましい（請求項１２）。このように偏光制御を行なうことにより、検査用伝播光、検査光の検出のＳＮ比を良好にできる。

以上に説明したように、この発明の検査方法・検査装置によれば、被検査体の検査面に対する予備走査を必要とせず、被検査体と光プローブの衝突を回避して、効率のよい検査を実現することができる。

図１に、この発明の検査装置の実施の１形態としての走査型プローブ顕微鏡を示す。

この走査型プローブ顕微鏡は、被検査体５０の検査面５０ａの検査（形状測定）を行なうものである。被検査体５０はＺステージ９０ａ上にセットされて、検査面５０ａをＺ方向（図の上方）に向けている。
光源１０は「伝播光スポット用光源」でありレーザ光源である。光源１０から放射された光は、ビームスプリッタ６０を透過し、ミラー２０により反射され、集光レンズ３０により集光されて光プローブ４０に入射し、光プローブ４０内を伝播される。

光プローブ４０は、光ファイバの１端部を入射面とし、他端部はコアの部分が円錐面状の射出端面として突出形成されている。

図２は、光プローブ４０と被検査体５０と伝播光スポットＦＳとを説明図的に示している。

光プローブ４０に入射した光はコア部４１を伝播し、上記円錐面状の射出端面から射出して、プローブ先端部に「伝播光スポット」ＦＳを形成する。伝播光スポットＦＳの形成位置とプローブ先端部との位置関係は、光源１０から放射される光の波長、コア部４１の径・屈折率、上記円錐面状の射出端面の頂角（円錐角）：αにより変化し、射出端面の頂角：αが大きくなるにつれ、伝播光スポットＦＳの形成位置はプローブ先端部（円錐面状の射出端面の頂部）から遠ざかる。

図１に示す実施例で、例えば、光源１０からの光の波長を４０５ｎｍ、コア部４１の径：２μｍ、屈折率：１．５２とするとき、頂角：αを１００度程度とすることにより、伝播光スポットＦＳをプローブ先端部に形成できる。形成される伝播光スポットＦＳの半径は波長程度であり、従って、光プローブ４０の先端部を検査面５０ａに近接させた場合には「最近接部を含む直径：０．８〜１μｍの円形状の領域」を伝播光スポットにより照射できる。

なお、光プローブ４０先端の射出端面の「円錐面形状」は、コア部４１を石英ガラスで構成された光ファイバの端部を「フッ酸緩衝溶液によるウエットエッチングにより先鋭化する」ことにより形成でき、その際、コア部４１とクラッド部４２に対するエッチング速度の比を調整する（フッ酸緩衝溶液の濃度を調整することで調整できる。）ことにより、射出端面の頂角を制御できる。「伝播光スポット形成用の光が透過する程度以下の厚み」であれば、上記射出端面に金属遮光膜を成膜しても良い。

光プローブ４０は、水晶振動子ＴＦに接着固定されている。
水晶振動子ＴＦは、任意波形発生器ＦＧから電極７１を介して任意波形の振動を与えられるようになっており、水晶振動子ＴＦの振動は、電極７２を介して振幅検出回路７０に伝えられる。
Ｚステージコントローラ８０は、振幅検出回路７０で得られた情報をもとに「プローブ先端部４０ａと被検査体５０の検査面５０ａとの間の距離」を一定に保つように、Ｚステージ９０ａを制御し、Ｚステージ９０ａはＺステージコントローラ８０の制御を受けて上下方向（Ｚ方向）に変位して、プローブ先端部４０ａと検査面５０ａとの間の距離を一定に保つ。

被検査体５０を載置されたＺステージ９０ａはＸＹステージ９０ｂ上に載置され、Ｘ方向およびＹ方向（図１の図面に直交する方向）に変位されるようになっている。
従って、被検査体５０の検査面５０ａは、Ｚステージ９０ａによりＺ方向へ変位可能で、且つ、ＸＹステージ９０ｂによりＸＹ方向へ変位可能である。

ＸＹステージ９０ｂは、マイクロコンピュータ等で構成される制御部１２０と走査波形生成部１３０の制御を受けてＸＹ方向へ変位される。

光プローブ４０のプローブ先端部４０ａに形成された伝播光スポットＦＳが検査面５０ａを照射すると、検査面５０ａで反射された光は「検査面を介した検査用伝播光」となって光プローブ４０内を戻り、レンズ３０、ミラー２０を経てビームスプリッタ６０により反射され、光検出器１００に入射する。光検出器１００は検査用伝播光を受光すると受光信号を信号演算部１１０に向けて出力する。信号演算部１１０は信号演算の結果を「検出信号」として走査波形生成部１３０へ送る。

ＸＹステージ９０ｂにより、光プローブ４０を被検査体５０の検査面５０ａに対して走査しつつＺステージ９０ａにより光プローブ４０の先端部を検査面５０に追従させ、光プローブ４０の「ＸＹ位置とＺ方向移動量」とを関連付けて不図示のマイクロコンピュータ等に記憶することで、被検査体５０の表面形状を得ることができる。

検査面５０ａの検査は以下の如くに行われる。
図１の如くに被検査体５０をセットし、制御部１２０によりＸＹステージ９０ｂを制御駆動して、光プローブ４０のプローブ先端部が検査面５０ａに対する「走査開始位置」に対向するようにする。このとき、光プローブ４０の先端部は検査面５０ａから十分に離しておく。

この状態で、任意波形発生器ＦＧから水晶振動子ＴＦに「ｓｉｎ波電圧」を印加し、その周波数を調整して光プローブ４０をＸ方向に共振振動させる。光プローブ４０が共振振動している状態で、Ｚステージコントローラ８０によりＺステージ９０ａを制御駆動し、検査面５０ａをプローブ先端部に近づけていく。プローブ先端部と検査面５０ａ（もしくは検査面５０ａの吸着水）との距離がｎｍオーダーの大きさになると、両者間にシアフォースが「共振振動に対する抵抗力」として作用するようになり、振幅の減少や共振周波数の変化を生じる。

振幅検出器７０はこの振動状態をモニタリングし「振幅や位相遅れ量が一定となる」ように、Ｚステージコントローラ８０を介してＺステージ９０ａをＺ方向に位置制御する。

この状態で、ＸＹステージにより被検査体５０をＸＹ方向へ２次元的に変位させれば、光プローブ４０は、その先端部が検査面５０ａに対して「一定の微小間隔」を保って検査面５０ａを２次元的に走査する。光プローブ４０の先端部は検査面５０ａに対して「一定の微小間隔」を保つので、走査に伴い検査面５０ａの表面凹凸形状に追従する。

上記走査を行なうとき、光源１０を点灯し、光プローブ４０の先端部に伝播光スポットを形成し、この伝播光スポットにより検査面５０ａを照射して反射させ、検査面５０ａを介した「検査用伝播光」を光検出器１００で受光する。

そして、光検出器１００の出力により信号演算部１１０で検出信号を生成し、この検出信号により走査波形生成部１３０を介してＸＹステージ９０ｂの走査速度を制御する。

即ち、検査用伝播光により「検査面５０ａの表面凹凸形状の情報」を取得し、この情報に応じて走査速度を制御するのである。この実施の形態においては、以下の如くして「表面凹凸形状の情報」を取得する。

即ち、光源１０はレーザ光源でありレーザ光は可干渉であるので、検査面５０ａで反射した光と光プローブ４０先端の射出端面で反射した光とが光検出器１００の受光面上で干渉する。このため、光検出器１００が受光する「検査用伝播光」の強度は、干渉により変動する。この変動は、検査面５０ａでの反射光と射出端面での反射光の位相差に応じて変化し、上記位相差は「光プローブ４０先端部と検査面５０ａとの間隔」（以下「光プローブ／検査面距離」という。）に依存するため、この変動により光プローブ４０先端部と検査面５０ａとの間隔の変動を知ることができる。

図３に光プローブ／検査面距離と検出される検査用伝播光の光量との関係を示す。横軸に光プローブ／検査面距離、縦軸に検査用伝播光量をとると、検査用伝播光量の変動周期は使用する光の半波長周期となる。あらかじめ、被検査体５０の上で光プローブ４０を上下させ、そのときの光強度の変化を記録しておけば、走査中の光強度の変化により検査面５０ａの表面凹凸形状や具体的な高さも知ることができる。光プローブ／検査面距離と検査用伝播光の変化量の関係を記録しておくことで、凹凸の具体的な高さも計算できる。

以上のような構成の走査型プローブ顕微鏡を用いて、シリコン基板上に「Ａｕ薄膜のパターン」が形成された被検査体５０の検査を行なう例を、図４を参照して説明する。図４において走査は「左から右」に向かって行われ、図の右方が走査進行方向である。
図４（ａ）〜（ｄ）において、破線Ｌ，Ｍ，Ｎはそれぞれ「走査方向における同一走査位置」に対応している。

図４（ａ）は、被検査体５０を基板厚み方向に直交する方向から見た図であり、検査面５１の表面凹凸形状を示している。符号５１ａ、５１ｂで示す検査面部分はどちらも平坦であるが、破線Ｍで示す部分を境界として「検査面部分５１ｂが検査面部分５１ａに対して段差をなして高く」なっている。検査面部分５１ｂの部分は「Ａｕ薄膜パターンが形成された部分」であり、検査面部分５１ａに比して反射率が高い。

図４（ｂ）は、被検査体５０を基板の厚み方向から見た図である。斜線部分が検査面部分５１ｂである。検査時には、被検査体５０上の形状検査点ＰＴ（光プローブ４０の先端部４０ａの直下に位置し、直径：５０ｎｍである。）を中心に、伝播光スポットＦＳが円形状に形成される。光プローブ４０の検査面５１への追従制御は、形状検査点ＰＴが検査面に「一定の微小間隔を保って検査面５１に追従する」ように行われる。

図４に示す例における検査の過程を、図９のフローチャートを参照しながら説明する。 検査開始直後は、安全のため低速モードで走査する。
走査に対してサンプリングポイント（検査点）が設定され、走査に伴い順次にサンプリングポイントを通過し、サンプリングポイントごとに検査用伝播光量が検出される。

新たなサンプリングポイントで検出された検査用伝播光量が直前のサンプリングポイントにおけるシステムの制御周期に同期して、検出された検査用伝播光の光量と前形状検査点における検査用伝播光量の比較を行なう。このようなプロセスを繰り返すが、検査開始から破線Ｌの位置までは検査面部分が平坦であるので、比較された検査用伝播光の光量変化が「予め設定された所定の閾値」に達しない。従って、検査面部分５１ａに凹凸はないと判断し、ＸＹステージ９０ｂを高速モードで変位させる。

伝播光スポットＦＳが段差部分に差し掛かり、一部が検査面部分５１ｂを照射すると、検査面部分５１ｂはＡｕ薄膜パターンで反射率が高いので、図４（ｃ）に示すように検査用伝播光量が増大する。そこで、この検査用伝播光量の変化が閾値を超えたとき、走査進行方向に被検査面の凹凸（この場合は段差）があると判断し、走査を低速モードにする。

さらに走査を続け、形状検査点ＰＴが段差上の検査面部分５１ｂ上に移り、検査用伝播光量のサンプリングポイント間での光量変化が閾値より小さくなる破線Ｎの位置からはまた走査速度を高速モードにする。

光プローブ４０から照射されている伝播光スポットＦＳの直径を１μｍとすると「光プローブ４０先端部が段差に到達する手前５００ｎｍの位置」から検査用伝播光の光量が変化する。この状態を捉えて走査を低速モードに切り替える。この場合、低速モードの走査速度を１μｍとしても、光プローブ４０の先端部が「段差」に到達するまでに０．５秒程度かかるので、光検出器１００や信号演算部１１０のＡＤ／ＤＡ変換時間や走査速度変化指令に対するＸＺステージ９０ｂ駆動の遅れ時間を考慮しても、段差を含む領域（図４のＬ〜Ｎの領域）においても良好な追従制御を行なうことができる。

このように、この走査型プローブ顕微鏡では、検査面５１における凹凸や段差の存在を「形状検査点ＰＴが凹凸等の位置に到達する前」に検知できるため、予備走査を行うことなく、走査速度を高速・低速に制御することができ、短時間で高精度に検査することが可能になる。また、凹凸や段差等の存在する領域で走査を低速化するので、応答性の高い検出器やステージや信号処理器を用いなくとも良好な追従制御が可能であり、光プローブ４０と被検査体５０の接触や「接触による光プローブの破損」を防ぐことができる。

なお、光量変化の有無を判断するために、光プローブ／検査面距離と検査用伝播光と全形状検査点における光量の差分や微分を計算してもよい。
図４（ｄ）は、走査方向と検出光量微分値を示している。このような微分値を用いる場合は、微分値が増大する位置で走査速度の切換を行なえばよい。

図５は、被検査体５０に「櫛歯状の段差」が形成されている場合の検査の例を示している。符号５１Ａは走査前半の検査面部分、符号５１Ｂは走査後半の検査面部分であるが、検査面部分５１Ａと５１Ｂとの境界部（Ｍ）に段差があり、さらに、図５（ｂ）に示すように、符号５２、５３で示す部分が検査面部分５１Ａへ「櫛歯状」に、検査面部分５１Ｂと同じ高さで突出している。

このような形状を持つ検査面を検査する場合、光プローブ４０から照射される伝播光スポットが、破線で示す伝播光スポットＦＳ１のような円形状であると、形状検査点ＰＴが櫛歯状部分５２、５３の間を通って走査するとき、検査用伝播光量が櫛歯状部分５２、５３により影響され、低速モードにする必要のない領域でも低速モードに切り替わることが考えられる。

このような問題を回避するには、伝播光スポットの形状を、伝播光スポットＦＳ２のように「走査進行方向を長手とする楕円形状」にすればよく、こうすることにより、走査進行方向以外の形状の検査用伝播光への影響が少なくなり、より的確に走査速度の制御を行なうことが可能となる。

図５に示す伝播光スポットＦＳ２のように「走査方向を長軸とする楕円形状の伝播光スポット」を形成できる光プローブとしては、図６に示すようにプローブ先端部４０ａの一部に金属遮光膜４３を成膜することが考えられる。図６（ａ）はプローブ先端部４０ａを走査直交方向から、図６（ｂ）は下から見た図である。光プローブ４０の「光軸から離れた場所に中心をおく楕円状の部分」には金属遮光膜を形成せず、他の部分（斜線で示す部分）に金属遮光膜４３を形成することにより、伝播光スポットの形状を楕円形状にすることが可能になる。このような金属遮光膜４３は、光プローブ４０の光軸に直交する方向からのスパッタや蒸着などで成膜することにより形成することができる。

伝播光スポットを走査方向を長手とする楕円に形成する光プローブ４０の別の例としては、プローブ先端部４０ａを「光ファイバの光軸に対して偏心させた形状」としても良い。このような形状を実現するには、偏心した内部屈折率分布となるよう光ファイバを線引きする方法や、より先鋭化された物質（例えばカーボンナノチューブなど）を固着する方法などがある。

図７（ａ）は、近接場光による高精度検査が可能な実施の形態である。図７（ａ）において、図１と同一構成部分については、同一の符号を付する。

この実施の形態では、伝播光スポットを形成するための光源１０ａと近接場光を形成するための光源１０ｂを有し、検査用伝播光と「散乱された近接場光」を区別して取得するためにダイクロックフィルタ１４０ａ、１４０ｂを有している。光源１０ａが射出する光の波長：λ１と光源１０ｂが射出する光の波長：λ２は異なる波長である。

光源１０ａから放射された光は、ハーフミラー６０ａを透過してミラー２０ａで反射し、ハーフミラー２０ｂを透過し、レンズ３０により集光されて光プローブ４０に入射し、プローブ先端部４０ａに伝播光スポットＦＳ（図７（ｂ））を形成する。被検査体５０で反射された検査用伝播光は光プローブ４０内を戻り、ミラー２０ａとハーフミラー６０ａで反射してダイクロックフィルタ１４０ａを透過して光検出器１００ａに入射する。

ダイクロイックフィルタ１４０ａは波長：λ１の光のみを透過させるので、散乱された近接場光は光検出器１００ａには入射しない。光検出器１００ａは検出した検査用伝播光を信号演算部１１０に入力させる。

光源１０ｂが放射した波長：λ２の光は、ハーフミラー６０ｂを透過してハーフミラー２０ｂで反射され、レンズ３０により集光されて光プローブ４０に入射し、図７（ｂ）に示すようにプローブ先端部４０ａで近接場光スポットＮＳを形成する。被検査体５０の検査面により散乱された近接場光は光プローブ４０内を戻り、ハーフミラー２０ｂとハーフミラー６０ｂで反射してダイクロックフィルタ１４０ｂを透過して光検出器１００ｂに入射する。ダイクロイックフィルタ１４０ｂは波長：λ２の光のみを透過させるので、検査用伝播光は光検出器１００ｂには入射しない。

プローブ先端部４０ａに成膜する金属膜の材質を、波長：λ１の光に対しては透過性があり、波長：λ２がプラズマ周波数に近いものを成膜することで、伝播光スポットおよび近接場光スポットを効率的に発生させることができる。

たとえば、金属膜がＡｕの場合、光の波長：λ２＝５３２とすると近接場光スポットを効率よく発生させることができ、光の波長：λ１＝４０５ｎｍとすると「Ａｕに対する透過性」が高いので伝播光スポットの強度が高くなる。

この実施例のフローチャートを図１０に示す。
ＸＹステージ・Ｚステージの移動は伝播光スポットによる検査と同様に行い、次検査点に到達してから伝播光スポットによる形状検査と近接場光スポットによる高精度検査を行なう。

伝播光スポットによる検査用伝播光を利用して走査速度を切り替えて、確実に被検査体５０の検査面に追従しつつ検査の高速化も確保して、伝播光スポットによる形状検査に加え近接場光スポットによる光物性の検査も可能となる。

図８は、図７の実施例のおいて偏光状態制御手段を有する実施例である。混同の虞がないと思われるものについては図７におけると同一の符号を付する。
光源１０ａから射出する光の光路上にλ／２板１４５ａと偏光子１４４ａを設置し、光源１０ａが射出した伝播光スポット用の光の偏光状態を制御する。また、検査用伝播光がミラー２０ａとハーフミラー６０ａで反射してから光検出器１００ａに入射する光路上にλ／４板１４１ａと偏光子１４２ａを設置して、光検出器１００ａが受光する検査用伝播光の偏光成分を調整する。

すなわち、光源１０ａが射出した光はλ/２板１４５ａおよび偏光子１４４ａにより偏光状態を制御され、ハーフミラー６０ａを透過し、ミラー２０ａで反射し集光レンズ３０にて集光され光プローブ４０に入射し、プローブ先端部４０ａ近傍の被検査体５０上で伝播光スポットを形成するため、所望の偏光状態の光を被検査体５０に照射できる。また、伝播光スポットが被検査体５０で反射した検査用伝播光は、光プローブ４０内を戻り、ミラー２０ａとハーフミラー６０ａで反射して、ダイクロックフィルタ１４０ａを透過し、λ／４板１４１ａと偏光子１４２ａで偏光成分を再び制御されて光検出器１００ａに入射するため、光検出器１００ａが受光する検査用伝播光の偏光状態を所望の偏光状態に調整して取得することができる。このように偏光状態を制御することで、検査用伝播光検出のＳＮ比を向上させることができる。

同様に、光源１０ｂが射出した光の光路上にλ／２板１４５ｂおよび偏光子１４４ｂを設置して、光源１０ｂが射出した光を近接場光スポット用の偏光状態に制御する。また、近接場光が被検査体５０で散乱された光がハーフミラー２０ｂとハーフミラー６０ｂで反射してから光検出器１００ｂに入射する光路上にλ／４板１４１ｂと偏光子１４２ｂを設置して、光検出器１００ｂにて所望の偏光状態に調整された光を検出する。

すなわち、光源１０ｂから射出した光はλ／２板１４５ｂおよび偏光子１４４ｂにより偏光状態を制御され、ハーフミラー６０ｂを透過し、ハーフミラー２０ｂで反射し、集光レンズ３０にて集光され光プローブ４０に入射し、プローブ先端部４０ｂ近傍の被検査体５０上で近接場光スポットを形成するため、近接場光スポットを所望の偏光状態で形成できる。また、近接場光スポットが被検査体５０で散乱された光は、光プローブ４０内を戻り、ハーフミラー２０ｂとハーフミラー６０ｂで反射し、ダイクロックフィルタ１４０ｂを透過し、λ／４板１４１ｂと偏光子１４２ｂで偏光成分を再び制御されて光検出器１００ｂに入射するので、所望の偏光状態で検出することができる。偏光状態を制御することで、近接場光による検査のＳＮ比を向上させることができる。

近接場光による検査のＳＮ比を高めるには、光プローブ４０への入射光（波長：λ２）を直線偏光とするのが良く、検査用伝播光による検査のＳＮ比を高めるには光プローブ４０への入射光を楕円偏光とするのが良い。

この発明の走査型プローブ顕微鏡の実施例を説明するための図である。 プローブ先端部と伝播光スポットを説明するための図である。 検査用伝播光強度と光プローブ／被検査体間距離を説明するための図である。 被検査体の検査面に段差がある場合の検査を説明するための図である。 被検査体の検査面に櫛歯状の段差がある場合の検査を説明するための図である。 伝播光スポットが走査方向に長軸を持つ楕円となる光プローブを説明するための図である。 近接場光スポットによる検査可能な走査型プローブ顕微鏡の実施例を説明するための図である。 光スポットにより偏光状態を可変とする走査型プローブ顕微鏡の実施例を説明するための図である。 この発明における検査をフローチャートで示した図である。 近接場光による検査も行なう場合の検査をフローチャートで示した図である。

符号の説明

１０ 光源
４０ 光プローブ
４０ａ プローブ先端部
４１ コア
４２ クラッド
５０ 被検査体
ＦＳ 伝播光スポット
ＮＳ 近接場光スポット
ＴＦ 水晶振動子
８０ Ｚステージコントローラ
９０ａ Ｚステージ
９０ｂ ＸＹステージ
１００ 光検出器
１１０ 信号演算部
１３０ ＸＹステージコントローラ
１２０ パーソナルコンピュータ

Claims (12)

1. 光源からの光を光プローブに伝播させてプローブ先端部に伝播光スポットを形成し、
   上記光プローブにより被検査体の検査面を相対的に走査しつつ、上記プローブ先端部を上記検査面の表面凹凸形状に追従させ、
   上記検査面を介した検査用伝播光を検出し、その検出信号に基づいて上記走査の走査速度を制御しつつ、上記被検査体の検査面を検査することを特徴とする検査方法。
2. 請求項１記載の検査方法において、
   伝播光スポットが、その光強度分布が走査方向により長いスポット形状に形成されることを特徴とする検査方法。
3. 請求項１または２記載の検査方法において、
   伝播光スポットを形成する光とは異なる波長の光を別の光源から放射して上記光プローブに伝播させ、プローブ先端部に近接場光スポットを上記伝播光スポットとともに形成し、上記近接場光スポットと検査面との相互作用により発生する散乱光を検査光として検出することを特徴とする検査方法。
4. 請求項３記載の検査方法において、
   伝播光スポットおよび近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を制御して、所望の偏光状態の検査伝播光および検査光として検出することを特徴とする検査方法。
5. 請求項４記載の検査方法において、
   伝播光スポットを発生させる光の偏光状態を直線偏光とし、近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を楕円偏光とすることを特徴とする検査方法。
6. 請求項１〜５の任意の１に記載の検査方法において、
   光プローブ内部で、伝播光スポット用の光が反射された反射光と、検査面で反射した検査用伝播光との干渉強度により、上記検査面の表面凹凸形状を検出して走査速度を制御することを特徴とする検査方法。
7. 伝播光スポット形成用の光を放射する伝播光スポット用光源と、
   この伝播光スポット用光源からの光を伝播させ、プローブ先端部近傍に伝播光スポットを形成する機能を有する光プローブと、
   被検査体の検査面を上記光プローブにより相対的に走査する走査手段と、
   この走査手段による走査の際に、上記プローブ先端部を上記検査面の表面凹凸形状に追従させる追従制御手段と、
   上記検査面を介した検査用伝播光を検出する検査用伝播光検出手段と、
   上記走査手段の走査速度を制御する走査速度制御手段とを有し、
   上記走査速度制御手段が、上記検査用伝播光検出手段による検出信号に基づいて走査速度を制御することを特徴とする検査装置。
8. 請求項７記載の光検査装置において、
   光プローブが、走査方向により長い光強度分布を持つ伝播光スポットを形成するものであることを特徴とする検査装置。
9. 請求項７または請求項８記載の光検査装置において、
   光プローブの光射出面の少なくとも一部に遮光性の薄膜が形成されていることを特徴とする検査装置。
10. 請求項７〜９の任意の１に記載の検査装置において、
    伝播光スポットとは異なる波長の近接場光スポット用の光を放射する近接場光スポット用光源を有し、
    光プローブが、近接場光スポットと伝播光スポットとを形成するものであり、
    近接場光スポットと検査面が相互作用することによって発生する散乱光を検査光として検出する検査光検出手段を有することを特徴とする検査装置。
11. 請求項１０記載の光検査装置において、
    伝播光スポットおよび／または近接場光スポットを発生させる光の偏光状態を制御する偏光状態制御手段を有し、
    検査用伝播光検出手段および／または検査光検出手段が、所望の偏光成分を選択して検出することを特徴とする検査装置。
12. 請求項１１記載の検査装置において、
    偏光状態制御手段が、伝播光スポットを発生させる光を直線偏光、近接場光スポットを発生させる光を楕円偏光とすることを特徴とする光検査装置。

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