JP2007308751A - プラズマ処理用ガス供給管 - Google Patents

Abstract

【課題】ガス供給管の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制し、剥離した蒸着膜の容器内面に対する付着や、ノズルシール面への付着を可及的に防止する。
【解決手段】プラズマ処理室１内に保持された容器３の内部に挿入され、容器３の内部にプラズマ処理用ガスを供給することにより、容器３の内面に蒸着膜を形成するプラズマ処理用のガス供給管４であって、その全体を形成する供給管本体５が、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で構成されており、ガス供給管４の外面に形成された蒸着膜が、ガス供給管４の熱膨張や熱収縮に伴って剥離する可能性が低減されている。
【選択図】図２

Description

本発明は、プラスチックボトルなどの容器の内面に、プラズマＣＶＤ法により蒸着膜を形成する際に使用されるプラズマ処理用ガス供給管に関する。

化学蒸着法（ＣＶＤ）は、常温では反応の起こらない原料ガスを用いて、高温雰囲気での気相成長により、基体表面に反応生成物を膜状に析出させる技術であって、半導体の製造、金属やセラミックの表面改質等に広く採用されており、最近では、プラスチックボトル容器の表面改質、特に、ガスバリア性の向上にも応用されつつある。

プラズマＣＶＤとは、プラズマを利用して薄膜成長を行うものであり、基本的には、減圧下において原料ガスを含むガスを高電界による電気的エネルギーで放電させることにより、解離、結合して生成した物質を、気相中又は処理対象物上で化学反応させることによって、処理対象物上に堆積させるプロセスからなる。
プラズマ状態は、グロー放電等によって実現されるものであり、グロー放電の方式によって、マイクロ波グロー放電によるプラズマＣＶＤ法や高周波グロー放電によるプラズマＣＶＤ法などが知られている。

マイクロ波、高周波のいずれによるプラズマＣＶＤ法においても、容器内面に蒸着膜を形成するには、プラズマ処理室内に容器を保持し、この容器内に反応性ガス（プラズマ処理用ガス）を供給するためのガス供給管を挿入し、少なくとも容器内を所定の真空度に減圧し、容器の内部に反応性ガスを供給しながら、マイクロ波又は高周波によるグロー放電を容器内で発生させることにより、容器内面に蒸着膜を形成するものである。

したがって、容器内面に均一な厚みの蒸着膜を形成するためには、反応性のガスを容器内に均一に供給することが必要であり、このようなガス供給管としては、多孔質体のポアがガス吹き出し孔となる多孔質パイプや、金属管などの壁面に穿孔等によりガス吹き出し孔を形成した有孔パイプなどが知られている。
また、近年では、ガスの供給をより均一にするために、ガス供給管本体の先端部に吹き出し量調整部材を備えるガス供給管や（例えば、特許文献１参照）、多孔質金属管（供給管本体）の先端部に非金属管（供給路延長部材）を設けることにより、マイクロ波の波長に影響されることなく、ガス供給路を延長可能なガス供給管が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２００４−２７７７５７号公報 特開２００５−６８４７１号公報

しかしながら、上記のようなプラズマＣＶＤ法を用いて、容器内面に蒸着膜を形成する際には、容器内面だけでなく、ガス供給管の外面にも蒸着膜が形成されてしまう。ガス供給管の外面に形成された蒸着膜は、ガス供給管のガス吹き出し孔を詰まらせない程度のものであれば、製膜に大きな影響が生じることはないが、ガス供給管から蒸着膜が剥離すると、蒸着膜を形成すべき容器内面に異物として付着する惧れがあるだけでなく、ノズルシール面に剥離した蒸着膜が落下し、プラズマ処理室内の真空度を低下させる可能性があった。

本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制し、剥離した蒸着膜の容器内面に対する付着や、ノズルシール面への付着を可及的に防止できるプラズマ処理用ガス供給管の提供を目的とする。

上記目的を達成するため本発明のプラズマ処理用ガス供給管は、プラズマ処理室内に保持された容器内部に挿入され、容器内部にプラズマ処理用ガスを供給することにより、容器内面に蒸着膜を形成するプラズマ処理用ガス供給管であって、その一部又は全体を形成する供給管形成部材の熱膨張率が、１０×１０^−６／℃以下である構成としてある。

このようにすると、ガス供給管の外面に形成された蒸着膜が、ガス供給管の熱膨張や熱収縮に伴って剥離する可能性を低減できる。つまり、製膜中は、処理室内の温度上昇に伴ってガス供給管が熱膨張し、製膜後は、チャンバの開放による温度低下に伴ってガス供給管が熱収縮するので、ガス供給管と、その外面に形成された蒸着膜との間に、熱膨張や熱収縮に伴う位置ずれが生じ、蒸着膜が剥離しやすい状況となるが、ガス供給管（一部又は全体）の熱膨張率を１０×１０^−６／℃以下にしたことによって、蒸着膜の剥離を有効に抑制することが可能になる。これにより、ガス供給管から剥離した蒸着膜が、容器内面に異物として付着したり、ノズルシール面に落下して、プラズマ処理室内の真空度を低下させる不都合を解消できる。

また、本発明のプラズマ処理用ガス供給管は、前記供給管形成部材が、チタン又はセラミックとしてある。
このようにすると、ガス供給管の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制しつつ、容器内面に酸化ケイ素からなる蒸着膜を形成できる。

また、本発明のプラズマ処理用ガス供給管は、前記供給管形成部材が、ガス吹き出し孔を有する供給管本体としてある。
このようにすると、供給管本体の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

また、本発明のプラズマ処理用ガス供給管は、前記供給管形成部材が、供給管本体の先端部に設けられる吹き出し量調整部材としてある。
このようにすると、吹き出し量調整部材の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

また、本発明のプラズマ処理用ガス供給管は、前記供給管形成部材が、金属管からなる供給管本体と、非金属管からなる供給路延長部材とを接続するための接続部材としてある。
このようにすると、接続部材の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

以上のように、本発明によれば、ガス供給管の一部又は全体を、熱膨張率が１０×１０^−６／℃以下の供給管形成部材で形成したので、プラズマＣＶＤ法で容器内面に蒸着膜を形成する際に、ガス供給管の外面に形成された蒸着膜が、ガス供給管の熱膨張や熱収縮に伴って剥離する可能性を低減できる。これにより、ガス供給管から剥離した蒸着膜が、容器内面に異物として付着したり、ノズルシール面に落下して、プラズマ処理室内の真空度を低下させる不都合を解消できる。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。

［第一実施形態］
まず、本発明の第一実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管について、図１及び図２を参照して説明する。
図１は、本発明のプラズマ処理用ガス供給管が用いられるプラズマ処理室の概略断面図、図２は、本発明の第一実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。

マイクロ波ＣＶＤを例にとってプラズマ処理による容器内面への蒸着膜の形成プロセスを説明すると、図１に示すように、プラズマ処理室１は、導入される電磁波（マイクロ波）を閉じ込めるために、金属製のチャンバ２によって形成されている。プラズマ処理室１内には、処理すべき容器（例えば、プラスチックボトル）３が上下反転姿勢で保持され、この容器３内に、本発明の第一実施形態に係るガス供給管４が挿入される。

プラズマ処理に際しては、所定の排気機構により容器３の内部を真空状態に維持し、同時に、容器３の外圧による変形を防止するために、プラズマ処理室１内（容器３の外部）も減圧状態にする。この場合、容器３内は、マイクロ波が導入されてグロー放電が発生するように、減圧の程度が高く、一方、プラズマ処理室１は、マイクロ波が導入されてもグロー放電が発生しないように、その減圧の程度は低い。

上記のようにして容器３の内外を所定の減圧状態に保持した後、ガス供給管４により容器３内に反応性ガスを供給するとともに、プラズマ処理室１内にマイクロ波を導入し、グロー放電によるプラズマを発生させる。このプラズマ中での電子温度は数万Ｋであり、ガス粒子の温度は数１００Ｋであるのに比して約２桁ほど高く、熱的に非平衡の状態であり、低温のプラスチック基体に対しても有効にプラズマ処理を行うことができる。

上記のプラズマによって反応性ガスが反応し、容器３の内面に蒸着膜が堆積されていくこととなる。このようなプラズマ処理を行って容器３の内面に所定厚みの蒸着膜を形成した後、反応性ガスの供給及びマイクロ波の導入を停止するとともに、プラズマ処理室１内や容器３の内部に冷却空気を徐々に導入して、容器３の内外を常圧に復帰させ、プラズマ処理された容器３をブラズマ処理室１外に取り出す。

本実施形態において、処理できる容器３としては、プラスチックを原料とするボトルを挙げることができる。
プラスチックとしては、公知の熱可塑性樹脂、例えば、低密度ポリエチレン，高密度ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリ１−ブテン又はポリ４−メチル−１−ペンテン等のポリオレフィン；エチレン，プロピレン，１−ブテン又は４−メチル−１−ペンテン等のα−オレフィンからなるランダム共重合体又はブロック共重合体等；エチレン・酢酸ビニル共重合体，エチレン・ビニルアルコール共重合体又はエチレン・塩化ビニル共重合体等のエチレン・ビニル化合物共重合体；ポリスチレン，アクリロニトリル・スチレン共重合体，ＡＢＳ又はα−メチルスチレン・スチレン共重合体等のスチレン系樹脂；ポリ塩化ビニル，ポリ塩化ビニリデン，塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体，ポリアクリル酸メチル又はポリメタクリル酸メチル等のポリビニル化合物；ナイロン６，ナイロン６−６，ナイロン６−１０，ナイロン１１又はナイロン１２等のポリアミド；ポリエチレンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート等の熱可塑性ポリエステル；ポリカーボネート，ポリフェニレンオキサイド等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で使用してもよく、また、二種以上を混合して使用してもよい。
また、容器３の形状も制限されず、ボトル、カップ、チューブ等の任意の形状であってよい。

また、反応性ガスとしては、容器３の内面に形成する蒸着膜の種類に応じて、適宜のものが使用される。例えば、薄膜を構成する原子、分子又はイオンを含む化合物を気相状態にして、適当なキャリアガスにのせたものを使用するのがよい。炭素膜や炭化物膜の形成には、メタン、エタン、エチレン、アセチレンなどの炭化水素類が使用される。また、シリコン膜の形成には四塩化ケイ素、シラン、有機シラン化合物、有機シロキサン化合物等が使用される。チタン、ジルコニウム、錫、アルミニウム、イットリウム、モリブデン、タングステン、ガリウム、タンタル、ニオブ、鉄、ニッケル、クロム、ホウ素などのハロゲン化物（塩化物）や有機金属化合物も使用することができる。更に、酸化物膜の形成には酸素ガス、窒化物膜の形成には窒素ガスやアンモニアガスが使用される。これらの原料ガスは、形成させる薄膜の化学的組成に応じて、２種以上のものを適宜組み合わせて用いることができる。なお、キャリアガスとしては、アルゴン、ネオン、ヘリウム、キセノン、水素などが適している。

上述したプラズマ処理に用いる本発明の第一実施形態に係るガス供給管４は、図２に示すように、ガス供給路５ａ及びガス吹き出し孔５ｂを有する供給管本体５によって構成されている。
すなわち、供給管本体５の内部には、基端部から先端部に向かって軸方向に延びるガス供給路５ａが形成されており、このガス供給路５ａの基端部は開放され、所定の反応性ガスを導入する給気系に接続される。
なお、ガス供給路５ａは、一定の径のまま先端部まで延び、先端壁を貫通していてもよいが、先端壁を貫通している部分は、ガス吹き出し孔５ｂと同程度の径に絞られていることが好ましい。先端壁が閉じられていると、容器３の底部へのガス供給が不十分となり、また、ガス供給路５ａの先端壁部分の径がガス吹き出し孔５ｂよりも大きいと、先端壁部分からのガスの吹き出し量が他の部分よりも多くなり、蒸着膜の膜厚が不均一になる惧れがあるからである。

供給管本体５の壁面には、レーザ加工、打ち抜き等の加工手段によって、複数のガス吹き出し孔５ｂが形成されている。これらのガス吹き出し孔５ｂは、軸方向及び周方向に適当な間隔を置いて、供給管本体５の外壁全体にわたってほぼ均等に分散して形成されている。
なお、ガス吹き出し孔５ｂの径は、０．２ｍｍ以上であることが好ましい。つまり、ガス吹き出し孔５ｂの径を大きく設定することにより、蒸着膜によるガス吹き出し孔５ｂの目詰まりを有効に回避することができる。また、この径を必要以上に大きくすると、逆にガスの吹き出し量が不均一となり易いため、この径は、３ｍｍ以下であることが好ましい。

ガス供給管４の長さは、容器３の首部から底部の近傍にまで達するような長さを有していればよいが、ガス供給管４の全域が金属管からなる供給管本体５で形成されている場合には、その長さを、プラズマ処理室１の大きさなどによって定められるマイクロ波の波長を基準とし、その１／２波長に定めることが好ましい。このようにすると、容器３の軸方向に沿っての電界強度分布が安定し、蒸着膜の厚みムラを防止することができるからである。

本発明のガス供給管４は、その一部又は全体を形成する供給管形成部材が、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質からなることに特徴がある。例えば、本実施形態のガス供給管４を用いて、容器３の内面に酸化ケイ素からなる蒸着膜を形成する場合、好適な供給管本体５の材質として、８．６×１０^−６／℃の熱膨張率を有するチタン（Ｔｉ）を選定することができる。
このようにすると、ガス供給管４の外面に形成された蒸着膜が、ガス供給管４の熱膨張や熱収縮に伴って剥離する可能性を低減できる。
ガス供給管４の材質として従来広く使用されているステンレスの熱膨張率は１５〜１７×１０^−６／℃であるが、製膜中は、プラズマ処理室１内の温度上昇に伴ってそのガス供給管４が熱膨張し、製膜後は、チャンバ２の開放による温度低下に伴ってガス供給管４が熱収縮するので、ガス供給管４と、その外面に形成された蒸着膜との間に、熱膨張や熱収縮に伴う位置ずれが生じ、蒸着膜が剥離しやすい状況となる。
しかしながら、本実施形態では、ガス供給管４の全体を形成する供給管本体５が、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有するので、ガス供給管４の熱膨張や熱収縮に起因する蒸着膜の剥離を有効に抑制することができる。その結果、ガス供給管４から剥離した蒸着膜が、容器３の内面に異物として付着したり、ノズルシール面に落下して、プラズマ処理室１内の真空度を低下させる不都合を解消することが可能になる。

以上のように構成された本実施形態によれば、プラズマ処理室１内に保持された容器３の内部に挿入され、容器３の内部にプラズマ処理用ガスを供給することにより、容器３の内面に蒸着膜を形成するプラズマ処理用のガス供給管４であって、その全体を形成する供給管本体５が、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で構成されるので、ガス供給管４の外面に形成された蒸着膜が、ガス供給管４の熱膨張や熱収縮に伴って剥離する可能性を低減できる。これにより、ガス供給管４から剥離した蒸着膜が、容器３の内面に異物として付着したり、ノズルシール面に落下して、プラズマ処理室１内の真空度を低下させる不都合を解消できる。
また、本実施形態では、ガス供給管４の供給管本体５が、８．６×１０^−６／℃の熱膨張率を有するチタンで形成することで、ガス供給管４の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制しつつ、容器３の内面に酸化ケイ素からなる蒸着膜を形成できる。

なお、本発明は、上記の実施形態に限定されないことは勿論である。例えば、上記の実施形態では、酸化ケイ素膜の製膜を想定し、供給管本体の材質を、８．６×１０^−６／℃の熱膨張率を有するチタンとしたが、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質であれば、チタンに限定されないものであり、蒸着膜の熱膨張率に応じて、好適な材質を適宜選定できることは言うまでもない。例えば、７．０×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（アルミナ）や、８．５×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（マシナブル）などを選定することができる。
なお、マシナブルセラミックスとは、ガラス質を主体とした加工性のよい複合セラミックスの総称をいう。

また、上述した例では、マイクロ波グロー放電によるプラズマ処理を例にとって説明したが、上記のガス供給管は、高周波グロー放電によるプラズマ処理にも適用できる。高周波によるプラズマ処理は、容器の外面の近傍に高周波外部電極を設け、容器の内部にアース電極を設け、高周波を発生させることによりプラズマ処理を行う点や、容器内の真空度等の微細な条件を除けば、基本的にはマイクロ波の場合と同様にしてプラズマ処理が行われる。したがって、本発明のガス供給管を用いることにより、ガス供給管の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制することができる。

［第二実施形態］
つぎに、本発明の第二実施形態に係るガス供給管について、図３を参照して説明する。
図３は、本発明の第二実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。
この図に示すように、第二実施形態のガス供給管６は、供給管本体７の先端部に吹き出し量調整部材８を備える点が第一実施形態と相違している。吹き出し量調整部材８は、ガス供給管６の長さ方向におけるガス吹き出し量の分布を調整するための部材であり、吹き出し量調整孔８ａの目開きを変更することにより、上記の分布が調整される。例えば、ガス供給管６の先端側のガス吹き出し量を多くしたい場合は、目開きの大きい吹き出し量調整部材８が適用され、ガス供給管６の先端側のガス吹き出し量を少なくしたい場合は、目開きの小さい吹き出し量調整部材８が適用される。

このようなガス供給管６においても、本発明を良好に適用することができる。例えば、本実施形態のガス供給管６を用いて、容器３の内面に酸化ケイ素からなる蒸着膜を形成する場合、好適な吹き出し量調整部材８の材質として、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質、例えば、チタン（熱膨張率は８．６×１０^−６／℃）を選定することができる。このようにすると、吹き出し量調整部材８の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

なお、供給管本体７については、多孔質体（例えば、ステンレスの焼結パイプなど）で構成することにより、蒸着膜の剥離を防止する効果がある。このため、本実施形態においては、供給管本体７を多孔質体で製造し、吹き出し量調整部材８を１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で形成することとしている。
ここで、供給管本体７だけでなく吹き出し量調整部材８についても多孔質体で製造することが考えられる。しかし、吹き出し量調整部材８を多孔質体で製造することは困難である。このことから、吹き出し量調整部材８を１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で形成することが好適である。

また、本実施形態においては、供給管本体７と吹き出し量調整部材８との双方の材質として、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有するものを選定することもできる。このようにすれば、ガス供給管６の全域において、熱膨張や熱収縮に起因する蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

なお、熱膨張率が１０×１０^−６／℃以下の材質としては、チタン以外に、例えば、７．０×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（アルミナ）や、８．５×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（マシナブル）などを選定してもよい。
また、多孔質体は剥離防止には効果があるものの、ポアが次第に目詰まりするので、供給管本体７には、第一実施形態のガス供給管４と同様にガス吹き出し孔を設けるのが望ましい。

［第三実施形態］
つぎに、本発明の第三実施形態に係るガス供給管について、図４を参照して説明する。
図４は、本発明の第三実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。
この図に示すように、第三実施形態のガス供給管９は、金属管（例えば、多孔質ステンレス管）からなる供給管本体１０と、非金属管（例えば、フッ素樹脂管）からなる供給路延長部材１１と、両者を接続するための接続部材１２とを備えて構成される点が上記実施形態と相違している。供給路延長部材１１は、ガス供給管９の金属部分の長さを変えることなく、ガス供給路の長さを延長するために設けられる。これにより、ガス供給管９の金属部分の長さを、マイクロ波の１／２波長に定めて、容器３の軸方向に沿う電界強度分布を安定させつつも、ガス供給路を容器３の底部近傍まで延長し、蒸着膜の厚みムラを有効に防止できる。

接続部材１２は、両端部に管継手部１２ａ、１２ｂを有する短尺（管継手部１２ａを含めて、１２〜１５ｍｍ程度）の管状部材である。本実施形態の接続部材１２は、ねじ式の管継手部１２ａ、１２ｂを有し、一方の管継手部１２ａを供給管本体１０の先端部にねじ込み、かつ、他方の管継手部１２ｂに供給路延長部材１１の基端部をねじ込むことにより、供給管本体１０と供給管延長部材１１が一体的に接続される。

このようなガス供給管９においても、本発明を良好に適用することができる。例えば、本実施形態のガス供給管９を用いて、容器３の内面に酸化ケイ素からなる蒸着膜を形成する場合、好適な接続部材１２の材質として、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質、例えば、チタン（熱膨張率は８．６×１０^−６／℃）を選定することができる。このようにすると、接続部材１２の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。
また、供給路延長部材１１については、好適な材質として、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質、例えば、セラミックス（例えば、アルミナであれば熱膨張率は７．０×１０^−６／℃）を選定することができる。このようにすると、供給路延長部材１１の外面に形成された蒸着膜の剥離を有効に抑制できる。

なお、供給管本体１０については、多孔質体（例えば、ステンレスの焼結パイプなど）で構成することにより、蒸着膜の剥離を防止する効果がある。このため、本実施形態においては、供給管本体１０を多孔質体で製造し、供給路延長部材１１や接続部材１２を１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で形成することとしている。
ここで、供給管本体１０だけでなく供給路延長部材１１や接続部材１２についても多孔質体で製造することが考えられる。しかし、供給路延長部材１１や接続部材１２を多孔質体で製造することは困難である。このことから、供給路延長部材１１や接続部材１２を１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有する材質で形成することが好適である。
また、供給管本体１０、供給路延長部材１１、接続部材１２のすべての材質として、１０×１０^−６／℃以下の熱膨張率を有するものを選定することもできる。

なお、熱膨張率が１０×１０^−６／℃以下の材質としては、チタンの他、例えば、７．０×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（アルミナ）や、８．５×１０^−６／℃の熱膨張率を有するセラミックス（マシナブル）などを選定してもよい。
また、供給管本体１０には、第一実施形態のガス供給管４と同様にガス吹き出し孔を設けるのが望ましい。

本発明は、プラズマ処理室内に保持された容器内部に挿入され、容器内部にプラズマ処理用ガスを供給することにより、容器内面に蒸着膜を形成するプラズマ処理用ガス供給管に適用でき、特に、プラスチックボトルなどの容器の内面に、プラズマＣＶＤ法により蒸着膜を形成する際に使用されるプラズマ処理用ガス供給管に好適に用いることができる。

本発明のプラズマ処理用ガス供給管が用いられるプラズマ処理室の概略断面図である。 本発明の第一実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。 本発明の第二実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。 本発明の第三実施形態に係るプラズマ処理用ガス供給管の断面図である。

符号の説明

１ プラズマ処理室
２ チャンバ
３ 容器
４ ガス供給管
５ 供給管本体
５ａ ガス供給路
５ｂ ガス吹き出し孔
６ ガス供給管
７ 供給管本体
８ 吹き出し量調整部材
８ａ 吹き出し量調整孔
９ ガス供給管
１０ 供給管本体
１１ 供給路延長部材
１２ 接続部材
１２ａ 管継手部
１２ｂ 管継手部

Claims (5)

1. プラズマ処理室内に保持された容器内部に挿入され、容器内部にプラズマ処理用ガスを供給することにより、容器内面に蒸着膜を形成するプラズマ処理用ガス供給管であって、その一部又は全体を形成する供給管形成部材の熱膨張率が、１０×１０^−６／℃以下である
   ことを特徴とするプラズマ処理用ガス供給管。
2. 前記供給管形成部材が、チタン又はセラミックからなる請求項１記載のプラズマ処理用ガス供給管。
3. 前記供給管形成部材が、ガス吹き出し孔を有する供給管本体である請求項１又は２記載のプラズマ処理用ガス供給管。
4. 前記供給管形成部材が、供給管本体の先端部に設けられる吹き出し量調整部材である請求項１又は２記載のプラズマ処理用ガス供給管。
5. 前記供給管形成部材が、金属管からなる供給管本体と、非金属管からなる供給路延長部材とを接続するための接続部材である請求項１又は２記載のプラズマ処理用ガス供給管。

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