JP2007308708A - 樹脂ペースト組成物及びこれを用いた半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)アクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物、(B)ラジカル開始剤、(C)平均粒径10μm未満の充填材及び(D)平均粒径(R)が10〜50μmで且つ粒子の90体積%以上が0.5R〜1.5Rμmの範囲内の粒径を有する球状銀粉を加えて組成物を配合し、混合、溶解、解粒混練又は分散して均一なペースト状とすることにより得られる接着用の樹脂ペースト、並びに、この樹脂ペースト組成物を用いて半導体素子を支持部材に接着した後、封止してなる半導体装置。
【選択図】なし
Description
(2)一般式(II)
(3)一般式(III)
で示される化合物。
(4)一般式(IV)
(5)一般式(V)
(6)一般式(VI)
(7)一般式(VII)
(8)一般式(VIII)
(9)一般式(IX)
(10)一般式(X)
で示される化合物。
(1)エポキシ樹脂の調製
YDFー170(東都化成(株)製、商品名、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキシ当量=170)7.5重量部及びYL−980(油化シェルエポキシ(株)製、商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量=185)7.5重量部を80℃に加熱し、1時間撹拌を続け、均一なエポキシ樹脂溶液を得た。
(2)硬化剤の調製
H−1(明和化成(株)製、商品名、フェノールノボラック樹脂、OH当量=106)1.0重量部及び希釈剤としてPP−101(東都化成社製、商品名、アルキルフェニルグリシジルエーテル、エポキシ当量=230)2.0重量部を100℃に加熱し、1時間撹拌を続け、均一なフェノール樹脂溶液を得た。
(1)硬化促進剤
2P4MHZ(四国化成(株)製のイミダゾール類の商品名)
(2)希釈剤
PP−101(東都化成(株)製アルキルフェニルグリシジルエーテルの商品名、エポキシ当量=230)
(3)アクリル酸エステル化合物及びメタクリル酸エステル化合物
R−551(日本化薬(株)製ジアクリレートの商品名、ビスフェノールAポリエチレングリコールジアクリレート、一般式(VIII)、R1=H、R11=CH3、R12=CH3、R13=H、R14=H、p+q=約4)、
ラウリルアクリレート(一般式(I)、R1=H、R2=−C12H24−)
(4)可とう化材
E−1000−6.5(日本石油化学(株)製エポキシ化ポリブタジエンの商品名、エポキシ当量=246、数平均分子量=約1,000)
(5)ラジカル開始剤
ジクミルパーオキサイド
(6)カップリング剤
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(7)充填材
TCG−1(徳力化学研究所社製の銀粉の商品名、形状:鱗片状、平均粒径=2μm)
AGF−20S(徳力化学研究所社製の球状銀粉の商品名、平均粒径(R)=20μm、0.5R〜1.5Rの範囲内の粒径を有する粒子の割合=93体積%)
表1に示す配合割合で、各材料を混合し、3本ロールを用いて混練した後、666.61Pa(5トル(Torr))以下で10分間脱泡処理を行い、樹脂ペースト組成物を得た。
(1)粘度:EHD型回転粘度計(東京計器社製)を用いて25℃における粘度(Pa・s)を測定した。
(2)ダイシェア強度:樹脂ペースト組成物をAgめっき付き銅リードフレーム上に約0.2mg塗布し、この上に2mm×2mmのSiチップ(厚さ約0.4mm)を圧着し、さらにオーブンで150℃まで30分で昇温し150℃で1時間硬化させた。これを自動接着力試験装置(BT100、Dage社製)を用い、室温の剪断接着強度(N/チップ)を測定した。なおダイシェア強度の測定は20個の試験片について行った。
(3)ボンドライン厚み:樹脂ペースト組成物をあらかじめマイクロメータで厚みを測っておいた銅リードフレーム上に約0.2mgを塗布し、この上にあらかじめマイクロメータで厚みを測っておいた2mm×2mmのSiチップを圧着し、さらにオーブンで150℃まで30分で昇温し150℃で1時間硬化させた。硬化後にマイクロメータで厚みを測定し、この値からあらかじめ測っておいたリードフレームとチップの厚みを減じた値をボンドライン厚みとした。なおボンドライン厚みの測定は20個の試験片について行った。
(4)ボイド:樹脂ペースト組成物を銅リードフレーム上に約4.0mgを塗布し、この上に8mm×10mmのSiチップ(厚さ0.4mm)を圧着し、さらにオーブンで150℃まで30分で昇温し150℃で1時間硬化させた。これを、走査型超音波顕微鏡を用い観察し、硬化後の樹脂ペースト組成物中に含まれるチップと基材の間の水平方向の断面のボイドの占有面積を求めた。
Claims (9)
- (A)アクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物、(B)ラジカル開始剤、(C)平均粒径10μm未満の充填材及び(D)平均粒径(R)が10〜50μmで且つ粒子の90体積%以上が0.5R〜1.5Rμmの範囲内の粒径を有する球状銀粉を加えて組成物を配合し、混合、溶解、解粒混練又は分散して均一なペースト状とすることにより得られる接着用の樹脂ペースト。
- (D)成分の球状銀粉を、樹脂ペースト組成物総量に対して0.5〜20重量%含有してなる請求項1に記載の樹脂ペースト。
- (A)成分のアクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物100重量部に対して(B)成分のラジカル開始剤を0.1〜10重量部、樹脂ペースト組成物総量に対して(C)成分の充填材を20〜85重量%配合してなる請求項1又は2に記載の樹脂ペースト。
- さらに可とう化材を添加してなる請求項1、2又は3に記載の樹脂ペースト。
- 可とう化材が液状ゴム又は熱可塑性樹脂である請求項4に記載の樹脂ペースト。
- (A)成分のアクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物100重量部に対して可とう化材を10〜100重量部含有する請求項4又は5に記載の樹脂ペースト。
- さらにカップリング剤を添加してなる請求項1、2、3、4、5又は6に記載の樹脂ペースト。
- (A)成分のアクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物100重量部に対してカップリング剤を0.1〜10重量部含有する請求項7に記載の樹脂ペースト。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の樹脂ペーストを用いて半導体素子を支持部材に接着した後、封止してなる半導体装置。
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