JP2007294328A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

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Abstract

【課題】観察試料上に蒸気を効率良く均一導入することのできる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子銃室と対物レンズを含む電子光学系鏡体部を高真空に維持し、試料室を指定の真空圧力の低真空雰囲気にする低真空雰囲気型走査電子顕微鏡であって、蒸気を導入する蒸気導入ノズルを備え、前記蒸気導入ノズルは、下向きのノズル口と、前記ノズル口が照射電子ビームの経路上にある使用位置にあるときに照射電子ビームが通過する電子ビーム通過部とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、走査電子顕微鏡に関する。
低真空雰囲気型走査型電子顕微鏡(以下低真空雰囲気SEM(Scan Electron Microscope))は、観察試料を配置する試料室と、電子銃室及び電子光学系とを別々に排気する差動排気装置を有し、電子銃室及び電子光学系を高真空状態に保ちながら、試料室を低真空化することができる。試料室内を低真空雰囲気状態にすることによって、導電性の無い試料も観察することができるようになる。
近年、低真空雰囲気SEMを用いて、低真空雰囲気中に水蒸気などの蒸気を導入して様々な物質の液滴付着時の状態を観察したいという要求が高まっている。例えば、水蒸気を試料上に導入し、乾燥状態から水分が付着した状態までの試料表面の形態変化を観察したり、撥水性を持たせた物質の撥水性等を連続的に観察したい場合に有効である。
低真空雰囲気SEM試料室内に水蒸気を導入し、試料に水分を付着させた状態を観察する従来技術の構成として、観察試料を冷却ステージで0℃付近に冷却し、試料室圧力が0℃の水の飽和水蒸気圧610Paになるように試料室内圧力調整用ニードルバルブから水蒸気を導入するものがある。この構成では、試料から離れた場所から水蒸気を導入するため、試料表面に水滴を付着させるには大量の水蒸気を導入する必要がある。試料室内に大量の水蒸気を導入すると、試料室排気用油回転ポンプ内に水分が混入し、油回転ポンプの排気能力が低下してしまい、最終的には排気できなくなり、油回転ポンプの油交換作業が発生してしまうような不具合が発生してしまう。
他の従来技術として、試料室内に各種反応ガスを導入する場合に、導入ノズルを用いて試料近傍にガスを導入する技術が知られており、これを蒸気導入に適用すると、試料近傍のみに蒸気を導入することが可能である。
なお、試料を固定する試料台の内部に直接微量の液体を注入し観察試料の乾燥を防ぎながら観察する技術が知られている(例えば特許文献1参照)。
特開平10−241620号公報
しかし、試料表面に蒸気導入するためには、導入ノズルを試料の極近傍に近づける必要がある。蒸気の場合、ノズルより導入された蒸気は、ノズル出口付近で凝縮され極微細な液滴となり、冷却された試料上に付着する。試料と蒸気導入ノズルの距離が離れていると、液滴は試料に到達する前に蒸発してしまう。このため、蒸気導入ノズルと試料の距離は極力近づける必要がある。
ノズルから導入された蒸気はノズル直下の冷却された試料上で液滴となって付着する。このため、ノズルの位置により液滴が付着する領域が決まる。ノズルが電子ビームを遮ると試料の観察が困難あるいは不可能となるため、ノズルは通常電子ビーム照射を遮らないように電子ビーム照射中心から離れた位置に配置される。図3は、従来の低真空雰囲気SEMにおける蒸気導入ノズルを示す図である。この場合、図4(a)の観察画像のように観察位置中心からずれた場所に液滴が付着してしまう。図4(a)の観察画像は倍率100倍での観察例であるが、この状態で単に観察倍率を上げると液滴付着領域が電子ビーム照射範囲からはずれるため、液滴付着状態を観察することができない。試料ステージにより試料を移動させれば液滴付着領域を電子ビーム照射範囲内に入れることができるが、液滴付着領域がノズルから離れてしまい蒸気導入量が不足するため、液滴が縮小あるいは消失してしまう。同様の理由で、液滴が付着する過程の高倍率観察もできない。このように、電子ビームを遮らない位置にノズルを配置した場合は、液滴付着状態や蒸気導入時の試料の状態変化を高倍率で連続的に観察することができない。
この問題を解決するため、ノズル位置を可変にして蒸気導入時にノズルを電子ビーム照射中心に挿入し、観察時には電子ビームを遮らないよう退避させる方法も考えられる。しかし蒸気導入と観察を同時に行うことができないため、上記方法同様液滴付着状態や蒸気導入時の試料の状態変化を高倍率で連続的に観察することができない。
上記従来技術では、電子線照射中心への蒸気導入と試料の高倍率観察を同時に行うことができないため、液滴の付着、消失過程や蒸気導入時の試料変化を高倍率で連続的に観察できないという問題があった。
また、液滴は導入ノズルに近い部分で均一に付着するが、この部分の観察が困難あるいは不可能となる問題があった。
以上のように、蒸気導入ノズルを電子線照射中心に近づけるほど試料観察条件としては有利となる反面、電子ビーム照射に対しては不利となる問題があった。
特許文献1の方法では、蒸気導入を即時開始、即時停止することができないため、試料表面に液滴を付着させた状態や、乾燥状態から液滴を付着させ、その後に再度乾燥させるような連続的な状態変化を観察することはできない。
本発明の目的は、観察試料上に蒸気を効率良く均一導入することのできる走査電子顕微鏡を提供することにある。
本発明による走査電子顕微鏡は、電子銃室と対物レンズを含む電子光学系鏡体部を高真空に維持し、試料室を指定の真空圧力の低真空雰囲気にする低真空雰囲気型走査電子顕微鏡であって、蒸気を導入する蒸気導入ノズルを備え、前記蒸気導入ノズルは、下向きのノズル口と、前記ノズル口が照射電子ビームの経路上にある使用位置にあるときに照射電子ビームが通過する電子ビーム通過部とを有することを特徴とする。
好適には、前記蒸気導入ノズルは、円筒形部分を備え、前記円筒形部分を軸線方向に対して斜めに切断してノズル口が形成されているものであって、前記ノズル口は水平に配置される。
本発明によれば、観察試料上に蒸気を効率良く均一導入することのできる走査電子顕微鏡を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図1は本発明による低真空雰囲気SEMの構成の一例を示す概略図である。
低真空雰囲気SEM1は、電子銃室2と、電子光学系鏡体部3と、試料室4とを備える。
低真空雰囲気SEM1は、電子銃室2内に電子銃21をさらに備え、電子光学系鏡体部3内に、収束レンズ31と、対物レンズ32と、偏向コイル33とをさらに備える。電子銃21から放射された電子ビーム22は、収束レンズ31及び対物レンズ32によって収束され、走査電源(図示せず)に接続された偏向コイル33によって試料41上で走査される。低真空雰囲気SEM1は、電子銃室2及び電子光学系鏡体部用の真空ポンプ23も備える。
低真空雰囲気SEM1は、試料室4内に、試料41を載せる冷却ステージ42をさらに備える。試料室4は、液体除去フィルタ43を備える真空排気用の油回転ポンプ44に接続される。電子銃室2と試料室4との間には差動排気絞り35が配置される。真空ポンプ23と、油回転ポンプ44と、差動排気絞り35の作用により、電子銃室2及び電子光学系鏡体部3は高真空状態に、試料室4は圧力が10〜1000Pa程度の低真空雰囲気状態になる。
低真空雰囲気SEM1は、蒸気導入装置5をさらに備える。蒸気導入装置5は、例えば試料室4のオプションポートに取り付けられ、液体タンク51と、中継用チューブ52と、蒸気コントロールバルブ53と、蒸気導入ノズル54とを備える。蒸気導入ノズル54のノズル口は、試料41の真上に配置される。蒸気導入ノズル54は、蒸気導入量を調整する蒸気コントロールバルブ53と中継用チューブ52とを介して、液体の入った液体タンク51に接続されている。液体タンク51は、中継用チューブ52との接続部以外は密封され、蒸気コントロールバルブ53が開くことにより液体タンク51内は負圧になり、蒸気圧により蒸気が蒸気導入ノズル54から試料上に導入される。液体タンク51内に入れる液体は水の他、観察する試料によって、エタノール等の有機溶剤を試料上に導入し反応を観察することもできる。
蒸気導入装置5は、蒸気導入ノズル54を試料上と退避位置の間で移動させる移動機構55と、蒸気導入ノズル54を水平方向と高さ方向に微調節する位置微調節機構56とをさらに備える。蒸気導入ノズル54は、通常は退避位置に引き出され、試料から離れた場所にあり、観察時の試料移動等に制限を与えることは無い。位置微調節機構56は、蒸気導入ノズル54のノズル口を試料上に配置する際に、水平X、Y方向、高さZ方向の3軸方向において位置調整することができる。これにより、試料の高さに応じて蒸気導入ノズル54と試料の間隔を調節することができる。
低真空雰囲気SEM1は、試料室4に装着され、試料室4内の圧力を検知する真空ゲージ45をさらに備える。真空ゲージ45は試料室4内の圧力分布を考慮し、極力試料近傍に設置することが望ましい。
低真空雰囲気SEM1は、真空ゲージ45と蒸気コントロールバルブ53に電気的に接続された圧力制御部46をさらに備える。圧力制御部46は、蒸気コントロールバルブ53を制御して蒸気導入量を調節し、試料室4内の圧力が設定された値になるようにする。これより、コントロールバルブを閉じれば蒸気導入を即時に停止し、開ければ即時に開始することができる。
低真空雰囲気SEM1は、試料室4と気体タンク(図示せず)との間に接続された気体導入用コントロールバルブ47をさらに備える。気体導入用コントロールバルブ47も圧力制御部46に電気的に接続され、圧力制御部46は、気体導入用コントロールバルブ47を制御して気体導入量を調整し、試料室4内の圧力が設定された値になるようにする。これにより、試料室4内に導入する雰囲気を蒸気と気体とに交互に切替えることができ、各々の場合の試料の状態を観察することができる。
例えば、観察初期はN等の気体を導入して試料の乾燥状態を観察、記録し、次に水蒸気を導入して試料表面に水蒸気を噴霧させ、水滴が付着した状態を観察、記録する。その後、再度気体の導入に切替えて、乾燥していく過程を連続的に観察することが可能となる。
観察対象となる試料41は、試料41を冷却する冷却ステージ42上に置かれる。試料41は、液滴が蒸発しないように、試料室4内の圧力に応じた飽和蒸気圧温度に冷却される。したがって、試料41上に付着した液滴は蒸発や凝固すること無く観察することができる。これにより、例えば、撥水性のある試料では水滴は球状となって試料上に留まる様子が観察でき、繊維質の試料では水滴が試料内部に染み込んでいく様子が観察できる。
本発明の低真空雰囲気SEM1では、蒸気は試料表面上に効率良く導入される構成になっているが、一部蒸発したものは試料室4の真空排気用の油回転ポンプ44の油に混入する。これを防止するために油回転ポンプ44の排気口に液体除去フィルター43を設置することにより、通常の低真空雰囲気SEMにおける油回転ポンプの油交換周期と同程度とすることができる。
図2は、図1の低真空雰囲気SEM1の蒸気導入ノズル54を拡大して示す図である。蒸気導入ノズル54は、例えば、外径6mm、内径4mm程度のステンレス管によって形成される。蒸気コントロールバルブから水平に延びる蒸気導入ノズル54は、試料近傍で試料に対して約30度程度の角度になるように折れ曲がる。蒸気導入ノズル54の先端のノズル口は、管を軸線方向に対して斜めに、水平になるように切断されて形成される。低真空雰囲気状態の試料室中では、電子線は気体分子に散乱されてしまう。したがって、差動排気絞りと試料との間はできるだけ短いほうが望ましく、好適には10mm程度である。蒸気導入ノズル54を上記のような構造とすることにより、狭い差動排気絞りと試料との間にも挿入しやすく、ノズル口を大きくでき、試料のごく近傍に、試料に対して水平に設置できるため、蒸気をより広範囲に効率よく導入することができる。
蒸気導入ノズル54のノズル先端部には、電子ビーム通過部として幅1mm程度のスリットが設けられる。これより、対物レンズと試料の間に蒸気導入ノズルを設置しても、電子線通過を妨げることはない。電子ビーム通過部は単なる穴でもよいが、図のようにスリット構造とすることにより、蒸気導入ノズル54の退避移動時にも、電子線を妨げることはなくなる。
図4は、従来の低真空雰囲気SEMと本発明の低真空雰囲気SEMとによる蒸気導入観察例を示す図である。研磨したアルミ試料台上に水蒸気を噴霧して撮影した。(a)は図4に示す水蒸気導入ノズルを有する従来の低真空雰囲気SEMによるものである。水滴は観察画像片側のみに付着し、中心には付着していない。(b)は本発明の低真空雰囲気SEMによるものである。水滴が観察画像全体に均一に付着しているのがわかる。
以上説明したように、本発明によれば効率良く試料上に蒸気を観察画像一面に均等に導入することができ、試料に液滴が付着する状態を観察することができる。さらに、乾燥状態から蒸気を導入し液滴が付着し状態が変化する様子と、その後、蒸気導入を止めて気体を導入し、乾燥していく状態をリアルタイムに観察することができる。
本発明は、低真空雰囲気SEMに利用できる。
本発明による低真空雰囲気SEMの構成の一例を示す概略図である。 aは本発明による低真空雰囲気SEMの蒸気導入ノズルの横から見た拡大図であり、bは下から見た拡大図である。 従来の低真空雰囲気SEMの蒸気導入ノズルの拡大図である。 aは従来の低真空雰囲気SEMにより取得した観察像であり、bは本発明の低真空雰囲気SEMにより取得した観察像である。
符号の説明
1 低真空雰囲気SEM
2 電子銃室
3 電子光学系鏡体部
4 試料室
5 蒸気導入装置
21 電子銃
22 電子ビーム
23 真空ポンプ
31 収束レンズ
32 対物レンズ
33 偏向コイル
35 差動排気絞り
41 試料
42 冷却ステージ
43 液体除去フィルタ
44 油回転ポンプ
51 液体タンク
52 中継用チューブ
53 蒸気コントロールバルブ
54 蒸気導入ノズル
55 移動機構
56 位置微調節機構

Claims (10)

  1. 電子銃室と対物レンズを含む電子光学系鏡体部を高真空に維持し、試料室を指定の真空圧力の低真空雰囲気にする低真空雰囲気型走査電子顕微鏡であって、
    蒸気を導入する蒸気導入ノズルを備え、
    前記蒸気導入ノズルは、下向きのノズル口と、前記ノズル口が照射電子ビームの経路上にある使用位置にあるときに照射電子ビームが通過する電子ビーム通過部とを有することを特徴とする走査電子顕微鏡。
  2. 前記蒸気導入ノズルは、円筒形部分を備え、前記円筒形部分を軸線方向に対して斜めに切断してノズル口が形成されているものであって、前記ノズル口は水平に配置されることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  3. 前記蒸気導入ノズルを、前記使用位置と退避位置の間で移動させる移動手段をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  4. 前記電子ビーム通過部は、前記移動手段による前記蒸気導入ノズルの移動中も電子ビームを妨げない形状を有することを特徴とする請求項3記載の走査電子顕微鏡。
  5. 前記蒸気導入ノズルを複数備えることを特徴とする請求項3記載の走査電子顕微鏡。
  6. 前記蒸気導入ノズルを水平方向と高さ方向に微調節する微調節手段をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  7. 前記蒸気導入ノズルの蒸気導入量を調整する蒸気コントロールバルブをさらに備えることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
  8. 前記試料室内の圧力を検出する真空ゲージと、前記真空ゲージに接続され前記真空ゲージの検出信号を受信する圧力制御部とをさらに備え、前記圧力制御部は、前記蒸気コントロールバルブを制御し、前記試料室内の圧力があらかじめ決められた値になるようにすることを特徴とする請求項7記載の走査電子顕微鏡。
  9. 前記試料室内に気体を導入する気体導入コントロールバルブをさらに備え、前記圧力制御部は、前記気体導入コントロールバルブを制御し、前記試料室内の圧力があらかじめ決められた値になるようにすることを特徴とする請求項8記載の走査電子顕微鏡。
  10. 前記試料室内に試料冷却ステージをさらに備えることを特徴とする請求項1記載の走査電子顕微鏡。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010192126A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Hitachi High-Technologies Corp 電子線装置および電子線装置用試料保持装置
JP2012503856A (ja) * 2008-09-28 2012-02-09 ビー−ナノ リミテッド 真空化されたデバイス、および、走査型電子顕微鏡
WO2013099435A1 (ja) * 2011-12-26 2013-07-04 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
JP2014522478A (ja) * 2011-04-04 2014-09-04 オムニプローブ、インコーポレイテッド 冷凍標本を抽出する方法および標本アッセンブリーの製造
JP2014160068A (ja) * 2013-02-19 2014-09-04 Fei Co 蛍光マーカの原位置再活性化
US8981294B2 (en) 2008-07-03 2015-03-17 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment
US9466458B2 (en) 2013-02-20 2016-10-11 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0359939A (ja) * 1989-07-27 1991-03-14 Jeol Ltd 荷電粒子線装置におけるガス導入機構
JPH04370640A (ja) * 1991-06-18 1992-12-24 Hitachi Ltd 荷電ビーム処理装置
JPH087823A (ja) * 1994-06-23 1996-01-12 Mitsubishi Electric Corp 集束イオンビーム装置
JPH08138617A (ja) * 1994-11-10 1996-05-31 Hitachi Ltd 荷電ビーム処理装置およびその方法
JPH10172496A (ja) * 1996-12-13 1998-06-26 Nikon Corp 環境制御型走査型電子顕微鏡
JP2002134057A (ja) * 2000-10-24 2002-05-10 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JP2004276103A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Hitachi High-Technologies Corp 試料加工方法
JP2005251737A (ja) * 2004-02-04 2005-09-15 Sii Nanotechnology Inc 荷電粒子ビーム装置のガス吹き付けノズル及び荷電粒子ビーム装置並びに加工方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0359939A (ja) * 1989-07-27 1991-03-14 Jeol Ltd 荷電粒子線装置におけるガス導入機構
JPH04370640A (ja) * 1991-06-18 1992-12-24 Hitachi Ltd 荷電ビーム処理装置
JPH087823A (ja) * 1994-06-23 1996-01-12 Mitsubishi Electric Corp 集束イオンビーム装置
JPH08138617A (ja) * 1994-11-10 1996-05-31 Hitachi Ltd 荷電ビーム処理装置およびその方法
JPH10172496A (ja) * 1996-12-13 1998-06-26 Nikon Corp 環境制御型走査型電子顕微鏡
JP2002134057A (ja) * 2000-10-24 2002-05-10 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JP2004276103A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Hitachi High-Technologies Corp 試料加工方法
JP2005251737A (ja) * 2004-02-04 2005-09-15 Sii Nanotechnology Inc 荷電粒子ビーム装置のガス吹き付けノズル及び荷電粒子ビーム装置並びに加工方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8981294B2 (en) 2008-07-03 2015-03-17 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment
US9431213B2 (en) 2008-07-03 2016-08-30 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment
JP2012503856A (ja) * 2008-09-28 2012-02-09 ビー−ナノ リミテッド 真空化されたデバイス、および、走査型電子顕微鏡
JP2010192126A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Hitachi High-Technologies Corp 電子線装置および電子線装置用試料保持装置
US8604429B2 (en) 2009-02-16 2013-12-10 Hitachi High-Technologies Corporation Electron beam device and sample holding device for electron beam device
JP2014522478A (ja) * 2011-04-04 2014-09-04 オムニプローブ、インコーポレイテッド 冷凍標本を抽出する方法および標本アッセンブリーの製造
WO2013099435A1 (ja) * 2011-12-26 2013-07-04 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
JP2013134814A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡および電子顕微鏡用試料保持装置
JP2014160068A (ja) * 2013-02-19 2014-09-04 Fei Co 蛍光マーカの原位置再活性化
US9466458B2 (en) 2013-02-20 2016-10-11 B-Nano Ltd. Scanning electron microscope

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