JP2007287319A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 ２つ以上の情報部を有する光記録媒体において光入射側から遠い側の情報部に対する情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことのできる光記録媒体を提供する。
【解決手段】 第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１テスト領域及び第１情報記録領域を有する第１情報部と、第１情報部上に形成され且つ第２プリフォーマット領域、第２遷移領域、第２テスト領域及び第２情報記録領域を有する第２情報部とを備え、光ビームが第１情報部側から入射される光記録媒体に対して、第２情報部の記録条件を決定する際に、光ビームを第１プリフォーマット領域、第１遷移領域及び第１テスト領域を通過させずに、第２テスト領域に照射する記録条件の決定方法を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図５

Description

本発明は光記録媒体に関し、より詳細には、基板と記録層とを有する情報部を２層以上有し、その少なくとも１つの情報部が基板上に予め情報がプリフォーマットされたＲＯＭ領域と、情報を追記するための情報記録領域とを有する光記録媒体に関する。

光記録媒体としては、再生専用型、追記型及び書換型の各種光ディスクが広く用いられている。なかでも、ＤＶＤ−ＲＯＭ（再生専用型）、ＤＶＤ−Ｒ（追記型）及びＤＶＤ−ＲＡＭ（書換型）がよく知られている。これらの光ディスクのうち、例えば、ＤＶＤ−Ｒの作製方法は、以下の通りである。まず、厚さ０．６ｍｍの光透過性のディスク状基板上に有機色素材料を塗布して記録層を形成し、次いで、記録層上に光反射層を積層してディスク（記録ディスク）を作製する。このＤＶＤ−Ｒの記録ディスクは、４．７ＧＢの記録容量を有する。次いで、上記記録ディスクと、厚さ０．６ｍｍの書き込みのできないダミーディスクとを貼り合わせる。このようにして、記録容量４．７ＧＢの片面記録型ＤＶＤ−Ｒが作製される。

また、４．７ＧＢの記録容量を持つ記録ディスクを２枚貼り合わせた記録容量９．４ＧＢの両面記録型ＤＶＤ−Ｒも存在する。両面記録型ＤＶＤ−Ｒでは、両面からレーザ光を照射して情報の記録再生を行う。両面記録型ＤＶＤ−Ｒは、記録容量が９．４ＧＢと大容量ではあるが、両面からレーザ光を照射して情報の記録再生を行うので、逆の面の記録ディスクに対して情報を記録再生する際には、ディスクを裏返す必要があった。

また、最近では、記録ディスクを２枚貼り合わせた光ディスクに対して、光ディスクの片面からのみレーザ光を照射して両者の記録ディスクに情報記録を行うことが可能な光ディスク（片面２層タイプの光ディスク）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。実際、記録容量が８．５ＧＢの片面２層タイプの光ディスクが開発され、市場に広まりつつある。

特開平１１−６６６２２号公報

上述のような片面２層タイプの光ディスクでは、光ビームの入射側から第１の記録ディスク（以下では、第１情報部ともいう）、スペーサ層及び第２の記録ディスク（以下では、第２情報部ともいう）がこの順で設けられた構造を有する。第２情報部に対して情報を記録再生する際には、光ビームは、第１情報部及びスペーサ層を介して第２情報部に照射される。

しかしながら、このような片面２層タイプの光ディスクでは、第１情報部の基板には鏡面部、プリフォーマットされた情報領域等の基板形状の異なる領域が形成されているので、第１情報部を通過する光ビームの光線透過率は、第１情報部の基板上に形成された形状の異なる各領域で異なる。また、第１情報部を通過する光ビームの光線透過率は、第１情報部の記録層内の未記録の情報記録領域、記録後の情報記録領域等でも異なる。すなわち、第１情報部内の基板の形状や記録層の記録状態によって、第１情報部を通過する光ビームの光線透過率が異なる。そのため、片面２層タイプの光ディスクの第２情報部に対して情報の記録再生を行う際に、光ビームが第１情報部の光線透過率の異なる領域に亘って通過すると、光ヘッドから照射される光量が一定であっても、第２情報部に到達する光ビームの照射光量は変化してしまう。

上述した第２情報部に到達する光ビームの光量変動は、第２情報部からの反射光量以外で検出することはできない。従って、第２情報部の再生信号に対して、ＡＧＣ（Ａｕｔｏ Ｇａｉｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ）を行うことにより、この光量変動に対応することは可能である。しかしながら、光ビーム内の光強度分布が不均一になるため、フォーカスエラー信号、トラッキングエラー信号に対してオフセットが生じる。このようなオフセットは、第２情報部の再生信号品質に対して光ビームの光量変動による影響以上の悪影響を及ぼし、情報再生にエラーを生じさせる原因となる。場合によっては、第２情報部の記録再生時のフォーカス制御あるいはトラッキング制御が維持できなくなることもある。

さらに、第２情報部に到達する光ビームの光量変動は、情報記録時において次のような致命的な影響を及ぼす。第１情報部の光透過率の高い領域を通過する光ビームで第２情報部の記録パワーを設定した場合、第１情報部の光透過率の低い領域を通過する光ビームが照射される第２情報部の領域では、光ビームの記録パワーがパワー不足となり信号に大きなアシンメトリを生じる可能性がある。また、逆の場合、すなわち、第１情報部の光透過率の低い領域を通過する光ビームで第２情報部の記録パワーを設定した場合、第１情報部の光透過率の高い領域を通過する光ビームが照射される第２情報部の領域では、オーバーパワーで信号を書き込むことになるので、クロスライト（隣のトラックの信号に重ね書きしてしまうこと）を起こしてしまう可能性がある。また、第２情報部の記録パワーを決めるためのテスト中に光ビームの光透過率変動があれば、記録パワーの決定に際して記録光量変動及び再生振幅変動の両方の影響を受けるため、記録パワーが決定できないままテスト動作が終了し、第２情報部全体の記録が不可能になる恐れがある。

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、２つ以上の情報部を有する光記録媒体において、光入射側から遠い側の情報部に対する情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことのできる光記録媒体を提供することである。

本発明の第１の態様に従えば、光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
第１基板及び第１記録層を有し、上記光ビームが第１基板側から入射される第１情報部と、
第２基板及び第２記録層を有し、第２記録層が第１情報部の第１記録層側に配置されている第２情報部とを備え、
第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域に対応する第１基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域に対応する第１基板上の領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域に対応する第１基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域に対応する第２基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域に対応する第２基板上の領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域に対応する第２基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
第１情報部と、
第１情報部を介して上記光ビームが照射される第２情報部とを備え、
第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
第１基板及び第１記録層を有し、上記光ビームが第１基板側から入射される第１情報部と、
第２基板及び第２記録層を有し、第１情報部を介して上記光ビームが照射される第２情報部とを備え、
第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域に対応する第１基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域に対応する第１基板上の領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域に対応する第１基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域に対応する第２基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域に対応する第２基板上の領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域に対応する第２基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体が提供される。

本発明の光記録媒体では、さらに、第１情報部と第２情報部との間にスペーサ層を備えることが好ましい。

片面２層タイプの光記録媒体における第１情報部と第２情報部との物理フォーマットの位置関係の一例を図４に示した。図４に示した例では、第２情報部の第２情報記録領域内の内周近傍及び外周近傍にテスト領域が設けられた場合の光記録媒体である。すなわち、図４中の第２情報記録領域の内周近傍のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）、第２情報記録領域の外周近傍のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）、第１情報部の第１情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）、及び、第１情報部の第１情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）における光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４としたきに、上記各領域の半径位置の間に、下記（１）及び（２）式の両方の関係が成立する場合の本発明の光記録媒体である。
Ｒ１≧Ｒ３＋ｒ …（１）
Ｒ２≦Ｒ４−ｒ …（２）

なお、上記表記の半径位置Ｒ（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）の括弧内の各パラメータの意味は次の通りである。第１のパラメータＰ１は、半径位置Ｒが第１情報部及び第２情報部のいずれの情報部のものであるかを示すパラメータであり、第１情報部（Ｌ０層）の場合には「０」で表示し、第２情報部（Ｌ１層）の場合には「１」を表示している。第２のパラメータＰ２は、物理フォーマット中のどの領域の半径位置であるかを示すパラメータであり、第２情報記録領域の内周近傍のテスト領域の場合には「ＴＩ」で表示し、第２情報記録領域の外周近傍のテスト領域の場合には「ＴＯ」で表示し、情報記録領域（溝が形成されている領域）の場合には「Ｇ」で表示し、そして、ユーザ情報等が記録される情報記録再生領域の場合には「Ｄ」で表示している。また、第３のパラメータＰ３は、半径位置がパラメータＰ２で指定された領域の最内周位置であるのか、最外周位置であるのかを表示するパラメータであり、最内周位置である場合には「ｉ」で表示し、最外周位置である場合には「ｏ」で表示している。

図４は、スペーサ層３０（接着層）を介して隣接する第１情報部１０（以下では、Ｌ０層ともいう）及び第２情報部２０（以下では、Ｌ１層ともいう）の各物理フォーマットの半径方向の概略構成断面図であり、図面の左側から右側に向かう方向が光記録媒体の外周方向となる。図４の例では、Ｌ０層１０の物理フォーマットは、光記録媒体の内周側からプリフォーマット領域５１（ＲＯＭ領域）と、遷移領域５２（ミラー領域）と、情報記録領域５０と、ミラー領域５８とから構成される。また、Ｌ０層１０の情報記録領域５０は、図４に示すように、２つのバッファ領域５３，５７と、２つのテスト領域５４，５６と、情報記録再生領域５５とから構成され、テスト領域５４及び５６は、それぞれ情報記録領域５０の内周近傍及び外周近傍に設けられている。図４の例では、Ｌ１層２０もまたＬ０層１０と同様の物理フォーマット構成を有する。

図４（ａ）は、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、上記（１）式の下限条件（Ｒ１＝Ｒ３＋ｒの関係）が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。一方、図４（ｂ）は、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対して、上記（２）式の上限条件（Ｒ２＝Ｒ４−ｒの関係）が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。なお、通常、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを貼り合わせた際には偏心があり、図４の例では、Ｌ０層１０及びＬ１層２０の外周端が偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐ（ＰＥＡＫ ＴＯ ＰＥＡＫ値）だけずれた例を示した。

Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、Ｒ１＝Ｒ３＋ｒの関係（上記（１）式の関係）が成立するので、図４（ａ）に示すように、テスト領域６４の最内周トラック位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０の遷移領域５２及びプリフォーマット領域５１を通過しない。

また、図４（ａ）から明らかなように、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対しては、Ｒ２＜Ｒ４−ｒの関係（上記（２）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のミラー領域５８を通過しない。

一方、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対してＲ２＝Ｒ４−ｒの関係（上記（２）式の関係）が成立するので、図４（ｂ）に示すように、テスト領域６６の最外周トラック位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０のミラー領域５８を通過しない。

また、図４（ｂ）から明らかなように、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、Ｒ１＞Ｒ３＋ｒの関係（上記（１）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の遷移領域５２及びプリフォーマット領域５１を通過しない。

すなわち、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係（上記（１）及び（２）式の関係）が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５の全域に渡って集光される光ビームは、Ｌ０層１０のプリフォーマット領域５１、遷移領域５２及びミラー領域５８を通過せず、情報記録領域５０のみを通過する。Ｌ０層１０の情報記録領域５０に対応する第１基板上の領域には、全域に渡って溝が形成されている領域（均一な凹凸パターンが形成されている領域）であるので、Ｌ０層１０の情報記録領域５０を通過する光ビーム４０の透過率は情報記録領域５０全域に渡ってほぼ一定となる。それゆえ、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に照射される光ビーム４０は透過率がほぼ一定のＬ０層１０の情報記録領域５０のみを通過するので、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に到達する光ビーム４０の光量変動を抑制することができる。

上述のように、Ｌ１層２０の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍にテスト領域を有する光記録媒体において、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に上記（１）及び（２）式で表される半径位置の関係が成立させることにより、光量変動の非常に小さい光ビーム４０がＬ１層２０の内周側及び外周側のテスト領域６４及び６６に照射されるので、情報記録の際の最適な記録パワーを確実に決定することができる。さらに、Ｌ１層２０の情報記録再生領域６５に到達する光ビームの光量変動もまた非常に小さいので、最適な記録パワーで安定してユーザ情報等をＬ１層２０の情報記録再生領域６５に記録することができる。それゆえ、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの半径位置の関係を上記（１）及び（２）式の関係が成立するように調整することにより、光ビーム４０の入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して、情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができる。

なお、上述の説明では、光ビームの入射側から遠い側の第２情報部（Ｌ１層）の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を有する光記録媒体に対して説明したが、第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（１）式の関係のみが成立するように、光ビームの入射側の第１情報部（Ｌ０層）の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良いし、また、第２情報部の第２情報記録領域の外周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（２）式の関係のみが成立するように、第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良い。いずれの場合においても、上述した第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を有する光記録媒体の場合と同様の効果が得られる。

なお、本明細書において「第１情報部における光ビームの半径ｒ」とは、第１情報部（Ｌ０層）の第１記録層と第１基板との界面における光ビームの半径のことをいう。なお、第２情報部（Ｌ１層）に光ビームを集光している際の第１情報部における光ビームの半径ｒは、図６から以下のようにして求められる。

図６に示すように、第１情報部（図６中のＬ０）と第２情報部（図６中のＬ１）との間にあるスペーサ層の厚みをＤ、スペーサ層の屈折率をｎｓ、絞り込みレンズの開口数をＮＡとすると、図６に示した幾何学的関係から、第１情報部における光ビームの半径ｒは下記の数式で求めることができる。ただし、図６中の実線Ｌ０は第１情報部内の第１記録層の位置を表わし、実線Ｌ１は第２情報部内の第２記録層の位置を表わす。なお、図６では、第１記録層及び第２記録層の厚みを考慮していないが、これは、第１及び第２記録層の膜厚がスペーサ層の厚みに対して非常に小さいためである。例えば、後述する実施例では、第１及び第２記録層の膜厚は、スペーサ層の厚みに対して約０．４％未満の値となるので、第１情報部における光ビームの半径ｒを計算する際に第１及び第２記録層の膜厚を考慮しなくても、光ビームの半径ｒの値に大きな影響を与えない。なお、後述する実施例では、記録層とスペーサ層との間に、反射層、界面層等が設けられているが、これらの層の膜厚も、スペーサ層の厚みに比べると非常に小さいので、これらの層の膜厚を考慮しなくても、光ビームの半径ｒの値に大きな影響を与えない。

なお、片面２層タイプの光記録媒体を設計する段階では、製造された光記録媒体の第１及び第２情報部間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び／または（２）式を満たすように各情報部の物理フォーマットの半径位置を設定するが、その際には第１情報部と第２情報部とを貼り合せたときの偏心による中心位置のずれを考慮して設計することが好ましい。なお、第１情報部と第２情報部の中心位置のずれが最大値となるのは、ディスククランプ中心を挟んで反対方向に偏心したときである。

具体的には、第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及び第２情報記録領域の外周近傍のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）における第２情報部の中心からの距離をそれぞれＲ１’及びＲ２’とし、第１情報部の第１情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）及び第１情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）における第１情報部の中心からの距離をそれぞれＲ３’及びＲ４’とし、第２情報部に光ビームが集光されている際の第１情報部における光ビームの半径をｒとし、そして、偏心の仕様値をＲＲ_ｐ−ｐ（ＰＥＡＫ ＴＯ ＰＥＡＫ値）としたとき、第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍にテスト領域を設けた場合には、下記（１）’式
Ｒ１’≧Ｒ３’＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒ …（１）’
が成立するように各情報部の物理フォーマットの半径位置を設計し、第２情報部の第２情報記録領域の外周近傍にテスト領域を設けた場合には、下記（２）’式
Ｒ２’≦Ｒ４’−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ …（２）’
が成立するように各情報部の物理フォーマットの半径位置を設計することが好ましい。また、第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を設けた場合には、上記（１）’及び（２）’式が成立するように各情報部の物理フォーマットの半径位置を設計することが好ましい。

実際に片面２層タイプの光ディスクを作製する際には、必ず偏心量が仕様値内に収まるように作製されるので、上記（１）’及び／または（２）’式を満足するように、第１及び第２情報部間の物理フォーマットの位置関係を設計しておけば、製造された光記録媒体では、必ず第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの間に上記（１）及び／または（２）式の半径位置の関係が成立する。

より現実的には、設計段階で、さらに、基板収縮やそれに伴うグルーブの真円度からのずれ、マスタリング装置の位置設定精度等の誤差要因を上記（１）’及び（２）’式に追加して各情報部の物理フォーマットの半径位置を設定することが好ましい。

本発明の光記録媒体では、第１情報記録領域内で情報が記録されている最内周トラックの半径位置、及び、第１情報記録領域内で情報が記録されている最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ５及びＲ６としたとき、下記式（３）
Ｒ１≧Ｒ５＋ｒ …（３）
が成立し、且つ、下記式（４）
Ｒ２≦Ｒ６−ｒ …（４）
が成立する。

なお、本明細書において「第１情報記録領域内で情報が記録されている最内周トラックの半径位置」とは、第１情報記録領域内においてユーザにより情報が追記される領域の最内周トラックの半径位置のことを意味する。

第１情報部を通過する光ビームの光線透過率は、上述のように第１情報部の第１基板の形状によって変動するが、さらには、第１情報部の第１記録層の未記録の情報記録領域、記録後の情報記録領域等、すなわち、第１記録層の記録状態によっても変化する場合がある。例えば、第１情報部の第１記録層を色素材料で形成した場合、第１記録層への情報の記録前後で透過率が変化してしまうことがある。特に、記録パワーを決めるテスト領域では記録パワーを低い方から最適な記録パワーより大きなパワーまで変化させて記録するので透過率変動はより大きくなる。また、テスト領域全域に渡って必ずしも試し書きが行われているとは限らないので、テスト領域内には記録領域と未記録領域とが混在する場合もある。そのような場合にもまた、テスト領域内で光ビームの透過率が大きく変化し、第２情報部に到達する光ビームの光量が変動する恐れがある。

上述のように第１情報部のテスト領域の記録状態によって第２情報部に到達する光ビームの光量が変動する場合には、第２情報部のテスト領域及び情報記録領域に光ビームを照射する際に、光ビームが第１情報部のテスト領域を通過しないように、第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの位置関係を調整すれば良い。そのような位置関係を満足させるための条件が上記（３）及び（４）式で示した関係である。なお、上記（３）及び（４）式は、第１情報部の第１基板の形状及び第１記録層の記録状態の両方によって透過率が変動する場合の条件式であるので、上記（３）及び（４）式の条件範囲はそれぞれ上記（１）及び（２）式の条件範囲に含まれる。

上記（３）及び（４）式の両方の関係を満足する場合の第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの位置関係の一例を図５に示す。図５は、スペーサ層３０を介して隣接する第１情報部１０（Ｌ０層）及び第２情報部２０（Ｌ１層）の各物理フォーマットの半径方向の概略構成断面図であり、図面の左側から右側に向かう方向が光記録媒体の外周方向となる。

図５（ａ）は、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、上記（３）式の下限条件（Ｒ１＝Ｒ５＋ｒの関係）が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。一方、図５（ｂ）は、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対して、上記（４）式の上限条件（Ｒ２＝Ｒ６−ｒの関係）が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。なお、通常、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを貼り合わせた際には偏心があり、図５の例では、Ｌ０層１０及びＬ１層２０の外周端が偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐだけずれた例を示した。

Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対してＲ１＝Ｒ５＋ｒ（上記（３）式の関係）が成立するので、図５（ａ）に示すように、Ｌ１層２０のテスト領域６４の最内周トラック位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０のテスト領域５４、遷移領域５２及びプリフォーマット領域５１を通過しない。

また、図５（ａ）から明らかなように、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対しては、Ｒ２＜Ｒ６−ｒの関係（上記（４）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のテスト領域５６及びミラー領域５８を通過しない。

一方、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０の外内周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対して、Ｒ２＝Ｒ６−ｒ（上記（４）式の関係）が成立するので、図５（ｂ）に示すように、テスト領域６６の最外周トラック位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のテスト領域５６及びミラー領域５８を通過しない。

また、図５（ｂ）から明らかなように、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対しては、Ｒ１＞Ｒ５＋ｒの関係（上記（３）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ１層１０の内周側のテスト領域５４、遷移領域５２及びプリフォーマット領域５１を通過しない。

すなわち、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係（上記（３）及び（４）式の関係）が成立する光記録媒体では、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５の全域に渡って集光される光ビームは、Ｌ０層１０のプリフォーマット領域５１、遷移領域５２、ミラー領域５８及びテスト領域５４，５６を通過せず、Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５のみを通過する。Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５には全域に渡って溝が形成されており、所定の記録パワーで情報が記録される。また、通常、情報記録はＬ０層１０から行われるので、Ｌ１層２０に情報を記録する時点ではＬ０層１０の情報記録再生領域５５全域に渡って均一にユーザ情報等が記録されている状態である。それゆえ、Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５を通過する光ビームの透過率はほぼ均一になる。従って、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ０層１０の第１基板の形状のみならずテスト領域５４，５６の記録状態によって光透過率が変動するような場合であっても、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に照射される光ビーム４０は透過率がほぼ一定のＬ０層１０の情報記録再生領域５５のみを通過するので、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に到達する光ビーム４０の光量変動を抑制することができる。

上述のように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に上記（３）及び（４）式で表される半径位置の関係が成立する光記録媒体では、Ｌ０層１０の第１基板の形状のみならずテスト領域５４，５６の記録状態によって光透過率が変動するような場合であっても、光量変動の非常に小さい光ビーム４０がＬ１層２０の内周側及び外周側のテスト領域６４及び６６に照射されるので、情報記録の際の最適な記録パワーを確実に決定することができる。さらに、Ｌ１層２０の情報記録再生領域６５に到達する光ビームの光量変動もまた非常に小さいので、最適な記録パワーで安定してユーザ情報等をＬ１層２０の情報記録再生領域６５に記録することができる。それゆえ、Ｌ０層１０の第１基板の形状及びテスト領域の記録状態によって光透過率が変動するような場合には、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの半径位置の関係を上記（３）及び（４）式の関係が成立するように調整することにより、光ビーム４０の入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して、情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができる。

なお、上述の説明では、光ビームの入射側から遠い側の第２情報部（Ｌ１層）の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を有する光記録媒体に対して説明したが、第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（３）式の関係のみが成立するように、光ビームの入射側の第１情報部（Ｌ０層）の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良いし、また、第２情報部の第２情報記録領域の外周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（４）式の関係のみが成立するように、第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良い。いずれの場合においても、上述した第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を有する光記録媒体の場合と同様の効果が得られる。

なお、上記（３）及び（４）式の関係が成立する本発明の光記録媒体を設計する際には、第１情報部と第２情報部とを貼り合せたときの偏心による中心位置のずれを考慮して設計することが好ましい。

具体的には、図５中の第２情報部の第２情報記録領域の内周近傍のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及び第２情報記録領域の外周近傍のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）における第２情報部の中心からの距離をそれぞれＲ１’及びＲ２’とし、第１情報記録領域内で情報が記録されている最内周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｉ）及び第１情報記録領域内で情報が記録されている最外周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｏ）における第１情報部の中心からの距離をそれぞれＲ５’及びＲ６’とし、第２情報部に光ビームが集光されている際の第１情報部における光ビームの半径をｒとし、そして、偏心の仕様値をＲＲ_ｐ−ｐとしたとき、下記（３）’式
Ｒ１’≧Ｒ５’＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒ …（３）’
が成立し、且つ、下記（４）’式
Ｒ２’≦Ｒ６’−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ …（４）’
が成立するように各情報部の物理フォーマットの半径位置を設計することが好ましい。

実際に片面２層タイプの光ディスクを作製する際には、必ず偏心量が仕様値内に収まるように作製されるので、上記（３）’及び（４）’式を満足するように、第１及び第２情報部間の物理フォーマットの位置関係を設計しておけば、製造された光記録媒体では、必ず第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの間に上記（３）及び（４）式の半径位置の関係が成立する。

本発明の光記録媒体では、第１情報部のトラックピッチが第２情報部のトラックピッチ以上の大きさであることが好ましい。

また、本発明の光記録媒体では、第１情報部の記録容量と第２情報部の記録容量とが同一であることが好ましい。

第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの位置関係を、例えば、図５で説明したような位置関係にすると、第２情報部のユーザ情報を記録することができる領域（図５では情報記録再生領域６５）が第１情報部のユーザ情報を記録することができる領域（図５では情報記録再生領域５５）より狭くなる。それゆえ、第２情報部のトラックピッチを第１情報部のトラックピッチより狭くすると、第１情報部と第２情報部の記録容量を同一にすることができる。

第１情報部と第２情報部の記録容量を同一にする場合の設計方法について、青色レーザ対応の光ディスクを例にとり具体的に説明する。

スペーサ層の厚さＤを２５μｍ、スペーサ層の屈折率ｎｓを１．５、レンズのＮＡを０．６５としたとき、上記数式（数１）から、第２情報部にレーザ光を集光している際の第１情報部における光ビームの半径ｒは約１３．３μｍとなる。

また、第１情報部と第２情報部とを貼合わせた際の偏心を考慮して、偏心の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐを５０μｍとすると、本例の場合は、第２情報部の第２情報記録領域（グルーブが形成されている領域）の内外周の半径が共に第１情報部の第１情報記録領域より６３．３μｍ以上狭くなるように作れば良い。そして、第１情報部の第１情報記録領域を半径２３．８ｍｍから５８．０ｍｍとし、第１情報部のトラックピッチを０．４００μｍとしたとき、第２情報部のトラックピッチを０．３９８μｍ、すなわち第１情報部のトラックピッチより約０．４％狭いトラックピッチにすることにより、第１情報部と第２情報部のトラック数を等しくすることができ、同一容量にすることができる。

本発明の光記録媒体では、第１情報部の物理フォーマットと第２情報部の物理フォーマットとの位置関係が上記（３）及び（４）式を満足するように形成されているので、光ビーム入射側から遠い側の第２情報部のテスト領域及びユーザ情報等を記録する情報記録再生領域に光量変動の非常に小さい光ビームを照射することができる。それゆえ、光ビーム入射側から遠い側の第２情報部に対して情報記録を行う場合、最適な記録パワーを確実に決定することができるとともに、その最適な記録パワーで安定してユーザ情報等を記録することができる。従って、本発明の片面２層タイプの光記録媒体では、光ビームの入射側から遠い側の情報部（第２情報部）に対して情報の記録再生プロセスをより安定に且つ信頼性高く行うことできる。

以下に、図面を参照しながら、本発明の光記録媒体の実施形態について具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。

参考形態
［膜構成］
参考形態では片面２層構造の光ディスクについて説明する。その概略断面図を図１に示した。本参考形態の光ディスク１００は、図１に示すように、第１情報部１０（以下では、Ｌ０層ともいう）と第２情報部２０（以下では、Ｌ１層ともいう）とが接着層３０（以下では、スペーサ層ともいう）を介して貼り合わされた構造を有する。

Ｌ０層１０は、図１に示すように、第１基板１１上に、第１記録層１２及び第１反射層１３がこの順で積層されている。また、Ｌ１層２０は、図１に示すように、第２基板２１上に、第２反射層２３、第２記録層２２及び界面層２４がこの順で積層されている。そして、Ｌ０層１０の第１反射層１３とＬ１層２０の界面層２４とが対向するように、スペーサ層３０を介してＬ０層１０とＬ１層２０とが貼り合わされている。なお、この例では、図１に示すように、光ビーム４０をＬ０層１０の第１基板１１側から入射する。

第１基板１１及び第２基板２１は透光性の基板であり、各基板表面には予め各層（Ｌ０層またはＬ１層）用のディスク管理情報等を記録するためのエンボスピット並びにユーザ情報等を記録するための案内溝（グルーブ）が形成されている。第１基板１１及び第２基板２１の材料としては、屈折率が１．４〜１．７の範囲であり、透過率が大きく、そして耐衝撃性に優れた樹脂が望ましい。具体的には、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン、アクリル等が用い得る。ただし、基板材料はこれに限定されず、上記性質を有する材料であれば任意の材料が基板材料として用い得る。なお、第２基板２１は、図１に示すように、光ビームの入射側とは反対側に配置されるので、光を透過する必要はないが、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを接着した後の機械特性を良好に保つことを考慮すると第１基板１１と同じ材料であることが好ましい。

第１記録層１２及び第２記録層２２は、照射された光ビームを吸収して発熱し、溶融、蒸発、昇華、変形、変性あるいは相変化、相変態し、記録層自身や基板の表面に記録ピットを形成する作用を有する層である。追記型の光ディスクを作製する場合、第１記録層１２及び第２記録層２２の形成材料としては、光吸収性の有機色素が望ましく、シアニン色素、ポリメチン色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、アゾ色素、テトラデヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリリウム色素、クロコニックメチン色素等が用い得る。ただし、記録層に用い得る色素材料としては、上述の色素材料に限定されない。上述した第１記録層１２及び第２記録層２２の形成材料に、他の色素、添加剤、高分子（例えば、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）等を含ませても良い。

第１記録層１２及び第２記録層２２の形成材料として上記色素材料またはそれに任意の添加剤を含んだ材料を用いる場合、第１記録層１２及び第２記録層２２は、上記色素材料またはそれに任意の添加剤を含んだ材料を公知の有機溶媒（例えば、テトラフルオロプロパノール、ケトンアルコール、アセチルアセトン、メチルセルロブ、トルエン等）で溶解・溶媒和したものをそれぞれ第１基板１１及び第２反射層２３上にスピン塗布するなどの方法によって形成される。記録層の形成手段としてスピンコート法を用いた場合、色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより、記録層の膜厚を制御できる。なお、第１記録層１２及び第２記録層２２をスピンコート法で形成する場合、色素材料、塗布条件、溶媒等を用途に応じて適宜変えて形成してもよい。

また、追記型あるいは書換型の光ディスクを作製する場合には、第１記録層１２及び第２記録層２２の形成材料として、相変化材料を用いてもよい。相変化材料としては、例えばＢｉ−Ｇｅ−Ｔｅ系材料の一部をＳｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｓｎ等で置換した材料、Ｇｅ−Ｓｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系材料にＡｇ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｍｎ等の金属を添加した材料、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系記録材料等が用い得る。ただし、記録層に用い得る相変化材料としては、上記材料に限定されない。なお、第１及び第２記録層を上記相変化材料で形成する場合には、蒸着法やスパッタ法で形成することが好ましい。

第１反射層１３及び第２反射層２３は、金属膜からなり、例えば、金、銀、アルミニウム等、または、これらの金属元素を含む合金で形成される。これらの金属膜はスパッタ法等の手段により形成される。

Ｌ１層２０の界面層２４は、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを貼り合せる際に、第２記録層２２を接着剤及び／または接着剤の溶媒から化学的に保護するためには必須の層である。界面層２４の形成材料としては、各種の誘電体材料が適しており、ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，ＴｉＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５等の酸化物、ＳｉＮ，ＡｌＮ，ＴｉＮ等の窒化物、ＺｎＳ等の硫化物等を用いることが可能である。なお、界面層２４には、光学的に吸収が少なく、化学的に安定で保護効果のあるとい性質が必要である。

スペーサ層３０は、耐衝撃性の優れた樹脂によって形成されることが望ましい。例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して硬化させることにより形成される。また、スペーサ層３０をウレタン等の弾性材で形成してもよい。

２層構造の光記録媒体の膜構成は、図１に示した構成に限定されない。第１基板１１と第１記録層１２との間に、ＳｉＯ_２、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２等のエンハンス層や耐溶剤層を設けてもよい。また、記録層と反射層の間に、ＳｉＯ_２、ＺｎＳ−ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等からなるエンハンス層や耐酸化層等を設けてもよい。さらに、反射層上に保護層を形成してもよい。この場合、保護層としては記録層及び反射層を保護できる機能を有する層であればよく、例えば、紫外線硬化樹脂、シリコーン系樹脂等によって形成し得る。また、必要に応じて第２基板２１上に、印刷層あるいは印刷受容層を設けてもよい。

［物理フォーマットの構成］
次に、参考形態の光ディスクにおける物理フォーマットの構成について説明する。

参考形態の光ディスクの光入射側に近い側の情報部（Ｌ０層）の物理フォーマットの構成例を図２に示した。Ｌ０層１０は、図２に示すように、内周側から、プリフォーマット領域５１（以下では、ＲＯＭ領域ともいう）と、情報記録領域５０とを有する。ＲＯＭ領域５１に対応する第１基板１１上の領域には、ディスク管理情報などを予めエンボスピットなどの形態にて記録されており、情報記録領域５０に対応する第１基板１１上の領域には、光ビームの案内溝（グルーブ）が形成されている。情報記録領域５０は、図２に示すように、ユーザ情報等の追記情報が記録再生される情報記録再生領域５５と、情報記録再生領域５５の内周側及び外周側にそれぞれ設けられた情報記録再生領域５５への記録条件を決めるためのテスト領域５４及び５６と、テスト領域５４の内周側及びテスト領域５６の外周側にそれぞれ設けられたバッファ領域５３及び５７とから構成される。なお、バッファ領域５３及び５７は、色素塗布型の光記録媒体等の作製において、記録層をスピンコートして形成する際に、記録を行う領域までの記録層膜厚を平坦に保つために設けられている。また、外周側のバッファ領域５７の外周側には、図２に示すように、ミラー領域５８（鏡面部）を設けた。

また、参考形態の光ディスクでは、図２に示すように、ＲＯＭ領域５１と情報記録領域５０との間には第３の領域として、遷移領域５２を設けた。参考形態では、遷移領域５０に対応する第１基板１１上の領域は鏡面とした。遷移領域５０は異なるフォーマット構成の間に設けられた領域であり、（１）ＲＯＭ領域５１の再生信号と、情報記録領域５０の再生信号のクロストークを防止する目的、及び、（２）色素塗布型の光記録媒体の記録層を基板上にスピンコートして形成する際に、ＲＯＭ領域５１で発生した塗布液の乱れを整えて記録層の膜厚を均一に形成するための安定化目的のために設けられる領域である。

一方、スペーサ層３０を介してＬ０層１０と隣接するＬ１層２０の物理フォーマットは、ＲＯＭ領域を設けない構成にしても良いが、参考形態の光ディスクでは、Ｌ０層１０と同じ物理フォーマット構成（図２の構成）とした。ただし、参考形態の光ディスクでは、後述するように、Ｌ０層１０の物理フォーマット内の各領域の半径位置とＬ１層２０の物理フォーマット内の各領域の半径位置とをずらして形成した。なお、Ｌ０層１０及びＬ１層２０共に、ＲＯＭ領域、情報記録領域、及び遷移領域を含むディスクの全領域上には、図１に示した各構成膜の積層体が形成されている。

参考形態の光ディスクの各情報部におけるＲＯＭ領域、遷移領域及び情報記録領域（第１基板上にグルーブが形成されている領域であり、情報記録再生領域、テスト領域、バッファ領域を含む領域）に対応する第１基板上に形成される凹凸パターンの一例を、図３に模式的に示す。ＲＯＭ領域３１には、図３に示すように、ピット３１ａが形成されており、このピット３１ａにより各情報部の管理情報などが記録されている。また、情報記録領域３３には、情報記録領域３３にユーザ情報等を記録する際の光ビームを案内するための溝（グルーブ）３３ａがスパイラル状に形成されている。情報記録領域３３には、記録マークにより情報が記録される。なお、情報記録領域３３にはアドレス情報などの付加情報を付与するためのプリピットが設けられていても良いし、また、グルーブを蛇行させて付加情報を記録しても良い。そして、プリフォーマット領域３１と情報記録領域３３との間に設けられた遷移領域３２は通常、溝もピットも施されない鏡面部のまま残される。なお、各々の領域上の構成膜が同じ積層構造であってもエンボスピットや溝による回折、溝部での記録層の膜厚変化等によって、各領域の反射率及び透過率は異なる。

［Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係］
参考形態の光ディスクでは、光入射側から遠い側の情報部であるＬ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の範囲に光ビームを照射する際に、光ビームが通過するＬ０層の領域の透過率が一定となるように、Ｌ０層の物理フォーマット内の各領域の半径位置とＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置とをずらして形成した。具体的には、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の範囲に光ビームを照射する際に、光ビームが、透過率の変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域を通過しないように、Ｌ０層及びＬ１層の各物理フォーマットの半径位置を調整した。

上記内容を具体的に数式で表わすと次のようになる。Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置、Ｌ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置、Ｌ０層の情報記録領域の最内周案内溝の半径位置、及び、Ｌ０層の情報記録領域の最外周案内溝の半径位置における光ディスクの中心からの距離をそれぞれＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４とし、Ｌ１層に光ビームが集光されている際のＬ０層における光ビームの半径をｒとしたときに、
Ｒ１≧Ｒ３＋ｒ …（１）
Ｒ２≦Ｒ４−ｒ …（２）
の関係が両方成立するように、Ｌ０層及びＬ１層の各物理フォーマットの半径位置を調整する。

上記（１）及び（２）式の関係を満足するＬ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係の一例を示したのが図４である。なお、実際に参考形態の光ディスクのＬ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係を設計する段階では、上述したようにＬ０層とＬ１層とを貼り合わせた際の偏心を考慮して、上記（１）’及び（２）’式を用いて設計することが好ましい。

図４は、スペーサ層３０を介して隣接するＬ０層１０及びＬ１層２０の各物理フォーマットの半径方向の概略構成断面図（図２中のＡ−Ａ断面）であり、図面の左側から右側に向かう方向が外周側方向となる。図４（ａ）は、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、上記（１）式の下限条件が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。すなわち、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及びＬ０層１０の情報記録領域５０の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）における光ディスクの中心からの距離Ｒ１及びＲ３と、Ｌ１層２０に光ビームが集光されている際のＬ０層１０における光ビームの半径ｒとの間に、Ｒ１＝Ｒ３＋ｒの関係が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０の物理フォーマット間の位置関係を示した図である。

一方、図４（ｂ）は、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対して上記（２）式の上限条件が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。すなわち、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）及びＬ０層１０の情報記録領域５０の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）における光ディスクの中心から距離Ｒ２及びＲ４と、Ｌ１層２０に光ビームが集光されている際のＬ０層１０における光ビームの半径ｒとの間に、Ｒ２＝Ｒ４−ｒの関係が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０の物理フォーマット間の位置関係を示した図である。

Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）に示すような半径位置の関係が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対してＲ１＝Ｒ３＋ｒ（上記（１）式の関係）が成立する。それゆえ、図４（ａ）に示すように、テスト領域６４の最内周トラック位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０の遷移領域５２及びＲＯＭ領域５１を通過しない。

また、図４（ａ）から明らかなように、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対しては、Ｒ２＜Ｒ４−ｒの関係（上記（２）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のミラー領域５８を通過しない。

一方、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０の外内周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対してＲ２＝Ｒ４−ｒ（上記（２）式の関係）が成立する。それゆえ、図４（ｂ）に示すように、テスト領域６６の最外周トラック位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０のミラー領域５８を通過しない。

また、図４（ｂ）から明らかなように、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対しては、Ｒ１＞Ｒ３＋ｒの関係（上記（１）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の遷移領域５２及びＲＯＭ領域５１を通過しない。

すなわち、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）及び（ｂ）に示すような位置関係（上記（１）及び（２）式の関係）が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５の全域に渡って集光される光ビームは、透過率が変動するＬ０層１０のＲＯＭ領域５１、遷移領域５２及びミラー領域５８を通過せず、Ｌ０層１０のグルーブが形成されている領域（情報記録領域）５０のみを通過する。Ｌ０層１０の情報記録領域５０は、全域に渡って溝が形成されている領域（均一な凹凸パターンが形成されている領域）であるので、Ｌ０層１０の情報記録領域５０を通過する光ビーム４０の透過率は情報記録領域５０全域に渡ってほぼ一定となる。それゆえ、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に照射される光ビーム４０は、透過率がほぼ一定のＬ０層１０の情報記録領域５０のみを通過するので、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に到達する光ビーム４０の光量変動を抑制することができる。

上述のように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図４に示すような位置関係（上記（１）及び（２）式の関係）が成立する参考形態の光ディスクでは、光量変動の非常に小さい光ビーム４０がＬ１層２０の内周側及び外周側のテスト領域６４及び６６に照射されるので、情報記録の際の最適な記録パワーを確実に決定することができる。さらに、Ｌ１層２０の情報記録再生領域６５に到達する光ビームの光量変動もまた非常に小さいので、最適な記録パワーで安定してユーザ情報等をＬ１層２０の情報記録再生領域６５に記録することができる。それゆえ、参考形態の光ディスクのように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの位置関係を上記（１）及び（２）式の関係が成立するように調整することにより、光ビーム４０の入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して、情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができる。

なお、上記参考形態では、上述のように、Ｌ１層の第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を有する光ディスクに対して説明したが、参考形態はこれに限定されない。Ｌ１層の第２情報記録領域の内周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（１）式の関係のみが成立するように、Ｌ０層の物理フォーマットとＬ１層の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良いし、また、Ｌ１層の第２情報記録領域の外周近傍のみにテスト領域を設けた場合には、上記（２）式の関係のみが成立するように、Ｌ０層の物理フォーマットとＬ１層の物理フォーマットとの半径位置の関係を調整すれば良い。いずれの場合においても、上述した参考形態の場合と同様に効果が得られることは明らかである。

実施形態
光ビームの入射側に近い側の情報部（Ｌ０層）の透過率は、Ｌ０層の基板形状の影響以外に、Ｌ０層の記録層の記録状態によっても変動する場合がある。例えば、Ｌ０層の記録層を色素材料で形成した場合、記録層への情報の記録前後で透過率が変化してしまうことがある。特に、記録パワーを決めるテスト領域では、記録パワーを低い方から最適な記録パワーより大きなパワーまで変化させて記録するので透過率変動はより大きくなる。また、テスト領域全域に渡って必ずしも試し書きが行われているとは限らないので、テスト領域内には記録領域と未記録領域とが混在する場合があり、そのような場合にもテスト領域を通過する光ビームの透過率が大きく変動する恐れがある。

実施形態では、Ｌ０層を通過する光ビームの光線透過率が、Ｌ０層内の基板形状のみならずテスト領域の記録状態によっても変化する場合を考慮した片面２層タイプの光ディスクの物理フォーマットについて説明する。なお、実施形態では、参考形態と同様に、Ｌ１層の第２情報記録領域内の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域を設けた光ディスクの物理フォーマットについて説明する。

［物理フォーマットの構成］
上述のような課題を解決するためには、光ビームの入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）のテスト領域に光ビームを照射して試し書きを行う際、及び、Ｌ１層の情報記録再生領域に光ビームを照射してユーザ情報等を記録再生する際に、光ビームがＬ０層のテスト領域を通過しないように、Ｌ０層の物理フォーマットとＬ１層の物理フォーマットとの位置関係を調整すれば良い。

上記内容を具体的に数式で表わすと次のようになる。Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置、Ｌ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置、Ｌ０層の情報記録領域内で情報が記録されている最内周トラックの半径位置、及び、Ｌ０層の情報記録領域内で情報が記録されている最外周トラックの半径位置における光ディスクの中心からのそれぞれの距離をＲ１、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６とし、Ｌ１層に光ビームが集光されている際のＬ０層における光ビームの半径をｒとしたときに、
Ｒ１≧Ｒ５＋ｒ …（３）
Ｒ２≦Ｒ６−ｒ …（４）
の関係が両方成立するように、Ｌ０層及びＬ１層の各物理フォーマットの半径位置を調整する。なお、実施形態では、Ｌ０層の物理フォーマットとＬ１層の物理フォーマットとの位置関係を変えたこと以外は、参考形態で説明した片面２層タイプの光ディスクと同じ膜構成（図１参照）とし、物理フォーマットの構成も同じ（図２参照）とした。

上記（３）及び（４）式の関係を満足するＬ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係の一例を示したのが図５である。なお、実際に実施形態の光ディスクのＬ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係を設計する段階では、参考形態と同様に、Ｌ０層とＬ１層とを貼り合わせた際の偏心を考慮して、上記（３）’及び（４）’式を用いて設計することが好ましい。

図５は、スペーサ層３０を介して隣接するＬ０層１０及びＬ１層２０の各物理フォーマットの半径方向の概略構成断面図（図２中のＡ−Ａ断面）であり、図面の左側から右側に向かう方向が外周側方向となる。図５（ａ）は、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対して、上記（３）式の下限条件が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。すなわち、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及びＬ０層１０の情報記録領域５０内で情報（ユーザ情報等の追記情報）が記録されている最内周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｉ）（図５中のＬ０層１０の情報記録再生領域５５の最内周トラック位置）における光ディスクの中心からの距離Ｒ１及びＲ５と、Ｌ１層２０に光ビーム４０を集光している際のＬ０層１０における光ビームの半径ｒとの間に、Ｒ１＝Ｒ５＋ｒの関係が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０の物理フォーマット間の位置関係を示した図である。

一方、図５（ｂ）は、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対して、上記（４）式の上限条件が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係を示した図である。すなわち、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）及びＬ０層１０の情報記録領域５０内で情報が記録されている最外周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｏ）（図５中のＬ０層１０の情報記録再生領域５５の最外周トラック位置）における光ディスクの中心からの距離Ｒ２及びＲ６と、Ｌ１層２０に光ビーム４０を集光している際のＬ０層１０における光ビームの半径ｒとの間に、Ｒ２＝Ｒ６−ｒの関係が成立する場合のＬ０層１０及びＬ１層２０の物理フォーマット間の位置関係を示した図である。

Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）に示すような半径位置の関係が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対してＲ１＝Ｒ５＋ｒ（上記（３）式の関係）が成立する。それゆえ、図５（ａ）に示すように、テスト領域６４の最内周トラック位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０のテスト領域５４、遷移領域５２及びＲＯＭ領域５１を通過しない。

また、図５（ａ）から明らかなように、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対しては、Ｒ２＜Ｒ６−ｒの関係（上記（４）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の外周側のテスト領域６６の最外周位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のテスト領域５６及びミラー領域５８を通過しない。

一方、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０の外内周側のテスト領域６６の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に対してＲ２＝Ｒ６−ｒ（上記（４）式の関係）が成立する。それゆえ、図５（ｂ）に示すように、テスト領域６６の最外周トラック位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）に光ビーム４０を集光させても、その光ビーム４０はＬ０層１０の外周側のテスト領域５６及びミラー領域５８を通過しない。

また、図５（ｂ）から明らかなように、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に対しては、Ｒ１＞Ｒ５＋ｒの関係（上記（３）式の関係）が成立するので、Ｌ１層２０の内周側のテスト領域６４の最内周位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）に光ビーム４０を集光させても、光ビーム４０はＬ１層１０の内周側のテスト領域５４、遷移領域５２及びＲＯＭ領域５１を通過しない。

すなわち、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）及び（ｂ）に示すような位置関係（上記（３）及び（４）式の関係）が成立する光ディスクでは、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５の全域に渡って集光される光ビームは、透過率が変動するＬ０層１０のＲＯＭ領域５１、遷移領域５２及びミラー領域５８のみならず記録状態によって透過率が変動する可能性のあるテスト領域５４，５６を通過せず、Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５のみを通過する。Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５には全域に渡って溝が形成されており、所定の記録パワーで情報が記録される。また、通常、情報記録はＬ０層１０から行われるので、Ｌ１層２０に情報を記録する時点ではＬ０層１０の情報記録再生領域５５全域に渡って均一にユーザ情報等が記録されている状態である。それゆえ、Ｌ０層１０の情報記録再生領域５５を通過する光ビームの透過率はほぼ均一になる。従って、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５（ａ）及び（ｂ）に示すような半径位置の関係が成立する本実施形態の光ディスクでは、Ｌ０層１０の第１基板の形状のみならずテスト領域５４，５６の記録状態によって光透過率が変動するような場合であっても、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に照射される光ビーム４０は、透過率がほぼ一定のＬ０層１０の情報記録再生領域５５のみを通過するので、Ｌ１層２０のテスト領域６４，６６及び情報記録再生領域６５に到達する光ビーム４０の光量変動を抑制することができる。

上述のように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの間に図５に示すような位置関係（上記（３）及び（４）式の関係）が成立する実施形態の光ディスクでは、Ｌ０層１０の第１基板の形状のみならずテスト領域５４，５６の記録状態によって光透過率が変動するような場合であっても、光量変動の非常に小さい光ビーム４０がＬ１層２０の内周側及び外周側のテスト領域６４及び６６に照射されるので、情報記録の際の最適な記録パワーを確実に決定することができる。

さらに、Ｌ１層２０の情報記録再生領域６５に到達する光ビームの光量変動もまた非常に小さいので、最適な記録パワーで安定してユーザ情報等をＬ１層２０の情報記録再生領域６５に記録することができる。

それゆえ、本実施形態の片面２層タイプの光ディスクのように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの半径位置の関係を上記（３）及び（４）式の関係が成立するように調整することにより、光ビーム４０の入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して、情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができる。

［参考例１］
参考例１では、記録層を色素材料で形成した片面２層タイプの赤色レーザ対応の追記型光ディスクを作製した。この例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足するように、各情報部の物理フォーマットを調整した。また、この例の光ディスクの膜構成は図１に示した膜構成と同じとした。

なお、図１に示すような片面２層タイプの光記録媒体の作製には、大別すると主に２種類の方法がある。第１の方法は、一枚の基板上にＬ０層及びＬ１層の２つの記録層を順次積層する方法である。第２の方法は、Ｌ０層とＬ１層の記録層を別の基板上に積層したのち、両者を張り合わせる方法である。第２の方法で作製する場合には、Ｌ１層内の基板上の各積層膜の積層順序は、Ｌ０層の積層順序と逆にする必要がある。参考例１の光ディスクに対しては、上記いずれの作製方法を用いてもその効果を発揮できるが、この例では、後者の方法を採用した。

［透過率評価用テストディスクの作製及び透過率測定］
まず、参考例１の光ディスクの詳細を説明する前に、記録層に色素材料を用いた片面２層タイプの赤色レーザ対応の光ディスクにおけるＬ０層の物理フォーマットと透過率との関係について説明する。そこで、Ｌ０層の物理フォーマットと透過率との関係を調べるために、ＤＶＤ−Ｒと同様の物理フォーマットを有する片面２層タイプのテストディスク（以下では、透過率評価用テストディスクともいう）を作製した。

透過率評価用テストディスクのＬ０層の物理フォーマットは、図７に示すように、内周側からＲＯＭ領域９１、遷移領域９２及び情報記録領域９３（バッファ領域、テスト領域及び情報記録再生領域を含む）から構成した。ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の基板上の領域にはエンボスピットを形成し、情報記録領域９３に対応する基板上には溝を形成した。また、遷移領域９２に対応するＬ０層の基板上の領域は鏡面とした。具体的には、ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の基板上の領域には、トラックピッチ０．７４μｍ、半値幅０．３２μｍのピット列を形成してＤＶＤ−ＲＯＭデータを記録した。情報記録領域９３に対応する基板上には、トラックピッチ０．７４ｎｍ、半値幅０．３２μｍ及び深さ１７０ｎｍの溝を形成した。また、遷移領域９２の径方向の幅は約１００μｍとした。一方、透過率評価用テストディスクのＬ１層の基板表面には、ディスクの最内周から最外周までトラックピッチ０．７４μｍ、半値幅０．３７μｍ、深さ３０ｎｍの溝（グルーブ）を形成した。なお、透過率評価用テストディスクの膜構成は図１に示した構成とした。

さらに、ここでは、透過率評価の基準となるテストディスクとして、Ｌ０層の代わりにダミー基板（表面に凹凸パターンが形成されていない基板）をＬ１層と貼り合わせたテストディスク（以下では、基準用テストディスクともいう）も作製した。

次に、図１を参照ながら透過率評価用テストディスクの作製方法について説明する。なお、参考例１の片面２層タイプの光ディスクの作製方法は、以下に説明する透過率評価用テストディスクの作製方法と同様である。

まず、Ｌ０層１０を次のようにして作製した。第１基板１１上に形成されるピット列及び溝（グルーブ）パターンに対応する凹凸パターンが形成されたスタンパを作製する。次いで、作製されたスタンパを既存の射出成型機に装着し、光情報記録媒体グレードのポリカーボネート樹脂を射出成型することによりテストディスクのＬ０層１０の第１基板１１を得た。ここでは、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を作製した。

次いで、第１基板１１の凹凸パタ−ン形成面上に、下記化学式（化１）で表わされるアゾ系色素１．３重量％の濃度を有するテトラフルオロプロパノール溶液を、スピンコート法により塗布した。なお、上記色素溶液を塗布する際に、色素溶液をフィルタで濾過して不純物を取り除いた。スピンコートは回転数１００ｒｐｍで回転している第１基板１１上に色素溶液０．５ｇをディスペンサーで供給し、その後、１０００ｒｐｍから３０００ｒｐｍまで第１基板１１を回転させ、最後に５０００ｒｐｍで２秒間回転させた。このとき、上記溶液を、グルーブ部分で厚さが１３０ｎｍとなるように塗布した。次いで、上記色素材料を塗布した第１基板１１を７０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。こうして、第１基板１１上に第１記録層１２を形成した。

さらに、第１記録層１２上に、スパッタ法を用いて、第１反射層１３として厚さ１６０ｎｍのＡｇ膜を形成した。このようにしてＬ０層１０を作製した。

次に、Ｌ１層２０を次のようにして作製した。まず、Ｌ１層２０の第２基板２１をＬ０層１０の第１基板１１と同様にして作製した。Ｌ１層２０の第２基板２１は、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板であり、基板表面には上述のように、内周側から外周側に渡ってトラックピッチ０．７４μｍ、半値幅０．３７μｍ、深さ３０ｎｍの溝を形成した。なお、Ｌ１層２０においては、レーザ光は第２基板２１の溝パターン形成面側から照射されることになるので、該溝パターンはそれを考慮してＬ０層１０とは逆方向のスパイラルに形成した。そして、Ｌ１層２０では、第２基板２１の溝パタ−ン形成面上にＬ０層１０とは逆の順序で各構成層を形成した。

まず、第２基板２１上に、スパッタ法を用いて、第２反射層２３として厚さ１６０ｎｍのＡｇ膜を形成した。次いで、第２反射層２３上に、上記化学式（化１）で表わされるアゾ系色素を１．３重量％の濃度で有するテトラフルオロプロパノール溶液を、スピンコート法により塗布して第２記録層２２を形成した。なお、この際、上述したＬ０層１０の第１記録層１２の形成時と同じ条件で上記溶液を塗布し、第２記録層２２を形成した。膜厚は２００ｎｍとした。次いで、上記色素材料を塗布した第２基板２１を７０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。次いで、第２記録層２２上に、スパッタ法により、界面層２４として膜厚１０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ_２膜を形成した。このようにしてＬ１層２０を形成した。

次に、上述のようにして作製されたＬ０層１０とＬ１層２０とを次のようにして貼り合せた。まず、Ｌ０層１０の第１反射層１３上に、スペーサ層３０としてＵＶ樹脂材料をスピンコート法により塗布した。さらに、その上にＬ１層２０を載置した。この際、Ｌ０層１０の第１反射層１３と、Ｌ１層２０の界面層２４とがスペーサ層３０を介して対向するようにＬ１層２０をスペーサ層３０上に載置した。次いで、この状態で、Ｌ０層１０の第１基板１１側からＵＶ照射を施すことにより、該ＵＶ樹脂材料を硬化させて、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを貼り合せた。スペーサ層３０の厚さは５０〜５５μｍが好適であり、参考例１では５５μｍとした。上述のようにして、透過率評価用テストディスクを作製した。なお、基準用テストディスクは、Ｌ０層の代わりにダミー基板をＬ１層と貼り合わせたこと以外は、上記方法と同じ方法で作製した。

上述の作製方法で用意した透過率評価用テストディスク及び基準用テストディスクにおけるＬ０層の透過率を測定した。なお、溝部（情報記録領域）におけるＬ０層の透過率は、未記録の状態及び記録後の状態で測定した。この際の記録条件は、線速度をＤＶＤの２倍速相当の線速度とし、記録パワーを１２ｍＷとした。測定に用いたレーザ光の波長は６５０ｎｍとし、絞り込みレンズの開口数はＮＡ＝０．６とした。透過率測定は波長６５０ｎｍの平行光を用いて行った。Ｌ０層の透過率の評価結果を表１に示した。なお、表１中の「無し」の欄の透過率は、基準用テストディスクの透過率である。

さらに、Ｌ０層の各領域を介してＬ１層にレーザ光を照射した場合の、Ｌ１層における記録パワーの最適値を調べた。その際、記録パルスのストラテジーは同じとし、アシンメトリがない記録パワーを最適記録パワーとした。その結果を表２に示した。なお、表２中の「無し」の欄の最適記録パワーは、基準用テストディスクの最適記録パワーである。

表１及び２の結果から明らかなように、光ビームが通過するＬ０層の第１基板の形状により、Ｌ０層の透過率が異なり、Ｌ１層における最適な記録パワーも変化することが分かった。また、表１から明らかなように、この例では、記録層に色素材料を用いているため、第１記録層の記録状態によってもＬ０層の透過率が多少変動することが分かった。それゆえ、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域に光ビームを照射して情報の記録再生等を行う場合には、光ビームが通過するＬ０層の領域の透過率を一定に保つようにすることが重要であることが明らかになった。

［参考例１の光ディスクの構成］
参考例１では、Ｌ０層及びＬ１層がともに図２に示すような物理フォーマットで形成され、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマット内の各領域の位置関係が表３に示すような関係を有する片面２層タイプの光ディスクを作製した。なお、表３には、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマットを構成する各領域の開始半径位置と終了半径位置を記載した。また、表３に記載の数値は光ディスクの設計段階の値であり、Ｌ０層の欄に記載の数値はＬ０層の中心からの距離であり、Ｌ１層の欄に記載の数値はＬ１層の中心からの距離である。

また、この例の光ディスクでは、Ｌ０層のトラック数とＬ１層のトラック数が同じになるように、すなわち、Ｌ０層とＬ１層の記録容量が同じになるように、Ｌ１層のトラックピッチをＬ０層のトラックピッチより狭くした。具体的には、Ｌ０層のトラックピッチを０．７４μｍとし、Ｌ１層のトラックピッチを０．７３６μｍとした。なお、この例の光ディスクにおけるＬ０層の情報記録領域に対応する第１基板上の領域に形成された溝の寸法は、透過率評価用ディスクと同様の寸法（トラックピッチ０．７４μｍ、半値幅０．３２μｍ及び深さ１７０ｎｍ）とし、Ｌ１層の情報記録領域に対応する第２基板上の領域に形成された溝の寸法は、トラックピッチ０．７３６μｍ、半値幅０．３７μｍ及び深さ３０ｎｍとした。

この例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット構成を同じにしたこと、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を表３に示すように調整したこと、並びにＬ１層とＬ０層とのトラックピッチを変えたこと以外は、上記透過率評価用テストディスクと同じ構造とした。また、この例の光ディスクは、上記透過率評価用テストディスクと同様の方法で作製した。

上述の透過率の測定結果（表１）で明らかにしたように、光ビームが通過するＬ０層の第１基板の形状により、Ｌ０層の透過率が大きく変動するので、この例の光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域を通過せず、透過率変動の少ないＬ０層の情報記録領域（溝が形成されている領域）のみを通過するように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の位置関係を調整した。

この例の光ディスクでは、表３から明らかなように、設計段階においては、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’＝２３．９１０ｍｍ、Ｌ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ２’＝５７．９２０ｍｍ、Ｌ０層の情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ３’＝２３．８１０ｍｍ、そして、Ｌ０層の情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ４’＝５８．０２０ｍｍとなる。また、この例の光ディスクの記録再生には、波長６５０ｎｍのレーザ光を用い、絞り込みレンズには開口数ＮＡ＝０．６のレンズを用いた。さらに、光ディスクのスペーサ層は波長６５０ｎｍにおける屈折率ｎｓ＝１．５である材料で形成し、その厚さＤを５５μｍとしたので、この例の光ディスクにおいて、レーザ光をＬ１層に集光している際のＬ０層におけるレーザ光の半径ｒは約２０μｍとなる。また、この例では、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐを７０μｍとした。

それゆえ、この例の光ディスクでは、設計段階において、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及びＬ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’及びＲ２’と、Ｌ０層の情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）及びＬ０層の情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ３’およびＲ４’と、Ｌ０層におけるレーザ光の半径ｒと、偏心量ＲＲ_ｐ−ｐとの間に、上記（１）’及び（２）’式の関係が成立する。それゆえ、上記設計内容で作製されたこの例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足する。従って、この例で作製された光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域を通過せず、透過率変動の非常に小さいＬ０層の情報記録領域のみを通過する。

［参考例２］
参考例２では、Ｌ０層及びＬ１層がともに同一トラックピッチで形成され、且つ、表４に示すように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置が同一である片面２層タイプの光ディスクを作製した。すなわち、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足しない光ディスクを作製した。なお、Ｌ０層及びＬ１層のトラックピッチを同じにしたこと、並びにＬ０層とＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を同じにしたこと以外は、参考例１の光ディスクと同じ構成とし、同じ方法で作製した。また、表４の記載の半径位置は設計段階での値であり、Ｌ０層の欄に記載の数値はＬ０層中心からの距離であり、Ｌ１層の欄に記載の数値はＬ１層中心からの距離である。

［記録特性］
参考例１及び２の片面２層タイプの光ディスクを各々５枚ずつ試作して、Ｌ０層に記録を行った後、Ｌ１層に記録を行った。その結果、参考例１の光ディスクでは、５枚全てにおいて１回の記録動作でＬ１層に正常に記録することができた。しかしながら、参考例２の光ディスクでは、１回の記録動作でＬ１層に正常に記録できたディスクが１枚、記録動作を複数回繰り返した後にＬ１層に正常に記録できたディスクが３枚、残りの１枚は、記録を行うことができなかった。この結果から、参考例１の光ディスクのように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの位置関係を上記（１）及び（２）式の関係が成立するように調整することにより、Ｌ１層に対して情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができることが分かった。

また、参考例２の光ディスクのうち記録動作をリトライした光ディスク及び記録できなかった光ディスクのＬ１層の内周側のテスト領域を調べたところ、トラック１周当たりに１周期の振幅変動があることが分かった。これは、Ｌ１層の内周側のテスト領域に到達するレーザ光が、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心の影響によってＬ０層の鏡面領域及びＲＯＭ領域を通過したためである。

実施例１では、記録層を色素材料で形成した片面２層タイプの青色レーザ対応の追記型光ディスクを作製した。この例の光ディスクでは、記録層を色素材料で形成しているので、参考例１の表１で説明したように、光入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して情報の記録再生を行う際に、光入射側から近い側の情報部（Ｌ０層）のテスト領域の記録状態によってはレーザ光の透過率が多少変動する可能性がある。それゆえ、この例の光ディスクでは、さらにこの点を考慮し、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（３）及び（４）式を満足するように、各情報部の物理フォーマットを調整した。また、この例の光ディスクの膜構成は図１に示した膜構成と同じとした。

［透過率評価用テストディスクの作製及び透過率測定］
まず、実施例１の光ディスクの詳細を説明する前に、参考例１と同様に、記録層に色素材料を用いた片面２層タイプの青色レーザ対応の光ディスクにおけるＬ０層の物理フォーマットと透過率との関係について説明する。そこで、Ｌ０層の物理フォーマットと透過率との関係を調べるための片面２層タイプのテストディスク（以下、透過率評価用テストディスクともいう）を作製した。さらに、透過率評価の基準となるテストディスクとして、Ｌ０層の代わりにダミー基板をＬ１層と貼り合わせたテストディスク（以下、基準用テストディスクともいう）も作製した。

透過率評価用テストディスクのＬ０層の物理フォーマットは、図７に示すように、内周側からＲＯＭ領域９１、遷移領域９２及び情報記録領域９３（バッファ領域、テスト領域及び情報記録再生領域を含む）から構成した。ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の基板上の領域にはエンボスピットを形成し、情報記録領域９３に対応する基板上の領域には溝を形成した。また、遷移領域９２に対応するＬ０層の基板上の領域は鏡面とした。具体的には、ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の基板上の領域には、トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅１６０ｎｍのピット列を形成してＲＯＭデータを記録した。情報記録領域９３に対応する基板上の領域には、トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅２２０ｎｍ及び深さ７０ｎｍの溝を形成した。また、遷移領域９２の径方向の幅は約１０μｍとした。一方、透過率評価用テストディスクのＬ１層の基板表面には、ディスクの最内周から最外周に渡ってトラックピッチ４００ｎｍ、半値幅２２０ｎｍ及び深さ１５ｎｍの溝（グルーブ）を形成した。なお、この例における透過率評価用テストディスクの膜構成は図１に示した構成とした。

次に、図１を参照ながら透過率評価用テストディスクの作製方法について説明する。なお、実施例１の片面２層タイプの光ディスクの作製方法は、以下に説明する透過率評価用テストディスクの作製方法と同様である。

まず、Ｌ０層１０を次のようにして作製した。第１基板１１上に形成されるピット列及び溝（グルーブ）パターンに対応する凹凸パターンが形成されたスタンパを作製する。次いで、作製されたスタンパを既存の射出成型機に装着し、光情報記録媒体グレードのポリカーボネート樹脂を射出成型することによりテストディスクのＬ０層１０の第１基板１１を得た。ここでは、第１基板１１として、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を作製した。

次いで、第１基板１１の凹凸パタ−ン形成面上に、下記化学式（化２）で表わされるアゾ系色素を０．７重量％の濃度で含有するテトラフルオロプロパノール溶液を、スピンコート法により塗布した。なお、上記色素溶液を塗布する際に、色素溶液をフィルタで濾過して不純物を取り除いた。スピンコートは回転数１００ｒｐｍで回転している第１基板１１上に色素溶液０．５ｇをディスペンサーで供給し、その後、１０００ｒｐｍから３０００ｒｐｍまで第１基板１１を回転させ、最後に５０００ｒｐｍで２秒間回転させた。このとき、上記溶液を、グルーブ部分で厚さが１１０ｎｍとなるように塗布した。次いで、上記色素材料を塗布した第１基板１１を８０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。こうして、第１基板１１上に第１記録層１２を形成した。

さらに、第１記録層１２上に、スパッタ法を用いて、第１反射層１３として厚さ１０ｎｍのＡｇ膜を形成した。このようにしてＬ０層１０を作製した。

次に、Ｌ１層２０を次のようにして作製した。まず、Ｌ１層２０の第２基板２１はＬ０層１０の第１基板１１と同様にして作製した。なお、Ｌ１層２０においては、レーザ光は第２基板２１の溝パターン形成面側から照射されることになるので、該溝パターンはそれを考慮してＬ０層とは逆方向のスパイラルに形成した。そして、Ｌ１層２０では、第２基板２１の溝パタ−ン形成面上にＬ０層１０とは逆の順序で各構成膜を形成した。

まず、第２基板２１上に、スパッタ法を用いて、第２反射層２３として厚さ１３０ｎｍのＡｇ膜を形成した。次いで、第２反射層２３上に、上記化学式（化２）で表わされるアゾ系色素を０．７重量％の濃度で含有するテトラフルオロプロパノール溶液を、スピンコート法により塗布して第２記録層２２を形成した。なお、この際、上記Ｌ０層１０の第１記録層１２の形成時と同じ条件で上記溶液を塗布して第２記録層２２を形成した。膜厚は１００ｎｍとした。上記色素材料を塗布した第２基板２１を８０℃にて１時間乾燥させ、さらに、室温にて１時間冷却した。次いで、第２記録層２２上に、スパッタ法により、界面層２４としてＺｎＳ−ＳｉＯ_２膜を１０ｎｍの厚さで形成した。このようにしてＬ１層２０を形成した。

次に、上述のようにして作製されたＬ０層１０とＬ１層２０とを次のようにして貼り合せた。まず、Ｌ０層１０の第１反射層１３上に、スペーサ層３０としてＵＶ樹脂材料をスピンコート法により塗布した。さらに、その上にＬ１層２０を載置した。この際、Ｌ０層１０の第１反射層１３と、Ｌ１層２０の界面層２４とがスペーサ層３０を介して対向するようにＬ１層２０をスペーサ層３０上に載置した。次いで、この状態で、Ｌ０層１０の第１基板１１側からＵＶ照射を施すことにより、該ＵＶ樹脂材料を硬化させて、Ｌ０層１０とＬ１層２０とを貼り合せた。スペーサ層３０の厚さは１５〜２５μｍが好適であり、本実施例では２５μｍとした。上述のようにして、透過率評価用テストディスクを作製した。なお、基準用テストディスクは、Ｌ０層の代わりにダミー基板をＬ１層と貼り合わせたこと以外は、上記方法と同じ方法で作製した。

上述の作製方法で用意した透過率評価用テストディスク及び基準用テストディスクにおけるＬ０層の透過率を測定した。なお、溝部（情報記録領域）におけるＬ０層の透過率は、未記録の状態及び記録後の状態で測定した。この測定における記録条件は、線速度を６．６１ｍ／ｓとし、記録パワーを９．０ｍＷとした。その評価結果を表５に示した。なお、測定に用いたレーザ光の波長は４０５ｎｍとし、絞り込みレンズの開口数はＮＡ＝０．６５とした。透過率測定は、波長４０５ｎｍの平行光を用いて行った。なお、表５中の「無し」の欄の透過率は、基準用テストディスクの透過率である。

さらに、Ｌ０層の各領域を介してＬ１層にレーザ光を照射した場合の、Ｌ１層における記録パワーの最適値を調べた。その際、記録パルスのストラテジーは同じとし、アシンメトリがない記録パワーを最適記録パワーとした。その結果を表６に示した。なお、表６中の「無し」の欄の最適記録パワーは、基準用テストディスクの最適記録パワーである。

表５及び６の結果から明らかなように、記録層を色素材料で形成した場合には、参考例１の透過率の評価結果と同様に、波長４０５ｎｍのレーザ光に対しても、光ビームが通過するＬ０層の第１基板の形状によってＬ０層の透過率が異なり、Ｌ１層における最適な記録パワーも変化することが分かった。また、表５から明らかなように、第１記録層の記録状態によっても、Ｌ０層の透過率が多少変動することが分かった。それゆえ、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域に光ビームを照射して情報の記録再生等を行う場合には、光ビームが通過するＬ０層の領域の透過率を一定に保つようにすることが重要であることが明らかになった。

［実施例１の光ディスクの構成］
実施例１では、Ｌ０層及びＬ１層がともに図２に示すような物理フォーマットで形成され、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が表７に示すような関係を有する片面２層タイプの光ディスクを作製した。なお、表７には、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマットを構成する各領域の開始半径位置と終了半径位置を記載した。また、表７に記載の半径位置は設計段階での値であり、Ｌ０層の欄に記載の数値はＬ０層中心からの距離であり、Ｌ１層の欄に記載の数値はＬ１層中心からの距離である。

また、この例の光ディスクでは、Ｌ１層のトラック数とＬ０層のトラック数を同じにするため、すなわち、Ｌ０層及びＬ１層の記録容量を同一にするため、並びに、各領域の開始半径位置及び終了半径位置を調整するために、Ｌ１層のトラックピッチをＬ０層のトラックピッチより狭くした。具体的には、Ｌ０層のトラックピッチを４００ｎｍとし、Ｌ１層のトラックピッチを３９５ｎｍとした。なお、この例の光ディスクにおけるＬ０層の情報記録領域に対応する第１基板上の領域に形成された溝の寸法は、透過率評価用ディスクと同様（トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅２２０ｎｍ及び深さ７０ｎｍ）とし、Ｌ１層の情報記録領域に対応する第２基板上の領域に形成された溝の寸法は、トラックピッチ３９５ｎｍ、半値幅２１８ｎｍ及び深さ１５ｎｍとした。

なお、この例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット構成を同じにしたこと、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を表７に示すように調整したこと、並びにＬ１層とＬ０層とのトラックピッチを変えたこと以外は、上記透過率評価用テストディスクと同じ構造とした。また、この例の光ディスクは、上記透過率評価用テストディスクと同様の方法で作製した。

上述の透過率の測定結果（表５に示した結果）で明らかにしたように、Ｌ０層の記録層に色素材料を用いた場合には記録層の記録状態によっても透過率が変動するので、この例の光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域、ミラー領域及びテスト領域を通過せず、透過率変動の少ないＬ０層の情報（ユーザ情報等の追記情報）が記録される領域（図２中の情報記録再生領域５５）のみを通過するように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の位置関係を調整した。

この例の光ディスクでは、表７から明らかなように、設計段階において、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’＝２４．０６４ｍｍ、Ｌ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ２’＝５７．８５７ｍｍ、Ｌ０層の情報記録再生領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｉ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ５’＝２４．０００ｍｍ、そして、Ｌ０層の情報記録再生領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｏ）におけるＬ０中心からの距離Ｒ６’＝５７．９２１ｍｍとなる。また、この例の光ディスクの記録再生には、波長４０５ｎｍのレーザ光を用い、絞り込みレンズには開口数ＮＡ＝０．６５のレンズを用いた。さらに、光ディスクのスペーサ層は波長４０５ｎｍにおける屈折率ｎｓ＝１．５である材料で形成し、その厚さＤを２５μｍとしたので、この例の光ディスクにおいて、レーザ光をＬ１層に集光している際のＬ０層におけるレーザ光の半径ｒは１１．５μｍとなる。また、この例では、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐを５０μｍとした。

それゆえ、この例の光ディスクでは、設計段階において、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及びＬ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’及びＲ２’と、Ｌ０層の情報記録再生領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｉ）及びＬ０層の情報記録再生領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（０，Ｄ，ｏ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ５’及びＲ６’と、Ｌ０層におけるレーザ光の半径ｒと、偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐとの間に、上記（３）’及び（４）’式の関係が成立する。それゆえ、上記設計内容で作製されたこの例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（３）及び（４）式を満足する。従って、この例で作製された光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域、ミラー領域及びテスト領域を通過せず、透過率変動の非常に小さいＬ０層の情報記録再生領域のみを通過する。

［比較例１］
比較例１では、Ｌ０層及びＬ１層がともに同一トラックピッチで形成され、且つ、表８に示すように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置が同一である片面２層タイプの光ディスクを作製した。すなわち、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（３）及び（４）式を満足しない光ディスクを作製した。なお、Ｌ０層及びＬ１層のトラックピッチを同じにしたこと、並びにＬ０層とＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を同じにしたこと以外は、実施例１の光ディスクと同じ構成とし、同じ方法で作製した。また、表８に記載の半径位置は設計段階での値であり、Ｌ０層の欄に記載の数値はＬ０層中心からの距離であり、Ｌ１層の欄に記載の数値はＬ１層中心からの距離である。

［記録特性］
実施例１及び比較例１の片面２層タイプの光ディスクを各々５枚ずつ試作して、Ｌ０層に記録を行った後、Ｌ１層に記録を行った。その結果、実施例１の光ディスクでは、５枚全てにおいて１回の記録動作でＬ１層に正常に記録することができた。しかしながら、比較例１の光ディスクでは、Ｌ１層への１回の記録動作で正常に記録できたディスクが１枚、記録動作を複数回繰り返した後にＬ１層に正常に記録できたディスクが３枚、残りの１枚は、記録を行うことができなかった。この結果から、実施例１の光ディスクのように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの位置関係を上記（３）及び（４）式の関係が成立するように調整することにより、Ｌ１層に対して情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができることが分かった。

また、比較例１の光ディスクのうち記録動作をリトライした光ディスク及び記録できなかった光ディスクのＬ１層の内周側のテスト領域を調べたところ、トラック１周当たりに１周期の振幅変動があることが分かった。これは、Ｌ１層の内周側のテスト領域に到達するレーザ光が、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心の影響によってＬ０層の鏡面領域及びＲＯＭ領域を通過したためである。

［参考例３］
参考例３では、記録層を相変化材料で形成した片面２層タイプの青色レーザ対応の書換型光ディスクを作製した。この例の光ディスクでは、記録層を相変化材料で形成しているので、後述するように、光入射側から遠い側の情報部（Ｌ１層）に対して情報の記録再生を行う際に、光入射側から近い側の情報部（Ｌ０層）の基板形状によりレーザ光の透過率は変動するが、テスト領域の記録状態によってはレーザ光の透過率はほとんど変動しない。それゆえ、この例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足するように、各情報部の物理フォーマットを調整した。

この例で作製した片面２層タイプの書換型光ディスクの概略断面図を図８に示した。この例の光ディスク３００は、図８に示すように、Ｌ０層７０（第１情報部）とＬ１層８０（第２情報部）とをスペーサ層９０を介して貼り合せた構造を有する。

Ｌ０層７０は、図８に示すように、第１基板７１上に、第１保護層７２、第１界面層７３、第１記録層７４、第２界面層７５、第２保護層７６、第１反射層７７及び第３保護層７８が順次積層された構造を有する。また、Ｌ１層８０は、図８に示すように、第２基板８１上に、第２反射層８７、第２保護層８６、第２界面層８５、第２記録層８４、第１界面層８３及び第１保護層８２が順次積層された構造を有する。そして、Ｌ０層７０の第３保護層７８とＬ１層８０の第１保護層８２とが対向するように、Ｌ０層７０とＬ１層８０とがスペーサ層９０を介して貼り合わされている。なお、この例では、図８に示すように、Ｌ０層７０の第１基板７１側からレーザ光４０が入射される。

［透過率評価用テストディスクの作製及び透過率測定］
まず、参考例３の光ディスクの詳細を説明する前に、この例においても、記録層に相変化材料を用いた片面２層タイプの青色レーザ対応の光ディスクにおけるＬ０層の物理フォーマットと透過率との関係について説明する。そこで、Ｌ０層の物理フォーマットと透過率との関係を調べるための片面２層タイプのテストディスク（以下、透過率評価用テストディスクともいう）を作製した。さらに、透過率評価の基準となるテストディスクとして、Ｌ０層の代わりにダミー基板をＬ１層と貼り合わせたテストディスク（以下、基準用テストディスクともいう）も作製した。なお、透過率評価用テストディスクの膜構成は図８に示した膜構成とした。

以下に、図８を参照しながら透過率評価用テストディスクの作製方法について説明する。なお、参考例３の片面２層タイプの書換型光ディスクの作製方法は、以下に説明する透過率評価用テストディスクの作製方法と同様である。

まず、Ｌ０層７０は次のようにして作製した。Ｌ０層７０の第１基板７１には、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を用いた。なお、Ｌ０層７０の物理フォーマットの構成は、図７に示すように、内周側からＲＯＭ領域９１、遷移領域９２及び情報記録領域９３から構成した。ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の第１基板７１上の領域にはエンボスピットを形成し、情報記録領域９３に対応する第１基板７１上の領域には溝を形成した。また、遷移領域９２に対応する第１基板７１上の領域は鏡面とした。具体的には、ＲＯＭ領域９１に対応するＬ０層の第１基板７１上の領域には、トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅１６０ｎｍのピット列を形成した。情報記録領域９３に対応する第１基板７１上の領域には、トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅２２０ｎｍ、深さ２０ｎｍの溝を形成した。そして、遷移領域９２に対応する第１基板７１上の領域は径方向の幅が約１０μｍの鏡面で形成した。このような第１基板７１上の凹凸パターンは、参考例１と同様にスタンパを用いて形成した。

次に、Ｌ０層７０の第１基板７１上に、スパッタリングプロセスにより、第１保護層７２、第１界面層７３、第１記録層７４、第２界面層７５、第２保護層７６、第１反射層７７及び第３保護層７８を順次積層した。この際、第１保護層７２は膜厚５０ｎｍの（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０で形成し、第１界面層７３は膜厚１ｎｍのＧｅ_８Ｃｒ_２−Ｎで形成し、第１記録層７４は膜厚７ｎｍのＢｉ_４．５Ｇｅ_４８Ｔｅ_４７．５で形成し、第２界面層７５は膜厚２ｎｍのＧｅ_８Ｃｒ_２−Ｎで形成し、第２保護層７６は膜厚７ｎｍの（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０で形成し、第１反射層７７は膜厚８ｎｍのＡｇで形成し、そして、第３保護層７８は膜厚２５ｎｍの（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０で形成した。

そして、上記のように作製したＬ０層７０の単板ディスクに対して、波長８１０ｎｍ、ビーム長径９６μｍ及び短径１μｍの楕円ビームを有するレーザ光を照射して初期化を行った。このようにして、Ｌ０層７０を作製した。

次に、Ｌ１層８０を次のようにして作製した。まず、Ｌ１層８０の第２基板８１には、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を用いた。第２基板８１の表面にはディスク最内周から最外周までトラックピッチ４００ｎｍ、半値幅１８０ｎｍ、深さ２０ｎｍの溝（グルーブ）を形成した。なお、レーザ光４０は、図８に示すように、Ｌ１層８０に対して第２基板８１の溝パターン形成面側から照射されることになるので、該溝パターンはそれを考慮してＬ０層７０とは逆方向のスパイラルで形成した。

次に、Ｌ１層８０の第２基板８１の溝パターン形成面上に、スパッタリングプロセスにより、第２反射層８７、第２保護層８６、第２界面層８５、第２記録層８４、第１界面層８３及び第１保護層８２を順次積層した。すなわち、Ｌ１層８０では、Ｌ０層７０の構成膜の積層順序とは逆の順序でＬ１層８０の各構成膜を形成した。この際、第２反射層８７は膜厚１５０ｎｍのＡｇで形成し、第２保護層８６は膜厚１１ｎｍの（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０で形成し、第２界面層８５は膜厚２ｎｍのＧｅ_８Ｃｒ_２−Ｎで形成し、第２記録層８４は膜厚１１ｎｍのＢｉ_４．５Ｇｅ_４８Ｔｅ_４７．５で形成し、第１界面層８３は膜厚７ｎｍのＧｅ_８Ｃｒ_２−Ｎで形成し、そして、第１保護層８２は膜厚６０ｎｍの（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０で形成した。このようにしてＬ１層８０を作製した。

次いで、Ｌ１層８０の第１保護層８２上に、ＵＶ樹脂材料をスピンコート法により塗布した。この状態で、ＵＶ照射を施して該ＵＶ樹脂材料を硬化し、スペーサ層９０の一部であるＵＶ樹脂層９０ａを形成した。ＵＶ樹脂層９０ａの膜厚は１０μｍとした。次いで、ＵＶ樹脂層９０ａが形成されたＬ１層８０の単板ディスクに対して、Ｌ０層７０と同様に、波長８１０ｎｍ、ビーム長径９６μｍ及び短径１μｍの楕円ビームを有するレーザ光を照射して初期化を行った。この際、初期化に用いた装置では、レーザ光を照射する光ヘッドと上記単板ディスクとの間に０．６ｍｍ厚の光学ガラスを挿入して球面収差補正を行った。

次に、上記方法で作製されたＬ０層７０とＬ１層８０とを次のようにして貼り合わせた。まず、Ｌ０層７０の第３保護層７８上にＵＶ樹脂材料をスピンコート法により塗布して、ＵＶ樹脂層９０ｂを形成した。さらに、その上にＬ１層８０を載置した。この際、図８に示すように、Ｌ０層７０の第３保護層７８とＬ１層８０の第１保護層８２とがスペーサ層９０を介して対向するようにＬ１層８０を載置した。この状態で、Ｌ０層７０側からＵＶ照射を施すことにより、ＵＶ樹脂層９０ｂのＵＶ樹脂材料を硬化させてスペーサ層９０を形成するとともに、Ｌ０層７０とＬ１層８０とを貼り合わせた。スペーサ層９０の厚さは１５〜２５μｍが好適であり、この例では２５μｍとした。また、スペーサ層９０は、波長４０５ｎｍでの屈折率１．５０の樹脂で形成した。上述のようにして、この例の透過率評価用テストディスクを作製した。なお、基準用テストディスクは、Ｌ０層の代わりにダミー基板をＬ１層と貼り合わせたこと以外は、上記方法と同じ方法で作製した。

上述の作製方法で用意した透過率評価用テストディスク及び基準用テストディスクにおけるＬ０層の透過率を測定した。なお、溝部（情報記録領域）におけるＬ０層の透過率は、消去状態及び記録状態で測定した。この測定における記録条件は、線速度を６．６１ｍ／ｓとし、記録パワーを８．５ｍＷとし、消去パワーを４．０ｍＷとした。その評価結果を表９に示した。なお、この測定に用いたレーザ光の波長は４０５ｎｍとし、集光用対物レンズの開口数はＮＡ＝０．６５とした。透過率測定は、波長４０５ｎｍの平行光を用いて行った。なお、表９中の「無し」の欄の透過率は、基準用テストディスクの透過率である。

さらに、Ｌ０層の各領域を介してＬ１層にレーザ光を照射した場合の、Ｌ１層における記録パワー及び消去パワーの最適値を調べた。その際、記録パルスのストラテジーは同じとし、アシンメトリがない記録パワー及び消去パワーをそれぞれの最適値とした。その結果を表１０に示した。なお、表１０中の「無し」の欄の最適記録パワー及び最適消去パワーは、基準用テストディスクの最適記録パワー及び最適消去パワーである。

表９及び１０の結果から明らかなように、記録層を相変化材料で形成した場合には、Ｌ０層の第１記録層の記録状態によってＬ０層の透過率は変化しなかったが、Ｌ０層の第１基板の形状によっては、Ｌ０層の透過率が異なり、最適な記録及び再生パワーも変化することが分かった。それゆえ、この例においても、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域に光ビームを照射して情報の記録再生等を行う場合には、光ビームが通過するＬ０層の領域の透過率を一定に保つようにすることが重要であることが明らかになった。

［参考例３の光ディスクの構成］
参考例３では、Ｌ０層及びＬ１層がともに図２に示すような物理フォーマットで形成され、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が表１１に示すような関係を有する片面２層タイプの書換型光ディスクを作製した。なお、表１１には、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマットを構成する各領域の開始半径位置と終了半径位置を記載した。また、表１１に記載の半径位置は設計段階での値であり、Ｌ０層の欄に記載の数値はＬ０層中心からの距離であり、Ｌ１層の欄に記載の数値はＬ１層中心からの距離である。

また、この例の光ディスクでは、Ｌ１層のトラック数とＬ０層のトラック数を同じにするため、すなわち、Ｌ０層及びＬ１層の記録容量を同一にするため、表１１に示すように、Ｌ１層の情報記録再生領域の配置位置をＬ０層の情報記録再生領域より外周側にずらして配置した。なお、この例の光ディスクにおけるＬ０層の情報記録領域に対応する第１基板上の領域に形成された溝の寸法は、透過率評価用ディスクと同様（トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅２２０ｎｍ及び深さ２０ｎｍ）とし、Ｌ１層の情報記録領域に対応する第２基板上の領域に形成された溝の寸法は、トラックピッチ４００ｎｍ、半値幅１８０ｎｍ及び深さ２０ｎｍとした。

なお、この例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット構成を同じにしたこと、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を表１１に示すように調整したこと、並びにＬ１層とＬ０層とのトラックピッチを変えたこと以外は、上記透過率評価用テストディスクと同じ構造とした。また、この例の光ディスクは、上記透過率評価用テストディスクと同様の方法で作製した。

上述の透過率の測定結果（表９に示した結果）で明らかにしたように、記録層に相変化材料を用いた場合には、Ｌ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域で透過率が変動する。それゆえ、この例の光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域を通過せず、透過率変動の少ないＬ０層の溝が形成されている領域（図２中の情報記録領域５０）のみを通過するように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の位置関係を調整した。

この例の光ディスクでは、表７から明らかなように、設計段階において、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’＝２３．８７０ｍｍ、Ｌ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ２’＝５８．０８０ｍｍ、Ｌ０層の情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ３’＝２３．８００ｍｍ、そして、Ｌ０層の情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ４’＝５８．４９９ｍｍとなる。また、この例の光ディスクの記録再生には、波長４０５ｎｍのレーザ光を用い、絞り込みレンズには開口数ＮＡ＝０．６５のレンズを用いた。さらに、光ディスクのスペーサ層は波長４０５ｎｍにおける屈折率ｎｓ＝１．５である材料で形成し、その厚さＤを２５μｍとしたので、この例の光ディスクにおいて、レーザ光をＬ１層に集光している際のＬ０層におけるレーザ光の半径ｒは１１．５μｍとなる。また、この例では、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐを５０μｍとした。

それゆえ、この例の光ディスクでは、設計段階においては、Ｌ１層の内周側のテスト領域の最内周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＩ，ｉ）及びＬ１層の外周側のテスト領域の最外周トラックの半径位置Ｒ（１，ＴＯ，ｏ）におけるＬ１層中心からの距離Ｒ１’及びＲ２’と、Ｌ０層の情報記録領域の最内周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｉ）及びＬ０層の情報記録領域の最外周案内溝の半径位置Ｒ（０，Ｇ，ｏ）におけるＬ０層中心からの距離Ｒ３’及びＲ４’と、Ｌ０層におけるレーザ光の半径ｒと、偏心量の仕様値ＲＲ_ｐ−ｐとの間には、上記（１）’及び（２）’式の関係が成立する。それゆえ、上記設計内容で作製されたこの例の光ディスクでは、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足する。従って、この例で作製された光ディスクでは、Ｌ１層のテスト領域及び情報記録再生領域の全域に渡って集光される光ビームが、透過率が変動するＬ０層のＲＯＭ領域、遷移領域及びミラー領域を通過せず、透過率変動の非常に小さいＬ０層の情報記録領域のみを通過する。

［参考例４］
参考例４では、Ｌ０層及びＬ１層がともに同一トラックピッチで形成され、且つ、上記表８に示すように、Ｌ０層及びＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置が同一である片面２層タイプの書換型光ディスクを作製した。すなわち、Ｌ０層及びＬ１層間の物理フォーマットの位置関係が上記（１）及び（２）式を満足しない光ディスクを作製した。なお、Ｌ０層、及びＬ１層のトラックピッチを同じにしたこと、並びにＬ０層とＬ１層の物理フォーマット内の各領域の半径位置を同じにしたこと以外は、参考例３の光ディスクと同じ構成とし、同じ方法で作製した。

［記録特性］
参考例３及び４の片面２層タイプの書換型光ディスクを各々５枚ずつ試作して、Ｌ０層に記録を行った後、Ｌ１層に記録を行った。その結果、参考例３の光ディスクでは、５枚全てにおいて１回の記録動作でＬ１層に正常に記録することができた。しかしながら、参考例４の光ディスクでは、１回の記録動作でＬ１層に正常に記録できたディスクが無く、記録動作を複数回繰り返した後にＬ１層に正常に記録できたディスクが２枚、残りの３枚は、記録を行うことができなかった。この結果から、参考例３の光ディスクのように、Ｌ０層１０の物理フォーマットとＬ１層２０の物理フォーマットとの位置関係を上記（１）及び（２）式の関係が成立するように調整することにより、Ｌ１層に対して情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができることが分かった。

また、参考例４の全ての光ディスクのＬ１層の内周側のテスト領域を調べたところ、トラック１周当たりに１周期の振幅変動があることが分かった。これは、Ｌ１層の内周側のテスト領域に到達するレーザ光が、Ｌ０層とＬ１層との貼り合わせ時の偏心の影響によってＬ０層の鏡面領域及びＲＯＭ領域を通過したためである。

上記実施例１では、２つの情報部を備える光記録媒体について説明したが、本発明はこれに限定されない。３つ以上の情報部を備える光記録媒体に対しても本発明を適用することができる。光記録媒体が３つ以上の情報部を備える場合、隣り合う各情報部のうち光ビームが入射される側の一方の情報部を第１情報部とし、他方の情報部を第２情報部とすると、第２情報記録領域の内周近傍にテスト領域が設けられている場合には上記式（３）が成立し、第２情報記録領域の外周近傍にテスト領域が設けられている場合には上記式（４）が成立し、第２情報記録領域の内周近傍及び外周近傍の両方にテスト領域が設けられている場合には上記式（３）及び（４）が成立するように、各情報部の物理フォーマットの位置関係を調整すればよい。

本発明の光記録媒体では、上述のように、光入射側から遠い側の情報部（第２情報部）に対しても、情報の記録再生を安定に且つ信頼性高く行うことができる。それゆえ、本発明の光記録媒体は、片側から光ビームを入射して情報の記録再生を行う２層以上の記録層を有する光記録媒体に好適であり、特に、片面２層タイプの光ディスクとして好適である。

図１は、本発明の実施形態における片面２層タイプの光ディスクの概略断面図である。 図２は、本発明の実施形態における光ディスクのＬ０層の物理フォーマットの概略構成図である。 図３は、本発明の実施形態における光ディスクのＬ０層の基板表面に形成した凹凸パターンの構造を示した斜視図である。 図４（ａ）及び（ｂ）は、参考形態におけるＬ０層とＬ１層との物理フォーマットの位置関係を示した図である。 図５（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施形態におけるＬ０層とＬ１層との物理フォーマットの位置関係を示した図である。 図６は、Ｌ１層に光ビームを集光している際のＬ０層における光ビームの半径を求め方を説明するための図である。 図７は、参考例１で作製した光ディスクのＬ０層の物理フォーマットの概略構成図である。 図８は、参考例３で作製した書換型光ディスクの概略断面図である。

符号の説明

１０，７０ Ｌ０層（第１情報部）
１１，７１ 第１基板
１２，７４ 第１記録層
１３，７７ 第１反射層
２０，８０ Ｌ１層（第２情報部）
２１，８１ 第２基板
２２，８４ 第２記録層
２３，８７ 第２反射層
３０，９０ スペーサ層
５０ 情報記録領域
５１ ＲＯＭ領域
５２ 遷移領域
５４,５６ テスト領域
１００，３００ 光ディスク

Claims (3)

1. 光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
   第１基板及び第１記録層を有し、上記光ビームが第１基板側から入射される第１情報部と、
   第２基板及び第２記録層を有し、第２記録層が第１情報部の第１記録層側に配置されている第２情報部とを備え、
   第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域に対応する第１基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域に対応する第１基板上の領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域に対応する第１基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域に対応する第２基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域に対応する第２基板上の領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域に対応する第２基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
   第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体。
2. 光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
   第１情報部と、
   第１情報部を介して上記光ビームが照射される第２情報部とを備え、
   第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
   第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体。
3. 光ビームの照射により情報が記録再生される光記録媒体であって、
   第１基板及び第１記録層を有し、上記光ビームが第１基板側から入射される第１情報部と、
   第２基板及び第２記録層を有し、第１情報部を介して上記光ビームが照射される第２情報部とを備え、
   第１情報部が、内周側から第１プリフォーマット領域と、第１遷移領域と、第１内周側テスト領域と、第１情報記録領域と、第１外周側テスト領域とをこの順で有し、第１プリフォーマット領域に対応する第１基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第１遷移領域に対応する第１基板上の領域が鏡面であり、第１情報記録領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域に対応する第１基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２情報部が、内周側から第２プリフォーマット領域と、第２遷移領域と、第２内周側テスト領域と、第２情報記録領域と、第２外周側テスト領域とをこの順で有し、第２プリフォーマット領域に対応する第２基板上の領域にはエンボスピットが設けられており、第２遷移領域に対応する第２基板上の領域が鏡面であり、第２情報記録領域、第２内周側テスト領域及び第２外周側テスト領域に対応する第２基板上の領域には上記光ビームの案内溝が設けられており、
   第２内周側テスト領域の最内周トラックの半径位置及び第２外周側テスト領域の最外周トラックの半径位置における上記光記録媒体の中心からの距離をそれぞれＲ１及びＲ２とし、第２情報部に上記光ビームが集光されている際の第１情報部における上記光ビームの半径をｒとし、上記光記録媒体の偏心量をＲＲ_ｐ−ｐとしたときに、
   第１プリフォーマット領域、第１遷移領域、第１内周側テスト領域及び第１外周側テスト領域が、第１情報部の上記光記録媒体の中心からの距離Ｒ１−ＲＲ_ｐ−ｐ−ｒ〜Ｒ２＋ＲＲ_ｐ−ｐ＋ｒの領域と異なる領域に配置されていることを特徴とする光記録媒体。

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