JP2007287188A - Optical information recording medium design method, substrate for optical information recording medium and optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium design method, substrate for optical information recording medium and optical information recording medium Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide optical disks having little dispersion in characteristics such as reflectance and recording sensitivity for individual disks. <P>SOLUTION: The depth h1 of a first pre-groove 12 is set so that a first information recording layer 22 satisfies a target reflectance based on an absorbance of a first pigment used for the first information recording layer 22, especially a first absorbance in the wavelength of a laser beam 32 to be used. The depth h2 of a second pre-groove is set so that a second information recording layer 28 satisfies a target reflectance based on an absorbance of a second pigment used for the second information recording layer 28, especially a second absorbance in the wavelength of the laser beam 32 to be used. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザ光を用いて情報の書き込み(記録)や読取り(再生)が可能なヒートモード型の光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体に関する。   The present invention relates to a design method of a heat mode type optical information recording medium capable of writing (recording) and reading (reproducing) information using a laser beam, a substrate for an optical information recording medium, and an optical information recording medium.

従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)が知られている。この光ディスクは、1層の情報記録層を有するものや、2層の情報記録層を有するもの等がある。   Conventionally, an optical information recording medium (optical disc) capable of recording information by laser light is known. Such optical disks include those having one information recording layer and those having two information recording layers.

1層の情報記録層を有する第1光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。   A first optical disc having one information recording layer includes a substrate having a pregroove formed on the surface, a reflective layer formed along the surface of the substrate, an information recording layer formed on the reflective layer, And a protective layer formed on the information recording layer.

2層の情報記録層を有する第2光ディスクは、表面に第1プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された半透明反射層と、該半透明反射層上に形成された第1情報記録層と、該第1情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第2情報記録層と、該第2情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する(例えば特許文献1〜3参照)。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第2情報記録層の第2プリグルーブとして機能することになる。   A second optical disc having two information recording layers includes a substrate having a first pregroove formed on a surface thereof, a translucent reflective layer formed along irregularities on the surface of the substrate, and the translucent reflective layer. A first information recording layer formed on the first information recording layer, an intermediate layer formed on the first information recording layer and having irregularities formed on the surface, and a second layer formed along the irregularities on the surface of the intermediate layer. It has an information recording layer, a reflective layer formed on the second information recording layer, and a protective layer formed on the reflective layer (see, for example, Patent Documents 1 to 3). The reflective layer is formed along the unevenness of the intermediate layer, whereby the unevenness of the reflective layer functions as the second pregroove of the second information recording layer.

上述した第1光ディスクのプリグルーブや、第2光ディスクの第1プリグルーブ及び第2プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。   In addition to the formation of address pits for address detection, the pre-groove of the first optical disc and the first pre-groove and the second pre-groove of the second optical disc described above, the servo control of the spindle motor, the tracking control of the pickup, Servo pre-pits for focus control are formed.

また、第1光ディスクのプリグルーブや、第2光ディスクの第1プリグルーブ及び第2プリグルーブをウォブリングさせる例もある(例えば特許文献4参照)。ウォブリングさせることで、セクタアドレス等のセクタ管理情報を持たせたり、記録時の回転制御情報を、ウォブリングされたプリグルーブを再生することで得ることができるため、専用のアドレスピットやサーボ用プリピットを設けることが不要になり、これらアドレスピットやサーボ用プリピットの分だけデータの書き込み効率を向上させることができる。しかも、CLV回転制御等の連続データ書き込み時に有効な方式を採用することができるという利点もある。   In addition, there is an example in which the pregroove of the first optical disc or the first pregroove and the second pregroove of the second optical disc are wobbled (see, for example, Patent Document 4). By wobbling, sector management information such as sector addresses can be given, and rotation control information at the time of recording can be obtained by reproducing the wobbled pregroove, so dedicated address pits and servo prepits can be obtained. It is unnecessary to provide the data pits, and the data writing efficiency can be improved by the amount of these address pits and servo pre-pits. In addition, there is an advantage that a method effective at the time of continuous data writing such as CLV rotation control can be adopted.

特開2005−4808号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-4808 特開平10−283682号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-283682 特開平8−203125号公報JP-A-8-203125 特開平9−219024号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-219024

ところで、情報記録層に色素を用いた場合、色素はスピンコートによって形成されるが、塗布された色素のレーザ光の波長における吸光度により情報記録層の反射率や記録感度が異なる。従って、光情報記録媒体の製造を行う場合、塗布された色素の種類によって情報記録層の反射率や記録感度が光情報記録媒体毎にばらついてしまうという問題があった。   By the way, when a dye is used for the information recording layer, the dye is formed by spin coating, but the reflectance and recording sensitivity of the information recording layer differ depending on the absorbance of the coated dye at the wavelength of the laser beam. Therefore, when an optical information recording medium is manufactured, there is a problem that the reflectance and recording sensitivity of the information recording layer vary from one optical information recording medium to another depending on the type of dye applied.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such problems, and a method for designing an optical information recording medium with little variation in characteristics such as reflectance and recording sensitivity for each optical information recording medium, and a substrate for an optical information recording medium And an optical information recording medium.

第1の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の反射率を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。   A method for designing an optical information recording medium according to the first aspect of the present invention includes a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and irradiating the dye recording layer with laser light. In a method for designing an optical information recording medium for recording and / or reproducing information, at least a target reflectance of the optical information recording medium based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser light The groove depth is set so as to satisfy the above.

これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Thus, an optical information recording medium with little variation in characteristics such as reflectance can be manufactured for each optical information recording medium, and the yield of the optical information recording medium can be improved and the development period can be shortened.

そして、第1の本発明において、前記吸光度と反射率との第1相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第2相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定するようにしてもよい。   In the first aspect of the present invention, from the first correlation between the absorbance and the reflectance and the second correlation between the depth of the groove and the reflectance, the absorbance and the groove at the target reflectance are calculated. A third correlation with the depth may be obtained, and the depth of the groove may be set based on the third correlation.

次に、第2の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。   Next, a method for designing an optical information recording medium according to a second aspect of the present invention includes a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and the dye recording layer is irradiated with laser light. In the method of designing an optical information recording medium for recording and / or reproducing information, at least the target of the optical information recording medium is based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser light. The groove depth is set so as to satisfy the recording sensitivity.

これにより、光情報記録媒体毎に、記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Accordingly, an optical information recording medium with little variation in characteristics such as recording sensitivity can be manufactured for each optical information recording medium, and the yield of the optical information recording medium can be improved and the development period can be shortened.

そして、第2の本発明において、前記吸光度と記録感度との第1相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第2相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定するようにしてもよい。   In the second aspect of the present invention, from the first correlation between the absorbance and the recording sensitivity and the second correlation between the groove depth and the recording sensitivity, the absorbance and the groove at the target recording sensitivity are calculated. A third correlation with the depth may be obtained, and the depth of the groove may be set based on the third correlation.

次に、第3の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の目標の反射率及び目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。   Next, a third method for designing an optical information recording medium according to the present invention includes a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and the dye recording layer is irradiated with laser light. In the method for designing an optical information recording medium for recording and / or reproducing information, the target of the optical information recording medium is determined based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser light. The depth of the groove is set so as to satisfy the reflectance and the target recording sensitivity.

これにより、光情報記録媒体毎に、反射率及び記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Thereby, an optical information recording medium with little variation in characteristics such as reflectance and recording sensitivity can be manufactured for each optical information recording medium, and the yield of the optical information recording medium can be improved and the development period can be shortened. .

そして、第3の本発明において、前記吸光度と反射率との第1相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第2相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、前記吸光度と記録感度との第4相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第5相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第6相関関係を求め、前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの第1深さを設定し、前記第6相関関係に基づいて、前記グルーブの第2深さを設定し、前記第1深さと前記第2深さの中間値を前記グルーブの深さとして設定するようにしてもよい。   In the third aspect of the present invention, from the first correlation between the absorbance and the reflectance and the second correlation between the depth of the groove and the reflectance, the absorbance at the target reflectance and the groove A third correlation with the depth is obtained, and the absorbance and the groove at the target recording sensitivity are obtained from the fourth correlation between the absorbance and the recording sensitivity and the fifth correlation between the depth of the groove and the recording sensitivity. A first correlation of the groove is set based on the third correlation, and a second depth of the groove is set based on the sixth correlation. An intermediate value between the first depth and the second depth may be set as the groove depth.

なお、上述した第1〜第3の本発明において、前記光情報記録媒体は、前記グルーブが形成された基板を有し、前記レーザ光が照射される方向から見て前記記録層と前記グルーブがこの順番で配置されていてもよい。   In the first to third aspects of the invention described above, the optical information recording medium has a substrate on which the groove is formed, and the recording layer and the groove are viewed from the direction in which the laser beam is irradiated. They may be arranged in this order.

次に、第4の本発明に係る光情報記録媒体用の基板は、上述した第1〜第3の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法によって設計されていることを特徴とする。これにより、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Next, the optical information recording medium substrate according to the fourth aspect of the present invention is designed by the above-described optical information recording medium designing method according to the first to third aspects of the present invention. Accordingly, an optical information recording medium with little variation in characteristics such as reflectance and recording sensitivity can be manufactured for each optical information recording medium, and the yield of the optical information recording medium can be improved and the development period can be shortened. .

次に、第5の本発明に係る光情報記録媒体は、上述した第1〜第3の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法によって設計されていることを特徴とする。これにより、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Next, an optical information recording medium according to the fifth aspect of the present invention is designed by the above-described optical information recording medium designing method according to the first to third aspects of the present invention. Accordingly, an optical information recording medium with little variation in characteristics such as reflectance and recording sensitivity can be manufactured for each optical information recording medium, and the yield of the optical information recording medium can be improved and the development period can be shortened. .

以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体によれば、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   As described above, according to the optical information recording medium design method, the substrate for optical information recording medium, and the optical information recording medium according to the present invention, characteristic variations such as reflectance and recording sensitivity vary for each optical information recording medium. Therefore, it is possible to manufacture an optical information recording medium with a small amount of light, improve the yield of the optical information recording medium, and shorten the development period.

以下、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法の実施の形態例を図1〜図22を参照しながら説明する。   Embodiments of an optical information recording medium designing method according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

まず、第1の実施の形態に係る設計方法にて作製される第1光ディスク10Aは、図1に示すように、表面に第1プリグルーブ12が形成された第1基板14と、表面に第2プリグルーブ16が形成された第2基板18が中間層20を介して貼り合わされた構成を有する。   First, as shown in FIG. 1, the first optical disc 10A manufactured by the design method according to the first embodiment includes a first substrate 14 having a first pregroove 12 formed on the surface, and a first substrate 14 having a first surface on the surface. The second substrate 18 on which the two pregrooves 16 are formed has a configuration in which the intermediate substrate 20 is bonded.

すなわち、図2に示すように、第1基板14の表面には、第1プリグルーブ12の凹凸に沿って第1情報記録層22が形成され、該第1情報記録層22上に半透明反射層24が形成されている。   That is, as shown in FIG. 2, the first information recording layer 22 is formed on the surface of the first substrate 14 along the unevenness of the first pregroove 12, and the semi-transparent reflection is formed on the first information recording layer 22. Layer 24 is formed.

図3に示すように、第2基板18の表面には、第2プリグルーブ16の凹凸に沿って反射層26が形成され、該反射層26上に第2情報記録層28が形成され、該第2情報記録層28上にバリア層30が形成されている。   As shown in FIG. 3, a reflective layer 26 is formed on the surface of the second substrate 18 along the irregularities of the second pregroove 16, and a second information recording layer 28 is formed on the reflective layer 26. A barrier layer 30 is formed on the second information recording layer 28.

そして、第1基板14と第2基板18を貼り合わせる際に、図1に示すように、第1基板14上に形成された第1情報記録層22と第2基板18上に形成された第2情報記録層28とを対向させ、さらに、これら第1基板14と第2基板18との間に中間層20を介在させて貼り合わせることで、第1光ディスク10Aが構成される。   Then, when the first substrate 14 and the second substrate 18 are bonded together, as shown in FIG. 1, the first information recording layer 22 formed on the first substrate 14 and the first information recording layer 22 formed on the second substrate 18 are formed. The two information recording layers 28 are opposed to each other, and further, the first optical disk 10A is configured by bonding the first substrate 14 and the second substrate 18 with the intermediate layer 20 interposed therebetween.

第1情報記録層22に対して情報を記録する場合は、第1基板14の端面14aから第1情報記録層22に向かう方向に記録用のレーザ光32を照射し、レーザ光32を第1情報記録層22に結像させて情報(ピット)を記録する。このとき、第1情報記録層22のうち、第1プリグルーブ12のグルーブ34に対応した部分に情報が記録される。記録用のレーザ光32としては、600nm〜700nm(好ましくは620〜680nm、さらに好ましくは、630〜660nm)の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。   When recording information on the first information recording layer 22, the recording laser beam 32 is irradiated in the direction from the end surface 14 a of the first substrate 14 toward the first information recording layer 22, and the laser beam 32 is irradiated with the first laser beam 32. Information (pits) is recorded by forming an image on the information recording layer 22. At this time, information is recorded in a portion of the first information recording layer 22 corresponding to the groove 34 of the first pre-groove 12. As the recording laser beam 32, a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 600 nm to 700 nm (preferably 620 to 680 nm, more preferably 630 to 660 nm) is used.

第2情報記録層28に対して情報を記録する場合は、第1基板14の端面14aから第2情報記録層28に向かう方向に記録用のレーザ光32を照射し、レーザ光32を第2情報記録層28に結像させて情報(ピット)を記録する。このとき、第2情報記録層28のうち、第2プリグルーブ16のランド36に対応した部分に情報が記録される。   When information is recorded on the second information recording layer 28, the recording laser beam 32 is irradiated in the direction from the end surface 14a of the first substrate 14 toward the second information recording layer 28, and the laser beam 32 is emitted from the second information recording layer 28 to the second information recording layer 28. Information (pits) is recorded by forming an image on the information recording layer 28. At this time, information is recorded in a portion of the second information recording layer 28 corresponding to the land 36 of the second pregroove 16.

従って、第1情報記録層22と第2情報記録層28との間に中間層20を介在させることによって、第1情報記録層22に記録された情報と第2情報記録層28に記録された情報の干渉を防ぎ、第1情報記録層22及び第2情報記録層28で良好な記録再生信号を得ることができる。   Therefore, the information recorded in the first information recording layer 22 and the information recorded in the second information recording layer 28 are provided by interposing the intermediate layer 20 between the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28. Information interference can be prevented, and a good recording / reproducing signal can be obtained by the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28.

ところで、第1情報記録層22及び第2情報記録層28に色素を用いた場合、色素はスピンコートによって形成されるが、塗布された色素のレーザ光32の波長における吸光度により第1情報記録層22及び第2情報記録層28の反射率が異なる。従って、第1光ディスク10Aの製造を行う場合、塗布された色素の種類によって第1情報記録層22及び第2情報記録層28の反射率が第1光ディスク10A毎にばらつくという問題がある。   By the way, when a dye is used for the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28, the dye is formed by spin coating, but the first information recording layer depends on the absorbance of the applied dye at the wavelength of the laser beam 32. 22 and the second information recording layer 28 have different reflectivities. Therefore, when the first optical disc 10A is manufactured, there is a problem that the reflectance of the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 varies for each first optical disc 10A depending on the kind of the applied dye.

そこで、この第1の実施の形態に係る設計方法は、第1情報記録層22に使用される第1色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光32の波長における第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標の反射率(以下、目標反射率と記す)を満足するように、第1プリグルーブ12の深さh1を設定する。さらに、第2情報記録層28に使用される第2色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光32の波長における第2吸光度に基づいて、第2情報記録層28が目標反射率を満足するように、第2プリグルーブの深さh2を設定する。   Therefore, the design method according to the first embodiment is based on the absorbance of the first dye used in the first information recording layer 22, particularly the first absorbance at the wavelength of the laser beam 32 used. The depth h1 of the first pregroove 12 is set so that the one information recording layer 22 satisfies the target reflectance (hereinafter referred to as the target reflectance). Further, based on the absorbance of the second dye used in the second information recording layer 28, particularly the second absorbance at the wavelength of the laser beam 32 used, the second information recording layer 28 satisfies the target reflectance. The depth h2 of the second pregroove is set.

ここで、第1色素としては、例えば以下の化学式(化1)で示されるオキソノール色素と、以下の化学式(化2)で示されるオキソノール色素を90:10の比率で混合した色素が使用される。また、第2色素としては、例えば以下の化学式(化1)で示されるオキソノール色素が使用される。   Here, as the first dye, for example, a dye obtained by mixing an oxonol dye represented by the following chemical formula (Chemical Formula 1) and an oxonol dye represented by the following chemical formula (Chemical Formula 2) at a ratio of 90:10 is used. . Further, as the second dye, for example, an oxonol dye represented by the following chemical formula (Formula 1) is used.

Figure 2007287188
Figure 2007287188

Figure 2007287188
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具体的に、第1の実施の形態に係る設計方法を図4を参照しながら説明する。   Specifically, the design method according to the first embodiment will be described with reference to FIG.

まず、図4のステップS1において、第1情報記録層に使用される第1色素の第1吸光度(使用されるレーザ光の波長、例えば650nmにおける吸光度)と反射率との相関関係(第1相関関係)を求める。この第1相関関係は、図5に示すように、第1吸光度が大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。   First, in step S1 of FIG. 4, the correlation (first correlation) between the first absorbance of the first dye used in the first information recording layer (the wavelength of the laser beam used, for example, absorbance at 650 nm) and the reflectance. Relationship). As shown in FIG. 5, the first correlation has a relationship in which the reflectance decreases as the first absorbance increases.

その後、図4のステップS2において、第1プリグルーブの深さと反射率との相関関係(第2相関関係)を求める。この第2相関関係は、図6に示すように、第1プリグルーブの深さが大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S2 of FIG. 4, a correlation (second correlation) between the depth of the first pregroove and the reflectance is obtained. As shown in FIG. 6, the second correlation has a relationship in which the reflectance decreases as the depth of the first pregroove increases.

その後、図4のステップS3において、第1相関関係と第2相関関係とから、目標反射率(例えば16%)における第1吸光度と第1プリグルーブの深さとの相関関係(第3相関関係)を求める。この第3相関関係は、図7に示すように、第1吸光度が大きくなるに従って第1プリグルーブの深さが小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S3 of FIG. 4, from the first correlation and the second correlation, the correlation between the first absorbance at the target reflectance (for example, 16%) and the depth of the first pregroove (third correlation). Ask for. As shown in FIG. 7, the third correlation has a relationship in which the depth of the first pregroove decreases as the first absorbance increases.

そして、図4のステップS4において、使用される第1色素の第1吸光度と第3相関関係とに基づいて第1プリグルーブの深さh1を設定する。   In step S4 in FIG. 4, the first pregroove depth h1 is set based on the first absorbance and the third correlation of the first dye used.

一方、第2プリグルーブの深さについては、以下のステップを踏むことにより設定される。   On the other hand, the depth of the second pregroove is set by taking the following steps.

すなわち、まず、図4のステップS5において、第2情報記録層に使用される第2色素の第2吸光度(使用されるレーザ光の波長、例えば650nmにおける吸光度)と反射率との相関関係(第11相関関係)を求める。この第11相関関係は、図8に示すように、第2吸光度が大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。   That is, first, in step S5 of FIG. 4, the correlation between the second absorbance of the second dye used in the second information recording layer (the wavelength of the laser beam used, for example, absorbance at 650 nm) and the reflectance (first 11 correlation). As shown in FIG. 8, the eleventh correlation has a relationship in which the reflectance decreases as the second absorbance increases.

その後、図4のステップS6において、第2プリグルーブの深さと反射率との相関関係(第12相関関係)を求める。この第12相関関係は、図9に示すように、第2プリグルーブの深さが大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S6 of FIG. 4, a correlation between the depth of the second pregroove and the reflectance (a twelfth correlation) is obtained. As shown in FIG. 9, the twelfth correlation has a relationship in which the reflectance decreases as the depth of the second pregroove increases.

その後、図4のステップS7において、第11相関関係と第12相関関係とから、目標反射率(例えば16%)における第2吸光度と第2プリグルーブの深さとの相関関係(第13相関関係)を求める。この第13相関関係は、図10に示すように、第2吸光度が大きくなるに従って第2プリグルーブの深さが小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S7 of FIG. 4, from the eleventh correlation and the twelfth correlation, the correlation between the second absorbance at the target reflectance (for example, 16%) and the depth of the second pregroove (the thirteenth correlation). Ask for. As shown in FIG. 10, the thirteenth correlation has a relationship in which the depth of the second pregroove decreases as the second absorbance increases.

そして、図4のステップS8において、使用される第2色素の第2吸光度と第13相関関係とに基づいて第2プリグルーブの深さh2を設定する。   In step S8 of FIG. 4, the second pregroove depth h2 is set based on the second absorbance of the second dye used and the thirteenth correlation.

上述したように、第1プリグルーブの深さh1と第2プリグルーブの深さh2が決定した後、図11に示す第1光ディスク10Aの製造工程に入る。   As described above, after the depth h1 of the first pregroove and the depth h2 of the second pregroove are determined, the manufacturing process of the first optical disc 10A shown in FIG. 11 is entered.

この製造工程は、まず、図11のステップS101において、第1基板14を作製するための第1スタンパを作製する。この場合、第1スタンパとなる第1原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第1スタンパを作製する。例えば第1原板に対してDUV(波長330nm以下、深紫外線)レーザや、EB(電子ビーム)によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第1スタンパを作製する。   In this manufacturing process, first, in step S101 of FIG. 11, a first stamper for manufacturing the first substrate 14 is manufactured. In this case, the first original plate to be the first stamper is selectively etched to produce a first stamper having irregularities on the surface. For example, the first stamper is manufactured by performing high-precision mastering by cutting with a DUV (wavelength 330 nm or less, deep ultraviolet) laser or EB (electron beam) on the first original plate.

このとき、出来上がる第1スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第1基板14を形成した際に、該第1基板14の表面に、図4のステップS4にて設定した深さh1の第1プリグルーブ12が形成されるように、第1原板にマスタリングを行って第1スタンパを作製する。   At this time, when the first substrate 14 is formed by, for example, injection molding or extrusion molding of a resin material with the completed first stamper, the surface of the first substrate 14 is set in step S4 of FIG. The first stamper is manufactured by performing mastering on the first original plate so that the first pregroove 12 having the depth h1 is formed.

また、図11のステップS102において、第2基板18を作製するための第2スタンパを作製する。この場合、第2スタンパとなる第2原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第2スタンパを作製する。例えば第2原板に対してDUV(波長330nm以下、深紫外線)レーザや、EB(電子ビーム)によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第2スタンパを作製する。   Further, in step S102 of FIG. 11, a second stamper for producing the second substrate 18 is produced. In this case, the second original plate to be the second stamper is selectively etched to produce a second stamper having irregularities on the surface. For example, the second stamper is manufactured by performing high-precision mastering on the second original plate by cutting with a DUV (wavelength of 330 nm or less, deep ultraviolet) laser or EB (electron beam).

このとき、出来上がる第2スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第2基板18を形成した際に、該第2基板18の表面に、図4のステップS8にて設定した深さh2の第2プリグルーブ16が形成されるように、第2原板にマスタリングを行って第2スタンパを作製する。   At this time, when the second substrate 18 is formed by, for example, injection molding or extrusion molding of a resin material with the completed second stamper, the surface of the second substrate 18 is set in step S8 in FIG. The second stamper is manufactured by performing mastering on the second original plate so that the second pregroove 16 having the depth h2 is formed.

その後、図11のステップS103において、第1スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することによって、第1基板14を作製する。このとき、第1基板14の表面に第1スタンパの凹凸が転写されて、図4のステップS4にて設定した深さh1の第1プリグルーブ12が形成される。   Thereafter, in step S103 of FIG. 11, the first substrate 14 is manufactured by injection molding a resin material such as polycarbonate on the first stamper. At this time, the unevenness of the first stamper is transferred to the surface of the first substrate 14, and the first pregroove 12 having the depth h1 set in step S4 of FIG. 4 is formed.

また、図11のステップS104において、第2スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって、第2基板18を作製する。このとき、第2基板18の表面に第2スタンパの凹凸が転写されて、図4のステップS8にて設定した深さh2の第2プリグルーブ16が形成される。   Further, in step S104 of FIG. 11, the second substrate 18 is manufactured by injection molding or extrusion molding of a resin material such as polycarbonate with respect to the second stamper. At this time, the unevenness of the second stamper is transferred to the surface of the second substrate 18, and the second pregroove 16 having the depth h2 set in step S8 in FIG. 4 is formed.

なお、上述の例では、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形して第1基板14及び第2基板18を作製するようにしたが、以下のように平坦面とされた第1基板14と第2基板18の表面にそれぞれプリグルーブ層を形成して、第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16を形成するようにしてもよい。   In the above example, the first substrate 14 and the second substrate 18 are manufactured by injection molding or extrusion molding of a resin material such as polycarbonate. However, the first substrate 14 having a flat surface as described below is used. The first pregroove 12 and the second pregroove 16 may be formed by forming a pregroove layer on the surface of the second substrate 18.

プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー(又はオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プリグルーブ層の形成は、例えば第1基板14についてみると、第1スタンパ上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に第1基板14を載せたのち、第1基板14又は第1スタンパを介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて第1基板14と塗布層とを固着させる。次いで、第1基板14を第1スタンパから剥離することにより、表面に第1プリグルーブ12が形成されたプリグルーブ層が固着された第1基板14を得ることができる。これは、第2基板18についても同様であり、第2スタンパを使用することによって、表面に第2プリグルーブ16が形成されたプリグルーブ層が固着された第2基板18を得ることができる。   As a material for the pregroove layer, a mixture of at least one monomer (or oligomer) of monoester, diester, triester and tetraester of acrylic acid and a photopolymerization initiator can be used. The formation of the pre-groove layer is, for example, when the first substrate 14 is viewed, a mixed liquid composed of the above acrylate ester and a polymerization initiator is applied on the first stamper, and the first substrate 14 is further applied on the coating liquid layer. After mounting, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays through the first substrate 14 or the first stamper to fix the first substrate 14 and the coating layer. Next, by peeling the first substrate 14 from the first stamper, it is possible to obtain the first substrate 14 with the pregroove layer having the first pregroove 12 formed on the surface. The same applies to the second substrate 18. By using the second stamper, it is possible to obtain the second substrate 18 having the pregroove layer having the second pregroove 16 formed on the surface thereof.

その後、図11のステップS105において、第1基板14の表面に第1情報記録層22を形成し、次いで、第1情報記録層22上に半透明反射層24を形成する。   Thereafter, in step S <b> 105 of FIG. 11, the first information recording layer 22 is formed on the surface of the first substrate 14, and then the translucent reflective layer 24 is formed on the first information recording layer 22.

また、図11のステップS106において、第2基板18の表面に反射層26を形成し、次いで、反射層26上に第2情報記録層28を形成し、さらに、第2情報記録層28上にバリア層30を形成する。   Further, in step S106 of FIG. 11, the reflective layer 26 is formed on the surface of the second substrate 18, then the second information recording layer 28 is formed on the reflective layer 26, and further on the second information recording layer 28. The barrier layer 30 is formed.

その後、図11のステップS107において、第1基板14と第2基板18を貼り合わせる。このとき、第1基板14上に形成された第1情報記録層22と第2基板18上に形成された第2情報記録層28とを対向させ、さらに、これら第1基板14と第2基板18との間に中間層20を介在させて貼り合わせる。この貼り合わせによって、第1光ディスク10Aが完成する。   Thereafter, in step S107 of FIG. 11, the first substrate 14 and the second substrate 18 are bonded together. At this time, the first information recording layer 22 formed on the first substrate 14 and the second information recording layer 28 formed on the second substrate 18 are opposed to each other, and further, the first substrate 14 and the second substrate The intermediate layer 20 is interposed between the two layers 18 and 18. By this bonding, the first optical disc 10A is completed.

次に、同じく第1の実施の形態に係る設計方法にて作製される第2光ディスク10Bについて図12を参照しながら説明する。なお、この第2光ディスク10Bは、上述した第1光ディスク10Aとほぼ同様の構成を有するが、第2基板18の表面は平坦面で、代わりに中間層20とバリア層30との界面に凹凸が形成され、この凹凸が反射層26の表面に反映されて第2情報記録層28の第2プリグルーブ16として機能している点と、反射層26と第2基板18との間に接着層48が介在されている点で異なる。   Next, a second optical disc 10B produced by the design method according to the first embodiment will be described with reference to FIG. The second optical disk 10B has substantially the same configuration as the first optical disk 10A described above, but the surface of the second substrate 18 is a flat surface, and instead, the interface between the intermediate layer 20 and the barrier layer 30 is uneven. The adhesive layer 48 is formed between the reflective layer 26 and the second substrate 18, and the unevenness is reflected on the surface of the reflective layer 26 and functions as the second pregroove 16 of the second information recording layer 28. Is different in that it is interposed.

ここで、第2光ディスク10Bの製造過程について図12及び図13を参照しながら説明する。   Here, the manufacturing process of the second optical disc 10B will be described with reference to FIGS.

まず、図13のステップS201において、第1基板14を作製するための第1スタンパを作製する。このステップS201は、上述した図11のステップS101と同様の処理を行うため、その重複説明を省略する。   First, in step S201 in FIG. 13, a first stamper for producing the first substrate 14 is produced. Since this step S201 performs the same processing as step S101 of FIG. 11 described above, the duplicated explanation is omitted.

また、図13のステップS202において、第2基板18を作製するための第2スタンパを作製する。このとき、出来上がる第2スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形することによって第2基板18を形成した際に、該第2基板18の表面が平坦面となるように、第2スタンパを作製する。   Further, in step S202 of FIG. 13, a second stamper for producing the second substrate 18 is produced. At this time, when the second substrate 18 is formed, for example, by injection molding a resin material with the completed second stamper, the second stamper is manufactured so that the surface of the second substrate 18 becomes a flat surface.

また、図13のステップS203において、中間層20の表面に凹凸を形成するための第3スタンパを作製する。この場合、第3スタンパとなる第3原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第3スタンパを作製する。例えば第3原板に対してDUV(波長330nm以下、深紫外線)レーザや、EB(電子ビーム)によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第3スタンパを作製する。   Further, in step S203 of FIG. 13, a third stamper for forming irregularities on the surface of the intermediate layer 20 is produced. In this case, the third original plate to be the third stamper is selectively etched to produce a third stamper having irregularities on the surface. For example, the third stamper is manufactured by performing high-precision mastering on the third original plate by cutting with a DUV (wavelength of 330 nm or less, deep ultraviolet) laser or EB (electron beam).

このとき、出来上がる第3スタンパにて中間層20の表面に凹凸を形成し、さらに中間層20上にバリア層30、第2情報記録層28及び反射層26を形成した際に、該反射層26の表面に、図4のステップS8にて設定した深さh2の第2プリグルーブ16が形成されるように、第3原板にマスタリングを行って第3スタンパを作製する。   At this time, when the unevenness is formed on the surface of the intermediate layer 20 by the completed third stamper and the barrier layer 30, the second information recording layer 28, and the reflective layer 26 are further formed on the intermediate layer 20, the reflective layer 26 A third stamper is produced by mastering the third original plate so that the second pregroove 16 having the depth h2 set in step S8 of FIG.

その後、図13のステップS204において、第1スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第1基板14を作製する。このとき、第1基板14の表面に第1スタンパの凹凸が転写されて、図4のステップS4にて設定した深さh1の第1プリグルーブ12が形成される。   Thereafter, in step S204 of FIG. 13, the first substrate 14 is manufactured by injection molding or extrusion molding of the resin material with respect to the first stamper. At this time, the unevenness of the first stamper is transferred to the surface of the first substrate 14, and the first pregroove 12 having the depth h1 set in step S4 of FIG. 4 is formed.

また、図13のステップS205において、第2スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第2基板18を作製する。このとき、表面が平坦面とされた第2基板18(図6参照)が作製される。   Further, in step S205 of FIG. 13, the second substrate 18 is manufactured by injection molding or extrusion molding of a resin material with respect to the second stamper. At this time, the 2nd board | substrate 18 (refer FIG. 6) by which the surface was made into the flat surface is produced.

その後、図13のステップS106において、第1基板14の表面に第1情報記録層22を形成し、次いで、第1情報記録層22上に半透明反射層24を形成し、さらに、半透明反射層24上に中間層20を形成する。   Thereafter, in step S106 of FIG. 13, the first information recording layer 22 is formed on the surface of the first substrate 14, and then the semitransparent reflective layer 24 is formed on the first information recording layer 22, and further the semitransparent reflection is performed. An intermediate layer 20 is formed on the layer 24.

その後、図13のステップS207において、第1基板14上に形成された中間層20に対して、第3スタンパを押圧する。このとき、中間層20の表面に第3スタンパの凹凸が転写される。   Thereafter, in step S207 of FIG. 13, the third stamper is pressed against the intermediate layer 20 formed on the first substrate. At this time, the unevenness of the third stamper is transferred to the surface of the intermediate layer 20.

その後、図13のステップS208において、中間層20上にバリア層30を形成し、次いで、バリア層30上に第2情報記録層28を形成し、さらに、第2情報記録層28上に反射層26を形成する。このとき、反射層26は、中間層20の凹凸が反映されて形成され、図4のステップS8にて設定した深さh2の第2プリグルーブ16が形成される。   Thereafter, in step S208 of FIG. 13, the barrier layer 30 is formed on the intermediate layer 20, the second information recording layer 28 is then formed on the barrier layer 30, and the reflective layer is further formed on the second information recording layer 28. 26 is formed. At this time, the reflective layer 26 is formed reflecting the unevenness of the intermediate layer 20, and the second pregroove 16 having the depth h2 set in step S8 of FIG. 4 is formed.

その後、図13のステップS209において、反射層26上に接着層48を形成し、次いで、接着層48上に第2基板18を接着することにより、第2光ディスク10Bが完成する。   Thereafter, in step S209 of FIG. 13, the adhesive layer 48 is formed on the reflective layer 26, and then the second substrate 18 is adhered on the adhesive layer 48, whereby the second optical disc 10B is completed.

このように、第1の実施の形態に係る設計方法においては、第1情報記録層22に使用される第1色素のレーザ光32の波長における第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標反射率を満足するように第1プリグルーブ12の深さh1を設定し、第2情報記録層28に使用される第2色素のレーザ光32の波長における第2吸光度に基づいて、第2情報記録層が目標反射率を満足するように第2プリグルーブ16の深さh2を設定するようにしたので、第1光ディスク10A毎あるいは第2光ディスク10B毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bを製造することができ、第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Thus, in the design method according to the first embodiment, the first information recording layer 22 is based on the first absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the first dye used in the first information recording layer 22. Is set to a depth h1 of the first pregroove 12 so as to satisfy the target reflectance, and based on the second absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the second dye used in the second information recording layer 28, Since the depth h2 of the second pregroove 16 is set so that the two information recording layers satisfy the target reflectance, characteristics variations such as reflectance vary for each first optical disk 10A or each second optical disk 10B. The first optical disc 10A and the second optical disc 10B can be manufactured in a small amount, and the yield of the first optical disc 10A and the second optical disc 10B can be improved and the development period can be shortened.

上記第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bは、DVD−R、DVD+Rとして好適である。この場合、DVD−Rでは、グルーブは100〜200KHzでウォブリングされており、DVD+Rでは、グルーブは800〜900KHzでウォブリングされている。   The first optical disc 10A and the second optical disc 10B are suitable as DVD-R and DVD + R. In this case, in the DVD-R, the groove is wobbled at 100 to 200 KHz, and in the DVD + R, the groove is wobbled at 800 to 900 KHz.

次に、第2の実施の形態に係る設計方法について図14を参照しながら説明する。   Next, a design method according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

この第2の実施の形態に係る設計方法は、第1情報記録層22に使用される第1色素の前記第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標の記録感度(以下、目標記録感度と記す)を満足するように、第1プリグルーブ12の深さh1を設定する。さらに、第2情報記録層28に使用される第2色素の前記第2吸光度に基づいて、第2情報記録層28が目標記録感度を満足するように、第2プリグルーブの深さh1を設定する。   In the design method according to the second embodiment, the first information recording layer 22 has a target recording sensitivity (hereinafter referred to as target) based on the first absorbance of the first dye used in the first information recording layer 22. The depth h1 of the first pregroove 12 is set so as to satisfy (recording sensitivity). Further, based on the second absorbance of the second dye used in the second information recording layer 28, the second pregroove depth h1 is set so that the second information recording layer 28 satisfies the target recording sensitivity. To do.

具体的に説明すると、まず、図14のステップS301において、第1情報記録層22に使用される第1色素の第1吸光度(使用されるレーザ光32の波長、例えば650nmにおける吸光度)と記録感度との相関関係(第4相関関係)を求める。この第4相関関係は、図15に示すように、第1吸光度が大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。   Specifically, first, in step S301 of FIG. 14, the first absorbance of the first dye used in the first information recording layer 22 (the wavelength of the laser beam 32 used, for example, the absorbance at 650 nm) and the recording sensitivity. (The fourth correlation) is obtained. As shown in FIG. 15, the fourth correlation has a relationship in which the recording sensitivity decreases as the first absorbance increases.

その後、図14のステップS302において、第1プリグルーブ12の深さと記録感度との相関関係(第5相関関係)を求める。この第5相関関係は、図16に示すように、第1プリグルーブ12の深さが大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。   Thereafter, in step S302 of FIG. 14, a correlation (fifth correlation) between the depth of the first pregroove 12 and the recording sensitivity is obtained. As shown in FIG. 16, the fifth correlation has a relationship in which the recording sensitivity decreases as the depth of the first pregroove 12 increases.

その後、図14のステップS303において、第4相関関係と第5相関関係とから、目標記録感度(例えば40mW)における第1吸光度と第1プリグルーブ12の深さとの相関関係(第6相関関係)を求める。この第6相関関係は、図17に示すように、第1吸光度が大きくなるに従って第1プリグルーブ12の深さが小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S303 in FIG. 14, the correlation between the first absorbance at the target recording sensitivity (for example, 40 mW) and the depth of the first pregroove 12 (sixth correlation) from the fourth correlation and the fifth correlation. Ask for. As shown in FIG. 17, the sixth correlation has a relationship in which the depth of the first pregroove 12 decreases as the first absorbance increases.

そして、図14のステップS304において、使用される第1色素の第1吸光度と第6相関関係とに基づいて第1プリグルーブ12の深さh1を設定する。   In step S304 of FIG. 14, the depth h1 of the first pregroove 12 is set based on the first absorbance of the first dye used and the sixth correlation.

一方、第2プリグルーブ16の深さh2については、以下のステップを踏むことにより設定される。   On the other hand, the depth h2 of the second pregroove 16 is set by taking the following steps.

すなわち、まず、図14のステップS305において、第2情報記録層28に使用される第2色素の第2吸光度(使用されるレーザ光32の波長、例えば650nmにおける吸光度)と記録感度との相関関係(第14相関関係)を求める。この第14相関関係は、図18に示すように、第2吸光度が大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。   That is, first, in step S305 in FIG. 14, the correlation between the second absorbance of the second dye used in the second information recording layer 28 (the wavelength of the laser beam 32 used, for example, the absorbance at 650 nm) and the recording sensitivity. (14th correlation) is obtained. As shown in FIG. 18, the fourteenth correlation has a relationship in which the recording sensitivity decreases as the second absorbance increases.

その後、図14のステップS306において、第2プリグルーブ16の深さと記録感度との相関関係(第15相関関係)を求める。この第15相関関係は、図19に示すように、第2プリグルーブ16の深さが大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。   Thereafter, in step S306 of FIG. 14, the correlation (fifteenth correlation) between the depth of the second pregroove 16 and the recording sensitivity is obtained. As shown in FIG. 19, the fifteenth correlation has a relationship in which the recording sensitivity decreases as the depth of the second pregroove 16 increases.

その後、図14のステップS307において、第14相関関係と第15相関関係とから、目標記録感度(例えば40mW)における第2吸光度と第2プリグルーブの深さとの相関関係(第16相関関係)を求める。この第16相関関係は、図20に示すように、第2吸光度が大きくなるに従って第2プリグルーブ16の深さが小さくなる関係を有する。   Thereafter, in step S307 of FIG. 14, the correlation (the 16th correlation) between the second absorbance at the target recording sensitivity (for example, 40 mW) and the depth of the second pregroove is obtained from the 14th correlation and the 15th correlation. Ask. As shown in FIG. 20, the sixteenth correlation has a relationship in which the depth of the second pregroove 16 decreases as the second absorbance increases.

そして、図14のステップS308において、使用される第2色素の第2吸光度と第16相関関係とに基づいて第2プリグルーブ16の深さh2を設定する。   In step S308 in FIG. 14, the depth h2 of the second pregroove 16 is set based on the second absorbance of the second dye used and the sixteenth correlation.

上述したように、第1プリグルーブ12の深さh1と第2プリグルーブ16の深さh2が決定した後、図11又は図13に示すように、第1光ディスク10A又は第2光ディスク10Bの製造工程に入る。   As described above, after the depth h1 of the first pregroove 12 and the depth h2 of the second pregroove 16 are determined, as shown in FIG. 11 or FIG. 13, the first optical disk 10A or the second optical disk 10B is manufactured. Enter the process.

このように、第2の実施の形態に係る設計方法においては、第1情報記録層22に使用される第1色素のレーザ光32の波長における第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標記録感度を満足するように第1プリグルーブ12の深さh1を設定し、第2情報記録層28に使用される第2色素のレーザ光32の波長における第2吸光度に基づいて、第2情報記録層28が目標記録感度を満足するように第2プリグルーブ16の深さh2を設定するようにしたので、第1光ディスク10A毎あるいは第2光ディスク10B毎に、記録感度等の特性ばらつきの少ない第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bを製造することができ、第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Thus, in the design method according to the second embodiment, the first information recording layer 22 is based on the first absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the first dye used in the first information recording layer 22. Is set to a depth h1 of the first pregroove 12 so as to satisfy the target recording sensitivity, and based on the second absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the second dye used in the second information recording layer 28, 2 Since the depth h2 of the second pregroove 16 is set so that the information recording layer 28 satisfies the target recording sensitivity, characteristic variations such as recording sensitivity vary for each first optical disk 10A or each second optical disk 10B. The first optical disc 10A and the second optical disc 10B can be manufactured with a small amount, and the yield of the first optical disc 10A and the second optical disc 10B can be improved and the development period can be shortened. It can be.

次に、第3の実施の形態に係る設計方法について図21及び図22を参照しながら説明する。   Next, a design method according to the third embodiment will be described with reference to FIGS.

この第3の実施の形態に係る設計方法は、上述した第1及び第2の実施の形態に係る設計方法を組み合わせた形態となっている。   The design method according to the third embodiment is a combination of the design methods according to the first and second embodiments described above.

具体的に説明すると、まず、図21のステップS401において、第1情報記録層22に使用される第1色素の第1吸光度と反射率との相関関係(第1相関関係:図5参照)を求める。   Specifically, first, in step S401 of FIG. 21, the correlation between the first absorbance and the reflectance of the first dye used in the first information recording layer 22 (first correlation: see FIG. 5) is obtained. Ask.

その後、図21のステップS402において、第1プリグルーブ12の深さと反射率との相関関係(第2相関関係:図6参照)を求める。   Thereafter, in step S402 in FIG. 21, a correlation between the depth of the first pregroove 12 and the reflectance (second correlation: see FIG. 6) is obtained.

その後、図21のステップS403において、第1相関関係と第2相関関係とから、目標反射率(例えば16%)における第1吸光度と第1プリグルーブ12の深さとの相関関係(第3相関関係:図7参照)を求める。   Thereafter, in step S403 of FIG. 21, the correlation between the first absorbance at the target reflectance (for example, 16%) and the depth of the first pregroove 12 (third correlation) from the first correlation and the second correlation. : See FIG. 7).

その後、図21のステップS404において、使用される第1色素の第1吸光度と第3相関関係とに基づいて第1プリグルーブ12の第1深さを求める。   Thereafter, in step S404 of FIG. 21, the first depth of the first pregroove 12 is obtained based on the first absorbance and the third correlation of the first dye used.

その後、図21のステップS405において、第1吸光度と記録感度との相関関係(第4相関関係:図15参照)を求める。   Thereafter, in step S405 of FIG. 21, a correlation between the first absorbance and the recording sensitivity (fourth correlation: see FIG. 15) is obtained.

その後、図21のステップS406において、第1プリグルーブ12の深さと記録感度との相関関係(第5相関関係:図16参照)を求める。   Thereafter, in step S406 in FIG. 21, a correlation between the depth of the first pregroove 12 and the recording sensitivity (fifth correlation: see FIG. 16) is obtained.

その後、図21のステップS407において、第4相関関係と第5相関関係とから、目標記録感度(例えば40mW)における第1吸光度と第1プリグルーブ12の深さとの相関関係(第6相関関係:図17参照)を求める。   Thereafter, in step S407 of FIG. 21, the correlation between the first absorbance at the target recording sensitivity (for example, 40 mW) and the depth of the first pregroove 12 (sixth correlation: from the fourth correlation and the fifth correlation). 17).

その後、図21のステップS408において、使用される第1色素の第1吸光度と第6相関関係とに基づいて第1プリグルーブ12の第2深さを求める。   Thereafter, in step S408 of FIG. 21, the second depth of the first pregroove 12 is obtained based on the first absorbance of the first dye used and the sixth correlation.

そして、図21のステップS409において、ステップS404にて求めた第1深さとステップS408にて求めた第2深さの中間値を第1プリグルーブ12の深さh1として設定する。   Then, in step S409 of FIG. 21, an intermediate value between the first depth obtained in step S404 and the second depth obtained in step S408 is set as the depth h1 of the first pregroove 12.

一方、第2プリグルーブ16の深さh2については、図22に示す以下のステップを踏むことにより設定される。   On the other hand, the depth h2 of the second pregroove 16 is set by taking the following steps shown in FIG.

すなわち、まず、図22のステップS501において、第2情報記録層28に使用される第2色素の第2吸光度と反射率との相関関係(第11相関関係:図8参照)を求める。   That is, first, in step S501 of FIG. 22, the correlation between the second absorbance and the reflectance of the second dye used in the second information recording layer 28 (11th correlation: see FIG. 8) is obtained.

その後、図22のステップS502において、第2プリグルーブ16の深さと反射率との相関関係(第12相関関係:図9参照)を求める。   Thereafter, in step S502 of FIG. 22, the correlation between the depth of the second pregroove 16 and the reflectance (the twelfth correlation: see FIG. 9) is obtained.

その後、図22のステップS503において、第11相関関係と第12相関関係とから、目標反射率(例えば16%)における第2吸光度と第2プリグルーブ16の深さh2との相関関係(第13相関関係:図10参照)を求める。   Thereafter, in step S503 of FIG. 22, from the eleventh correlation and the twelfth correlation, the correlation between the second absorbance at the target reflectance (for example, 16%) and the depth h2 of the second pregroove 16 (the thirteenth Correlation: See FIG. 10).

その後、図22のステップS504において、使用される第2色素の第2吸光度と第13相関関係とに基づいて第2プリグルーブ16の第11深さを求める。   Thereafter, in step S504 of FIG. 22, the eleventh depth of the second pregroove 16 is obtained based on the second absorbance and the thirteenth correlation of the second dye used.

その後、図22のステップS505において、第2吸光度と記録感度との相関関係(第14相関関係:図18参照)を求める。   Thereafter, in step S505 in FIG. 22, a correlation between the second absorbance and the recording sensitivity (fourteenth correlation: see FIG. 18) is obtained.

その後、図22のステップS506において、第2プリグルーブ16の深さと記録感度との相関関係(第15相関関係:図19参照)を求める。   Thereafter, in step S506 in FIG. 22, a correlation between the depth of the second pregroove 16 and the recording sensitivity (fifteenth correlation: see FIG. 19) is obtained.

その後、図22のステップS507において、第14相関関係と第15相関関係とから、目標記録感度(例えば40mW)における第2吸光度と第2プリグルーブ16の深さとの相関関係(第16相関関係:図20参照)を求める。   Thereafter, in step S507 in FIG. 22, the correlation between the second absorbance at the target recording sensitivity (for example, 40 mW) and the depth of the second pregroove 16 (the sixteenth correlation: (See FIG. 20).

その後、図22のステップS508において、使用される第2色素の第2吸光度と第16相関関係とに基づいて第2プリグルーブ16の第12深さを求める。   Thereafter, in step S508 of FIG. 22, the twelfth depth of the second pregroove 16 is obtained based on the second absorbance of the second dye used and the sixteenth correlation.

そして、図22のステップS509において、ステップS504にて求めた第11深さとステップS508にて求めた第12深さの中間値を第2プリグルーブ16の深さh2として設定する。   Then, in step S509 in FIG. 22, an intermediate value between the eleventh depth obtained in step S504 and the twelfth depth obtained in step S508 is set as the depth h2 of the second pregroove 16.

上述したように、第1プリグルーブ12の深さh1と第2プリグルーブ16の深さh2が決定した後、図11又は図13に示すように、第1光ディスク10A又は第2光ディスク10Bの製造工程に入る。   As described above, after the depth h1 of the first pregroove 12 and the depth h2 of the second pregroove 16 are determined, as shown in FIG. 11 or FIG. 13, the first optical disk 10A or the second optical disk 10B is manufactured. Enter the process.

このように、第3の実施の形態に係る設計方法においては、第1情報記録層22に使用される第1色素のレーザ光32の波長における第1吸光度に基づいて、第1情報記録層22が目標の反射率及び目標記録感度を満足するように第1プリグルーブ12の深さh1を設定し、第2情報記録層28に使用される第2色素のレーザ光32の波長における第2吸光度に基づいて、第2情報記録層28が目標の反射率及び目標記録感度を満足するように第2プリグルーブ16の深さh2を設定するようにしたので、第1光ディスク10A毎あるいは第2光ディスク10B毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bを製造することができ、第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。   Thus, in the design method according to the third embodiment, the first information recording layer 22 is based on the first absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the first dye used in the first information recording layer 22. Is set to a depth h1 of the first pregroove 12 so that the target reflectance and the target recording sensitivity are satisfied, and the second absorbance at the wavelength of the laser light 32 of the second dye used in the second information recording layer 28 is set. Therefore, the depth h2 of the second pre-groove 16 is set so that the second information recording layer 28 satisfies the target reflectance and the target recording sensitivity. For each 10B, the first optical disc 10A and the second optical disc 10B with little variation in characteristics such as reflectance and recording sensitivity can be manufactured, and the yield of the first optical disc 10A and the second optical disc 10B can be manufactured. Rino improved and it is possible to shorten the development period.

次に、第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bを構成する各層の材質等について説明する。   Next, the material of each layer constituting the first optical disc 10A and the second optical disc 10B will be described.

まず、第1基板14及び第2基板18としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。   First, as the first substrate 14 and the second substrate 18, various materials used as substrate materials for conventional optical discs can be arbitrarily selected and used.

具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。   Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.

上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。   Among the above materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price.

これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第1基板14及び第2基板18を作製することができる。   When these resins are used, the first substrate 14 and the second substrate 18 can be manufactured by injection molding.

また、第1基板14及び第2基板18の厚さは、0.7〜2mmの範囲であり、0.9〜1.6mmの範囲であることが好ましく、1.0〜1.3mmとすることがより好ましい。   Moreover, the thickness of the 1st board | substrate 14 and the 2nd board | substrate 18 is the range of 0.7-2 mm, It is preferable that it is the range of 0.9-1.6 mm, and is 1.0-1.3 mm. It is more preferable.

また、第1基板14に形成される第1プリグルーブ12並びに第2基板18に形成される第2プリグルーブ16のトラックピッチは、上限値が800nm以下であり、500nm以下であることが好ましく、420nm以下であることがより好ましく、370nm以下であることがさらに好ましく、330nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、50nm以上であることが好ましく、100nm以上であることがより好ましく、200nm以上であることがさらに好ましく、260nm以上であることが特に好ましい。   The upper limit of the track pitch of the first pregroove 12 formed on the first substrate 14 and the second pregroove 16 formed on the second substrate 18 is 800 nm or less, preferably 500 nm or less, It is more preferably 420 nm or less, further preferably 370 nm or less, and particularly preferably 330 nm or less. Further, the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, further preferably 200 nm or more, and particularly preferably 260 nm or more.

第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16の幅(半値幅)は、上限値が500以下であり、250nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましく、170nm以下であることがさらに好ましく、150nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、23nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、80nm以上であることがさらに好ましく、100nm以上であることが特に好ましい。   The upper limit of the widths (half widths) of the first pregroove 12 and the second pregroove 16 is 500 or less, preferably 250 nm or less, more preferably 200 nm or less, and 170 nm or less. More preferably, it is particularly preferably 150 nm or less. Further, the lower limit is preferably 23 nm or more, more preferably 50 nm or more, further preferably 80 nm or more, and particularly preferably 100 nm or more.

第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16の(溝)深さは、上限値が150nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましく、70nm以下であることがさらに好ましく、50nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、5nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましく、20nm以上であることがさらに好ましく、28nm以上であることが特に好ましい。   The (groove) depth of the first pregroove 12 and the second pregroove 16 is preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, even more preferably 70 nm or less, and even more preferably 50 nm or less. It is particularly preferred that Further, the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 20 nm or more, and particularly preferably 28 nm or more.

第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16の角度は、上限値が80°以下であることが好ましく、70°以下であることがより好ましく、60°以下であることがさらに好ましく、50°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、20°以上であることが好ましく、30°以上であることがより好ましく、40°以上であることがさらに好ましい。   The upper limit of the angles of the first pregroove 12 and the second pregroove 16 is preferably 80 ° or less, more preferably 70 ° or less, further preferably 60 ° or less, and 50 ° or less. It is particularly preferred that Further, the lower limit value is preferably 20 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 40 ° or more.

なお、第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16に関する上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。   The upper limit value and the lower limit value related to the first pregroove 12 and the second pregroove 16 can be arbitrarily combined.

これら第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16の値は、AFM(原子間力顕微鏡)により測定することができる。   The values of the first pregroove 12 and the second pregroove 16 can be measured by an AFM (atomic force microscope).

そして、例えば第1プリグルーブ12の角度とは、第1プリグルーブ12の溝深さをDとした時、溝形成前の第1基板14の表面を基準とし、その表面からD/10の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からD/10の高さの傾斜部とを結ぶ直線と、第1基板14の面(溝部の底面)とのなす角度である。これは、第2プリグルーブ16の角度も同様である。   For example, the angle of the first pregroove 12 refers to the surface of the first substrate 14 before the groove is formed, with a depth of D / 10 from the surface when the groove depth of the first pregroove 12 is D. This is an angle formed by a straight line connecting the sloped portion and the sloped portion having a height of D / 10 from the deepest portion of the groove and the surface of the first substrate 14 (bottom surface of the groove portion). The same applies to the angle of the second pregroove 16.

もちろん、現在のDVD−Rの仕様も好ましく採用される。すなわち、トラックピッチ=740nm、第1プリグルーブ12の幅=350nm、深さ=130nm、角度=約60°、第2プリグルーブ16の幅=420nm、深さ=35nm、角度=約60°とすることも好ましく採用される。   Of course, the current DVD-R specifications are also preferably adopted. That is, the track pitch = 740 nm, the width of the first pregroove 12 = 350 nm, the depth = 130 nm, the angle = about 60 °, the width of the second pregroove 16 = 420 nm, the depth = 35 nm, and the angle = about 60 °. It is also preferably adopted.

また、第1光ディスク10A及び第2光ディスク10Bが、再生専用の光ディスクである場合、上記の第1プリグルーブ12及び第2プリグルーブ16を形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。   When the first optical disc 10A and the second optical disc 10B are read-only optical discs, pits indicating predetermined information are formed at the same time as the first pre-groove 12 and the second pre-groove 16 are formed. The

なお、第1基板14及び第2基板18の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。   In addition, it is preferable to form an undercoat layer on the surfaces of the first substrate 14 and the second substrate 18 for the purpose of improving the flatness and the adhesive force.

該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤等の表面改質剤;を挙げることができる。   Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, and chloro. Polymer materials such as sulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, etc .; silane coupling Surface modifiers such as agents;

下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。   The undercoat layer is formed by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. can do. The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, and preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

第1情報記録層22及び第2情報記録層28は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましい。第1情報記録層22及び第2情報記録層28に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。   The first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 are preferably of a dye type containing a dye as a recording material. Examples of the recording material contained in the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 include organic compounds such as dyes and phase change metal compounds.

中でも、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の第1情報記録層22及び第2情報記録層28であることが好ましい。色素型の第1情報記録層22及び第2情報記録層28は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、中でも、オキソノール色素が好ましい。オキソノール色素を含有させることで長期間にわたり安定した記録再生特性の維持を実現することができる。   Among these, the dye-type first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 that can record information only once with a laser beam are preferable. The dye-type first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 preferably contain a dye having absorption in the recording wavelength region. Examples of the dye include a cyanine dye, an oxonol dye, a metal complex dye, an azo dye, and a phthalocyanine dye, and among them, an oxonol dye is preferable. By containing an oxonol dye, stable recording / reproducing characteristics can be maintained over a long period of time.

ここで、第1情報記録層22及び第2情報記録層28にて使用されるオキソノール色素について説明する。   Here, the oxonol dye used in the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 will be described.

オキソノール色素の具体例としては、F.M.Harmer著、Heterocyclic Compounds−Cyanine Dyes and Related Compounds、John&Wiley&Sons、New York、London、1964年刊に記載のもの等が挙げられる。   Specific examples of the oxonol dye include F.I. M.M. Examples include those described by Harmer, Heterocyclic Compounds-Cyanine Dies and Related Compounds, John & Wiley & Sons, New York, London, 1964.

オキソノール色素は、該当する活性メチレン化合物とメチン源(メチン染料にメチン基を導入するために用いられる化合物)との縮合反応によって合成することができる。   The oxonol dye can be synthesized by a condensation reaction between a corresponding active methylene compound and a methine source (a compound used for introducing a methine group into a methine dye).

この種の化合物についての詳細は、特公昭39−22069号公報、同43−3504号公報、同52−38056号公報、同54−38129号公報、同55−10059号公報、同58−35544号公報、特開昭49−99620号公報、同52−92716号公報、同59−16834号公報、同63−316853号公報、同64−40827号公報、並びに英国特許第1133986号明細書、米国特許第3247127号明細書、同4042397号明細書、同4181225号明細書、同5213956号明細書、同5260179号明細書を参照することができる。また、特開昭63−209995号公報、特開平10−309871号公報、特開2002−249674号公報にも記載されている。   Details of this type of compound are described in JP-B-39-22069, JP-A-43-3504, JP-A-52-38056, JP-A-54-38129, JP-A-55-10059, and JP-A-58-35544. No. 49-99620, No. 52-92716, No. 59-16834, No. 63-316853, No. 64-40827, and British Patent No. 1133986, U.S. Pat. Nos. 3,247,127, 4042397, 4,181,225, 5,213,956 and 5,260,179 can be referred to. Also described in JP-A-63-209995, JP-A-10-309871 and JP-A-2002-249674.

オキソノール色素は、単独で用いてもよく、あるいは2種以上を併用してもよい。また、既述のオキソノール色素とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。併用する色素は、アゾ色素(金属イオンとの錯体化したものを含む)、ピロメテン色素、シアニン色素等が例として挙げられる。   Oxonol dyes may be used alone or in combination of two or more. Further, the above-mentioned oxonol dye and other dye compounds may be used in combination. Examples of the dye to be used in combination include azo dyes (including those complexed with metal ions), pyromethene dyes, cyanine dyes, and the like.

色素は、熱分解温度が100℃〜350℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、150℃〜300℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、200℃から300℃の範囲にあるものが好ましい。   The dye preferably has a thermal decomposition temperature in the range of 100 ° C to 350 ° C. Furthermore, what is in the range of 150 to 300 degreeC is preferable. Furthermore, the thing in the range of 200 to 300 degreeC is preferable.

第1情報記録層22及び第2情報記録層28に用いる色素(「既述のオキソノール色素」又は「既述のオキソノール色素及びこれと併用する色素」)のアモルファス膜の光学特性上、複素屈折率の係数n(実部:屈性率)、k(虚部:消衰係数)は、好ましくは、2.0≦n≦3.0、0.005≦k≦0.30である。さらに好ましくは、2.1≦n≦2.7、0.01≦k≦0.15である。最も好ましくは、2.15≦n≦2.50、0.03≦k≦0.10である。   Complex refractive index due to the optical characteristics of the amorphous film of the dye used in the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 ("Oxonol dye described above" or "Oxonol dye described above and dye used in combination with this") The coefficients n (real part: refractive index) and k (imaginary part: extinction coefficient) are preferably 2.0 ≦ n ≦ 3.0 and 0.005 ≦ k ≦ 0.30. More preferably, 2.1 ≦ n ≦ 2.7 and 0.01 ≦ k ≦ 0.15. Most preferably, 2.15 ≦ n ≦ 2.50 and 0.03 ≦ k ≦ 0.10.

第1情報記録層22及び第2情報記録層28には、さらに耐光性を向上させるための種々の褪色防止剤を含有することができる。褪色防止剤の代表例としては、特開平3−224793号公報に記載の一般式(III)、(IV)もしくは(V)で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平2−300287号公報や特開平2−300288号公報に示されているニトロソ化合物、特開平10−151861号公報に示されているTCNQ誘導体等を挙げることができる。   The first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 can contain various anti-fading agents for further improving light resistance. Representative examples of the anti-fading agent include metal complexes, diimmonium salts, aminium salts represented by general formula (III), (IV) or (V) described in JP-A-3-224793, and JP-A-2-300287. And nitroso compounds disclosed in JP-A-2-300288 and TCNQ derivatives disclosed in JP-A-10-151861.

第1情報記録層22及び第2情報記録層28の形成は、既述のオキソノール色素、さらに所望によりクエンチャ、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第1基板14の表面及び第2基板18の表面に塗布して塗膜を形成したのち、乾燥することにより行うことができる。前記塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;シクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。   The first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 are formed by preparing a coating solution by dissolving the oxonol dye described above and, if desired, a quencher, a binder and the like in a solvent. It can be carried out by drying after coating the surface of the substrate 14 and the surface of the second substrate 18 to form a coating film. Examples of the solvent of the coating solution include esters such as butyl acetate, ethyl lactate, and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform; dimethylformamide and the like Amides; hydrocarbons such as cyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, diacetone alcohol; 2,2,3,3-tetrafluoro Fluorine solvents such as propanol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc. That.

上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。   The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types in consideration of the solubility of the compound to be used. Various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be further added to the coating solution depending on the purpose.

結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂;ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。   Examples of the binder include natural organic polymer materials such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and polyisobutylene; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Vinyl resins such as polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymers; acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resins And synthetic organic polymers such as an initial condensate of a thermosetting resin.

第1情報記録層22及び第2情報記録層28の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、既述のオキソノール色素を始めとした色素の量に対して一般に0.01〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.1〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにして調製される塗布液の色素濃度は一般に0.01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量%の範囲にある。   When a binder is used as the material for the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28, the amount of the binder used is generally 0.01 relative to the amount of the dye including the oxonol dye described above. It exists in the range of -50 times amount (mass ratio), Preferably it exists in the range of 0.1-5 times amount (mass ratio). The pigment concentration of the coating solution thus prepared is generally in the range of 0.01 to 10% by mass, preferably in the range of 0.1 to 5% by mass.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。第1情報記録層22及び第2情報記録層28はそれぞれ単層でも重層でもよい。第1情報記録層22及び第2情報記録層28の層厚は一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは50〜300nmの範囲にある。   Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method. Each of the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 may be a single layer or a multilayer. The thicknesses of the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 are generally in the range of 20 to 500 nm, preferably in the range of 50 to 300 nm.

次に、半透明反射層24及び反射層26について説明すると、反射層26の材料である光反射性物質は、レーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。   Next, the translucent reflective layer 24 and the reflective layer 26 will be described. The light reflective material that is a material of the reflective layer 26 is a material having a high reflectance with respect to laser light. Examples thereof include Mg, Se, and Y. Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al , Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and metalloids, and stainless steel.

これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼であり、特に好ましいものはAgである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは2種以上の組み合わせで、又は合金として用いてもよい。反射層26は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより第1情報記録層22上、第2情報記録層28上及び第2基板18上に形成することができる。   Among these, preferred are Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel, and particularly preferred is Ag. These substances may be used alone or in combination of two or more or as an alloy. The reflective layer 26 can be formed on the first information recording layer 22, the second information recording layer 28, and the second substrate 18, for example, by vapor deposition, sputtering, or ion plating of the reflective material.

そして、半透明反射層24の層厚は、2〜150nmの範囲にあることが好ましい。また、反射層26の層厚は、一般には10〜300nmの範囲にあり、好ましくは50〜200nmの範囲である。   And it is preferable that the layer thickness of the translucent reflective layer 24 exists in the range of 2-150 nm. The thickness of the reflective layer 26 is generally in the range of 10 to 300 nm, preferably in the range of 50 to 200 nm.

次に、バリア層30は、第2情報記録層28等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる。このバリア層30は、第1基板14や第2基板18のうち、第1情報記録層22及び第2情報記録層28が設けられていない部分にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。   Next, the barrier layer 30 is provided for the purpose of physically and chemically protecting the second information recording layer 28 and the like. The barrier layer 30 is provided in the first substrate 14 and the second substrate 18 in a portion where the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28 are not provided for the purpose of improving scratch resistance and moisture resistance. May be.

バリア層30に用いられる材料としては、例えば、SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si34、ZnO−Ga23等の無機物質;熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質;を挙げることができる。 Examples of the material used for the barrier layer 30 include inorganic substances such as SiO, SiO 2 , MgF 2 , SnO 2 , Si 3 N 4 , and ZnO—Ga 2 O 3 ; thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curing. Organic substances such as a conductive resin;

バリア層30は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けることができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を使用する場合には、これらを適当な溶剤に溶解した塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。バリア層30の層厚は、一般には1nm〜10μmの範囲にある。   The barrier layer 30 can be provided by a method such as vacuum deposition, sputtering, or coating. Moreover, when using a thermoplastic resin and a thermosetting resin, it can also form by preparing the coating liquid which melt | dissolved these in the appropriate solvent, apply | coating this coating liquid, and drying. In the case of a UV curable resin, it can also be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiation with UV light. In these coating liquids, various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added according to the purpose. The layer thickness of the barrier layer 30 is generally in the range of 1 nm to 10 μm.

次に、中間層20は、上述したように、少なくとも第1情報記録層22と第2情報記録層28との間に設けられる。   Next, as described above, the intermediate layer 20 is provided at least between the first information recording layer 22 and the second information recording layer 28.

中間層20及び接着層48の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、感圧式両面テープ等や、SiO2等の無機材料等が挙げられる。また、これらの材料を単独又は混合してもよいし、一層だけではなく多層膜にして用いてもよい。このような中間層20は、スピンコート法やキャスト法、スパッタ法により形成することができる。中間層20の厚みは、5〜100μmであることが好ましく、さらに好ましくは10〜70μmである。 Examples of the material for the intermediate layer 20 and the adhesive layer 48 include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, ultraviolet curable resins, pressure-sensitive double-sided tapes, and inorganic materials such as SiO 2 . These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film. Such an intermediate layer 20 can be formed by spin coating, casting, or sputtering. The thickness of the intermediate layer 20 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 70 μm.

なお、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   The optical information recording medium design method, the optical information recording medium substrate and the optical information recording medium according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various configurations are possible without departing from the gist of the present invention. Of course, it can be taken.

第1〜第3の実施の形態に係る設計方法にて作製される第1光ディスクを一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows the 1st optical disk produced with the design method which concerns on the 1st-3rd embodiment. 第1基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 1st board | substrate. 第2基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 2nd board | substrate. 第1の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the design method which concerns on 1st Embodiment. 第1情報記録層に使用される第1色素の第1吸光度と反射率との第1相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 1st correlation of the 1st light absorbency and reflectance of the 1st pigment | dye used for a 1st information recording layer. 第1プリグルーブの深さと反射率との第2相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 2nd correlation of the depth of a 1st pregroove, and a reflectance. 目標反射率における第1吸光度と第1プリグルーブの深さとの第3相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 3rd correlation with the 1st light absorbency in the target reflectance, and the depth of the 1st pregroove. 第2情報記録層に使用される第2色素の第2吸光度と反射率との第11相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 11th correlation between the 2nd light absorbency and reflectance of the 2nd pigment | dye used for a 2nd information recording layer. 第2プリグルーブの深さと反射率との第12相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 12th correlation between the depth of a 2nd pregroove, and a reflectance. 目標反射率における第2吸光度と第2プリグルーブの深さとの第13相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 13th correlation between the 2nd light absorbency in the target reflectance, and the depth of the 2nd pregroove. 第1光ディスクの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of a 1st optical disk. 第2光ディスクを一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows a 2nd optical disk partially. 第2光ディスクの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of a 2nd optical disk. 第2の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the design method which concerns on 2nd Embodiment. 第1情報記録層に使用される第1色素の第1吸光度と記録感度との第4相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 4th correlation of the 1st light absorbency and recording sensitivity of the 1st pigment | dye used for a 1st information recording layer. 第1プリグルーブの深さと記録感度との第5相関関係を示す特性図である。FIG. 10 is a characteristic diagram showing a fifth correlation between the depth of the first pregroove and the recording sensitivity. 目標記録感度における第1吸光度と第1プリグルーブの深さとの第6相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 6th correlation with the 1st light absorbency in the target recording sensitivity, and the depth of the 1st pregroove. 第2情報記録層に使用される第2色素の第2吸光度と記録感度との第14相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 14th correlation of the 2nd light absorbency and recording sensitivity of the 2nd pigment | dye used for a 2nd information recording layer. 第2プリグルーブの深さと記録感度との第15相関関係を示す特性図である。It is a characteristic view showing a 15th correlation between the depth of the second pregroove and the recording sensitivity. 目標記録感度における第2吸光度と第2プリグルーブの深さとの第16相関関係を示す特性図である。It is a characteristic figure showing the 16th correlation of the 2nd light absorbency and the depth of the 2nd pregroove in target recording sensitivity. 第3の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャート(その1)である。It is a flowchart (the 1) which shows the design method which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャート(その2)である。It is a flowchart (the 2) which shows the design method which concerns on 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10A、10B…光ディスク 12…第1プリグルーブ
14…第1基板 16…第2プリグルーブ
18…第2基板 20…中間層
22…第1情報記録層 28…第2情報記録層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10A, 10B ... Optical disk 12 ... 1st pre-groove 14 ... 1st board | substrate 16 ... 2nd pre-groove 18 ... 2nd board | substrate 20 ... Intermediate | middle layer 22 ... 1st information recording layer 28 ... 2nd information recording layer

Claims (9)

グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の反射率を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
A method for designing an optical information recording medium having a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and recording and / or reproducing information by irradiating the dye recording layer with laser light In
The groove depth is set so as to satisfy at least the target reflectance of the optical information recording medium based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser beam. Method for designing optical information recording medium.
請求項1記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と反射率との第1相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第2相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、
前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
The method for designing an optical information recording medium according to claim 1,
From the first correlation between the absorbance and the reflectance and the second correlation between the groove depth and the reflectance, a third correlation between the absorbance and the groove depth at the target reflectance is obtained. ,
A method for designing an optical information recording medium, wherein the depth of the groove is set based on the third correlation.
グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
A method for designing an optical information recording medium having a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and recording and / or reproducing information by irradiating the dye recording layer with laser light In
The groove depth is set so as to satisfy at least the target recording sensitivity of the optical information recording medium based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser beam. Method for designing optical information recording medium.
請求項3記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と記録感度との第1相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第2相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、
前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
The method for designing an optical information recording medium according to claim 3,
From the first correlation between the absorbance and the recording sensitivity and the second correlation between the groove depth and the recording sensitivity, a third correlation between the absorbance and the groove depth at the target recording sensitivity is obtained. ,
A method for designing an optical information recording medium, wherein the depth of the groove is set based on the third correlation.
グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の目標の反射率及び目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
A method for designing an optical information recording medium having a substrate having a groove and a dye recording layer formed on the substrate, and recording and / or reproducing information by irradiating the dye recording layer with laser light In
Based on the absorbance of the dye used in the dye recording layer at the wavelength of the laser light, the depth of the groove is set so as to satisfy the target reflectance and target recording sensitivity of the optical information recording medium. A method for designing an optical information recording medium.
請求項5記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と反射率との第1相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第2相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第3相関関係を求め、
前記吸光度と記録感度との第4相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第5相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第6相関関係を求め、
前記第3相関関係に基づいて、前記グルーブの第1深さを設定し、
前記第6相関関係に基づいて、前記グルーブの第2深さを設定し、
前記第1深さと前記第2深さの中間値を前記グルーブの深さとして設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
The method of designing an optical information recording medium according to claim 5,
From the first correlation between the absorbance and the reflectance and the second correlation between the groove depth and the reflectance, a third correlation between the absorbance and the groove depth at the target reflectance is obtained. ,
A sixth correlation between the absorbance and the groove depth at the target recording sensitivity is obtained from the fourth correlation between the absorbance and the recording sensitivity and the fifth correlation between the groove depth and the recording sensitivity. ,
Based on the third correlation, a first depth of the groove is set,
Based on the sixth correlation, a second depth of the groove is set,
A method for designing an optical information recording medium, wherein an intermediate value between the first depth and the second depth is set as the depth of the groove.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記光情報記録媒体は、前記グルーブが形成された基板を有し、前記レーザ光が照射される方向から見て前記記録層と前記グルーブがこの順番で配置されていることを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
The method for designing an optical information recording medium according to any one of claims 1 to 6,
The optical information recording medium has a substrate on which the groove is formed, and the recording layer and the groove are arranged in this order when viewed from a direction in which the laser beam is irradiated. A recording medium design method.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の設計方法を用いて設計された光情報記録媒体用の基板。   A substrate for an optical information recording medium designed by using the method for designing an optical information recording medium according to claim 1. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の設計方法を用いて設計された光情報記録媒体。

An optical information recording medium designed using the method for designing an optical information recording medium according to claim 1.

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