JP2007280575A - Manufacturing method of optical information recording medium - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily conform parameters of a jitter value, a degree of modulation, a reflectance value and the like concerning access by a laser light to an optical disk to respective corresponding specification values. <P>SOLUTION: In a manufacturing method of an optical information recording medium, one or more first prepits 42A used for adjusting at least output of laser light for recording and/or reproduction of a first information recording layer 14 are formed in a system lead-in area 24A disposed in an innermost peripheral part of a first substrate and the first information recording layer 14 is formed on the first substrate. Only the parts corresponding to the first prepits 42A in the first information recording layer 14 are locally irradiated with laser light having a fixed output level (refer to an irradiation region 44 with laser light) to change an optical constant of the parts irradiated with the laser light in the first information recording layer 14 (refer to a region 48 whose optical constant is changed). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザ光を用いて情報の書き込み(記録)や読取り(再生)が可能なヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a heat mode type optical information recording medium capable of writing (recording) and reading (reproducing) information using a laser beam.

従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体(光ディスク)が知られている。この光ディスクは、1層の情報記録層を有するものや、2層の情報記録層を有するもの等がある。   Conventionally, an optical information recording medium (optical disc) capable of recording information by laser light is known. Such optical disks include those having one information recording layer and those having two information recording layers.

1層の情報記録層を有する第1光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。   A first optical disc having one information recording layer includes a substrate having a pregroove formed on the surface, a reflective layer formed along the surface of the substrate, an information recording layer formed on the reflective layer, And a protective layer formed on the information recording layer.

2層の情報記録層を有する第2光ディスクは、表面に第1プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された薄い反射層と、該薄い反射層上に形成された第1情報記録層と、該第1情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第2情報記録層と、該第2情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する(例えば特許文献1〜3参照)。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第2情報記録層の第2プリグルーブとして機能することになる。   A second optical disk having two information recording layers is formed on a substrate having a first pregroove formed on the surface, a thin reflective layer formed along the irregularities of the surface of the substrate, and the thin reflective layer First information recording layer formed, an intermediate layer formed on the surface of the first information recording layer and having irregularities formed thereon, and a second information recording layer formed along the irregularities on the surface of the intermediate layer A layer, a reflective layer formed on the second information recording layer, and a protective layer formed on the reflective layer (see, for example, Patent Documents 1 to 3). The reflective layer is formed along the unevenness of the intermediate layer, whereby the unevenness of the reflective layer functions as the second pregroove of the second information recording layer.

上述した第1光ディスクのプリグルーブや、第2光ディスクの第1プリグルーブ及び第2プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。   In addition to the formation of address pits for address detection, the pre-groove of the first optical disc and the first pre-groove and the second pre-groove of the second optical disc described above, the servo control of the spindle motor, the tracking control of the pickup, Servo pre-pits for focus control are formed.

また、従来では、情報記録層に対するレーザ光の照射によって情報を記録する際に、レーザ光の強度を最適化を行ったり、記録再生装置に、メーカーの異なる光ディスクごとに記録ストラテジーを変えるシステムを組み込むようにした技術が提案されている(例えば特許文献4)。これは、光情報記録媒体が記録装置、記録材料、環境温度やレーザ光源の波長変動等によって同一記録条件でも同一に記録できないという事実からきている。   Conventionally, when recording information by irradiating the information recording layer with laser light, the intensity of the laser light is optimized, or the recording / reproducing apparatus incorporates a system for changing the recording strategy for each optical disc of a different manufacturer. Such a technique has been proposed (for example, Patent Document 4). This is due to the fact that the optical information recording medium cannot be recorded the same even under the same recording conditions due to the recording device, recording material, environmental temperature, wavelength variation of the laser light source, and the like.

特開2005−4808号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-4808 特開平10−283682号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-283682 特開平8−203125号公報JP-A-8-203125 特開平8−249662号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 8-249626

ところで、光情報記録媒体へのレーザ光によるアクセスに関し、ジッタ、変調度、反射率等についてそれぞれ規格値が決められており、各規格値に適合するようにアクセスを行う必要がある。   Incidentally, regarding the access to the optical information recording medium by the laser beam, standard values are determined for jitter, modulation degree, reflectance, etc., and it is necessary to perform access so as to conform to each standard value.

そこで、光情報記録媒体の最内周の部分に、少なくともレーザ光の出力を調整するための領域を配置し、該領域に形成された1以上のピットを再生することで、ジッタ、変調度、反射率等が各規格値に適合するように、レーザ光の出力や再生ゲイン等を調整することが考えられている。従って、前記領域のピットを確実に再生できることが重要である。   Therefore, by arranging at least a region for adjusting the output of the laser beam in the innermost part of the optical information recording medium and reproducing one or more pits formed in the region, jitter, modulation degree, It is considered to adjust the output of the laser beam, the reproduction gain, and the like so that the reflectance and the like match each standard value. Therefore, it is important that the pits in the area can be reliably reproduced.

しかし、上述した2層の情報記録層を有する第2光ディスクを想定したとき、前記領域を第2光ディスクの最内周に配置することから、ピットの幅をむやみに大きくすることができないという制限がある。さらに、図15に示すように、反射層の厚みと再生信号に含まれるジッタの量との関係からわかるように、第2光ディスクに形成される薄い反射層にて反射した再生光には、高調波による信号の折り返し成分が多く含まれ、それに伴ってその再生信号には多くのジッタが含まれることになる。そのため、ジッタの量が多くなる環境下において、いかに確実にピットを再生することができるか、が課題となる。   However, when the second optical disk having the two information recording layers described above is assumed, since the area is arranged on the innermost periphery of the second optical disk, there is a limitation that the pit width cannot be increased unnecessarily. is there. Further, as shown in FIG. 15, as can be seen from the relationship between the thickness of the reflective layer and the amount of jitter included in the reproduction signal, the reproduction light reflected by the thin reflection layer formed on the second optical disc has a higher harmonic. A large number of aliasing components of the signal due to waves are included, and accordingly, the reproduced signal includes a lot of jitter. Therefore, how to reliably reproduce pits in an environment where the amount of jitter increases is a problem.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、基板の最内周の部分に配置され、少なくともレーザ光の出力を調整するための1以上のピットが形成された領域への記録及び/又は再生用のレーザ光の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域のピットの再生信号を取り出すことができ、光情報記録媒体へのレーザ光によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等のパラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such a problem, and is recorded in an area in which at least one pit for adjusting the output of laser light is formed at the innermost part of the substrate. In addition, the reproduction signal of the pit in the area can be taken out with high accuracy and certainty by irradiation with the laser beam for reproduction, and the jitter, modulation degree, reflection regarding the access to the optical information recording medium by the laser beam. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium in which parameters such as rate can be easily adapted to corresponding standard values.

第1の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、前記基板の最内周の部分に、前記記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上のピットを形成するピット形成ステップと、前記基板上に前記記録層を形成する記録層形成ステップと、前記記録層のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射するレーザ光照射ステップとを有することを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical information recording medium comprising a substrate and a recording layer formed on the substrate, and recording information by irradiating the recording layer with laser light. In the method of manufacturing an optical information recording medium for performing reproduction, pits for forming at least one pit used for adjusting at least the output of the laser beam to the recording layer in the innermost part of the substrate A forming step; a recording layer forming step for forming the recording layer on the substrate; and a laser light irradiation step for irradiating a laser beam to the innermost peripheral portion of the recording layer where the pits are formed; It is characterized by having.

また、第2の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、前記基板の最内周の部分に、前記記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上のピットを形成するピット形成ステップと、前記基板上に前記記録層を形成する記録層形成ステップと、前記記録層のうち、前記ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる光学定数変化ステップとを有することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided an optical information recording medium manufacturing method comprising a substrate and a recording layer formed on the substrate, and irradiating the recording layer with laser light to record information. In the method of manufacturing an optical information recording medium for recording and / or reproducing, at least one pit used for adjusting at least the output of the laser beam to the recording layer is formed in the innermost part of the substrate A pit forming step, a recording layer forming step for forming the recording layer on the substrate, and an optical constant changing step for changing an optical constant of the recording layer corresponding to the pit among the recording layers. Features.

これら第1及び第2の本発明においては、前記基板の最内周部分に形成された前記ピットに対する記録及び/又は再生用のレーザ光の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域のピットの再生信号を取り出すことができ、光情報記録媒体へのレーザ光によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等のパラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる光情報記録媒体を製造することができる。   In the first and second aspects of the present invention, irradiation of the recording and / or reproducing laser light to the pits formed on the innermost peripheral portion of the substrate with high accuracy and certainty. An optical information recording medium that can take out a reproduction signal of a pit and can easily adapt parameters such as jitter, modulation degree, and reflectance relating to access to the optical information recording medium by laser light to corresponding standard values. Can be manufactured.

そして、第1の本発明において、前記レーザ光照射ステップは、前記記録層のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分の前記記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記記録層に対してレーザ光を照射するようにしてもよい。   In the first aspect of the present invention, the laser beam irradiation step is performed for the purpose of changing an optical constant of the recording layer in the innermost peripheral portion of the recording layer where the pits are formed. You may make it irradiate a laser beam with respect to the said recording layer of an inner peripheral part.

この場合、前記基板を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In this case, while rotating the substrate relatively, the innermost peripheral portion is continuously irradiated with the laser beam having a constant output level as time elapses. The optical constant may be changed.

また、第2の本発明において、前記光学定数変化ステップは、前記ピット内に充填された記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In the second aspect of the present invention, the optical constant changing step may change the optical constant of the recording layer filled in the pit.

また、第2の本発明において、前記光学定数変化ステップは、前記基板のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射するようにしてもよい。   In the second aspect of the present invention, in the optical constant changing step, laser light is emitted for the purpose of changing the optical constant of the recording layer with respect to the innermost peripheral portion of the substrate where the pits are formed. You may make it irradiate.

この場合、前記基板を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記最内周部分に照射し続けて前記記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In this case, the optical constant of the recording layer is changed by continuously irradiating the innermost peripheral portion with the laser beam having a constant output level as time passes while relatively rotating the substrate. It may be.

上述した第1及び第2の本発明において、最内周部分に照射するレーザ光の出力レベルは、記録線速度が1倍速(例えば6.61m/sec)のとき、3mW以上、10mW以下であることが好ましく、さらに好ましくは4mW以上、6mW以下である。記録線速度を上げて、さらにレーザ光の出力レベルを増加させると(例えば2倍速で10mWとする等)、タクトタイムの向上を図ることができる。   In the first and second aspects of the present invention described above, the output level of the laser light applied to the innermost peripheral portion is 3 mW or more and 10 mW or less when the recording linear velocity is 1 × (for example, 6.61 m / sec). Preferably, it is 4 mW or more and 6 mW or less. When the recording linear velocity is increased and the output level of the laser beam is further increased (for example, 10 mW at a double speed), the tact time can be improved.

なお、前記記録層形成ステップは、前記基板上に前記記録層となる色素を塗布するようにしてもよい。   In the recording layer forming step, a dye to be the recording layer may be applied on the substrate.

また、第1及び第2の本発明において製造される前記光情報記録媒体としては、前記記録及び/又は再生用のレーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記光情報記録媒体の端面から前記記録層までの距離が0.6mmに対応したものであってもよい。   The optical information recording medium manufactured in the first and second aspects of the present invention includes an objective lens for condensing the laser light on the recording layer with a wavelength of the recording and / or reproducing laser light of 405 nm. May have a numerical aperture of 0.65 and a distance from the end face of the optical information recording medium to the recording layer of 0.6 mm.

次に、第3の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、第1基板と第2基板と、前記第1基板上に形成された第1記録層と、前記第2基板上に形成された第2記録層とを具備し、記録及び/又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第1記録層と前記第2記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第1記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、前記第1基板の最内周の部分に、前記第1記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第1ピットを形成する第1ピット形成ステップと、前記第1基板上に前記第1記録層を形成する第1記録層形成ステップと、前記第2基板の最内周の部分に、前記第2記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第2ピットを形成する第2ピット形成ステップと、前記第2基板上に前記第2記録層を形成する第2記録層形成ステップと、前記第1基板上に前記第2基板を、前記第1記録層と前記第2記録層とが対向するように貼り合わせる貼合せステップと、前記第1記録層のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射する第1レーザ光照射ステップと、前記第2記録層のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射する第2レーザ光照射ステップとを有することを特徴とする。   Next, a method for manufacturing an optical information recording medium according to a third aspect of the present invention includes a first substrate, a second substrate, a first recording layer formed on the first substrate, and formed on the second substrate. The first recording layer and the second recording layer are arranged in this order when viewed from the direction of irradiation with the recording and / or reproducing laser light, and at least the first recording layer is provided. In a method for manufacturing an optical information recording medium in which information is recorded and / or reproduced by irradiating a recording layer with laser light, the laser for the first recording layer is formed on the innermost part of the first substrate. A first pit forming step for forming one or more first pits used to adjust at least the output of light; a first recording layer forming step for forming the first recording layer on the first substrate; In the innermost part of the second substrate, on the second recording layer A second pit forming step for forming one or more second pits used for adjusting at least the output of the laser beam, and a second recording layer formation for forming the second recording layer on the second substrate Of the first recording layer, the step of laminating the second substrate on the first substrate so that the first recording layer and the second recording layer face each other, and the first recording layer A first laser beam irradiation step of irradiating the innermost peripheral portion where the pits are formed with a laser beam; and the innermost peripheral portion where the second pits are formed in the second recording layer. And a second laser beam irradiation step for irradiating the laser beam.

また、第4の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、第1基板と第2基板と、前記第1基板上に形成された第1記録層と、前記第2基板上に形成された第2記録層とを具備し、記録及び/又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第1記録層と前記第2記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第1記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、前記第1基板の最内周の部分に、前記第1記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第1ピットを形成する第1ピット形成ステップと、前記第1基板上に前記第1記録層を形成する第1記録層形成ステップと、前記第2基板の最内周の部分に、前記第2記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第2ピットを形成する第2ピット形成ステップと、前記第2基板上に前記第2記録層を形成する第2記録層形成ステップと、前記第1基板上に前記第2基板を、前記第1記録層と前記第2記録層とが対向するように貼り合わせる貼合せステップと、前記第1記録層のうち、前記第1ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる第1光学定数変化ステップと、前記第2記録層のうち、前記第2ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる第2光学定数変化ステップとを有することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an optical information recording medium manufacturing method, comprising: a first substrate; a second substrate; a first recording layer formed on the first substrate; and the second substrate. The first recording layer and the second recording layer are arranged in this order when viewed from the direction of irradiation with the recording and / or reproducing laser beam, and at least the first recording layer is provided. In a method for manufacturing an optical information recording medium in which information is recorded and / or reproduced by irradiating a layer with laser light, the laser light for the first recording layer is formed on the innermost periphery of the first substrate. A first pit forming step for forming one or more first pits used to adjust at least the output of the first recording layer, a first recording layer forming step for forming the first recording layer on the first substrate, In the innermost part of the second substrate, the second recording layer A second pit forming step for forming one or more second pits used for adjusting at least the output of the laser beam, and a second recording layer formation for forming the second recording layer on the second substrate Of the first recording layer, the step of laminating the second substrate on the first substrate so that the first recording layer and the second recording layer face each other, and the first recording layer A first optical constant changing step for changing the optical constant of the recording layer corresponding to the pit; and a second optical constant changing step for changing the optical constant of the recording layer corresponding to the second pit of the second recording layer; It is characterized by having.

これら第3及び第4の本発明においては、前記第1基板の最内周部分に形成された第1ピット及び前記第2基板の最内周部分に形成された第2ピットに対する記録及び/又は再生用のレーザ光の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域の第1ピット及び第2ピットの再生信号を取り出すことができ、光情報記録媒体へのレーザ光によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等のパラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる光情報記録媒体を製造することができる。   In the third and fourth aspects of the present invention, recording and / or recording on the first pit formed in the innermost peripheral portion of the first substrate and the second pit formed in the innermost peripheral portion of the second substrate. By reproducing the laser beam for reproduction, the reproduction signal of the first pit and the second pit in the area can be taken out with high accuracy and reliability, and jitter and modulation related to the access to the optical information recording medium by the laser beam. It is possible to manufacture an optical information recording medium in which parameters such as degree and reflectance can be easily adapted to the corresponding standard values.

そして、第3の本発明において、前記第1レーザ光照射ステップは、前記第1記録層のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分の前記第1記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記第1記録層に対してレーザ光を照射し、前記第2レーザ光照射ステップは、前記第2記録層のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分の前記第2記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記第2記録層に対してレーザ光を照射するようにしてもよい。   In the third aspect of the present invention, in the first laser light irradiation step, an optical constant of the first recording layer in the innermost peripheral portion of the first recording layer where the first pit is formed is changed. For the purpose of irradiating, the laser beam is irradiated to the first recording layer in the innermost peripheral portion, and the second laser beam irradiation step includes forming the second pit in the second recording layer. For the purpose of changing the optical constant of the second recording layer in the innermost peripheral portion, the second recording layer in the innermost peripheral portion may be irradiated with laser light.

この場合、前記第1レーザ光照射ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第1基板の最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記第1記録層の光学定数を変化させ、前記第2レーザ光照射ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第2基板の最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記第2記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In this case, in the first laser beam irradiation step, the laser beam having a constant output level with the passage of time is applied to the innermost circumference of the first substrate while relatively rotating the optical information recording medium. The optical constant of the first recording layer in the innermost peripheral portion is changed by continuing to irradiate the portion, and the second laser light irradiation step is performed with the passage of time while relatively rotating the optical information recording medium. Accordingly, the optical constant of the second recording layer in the innermost peripheral portion may be changed by continuously irradiating the innermost peripheral portion of the second substrate with the laser beam having a constant output level.

また、第4の本発明において、前記第1光学定数変化ステップは、前記第1ピット内に充填された第1記録層の光学定数を変化させ、前記第2光学定数変化ステップは、前記第2ピット内に充填された第2記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In the fourth aspect of the present invention, the first optical constant changing step changes an optical constant of the first recording layer filled in the first pit, and the second optical constant changing step includes the second optical constant changing step. The optical constant of the second recording layer filled in the pits may be changed.

また、第4の本発明において、前記第1光学定数変化ステップは、前記第1基板のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射し、前記第2光学定数変化ステップは、前記第2基板のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射するようにしてもよい。   In the fourth aspect of the present invention, in the first optical constant changing step, the optical constant of the recording layer is changed with respect to the innermost peripheral portion of the first substrate where the first pit is formed. In the second optical constant changing step, the optical constant of the recording layer is changed with respect to the innermost peripheral portion of the second substrate on which the second pit is formed. For this purpose, laser light may be irradiated.

この場合、前記第1光学定数変化ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第1基板の最内周部分に照射し続けて前記第1ピットに対応する第1記録層の光学定数を変化させ、前記第2光学定数変化ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第2基板の最内周部分に照射し続けて前記第2ピットに対応する第2記録層の光学定数を変化させるようにしてもよい。   In this case, in the first optical constant changing step, the laser light having a constant output level as time elapses while rotating the optical information recording medium relatively. The optical constant of the first recording layer corresponding to the first pit is changed by continuously irradiating the portion, and the second optical constant changing step is performed as time elapses while relatively rotating the optical information recording medium. Accordingly, the optical constant of the second recording layer corresponding to the second pit may be changed by continuously irradiating the innermost peripheral portion of the second substrate with the laser beam having a fixed output level.

上述した第3及び第4の本発明において、前記第1記録層及び前記第2記録層の各最内周部分に照射するレーザ光の出力レベルは、記録線速度が1倍速(例えば6.61m/sec)のとき、3mW以上、10mW以下であることが好ましく、さらに好ましくは4mW以上、6mW以下である。記録線速度を上げて、さらにレーザ光の出力レベルを増加させると(例えば2倍速で10mWとする等)、タクトタイムの向上を図ることができる。   In the third and fourth aspects of the present invention described above, the output level of the laser light applied to the innermost peripheral portions of the first recording layer and the second recording layer is a recording linear velocity of 1 × (for example, 6.61 m). / Sec), it is preferably 3 mW or more and 10 mW or less, more preferably 4 mW or more and 6 mW or less. When the recording linear velocity is increased and the output level of the laser beam is further increased (for example, 10 mW at a double speed), the tact time can be improved.

なお、前記第1記録層形成ステップは、前記第1基板上に前記第1記録層となる色素を塗布し、前記第2記録層形成ステップは、前記第2基板上に前記第2記録層となる色素を塗布するようにしてもよい。   In the first recording layer forming step, a dye to be the first recording layer is applied on the first substrate, and in the second recording layer forming step, the second recording layer and the second recording layer are formed on the second substrate. You may make it apply | coat the pigment | dye which becomes.

また、第3及び第4の本発明において製造される前記光情報記録媒体としては、前記記録及び/又は再生用のレーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を少なくとも前記第1記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記光情報記録媒体の端面から前記第1記録層までの距離が0.6mmに対応したものであってもよい。   The optical information recording medium manufactured in the third and fourth aspects of the present invention may be configured such that the wavelength of the recording and / or reproducing laser beam is 405 nm, and the laser beam is focused on at least the first recording layer. The numerical aperture of the objective lens may be 0.65, and the distance from the end face of the optical information recording medium to the first recording layer may be 0.6 mm.

以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、基板の最内周の部分に配置され、少なくともレーザ光の出力を調整するための1以上のピットが形成された領域への記録及び/又は再生用のレーザ光の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域のピットの再生信号を取り出すことができ、光情報記録媒体へのレーザ光によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等のパラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる。   As described above, according to the method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention, at least one pit for adjusting the output of the laser beam is formed at the innermost part of the substrate. By irradiating the area with the recording and / or reproducing laser beam, the reproduction signal of the pit in the area can be taken out with high accuracy and reliability, and the jitter related to the access to the optical information recording medium by the laser beam, Parameters such as modulation degree and reflectance can be easily adapted to the corresponding standard values.

以下、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法の実施の形態例を図1〜図14を参照しながら説明する。   Embodiments of the method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

本実施の形態に係る光ディスク10は、図1に示すように、第1基板12と、該第1基板12上に形成された第1情報記録層14と、第2基板16と、該第2基板16上に形成された第2情報記録層18とを具備し、第1基板12と第2基板16とが中間層20を介して貼り合わされた構成を有する。   As shown in FIG. 1, the optical disc 10 according to the present embodiment includes a first substrate 12, a first information recording layer 14 formed on the first substrate 12, a second substrate 16, and a second substrate. The second information recording layer 18 formed on the substrate 16 is provided, and the first substrate 12 and the second substrate 16 are bonded to each other through the intermediate layer 20.

また、光ディスク10は、ユーザの情報が記録される情報記録領域22と、少なくともレーザ光の出力を調整するために使用される領域24とを有する。特に、第1情報記録層14のうち、領域24に対応する部分がシステム・リードイン領域24Aとされ、第2情報記録層18のうち、領域24に対応する部分がシステム・リードアウト領域24Bとされている。   The optical disc 10 has an information recording area 22 where user information is recorded and an area 24 used to adjust at least the output of the laser beam. In particular, a portion corresponding to the region 24 in the first information recording layer 14 is a system lead-in region 24A, and a portion corresponding to the region 24 in the second information recording layer 18 is a system lead-out region 24B. Has been.

具体的には、光ディスク10の情報記録領域22は、図2に示すように、第1基板12の表面に第1プリグルーブ26が形成され、第2基板16の表面にも第2プリグルーブ28が形成されている。   Specifically, as shown in FIG. 2, in the information recording area 22 of the optical disc 10, the first pregroove 26 is formed on the surface of the first substrate 12, and the second pregroove 28 is also formed on the surface of the second substrate 16. Is formed.

図3に示すように、第1基板12の表面には、第1プリグルーブ26の凹凸に沿って第1情報記録層14が形成され、該第1情報記録層14上に厚みの薄い第1反射層30が形成されている。   As shown in FIG. 3, the first information recording layer 14 is formed on the surface of the first substrate 12 along the unevenness of the first pregroove 26, and the first information recording layer 14 having a small thickness is formed on the first information recording layer 14. A reflective layer 30 is formed.

図4に示すように、第2基板16の表面には、第2プリグルーブ28の凹凸に沿って第2反射層32が形成され、該第2反射層32上に第2情報記録層18が形成され、該第2情報記録層18上にバリア層34が形成されている。   As shown in FIG. 4, the second reflective layer 32 is formed on the surface of the second substrate 16 along the irregularities of the second pregroove 28, and the second information recording layer 18 is formed on the second reflective layer 32. The barrier layer 34 is formed on the second information recording layer 18.

そして、第1基板12と第2基板16を貼り合わせる際に、図2に示すように、第1基板12上に形成された第1情報記録層14と第2基板16上に形成された第2情報記録層18とを対向させ、さらに、これら第1基板12と第2基板16との間に中間層20を介在させて貼り合わせることで、光ディスク10が構成される。   Then, when the first substrate 12 and the second substrate 16 are bonded together, the first information recording layer 14 formed on the first substrate 12 and the first substrate 16 formed on the second substrate 16 as shown in FIG. The optical disk 10 is configured by making the two information recording layers 18 face each other and further bonding them with an intermediate layer 20 interposed between the first substrate 12 and the second substrate 16.

第1情報記録層14に対して情報を記録する場合は、第1基板12の端面12aから第1情報記録層14に向かう方向に記録及び/又は再生用のレーザ光36を照射し、レーザ光36を第1情報記録層14に結像させて情報(ピット)を記録する。このとき、第1情報記録層14のうち、第1プリグルーブ26のグルーブ38に対応した部分に情報が記録される。記録用のレーザ光36としては、600nm〜700nm(好ましくは620〜680nm、さらに好ましくは、630〜660nm)の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。   When recording information on the first information recording layer 14, a laser beam 36 for recording and / or reproduction is irradiated in a direction from the end face 12 a of the first substrate 12 toward the first information recording layer 14, and the laser beam is emitted. 36 (36) is imaged on the first information recording layer 14 to record information (pits). At this time, information is recorded in a portion of the first information recording layer 14 corresponding to the groove 38 of the first pre-groove 26. As the recording laser beam 36, a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 600 nm to 700 nm (preferably 620 to 680 nm, more preferably 630 to 660 nm) is used.

特に、レーザ光36の波長が405nmである場合は、レーザ光36を第1情報記録層14に集光する図示しない対物レンズの開口数が0.65であって、第1基板12の表面12a(端面)から第1情報記録層14までの距離が0.6mmに対応したものが好ましい。   In particular, when the wavelength of the laser beam 36 is 405 nm, the numerical aperture of an objective lens (not shown) that focuses the laser beam 36 on the first information recording layer 14 is 0.65, and the surface 12a of the first substrate 12 It is preferable that the distance from the (end face) to the first information recording layer 14 corresponds to 0.6 mm.

もちろん、レーザ光36の波長が405nmである場合に、レーザ光36を第1情報記録層14に集光する図示しない対物レンズの開口数が0.85であって、第1基板12の表面12a(端面)から第1情報記録層14までの距離が0.1mmに対応したものでも構わない。   Of course, when the wavelength of the laser beam 36 is 405 nm, the numerical aperture of an objective lens (not shown) that focuses the laser beam 36 on the first information recording layer 14 is 0.85, and the surface 12a of the first substrate 12 The distance from the (end face) to the first information recording layer 14 may correspond to 0.1 mm.

第2情報記録層18に対して情報を記録する場合は、第1基板12の端面12aから第2情報記録層18に向かう方向に記録用のレーザ光36を照射し、レーザ光36を第2情報記録層18に結像させて情報(ピット)を記録する。このとき、第2情報記録層18のうち、第2プリグルーブ28のランド40に対応した部分に情報が記録される。   When information is recorded on the second information recording layer 18, the recording laser beam 36 is irradiated in the direction from the end face 12 a of the first substrate 12 toward the second information recording layer 18, and the laser beam 36 is emitted from the second information recording layer 18. Information (pits) is recorded by forming an image on the information recording layer 18. At this time, information is recorded in a portion of the second information recording layer 18 corresponding to the land 40 of the second pregroove 28.

従って、第1情報記録層14と第2情報記録層18との間に中間層20を介在させることによって、第1情報記録層14に記録された情報と第2情報記録層18に記録された情報の干渉を防ぎ、第1情報記録層14及び第2情報記録層18で良好な記録再生信号を得ることができる。   Therefore, the information recorded on the first information recording layer 14 and the information recorded on the second information recording layer 18 are provided by interposing the intermediate layer 20 between the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18. Information interference can be prevented, and a good recording / reproducing signal can be obtained by the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18.

一方、光ディスク10のシステム・リードイン領域24Aは、図5及び図6に示すように、1以上の第1プリピット42Aが形成され、また、システム・リードアウト領域24Bにも、図7及び図8に示すように、1以上の第2プリピット42Bが形成されている。   On the other hand, as shown in FIGS. 5 and 6, one or more first prepits 42A are formed in the system lead-in area 24A of the optical disc 10, and also in the system lead-out area 24B as shown in FIGS. As shown, one or more second prepits 42B are formed.

システム・リードイン領域24Aに形成された第1プリピット42Aは、第1情報記録層14に対する少なくともレーザ光36の出力を調整するためのものであり、システム・リードアウト領域24Bに形成された第2プリピット42Bは、第2情報記録層18に対する少なくともレーザ光36の出力を調整するためのものである。   The first prepit 42A formed in the system lead-in area 24A is for adjusting at least the output of the laser beam 36 to the first information recording layer 14, and the second prepit 42A formed in the system lead-out area 24B. The prepit 42B is for adjusting at least the output of the laser beam 36 to the second information recording layer 18.

すなわち、レーザ光36による第1情報記録層14へのアクセスの開始段階においてシステム・リードイン領域24Aの第1プリピット42Aを再生し、その再生情報に基づいて、ジッタ、変調度、反射率等が各規格値に適合するように、レーザ光36の出力や再生ゲイン等を調整する。同様に、レーザ光36による第2情報記録層18へのアクセスの開始段階においてシステム・リードアウト領域24Bの第2プリピット42Bを再生し、その再生情報に基づいて、ジッタ、変調度、反射率等が各規格値に適合するように、レーザ光36の出力や再生ゲイン等を調整する。   That is, at the start of access to the first information recording layer 14 by the laser light 36, the first pre-pit 42A in the system lead-in area 24A is reproduced, and the jitter, modulation degree, reflectance, etc. are based on the reproduction information. The output of the laser beam 36, the reproduction gain, etc. are adjusted so as to conform to each standard value. Similarly, the second pre-pit 42B in the system lead-out area 24B is reproduced at the start of access to the second information recording layer 18 by the laser light 36, and jitter, modulation degree, reflectance, etc. are reproduced based on the reproduction information. Adjusts the output of the laser light 36, the reproduction gain, and the like so as to conform to each standard value.

しかし、システム・リードイン領域24A及びシステム・リードアウト領域24Bが光ディスク10の最内周に配置することから、図6及び図7に示すように、第1プリピット42Aの半値幅W1及び第2プリピット42Bの半値幅W2をむやみに大きくすることができないという制限がある。ここで、第1プリピット42Aの半値幅W1とは、第1プリピット42Aの深さh1の1/2の地点における幅を示し、第2プリピット42Bの半値幅W2とは、第2プリピット42Bの深さh2の1/2の地点における幅を示す。   However, since the system lead-in area 24A and the system lead-out area 24B are arranged on the innermost circumference of the optical disc 10, as shown in FIGS. 6 and 7, the half width W1 and the second pre-pit of the first pre-pit 42A There is a limitation that the half width W2 of 42B cannot be increased unnecessarily. Here, the half width W1 of the first prepit 42A indicates a width at a half point of the depth h1 of the first prepit 42A, and the half width W2 of the second prepit 42B is the depth of the second prepit 42B. The width at a point 1/2 of h2 is shown.

また、図15に示すように、反射層の厚みと再生信号に含まれるジッタの量との関係からわかるように、第1情報記録層14上に形成される厚みの薄い第1反射層30にて反射した再生光には、高調波による信号の折り返し成分が多く含まれ、それに伴ってその再生信号には多くのジッタが含まれることになる。従って、システム・リードイン領域24Aの第1プリピット42Aにレーザ光36を照射しても、その再生信号に含まれるジッタ成分が多いことから、第1プリピット42Aの再生情報に基づいて各種パラメータを設定することができないという問題が生じる。   Further, as shown in FIG. 15, as can be seen from the relationship between the thickness of the reflective layer and the amount of jitter included in the reproduction signal, the thin first reflective layer 30 formed on the first information recording layer 14 is formed. The reproduced light reflected in this manner contains a lot of signal folding components due to harmonics, and accordingly, the reproduced signal contains a lot of jitter. Therefore, even if the first prepit 42A in the system lead-in area 24A is irradiated with the laser light 36, there are many jitter components included in the reproduction signal, so various parameters are set based on the reproduction information of the first prepit 42A. The problem of not being able to do arises.

そこで、第1プリピット42Aの形成にあたっては、システム・リードイン領域24Aが光ディスク10の最内周に配置されることを考慮し、さらに、第1反射層30の厚みによるジッタの影響を抑制するように、第1プリピット42Aの深さh1及び半値幅W1を決定することが好ましい。この実施の形態においては、第1プリピット42Aの深さh1を、80nm以上、110nm以下とし、第1プリピット42Aの半値幅W1を、160nm以上、190nm以下としている。   Therefore, in forming the first prepit 42A, it is considered that the system lead-in area 24A is disposed on the innermost circumference of the optical disc 10, and further, the influence of jitter due to the thickness of the first reflective layer 30 is suppressed. In addition, it is preferable to determine the depth h1 and the half width W1 of the first prepit 42A. In this embodiment, the depth h1 of the first prepit 42A is 80 nm or more and 110 nm or less, and the half width W1 of the first prepit 42A is 160 nm or more and 190 nm or less.

同様に、第2プリピット42Bの形成にあたっては、システム・リードアウト領域24Bが光ディスク10の最内周に配置されることを考慮し、さらに、第2反射層32の厚みによるジッタの影響を抑制するように、第2プリピット42Bの深さh2及び半値幅W2を決定することが好ましい。この実施の形態においては、第2プリピット42Bの深さh2を、25nm以上、35nm以下とし、第2プリピット42Bの半値幅W2を、170nm以上、210nm以下としている。   Similarly, in forming the second pre-pit 42B, it is considered that the system lead-out area 24B is disposed on the innermost circumference of the optical disc 10, and further, the influence of jitter due to the thickness of the second reflective layer 32 is suppressed. As described above, it is preferable to determine the depth h2 and the half width W2 of the second prepit 42B. In this embodiment, the depth h2 of the second prepit 42B is 25 nm or more and 35 nm or less, and the half width W2 of the second prepit 42B is 170 nm or more and 210 nm or less.

なお、第1プリピット42Aの深さh1及び半値幅W1並びに第2プリピット42Bの深さh2及び半値幅W2は、AFM(原子間力顕微鏡)により測定することができる。   The depth h1 and half width W1 of the first prepit 42A and the depth h2 and half width W2 of the second prepit 42B can be measured by an AFM (atomic force microscope).

特に、本実施の形態では、第1情報記録層14のうち、システム・リードイン領域24Aの少なくとも第1プリピット42Aが形成された部分に対してレーザ光を照射することで、第1プリピット42Aの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。   In particular, in the present embodiment, the first information recording layer 14 is irradiated with laser light to at least a portion of the system lead-in area 24A where the first prepit 42A is formed, so that the first prepit 42A The degree of modulation related to reproduction can be increased, and jitter can be improved (jitter amount can be reduced).

これにより、システム・リードイン領域24Aへの記録及び/又は再生用のレーザ光36の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域の第1プリピット42Aの再生信号を取り出すことができ、光ディスク10へのレーザ光36によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等の各種パラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる。   Thus, the reproduction signal of the first prepit 42A in the area can be taken out with high accuracy and reliability by irradiating the system lead-in area 24A with the recording and / or reproduction laser light 36, and the optical disc 10 can be easily adapted to the corresponding standard values for various parameters such as jitter, degree of modulation, and reflectance relating to access to the laser beam 36 by the laser beam 36.

同様に、第2情報記録層18のうち、システム・リードアウト領域24Bの少なくとも第2プリピット42Bが形成された部分に対してレーザ光を照射することで、第2プリピット42Bの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。これにより、システム・リードアウト領域24Bへのレーザ光36の照射によって、高精度に、且つ、確実に該領域の第2プリピット42Bの再生信号を取り出すことができ、光ディスク10へのレーザ光36によるアクセスに関するジッタ、変調度、反射率等の各種パラメータをそれぞれ対応する規格値に容易に適合させることができる。   Similarly, the degree of modulation related to reproduction of the second prepit 42B is achieved by irradiating at least a portion of the system lead-out area 24B where the second prepit 42B is formed in the second information recording layer 18. Therefore, the jitter can be improved (the amount of jitter can be reduced). As a result, the reproduction signal of the second prepit 42B in the area can be taken out with high accuracy and reliability by irradiating the system lead-out area 24B with the laser light 36, and the laser light 36 applied to the optical disk 10 Various parameters such as jitter, modulation degree, and reflectance relating to access can be easily adapted to the corresponding standard values.

従って、本実施の形態に係る光ディスク10においては、記録特性及び再生特性の向上を図ることができる。   Therefore, in the optical disc 10 according to the present embodiment, it is possible to improve recording characteristics and reproduction characteristics.

ここで、本実施の形態に係る光ディスク10の製造方法について図9〜図13Cを参照しながら説明する。   Here, a method for manufacturing the optical disc 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、図9のステップS1において、第1基板12を作製するための第1スタンパを作製する。この場合、第1スタンパとなる第1原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第1スタンパを作製する。例えば第1原板に対してDUV(波長330nm以下、深紫外線)レーザや、EB(電子ビーム)によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第1スタンパを作製する。   First, in step S1 of FIG. 9, a first stamper for producing the first substrate 12 is produced. In this case, the first original plate to be the first stamper is selectively etched to produce a first stamper having irregularities on the surface. For example, the first stamper is manufactured by performing high-precision mastering by cutting with a DUV (wavelength 330 nm or less, deep ultraviolet) laser or EB (electron beam) on the first original plate.

このとき、出来上がる第1スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第1基板12を形成した際に、該第1基板12の表面のうち、システム・リードイン領域24Aに対応する箇所に第1プリピット42Aが形成され、情報記録領域22に対応する箇所に第1プリグルーブ26が形成されるように、第1原板にマスタリングを行って第1スタンパを作製する。   At this time, when the first substrate 12 is formed by, for example, injection molding or extrusion molding of a resin material with the completed first stamper, the surface of the first substrate 12 corresponds to the system lead-in region 24A. The first stamper is manufactured by mastering the first original plate so that the first pre-pits 42A are formed at the locations to be formed and the first pre-grooves 26 are formed at the locations corresponding to the information recording area 22.

また、図9のステップS2において、第2基板16を作製するための第2スタンパを作製する。この場合、第2スタンパとなる第2原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第2スタンパを作製する。例えば第2原板に対してDUV(波長330nm以下、深紫外線)レーザや、EB(電子ビーム)によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第2スタンパを作製する。   Further, in step S2 of FIG. 9, a second stamper for manufacturing the second substrate 16 is manufactured. In this case, the second original plate to be the second stamper is selectively etched to produce a second stamper having irregularities on the surface. For example, the second stamper is manufactured by performing high-precision mastering on the second original plate by cutting with a DUV (wavelength of 330 nm or less, deep ultraviolet) laser or EB (electron beam).

このとき、出来上がる第2スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第2基板16を形成した際に、該第2基板16の表面のうち、システム・リードアウト領域24Bに対応する箇所に第2プリピット42Bが形成され、情報記録領域22に対応する箇所に第2プリグルーブ28が形成されるように、第2原板にマスタリングを行って第2スタンパを作製する。   At this time, when the second substrate 16 is formed by, for example, injection molding or extrusion molding of a resin material with the completed second stamper, the surface of the second substrate 16 corresponds to the system lead-out region 24B. A second stamper is produced by performing mastering on the second original plate so that the second pre-pits 42B are formed at the locations to be formed and the second pre-grooves 28 are formed at the locations corresponding to the information recording area 22.

その後、図9のステップS3において、第1スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することによって、第1基板12を作製する。このとき、第1基板12の表面に第1スタンパの凹凸が転写されて、第1プリピット42A及び第1プリグルーブ26が形成される。   Thereafter, in step S3 of FIG. 9, the first substrate 12 is manufactured by injection molding a resin material such as polycarbonate on the first stamper. At this time, the unevenness of the first stamper is transferred to the surface of the first substrate 12, and the first prepit 42A and the first pregroove 26 are formed.

また、図9のステップS4において、第2スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって、第2基板16を作製する。このとき、第2基板16の表面に第2スタンパの凹凸が転写されて、第2プリピット42B及び第2プリグルーブ28が形成される。   Further, in step S4 of FIG. 9, the second substrate 16 is manufactured by injection molding or extrusion molding of a resin material such as polycarbonate with respect to the second stamper. At this time, the unevenness of the second stamper is transferred to the surface of the second substrate 16 to form the second prepit 42B and the second pregroove 28.

なお、上述の例では、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形して第1基板12及び第2基板16を作製するようにしたが、以下のように平坦面とされた第1基板12と第2基板16の表面にそれぞれ層を形成して、第1プリピット42A、第1プリグルーブ26、第2プリピット42B及び第2プリグルーブ28を形成するようにしてもよい。   In the above example, the first substrate 12 and the second substrate 16 are manufactured by injection molding or extrusion molding of a resin material such as polycarbonate. However, the first substrate 12 having a flat surface as described below is used. The first prepit 42A, the first pregroove 26, the second prepit 42B, and the second pregroove 28 may be formed by forming layers on the surface of the second substrate 16, respectively.

前記層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー(又はオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。前記層の形成は、例えば第1基板12についてみると、第1スタンパ上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に第1基板12を載せたのち、第1基板12又は第1スタンパを介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて第1基板12と塗布層とを固着させる。次いで、第1基板12を第1スタンパから剥離することにより、表面に第1プリピット42A及び第1プリグルーブ26が形成された層が固着された第1基板12を得ることができる。これは、第2基板16についても同様であり、第2スタンパを使用することによって、表面に第2プリピット42B及び第2プリグルーブ28が形成された層が固着された第2基板16を得ることができる。   As a material for the layer, a mixture of at least one monomer (or oligomer) of monoester, diester, triester and tetraester of acrylic acid and a photopolymerization initiator can be used. For example, when the first substrate 12 is formed, the layer is formed by applying a mixed liquid composed of the above-described acrylic ester and polymerization initiator on the first stamper, and further placing the first substrate 12 on the coating liquid layer. After that, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays through the first substrate 12 or the first stamper to fix the first substrate 12 and the coating layer. Next, by peeling the first substrate 12 from the first stamper, it is possible to obtain the first substrate 12 with the layer having the first prepits 42A and the first pregrooves 26 fixed to the surface. The same applies to the second substrate 16, and by using the second stamper, the second substrate 16 having the surface on which the layers having the second prepits 42B and the second pregrooves 28 are fixed is obtained. Can do.

その後、図9のステップS5において、第1基板12の表面に第1情報記録層14を形成し、次いで、第1情報記録層14上に厚みの薄い第1反射層30を形成する。   Thereafter, in step S <b> 5 of FIG. 9, the first information recording layer 14 is formed on the surface of the first substrate 12, and then the thin first reflective layer 30 is formed on the first information recording layer 14.

また、図9のステップS6において、第2基板16の表面に第2反射層32を形成し、次いで、第2反射層32上に第2情報記録層18を形成し、さらに、第2情報記録層18上にバリア層34を形成する。   9, the second reflective layer 32 is formed on the surface of the second substrate 16, the second information recording layer 18 is then formed on the second reflective layer 32, and the second information recording is performed. A barrier layer 34 is formed on the layer 18.

その後、図9のステップS7において、第1基板12と第2基板16を貼り合わせる。このとき、第1基板12上に形成された第1情報記録層14と第2基板16上に形成された第2情報記録層18とを対向させ、さらに、これら第1基板12と第2基板16との間に中間層20を介在させて貼り合わせて、貼合せ基板とする。   Thereafter, in step S7 of FIG. 9, the first substrate 12 and the second substrate 16 are bonded together. At this time, the first information recording layer 14 formed on the first substrate 12 and the second information recording layer 18 formed on the second substrate 16 are opposed to each other, and further, the first substrate 12 and the second substrate The intermediate layer 20 is interposed between the two and bonded together to form a bonded substrate.

その後、図9のステップS8において、貼合せ基板を相対的に回転させながら、第1情報記録層14のうち、システム・リードイン領域24Aの少なくとも第1プリピット42Aが形成された部分に対してレーザ光を照射する。「相対的に」とは、貼合せ基板自体を回転させる、あるいは貼合せ基板を固定にした状態でレーザ光の照射源を貼合せ基板の円周(トラック方向)に沿って回転させることを意味する。   Thereafter, in step S8 of FIG. 9, the laser is applied to the portion of the first lead-in area 24A in which at least the first prepit 42A is formed in the first information recording layer 14 while relatively rotating the bonded substrate. Irradiate light. “Relative” means that the bonded substrate itself is rotated, or the laser beam irradiation source is rotated along the circumference (track direction) of the bonded substrate while the bonded substrate is fixed. To do.

このとき、図10Aに示すように、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応した部分のみに局部的に、一定の出力レベルのレーザ光を照射することによって(レーザ光の照射領域44参照)、図10B及び図10Cに示すように、第1情報記録層14のうち、前記レーザ光が照射された部分の光学定数を変化させる(光学定数が変化した領域48参照)。   At this time, as shown in FIG. 10A, only a portion of the first information recording layer 14 corresponding to the first prepit 42A is locally irradiated with laser light having a constant output level (laser light irradiation). As shown in FIGS. 10B and 10C, the optical constant of the portion of the first information recording layer 14 irradiated with the laser light is changed (see the region 48 where the optical constant has changed).

あるいは、図11Aに示すように、第1プリピット42Aが形成されたトラックに沿って連続的に照射する(レーザ光の照射領域46参照)。この場合、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルのレーザ光を照射し続ける。その結果、図11B及び図11Cに示すように、第1情報記録層14のうち、前記レーザ光が照射された部分の光学定数を変化させる(光学定数が変化した領域48参照)。   Or as shown to FIG. 11A, it irradiates continuously along the track in which the 1st prepit 42A was formed (refer the irradiation area 46 of a laser beam). In this case, the laser beam having a constant output level is continuously irradiated with time. As a result, as shown in FIGS. 11B and 11C, the optical constant of the portion irradiated with the laser light in the first information recording layer 14 is changed (see the region 48 where the optical constant has changed).

これは、第1情報記録層14にレーザ光を照射することで、第1情報記録層14のうち、レーザ光が照射された部分の色素が分解し、該部分の屈折率が変化することによるものと考えられる。   This is because, by irradiating the first information recording layer 14 with laser light, the dye of the portion irradiated with the laser light in the first information recording layer 14 is decomposed and the refractive index of the portion changes. It is considered a thing.

従って、第1情報記録層14のうち、システム・リードイン領域24Aの少なくとも第1プリピット42Aに対応する部分の光学定数が変化し、第1プリピット42Aの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。   Therefore, the optical constant of at least the portion corresponding to the first prepit 42A in the system lead-in area 24A of the first information recording layer 14 changes, and the modulation degree related to the reproduction of the first prepit 42A can be increased. Jitter can be improved (jitter amount reduced).

その後、図9のステップS9において、貼合せ基板を相対的に回転させながら、第2情報記録層18のうち、システム・リードアウト領域24Bの少なくとも第2プリピット42Bが形成された部分に対してレーザ光を照射する。   Thereafter, in step S9 of FIG. 9, the laser is applied to the portion of the system information area 24B where at least the second prepits 42B are formed in the second information recording layer 18 while relatively rotating the bonded substrate. Irradiate light.

このとき、図示しないが、第1情報記録層14の場合と同様に、第2情報記録層18のうち、第2プリピット42Bに対応した部分のみに局部的に、一定の出力レベルのレーザ光を照射するようにしてもよいし、第2プリピット42Bが形成されたトラックに沿って、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルのレーザ光を連続的に照射するようにしてもよい。その結果、第2情報記録層18のうち、前記レーザ光が照射された部分の光学定数が変化する。   At this time, although not shown in the drawing, similarly to the case of the first information recording layer 14, a laser beam having a constant output level is locally applied only to the portion corresponding to the second prepit 42B in the second information recording layer 18. Irradiation may be performed, or laser light having a constant output level may be irradiated continuously along the track in which the second pre-pits 42B are formed. As a result, the optical constant of the portion irradiated with the laser light in the second information recording layer 18 changes.

従って、第2情報記録層18のうち、システム・リードアウト領域24Bの少なくとも第2プリピット42Bに対応する部分の光学定数が変化し、第2プリピット42Bの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。   Therefore, the optical constant of the second information recording layer 18 corresponding to at least the second prepit 42B of the system lead-out area 24B changes, and the modulation degree related to reproduction of the second prepit 42B can be increased. Jitter can be improved (jitter amount reduced).

前記レーザ光の出力レベルとしては、記録線速度が1倍速(例えば6.61m/sec)のとき、3mW以上、10mW以下であることが好ましく、さらに好ましくは4mW以上、6mW以下である。記録線速度を上げて、さらにレーザ光の出力レベルを増加させると(例えば2倍速で10mWとする等)、タクトタイムの向上を図ることができる。なお、出力レベルが低すぎると、第1情報記録層14や第2情報記録層18を光学定数を変化させるまでに至らない。また、出力レベルが高すぎると、第1情報記録層14上の第1反射層30や、第2情報記録層18上の第2反射層32を溶解してしまうおそれがある。   The output level of the laser beam is preferably 3 mW or more and 10 mW or less, more preferably 4 mW or more and 6 mW or less when the recording linear velocity is 1 × speed (for example, 6.61 m / sec). When the recording linear velocity is increased and the output level of the laser beam is further increased (for example, 10 mW at a double speed), the tact time can be improved. If the output level is too low, the optical constants of the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 cannot be changed. If the output level is too high, the first reflective layer 30 on the first information recording layer 14 and the second reflective layer 32 on the second information recording layer 18 may be dissolved.

そして、上述したシステム・リードイン領域24A及びシステム・リードアウト領域24Bへのレーザ光の照射が終了した段階で、本実施の形態に係る光ディスク10が完成する。   The optical disc 10 according to the present embodiment is completed at the stage where the irradiation of the laser light onto the system lead-in area 24A and the system lead-out area 24B is completed.

上述の例では、図9のステップS8において、第1情報記録層14のうち、システム・リードイン領域24Aの少なくとも第1プリピット42Aが形成された部分にレーザ光を照射して、該部分の光学定数を変化させるようにしたが、該部分の第1情報記録層14をレーザ光の照射によって屈折率が変化した部分を形成するようにしてもよい。   In the above-described example, in step S8 of FIG. 9, in the first information recording layer 14, a portion of the system lead-in area 24A where at least the first prepit 42A is formed is irradiated with laser light, and the optical portion of the portion is optically recorded. Although the constant is changed, the first information recording layer 14 of the portion may be formed with a portion whose refractive index is changed by laser light irradiation.

すなわち、図12Aに示すように、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応した部分のみに局部的に、一定の出力レベルのレーザ光を照射することによって、図12B及び図12Cに示すように、レーザが照射された部分に屈折率が変化した部分50を形成する。   That is, as shown in FIG. 12A, by irradiating only a portion of the first information recording layer 14 corresponding to the first prepit 42A with a laser beam having a constant output level, FIG. As shown in FIG. 5, a portion 50 having a changed refractive index is formed in the portion irradiated with the laser.

あるいは、図13Aに示すように、第1プリピット42Aが形成されたトラックに沿って、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルのレーザ光を連続的に照射することによって、図13B及び図13Cに示すように、レーザ光が照射された部分に、屈折率が変化した部分50を形成する。   Alternatively, as shown in FIG. 13A, by continuously irradiating a laser beam having a constant output level with the lapse of time along the track in which the first prepit 42A is formed, FIG. 13B and FIG. As shown to 13C, the part 50 in which the refractive index changed was formed in the part irradiated with the laser beam.

これにより、第1情報記録層14のうち、レーザ光が照射された部分(屈折率が変化した部分50)の屈折率が変化することから、第1プリピット42Aの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。   As a result, the refractive index of the portion irradiated with the laser light (the portion 50 where the refractive index has changed) in the first information recording layer 14 changes, so that the degree of modulation related to the reproduction of the first prepit 42A is increased. Therefore, the jitter can be improved (the amount of jitter can be reduced).

また、上述の例では、図9のステップS9において、第2情報記録層18のうち、システム・リードアウト領域24Bの少なくとも第2プリピット42Bが形成された部分にレーザ光を照射して、該部分の光学定数を変化させるようにしたが、該部分の第2情報記録層18をレーザ光の照射によって屈折率が変化した部分を形成するようにしてもよい。   In the above-described example, in step S9 of FIG. 9, the portion of the second information recording layer 18 where at least the second pre-pits 42B are formed in the system lead-out area 24B is irradiated with laser light. However, the portion of the second information recording layer 18 in which the refractive index is changed may be formed by irradiation with laser light.

すなわち、図示しないが、第1情報記録層14の場合と同様に、第2情報記録層18のうち、第2プリピット42Bに対応した部分のみに局部的に、一定の出力レベルのレーザ光を照射する、あるいは、第2プリピット42Bが形成されたトラックに沿って、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルのレーザ光を連続的に照射して、レーザが照射された部分に、屈折率が変化した部分50を形成する。これにより、第2情報記録層18のうち、レーザが照射された部分(屈折率が変化した部分50)の屈折率が変化することから、第2プリピット42Bの再生に係る変調度を高くすることができ、ジッタの改善(ジッタ量の低減)を図ることができる。   That is, although not shown, similarly to the case of the first information recording layer 14, only a portion corresponding to the second prepit 42B in the second information recording layer 18 is locally irradiated with laser light having a constant output level. Alternatively, a laser beam having a constant output level is sequentially irradiated along the track on which the second pre-pit 42B is formed, and a refractive index is applied to a portion irradiated with the laser. A portion 50 having changed is formed. As a result, the refractive index of the portion irradiated with the laser (the portion 50 where the refractive index has changed) in the second information recording layer 18 changes, so that the degree of modulation related to the reproduction of the second prepit 42B is increased. Thus, jitter can be improved (jitter amount can be reduced).

次に、本実施の形態に係る光ディスク10を構成する各層の材質等について説明する。   Next, the material and the like of each layer constituting the optical disc 10 according to the present embodiment will be described.

まず、第1基板12及び第2基板16としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。   First, as the first substrate 12 and the second substrate 16, various materials used as substrate materials for conventional optical discs can be arbitrarily selected and used.

具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。   Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.

上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。   Among the above materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price.

これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第1基板12及び第2基板16を作製することができる。   When these resins are used, the first substrate 12 and the second substrate 16 can be manufactured by injection molding.

また、第1基板12及び第2基板16の厚さは、0.7〜2mmの範囲であり、0.9〜1.6mmの範囲であることが好ましく、1.0〜1.3mmとすることがより好ましい。   Moreover, the thickness of the 1st board | substrate 12 and the 2nd board | substrate 16 is the range of 0.7-2 mm, It is preferable that it is the range of 0.9-1.6 mm, and is 1.0-1.3 mm. It is more preferable.

また、第1基板12に形成される第1プリグルーブ26並びに第2基板16に形成される第2プリグルーブ28のトラックピッチは、上限値が500nm以下であることが好ましく、420nm以下であることがより好ましく、370nm以下であることがさらに好ましく、330nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、50nm以上であることが好ましく、100nm以上であることがより好ましく、200nm以上であることがさらに好ましく、260nm以上であることが特に好ましい。   In addition, the upper limit of the track pitch of the first pregroove 26 formed on the first substrate 12 and the second pregroove 28 formed on the second substrate 16 is preferably 500 nm or less, and 420 nm or less. Is more preferably 370 nm or less, and particularly preferably 330 nm or less. Further, the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, further preferably 200 nm or more, and particularly preferably 260 nm or more.

第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28の幅(半値幅)は、上限値が250nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましく、170nm以下であることがさらに好ましく、150nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、23nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、80nm以上であることがさらに好ましく、100nm以上であることが特に好ましい。   The upper limit of the width (half width) of the first pregroove 26 and the second pregroove 28 is preferably 250 nm or less, more preferably 200 nm or less, further preferably 170 nm or less, and 150 nm or less. It is particularly preferred that Further, the lower limit is preferably 23 nm or more, more preferably 50 nm or more, further preferably 80 nm or more, and particularly preferably 100 nm or more.

第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28の(溝)深さは、上限値が150nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましく、70nm以下であることがさらに好ましく、50nm以下であることが特に好ましい。また、下限値は、5nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましく、20nm以上であることがさらに好ましく、28nm以上であることが特に好ましい。   The (groove) depth of the first pregroove 26 and the second pregroove 28 is preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, still more preferably 70 nm or less, and even more preferably 50 nm or less. It is particularly preferred that Further, the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 20 nm or more, and particularly preferably 28 nm or more.

第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28の角度は、上限値が80°以下であることが好ましく、70°以下であることがより好ましく、60°以下であることがさらに好ましく、50°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、20°以上であることが好ましく、30°以上であることがより好ましく、40°以上であることがさらに好ましい。   As for the angle of the first pregroove 26 and the second pregroove 28, the upper limit value is preferably 80 ° or less, more preferably 70 ° or less, further preferably 60 ° or less, and 50 ° or less. It is particularly preferred that Further, the lower limit value is preferably 20 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 40 ° or more.

なお、第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28に関する上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。   The upper limit value and the lower limit value related to the first pregroove 26 and the second pregroove 28 can be arbitrarily combined.

これら第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28の値は、AFM(原子間力顕微鏡)により測定することができる。   The values of the first pregroove 26 and the second pregroove 28 can be measured by an AFM (atomic force microscope).

そして、例えば第1プリグルーブ26の角度とは、第1プリグルーブ26の溝深さをDとした時、溝形成前の第1基板12の表面を基準とし、その表面からD/10の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からD/10の高さの傾斜部とを結ぶ直線と、第1基板12の面(溝部の底面)とのなす角度である。これは、第2プリグルーブ28の角度も同様である。   For example, the angle of the first pregroove 26 refers to the surface of the first substrate 12 before the groove is formed, and the depth of D / 10 from the surface when the groove depth of the first pregroove 26 is D. This is an angle formed by a straight line connecting the sloped portion of the groove and a sloped portion having a height of D / 10 from the deepest portion of the groove and the surface of the first substrate 12 (bottom surface of the groove portion). The same applies to the angle of the second pregroove 28.

また、本実施の形態に係る光ディスク10が、再生専用の光ディスクである場合、上記の第1プリグルーブ26及び第2プリグルーブ28を形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。   When the optical disk 10 according to the present embodiment is a reproduction-only optical disk, pits indicating predetermined information are formed at the same time as the first pregroove 26 and the second pregroove 28 are formed. .

なお、第1基板12及び第2基板16の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。   An undercoat layer is preferably formed on the surfaces of the first substrate 12 and the second substrate 16 for the purpose of improving flatness and adhesion.

該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤等の表面改質剤;を挙げることができる。   Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, and chloro. Polymer materials such as sulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, etc .; silane coupling Surface modifiers such as agents;

下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。   The undercoat layer is formed by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. can do. The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, and preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

第1情報記録層14及び第2情報記録層18は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましい。第1情報記録層14及び第2情報記録層18に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。   The first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 are preferably of a dye type containing a dye as a recording material. Examples of the recording material contained in the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 include organic compounds such as dyes and phase change metal compounds.

中でも、レーザ光36により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の第1情報記録層14及び第2情報記録層18であることが好ましい。色素型の第1情報記録層14及び第2情報記録層18は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、中でも、オキソノール色素が好ましい。オキソノール色素を含有させることで長期間にわたり安定した記録再生特性の維持を実現することができる。   Among these, the dye-type first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 that can record information only once by the laser beam 36 are preferable. The dye-type first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 preferably contain a dye having absorption in the recording wavelength region. Examples of the dye include a cyanine dye, an oxonol dye, a metal complex dye, an azo dye, and a phthalocyanine dye, and among them, an oxonol dye is preferable. By containing an oxonol dye, stable recording / reproducing characteristics can be maintained over a long period of time.

色素の光学濃度は、レーザ光の記録波長に対して0.24以上、0.40以下であることが好ましい。また、色素は、レーザ光36での記録後の反射率が、記録前の反射率よりも下がる光学特性を有することが好ましい。これにより、システム・リードイン領域24Aに形成された第1プリピット42A及びシステム・リードアウト領域24Bに形成された第2プリピット42Bを確実に再生することができる。すなわち、ジッタ、変調度、反射率等のパラメータを各規格値に適合させるために使用される第1プリピット42A及び第2プリピット42Bの再生情報を高精度に得ることができる。これは、光ディスク10のアクセスを開始してから実際に第1情報記録層14の情報記録領域22又は第2情報記録層18の情報記録領域22へのアクセスまでにかかる時間を短縮できることにつながり、アクセスの高速化において有利になる。   The optical density of the dye is preferably 0.24 or more and 0.40 or less with respect to the recording wavelength of the laser beam. The dye preferably has an optical characteristic that the reflectance after recording with the laser light 36 is lower than the reflectance before recording. Thus, the first prepit 42A formed in the system lead-in area 24A and the second prepit 42B formed in the system lead-out area 24B can be reliably reproduced. That is, the reproduction information of the first prepit 42A and the second prepit 42B used for adapting parameters such as jitter, modulation degree, and reflectance to each standard value can be obtained with high accuracy. This leads to a reduction in the time taken from the start of access to the optical disc 10 to the access to the information recording area 22 of the first information recording layer 14 or the information recording area 22 of the second information recording layer 18. This is advantageous in speeding up access.

ここで、第1情報記録層14及び第2情報記録層18にて使用されるオキソノール色素について説明する。   Here, the oxonol dye used in the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 will be described.

オキソノール色素の具体例としては、F.M.Harmer著、Heterocyclic Compounds−Cyanine Dyes and Related Compounds、John&Wiley&Sons、New York、London、1964年刊に記載のもの等が挙げられる。   Specific examples of the oxonol dye include F.I. M.M. Examples include those described by Harmer, Heterocyclic Compounds-Cyanine Dies and Related Compounds, John & Wiley & Sons, New York, London, 1964.

オキソノール色素は、該当する活性メチレン化合物とメチン源(メチン染料にメチン基を導入するために用いられる化合物)との縮合反応によって合成することができる。   The oxonol dye can be synthesized by a condensation reaction between a corresponding active methylene compound and a methine source (a compound used for introducing a methine group into a methine dye).

この種の化合物についての詳細は、特公昭39−22069号公報、同43−3504号公報、同52−38056号公報、同54−38129号公報、同55−10059号公報、同58−35544号公報、特開昭49−99620号公報、同52−92716号公報、同59−16834号公報、同63−316853号公報、同64−40827号公報、並びに英国特許第1133986号明細書、米国特許第3247127号明細書、同4042397号明細書、同4181225号明細書、同5213956号明細書、同5260179号明細書を参照することができる。また、特開昭63−209995号公報、特開平10−309871号公報、特開2002−249674号公報にも記載されている。   Details of this type of compound are described in JP-B-39-22069, JP-A-43-3504, JP-A-52-38056, JP-A-54-38129, JP-A-55-10059, and JP-A-58-35544. No. 49-99620, No. 52-92716, No. 59-16834, No. 63-316853, No. 64-40827, and British Patent No. 1133986, U.S. Pat. Nos. 3,247,127, 4042397, 4,181,225, 5,213,956 and 5,260,179 can be referred to. Also described in JP-A-63-209995, JP-A-10-309871 and JP-A-2002-249674.

オキソノール色素は、単独で用いてもよく、あるいは2種以上を併用してもよい。また、既述のオキソノール色素とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。併用する色素は、アゾ色素(金属イオンとの錯体化したものを含む)、ピロメテン色素、シアニン色素等が例として挙げられる。   Oxonol dyes may be used alone or in combination of two or more. Further, the above-mentioned oxonol dye and other dye compounds may be used in combination. Examples of the dye to be used in combination include azo dyes (including those complexed with metal ions), pyromethene dyes, cyanine dyes, and the like.

色素は、熱分解温度が100℃〜350℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、150℃〜300℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、200℃から300℃の範囲にあるものが好ましい。   The dye preferably has a thermal decomposition temperature in the range of 100 ° C to 350 ° C. Furthermore, what is in the range of 150 to 300 degreeC is preferable. Furthermore, the thing in the range of 200 to 300 degreeC is preferable.

第1情報記録層14及び第2情報記録層18に用いる色素(「既述のオキソノール色素」又は「既述のオキソノール色素及びこれと併用する色素」)のアモルファス膜の光学特性上、複素屈折率の係数n(実部:屈性率)、k(虚部:消衰係数)は、好ましくは、2.0≦n≦3.0、0.005≦k≦0.30である。さらに好ましくは、2.1≦n≦2.7、0.01≦k≦0.15である。最も好ましくは、2.15≦n≦2.50、0.03≦k≦0.10である。   Complex refractive index due to optical characteristics of the amorphous film of the dye used in the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 ("Oxonol dye" or "Oxonol dye described above and a dye used in combination therewith"). The coefficients n (real part: refractive index) and k (imaginary part: extinction coefficient) are preferably 2.0 ≦ n ≦ 3.0 and 0.005 ≦ k ≦ 0.30. More preferably, 2.1 ≦ n ≦ 2.7 and 0.01 ≦ k ≦ 0.15. Most preferably, 2.15 ≦ n ≦ 2.50 and 0.03 ≦ k ≦ 0.10.

第1情報記録層14及び第2情報記録層18には、さらに耐光性を向上させるための種々の褪色防止剤を含有することができる。褪色防止剤の代表例としては、特開平3−224793号公報に記載の一般式(III)、(IV)もしくは(V)で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平2−300287号公報や特開平2−300288号公報に示されているニトロソ化合物、特開平10−151861号公報に示されているTCNQ誘導体等を挙げることができる。   The first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 can contain various anti-fading agents for further improving light resistance. Representative examples of the anti-fading agent include metal complexes, diimmonium salts, aminium salts represented by general formula (III), (IV) or (V) described in JP-A-3-224793, and JP-A-2-300287. And nitroso compounds disclosed in JP-A-2-300288 and TCNQ derivatives disclosed in JP-A-10-151861.

第1情報記録層14及び第2情報記録層18の形成は、既述のオキソノール色素、さらに所望によりクエンチャ、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第1基板12の表面及び第2基板16の表面に塗布して塗膜を形成したのち、乾燥することにより行うことができる。前記塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;シクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノ−ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。   The first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 are formed by preparing a coating solution by dissolving the oxonol dye described above and, if desired, a quencher, a binder and the like in a solvent. The coating can be carried out by drying after coating on the surface of the substrate 12 and the surface of the second substrate 16 to form a coating film. Examples of the solvent of the coating solution include esters such as butyl acetate, ethyl lactate, and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform; dimethylformamide and the like Amides; hydrocarbons such as cyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, diacetone alcohol; 2,2,3,3-tetrafluoro Fluorine solvents such as propanol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, etc. That.

上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。   The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types in consideration of the solubility of the compound to be used. Various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be further added to the coating solution depending on the purpose.

結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂;ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。   Examples of the binder include natural organic polymer materials such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin and rubber; and hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and polyisobutylene; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Vinyl resins such as polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymers; acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, phenol / formaldehyde resins And synthetic organic polymers such as an initial condensate of a thermosetting resin.

第1情報記録層14及び第2情報記録層18の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、既述のオキソノール色素を始めとした色素の量に対して一般に0.01〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.1〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにして調製される塗布液の色素濃度は一般に0.01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量%の範囲にある。   When a binder is used in combination as a material for the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18, the amount of the binder used is generally 0.01 relative to the amount of the dye including the oxonol dye described above. It exists in the range of -50 times amount (mass ratio), Preferably it exists in the range of 0.1-5 times amount (mass ratio). The pigment concentration of the coating solution thus prepared is generally in the range of 0.01 to 10% by mass, preferably in the range of 0.1 to 5% by mass.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。第1情報記録層14及び第2情報記録層18はそれぞれ単層でも重層でもよい。第1情報記録層14及び第2情報記録層18の層厚は一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは50〜300nmの範囲にある。   Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method. Each of the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 may be a single layer or a multilayer. The layer thicknesses of the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 are generally in the range of 20 to 500 nm, preferably in the range of 50 to 300 nm.

次に、第1反射層30及び第2反射層32について説明すると、第1反射層30及び第2反射層32の材料である光反射性物質は、レーザ光36に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。   Next, the first reflective layer 30 and the second reflective layer 32 will be described. The light reflective material that is the material of the first reflective layer 30 and the second reflective layer 32 is a material that has a high reflectance with respect to the laser light 36. Examples thereof include Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Examples thereof include metals such as Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, and Bi, and semimetals or stainless steel.

これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼であり、特に好ましいものはAgである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは2種以上の組み合わせで、又は合金として用いてもよい。第1反射層30及び第2反射層32は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより第1情報記録層14上、第2基板16上に形成することができる。   Among these, preferred are Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel, and particularly preferred is Ag. These substances may be used alone or in combination of two or more or as an alloy. The first reflective layer 30 and the second reflective layer 32 can be formed on the first information recording layer 14 and the second substrate 16 by evaporating, sputtering, or ion plating the reflective material, for example.

そして、第1反射層30の層厚は、2〜150nmの範囲にあることが好ましい。また、第2反射層32の層厚は、一般には10〜300nmの範囲にあり、好ましくは50〜200nmの範囲である。   And it is preferable that the layer thickness of the 1st reflection layer 30 exists in the range of 2-150 nm. The layer thickness of the second reflective layer 32 is generally in the range of 10 to 300 nm, preferably in the range of 50 to 200 nm.

次に、バリア層34は、第2情報記録層18等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる。このバリア層34は、第1基板12や第2基板16のうち、第1情報記録層14及び第2情報記録層18が設けられていない部分にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。   Next, the barrier layer 34 is provided for the purpose of physically and chemically protecting the second information recording layer 18 and the like. The barrier layer 34 is provided in the first substrate 12 and the second substrate 16 in a portion where the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18 are not provided for the purpose of improving scratch resistance and moisture resistance. May be.

バリア層34に用いられる材料としては、例えば、SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si34、ZnO−Ga23等の無機物質;熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質;を挙げることができる。 Examples of the material used for the barrier layer 34 include inorganic substances such as SiO, SiO 2 , MgF 2 , SnO 2 , Si 3 N 4 , and ZnO—Ga 2 O 3 ; thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curing. Organic substances such as a conductive resin;

バリア層34は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けることができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を使用する場合には、これらを適当な溶剤に溶解した塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。バリア層34の層厚は、一般には1nm〜10μmの範囲にある。   The barrier layer 34 can be provided by a method such as vacuum deposition, sputtering, or coating. Moreover, when using a thermoplastic resin and a thermosetting resin, it can also form by preparing the coating liquid which melt | dissolved these in the appropriate solvent, apply | coating this coating liquid, and drying. In the case of a UV curable resin, it can also be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with UV light. In these coating liquids, various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added according to the purpose. The layer thickness of the barrier layer 34 is generally in the range of 1 nm to 10 μm.

次に、中間層20は、上述したように、少なくとも第1情報記録層14と第2情報記録層18との間に設けられる。   Next, as described above, the intermediate layer 20 is provided at least between the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18.

中間層20の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、感圧式両面テープ等や、SiO2等の無機材料等が挙げられる。また、これらの材料を単独又は混合してもよいし、一層だけではなく多層膜にして用いてもよい。このような中間層20は、スピンコート法やキャスト法、スパッタ法により形成することができる。中間層20の厚みは、5〜100μmであることが好ましく、さらに好ましくは10〜70μmである。 Examples of the material for the intermediate layer 20 include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, ultraviolet curable resins, pressure-sensitive double-sided tapes, and inorganic materials such as SiO 2 . These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film. Such an intermediate layer 20 can be formed by spin coating, casting, or sputtering. The thickness of the intermediate layer 20 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 70 μm.

ここで、実施例1〜4について、それぞれ第1情報記録層14のうち、システム・リードイン領域24Aの少なくとも第1プリピット42Aが形成された部分に対してレーザ光を照射する前と、レーザ光を照射した後の第1プリピット42Aの再生に係る変調度及びジッタを測定したものである。   Here, in Examples 1 to 4, before the laser beam is irradiated to at least a portion where the first pre-pit 42A of the system lead-in area 24A is formed in the first information recording layer 14, and the laser beam. The degree of modulation and jitter related to the reproduction of the first prepit 42A after irradiation of the first prepit 42A are measured.

実施例1〜4は、いずれも上述した本実施の形態に係る製造方法に従って製造したものであって、異なるパラメータは、システム・リードイン領域24Aに形成された第1プリピット42Aの半値幅W1である。なお、この半値幅W1は、第1スタンパに形成された突起(第1プリピット42Aを形成するための突起)の半値幅を示す。   Each of Examples 1 to 4 is manufactured according to the manufacturing method according to the present embodiment described above, and the different parameter is the half-value width W1 of the first prepit 42A formed in the system lead-in area 24A. is there. The half-value width W1 indicates the half-value width of a protrusion (projection for forming the first prepit 42A) formed on the first stamper.

実施例1〜4における第1プリピット42Aの半値幅W1と、レーザ光を照射する前及びレーザ光を照射した後の第1プリピット42Aの再生に係る変調度及びジッタの測定結果を図14に示す。   FIG. 14 shows the measurement results of the half width W1 of the first prepit 42A and the degree of modulation and jitter related to reproduction of the first prepit 42A before irradiating the laser beam and after irradiating the laser beam in Examples 1 to 4. .

レーザ光の照射は、貼合せ基板を回転させながら、第1プリピット42Aが形成されたトラックに沿って、時間の経過に伴って一定とされた出力レベル(6mW)のレーザ光を連続的に照射するようにした。   Laser light irradiation is performed by continuously irradiating a laser beam having an output level (6 mW) that is constant over time along the track on which the first pre-pits 42A are formed, while rotating the bonded substrate. I tried to do it.

図14に示す結果から以下のことがわかる。   The following can be understood from the results shown in FIG.

実施例1(第1プリピット42Aの半値幅W1=205nm)は、レーザ光の照射前に、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を下回る0.28であり、ジッタは規格値(最大値=8.0%)に近い7.9%であった。しかし、図9のステップS8に示すように、レーザ光を照射して、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応する部分の光学定数を変化させた場合においては、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を上回る0.52であり、ジッタも6.9%と改善されている。   In Example 1 (half-value width W1 = 205 nm of the first prepit 42A), when the first prepit 42A is reproduced by the recording and / or reproducing laser light 36 before the laser light irradiation, the modulation degree is a standard value. The jitter was 0.28 below (minimum value = 0.30), and the jitter was 7.9% close to the standard value (maximum value = 8.0%). However, as shown in step S8 of FIG. 9, in the case where the optical constant of the portion corresponding to the first prepit 42A in the first information recording layer 14 is changed by irradiation with laser light, recording and / or Alternatively, when the first prepit 42A is reproduced by the reproduction laser beam 36, the modulation degree is 0.52 exceeding the standard value (minimum value = 0.30), and the jitter is also improved to 6.9%. .

実施例2(第1プリピット42Aの半値幅W1=215nm)は、レーザ光の照射前に、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を下回る0.29であり、ジッタは規格値(最大値=8.0%)に近い7.8%であった。しかし、図9のステップS8に示すように、レーザ光を照射して、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応する部分の光学定数を変化させた場合においては、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を上回る0.51であり、ジッタも5.8%と改善されている。   In Example 2 (half-value width W1 = 215 nm of the first prepit 42A), when the first prepit 42A is reproduced by the recording and / or reproduction laser light 36 before the laser light irradiation, the modulation degree is a standard value. The jitter was 0.29 below (minimum value = 0.30), and the jitter was 7.8% close to the standard value (maximum value = 8.0%). However, as shown in step S8 of FIG. 9, in the case where the optical constant of the portion corresponding to the first prepit 42A in the first information recording layer 14 is changed by irradiation with laser light, recording and / or Alternatively, when the first prepit 42A is reproduced by the reproduction laser beam 36, the modulation degree is 0.51 exceeding the standard value (minimum value = 0.30), and the jitter is also improved to 5.8%. .

実施例3(第1プリピット42Aの半値幅W1=244nm)は、レーザ光の照射前に、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)と同じ0.30であり、ジッタは規格値(最大値=8.0%)を大幅に上回る10.1%であった。しかし、図9のステップS8に示すように、レーザ光を照射して、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応する部分の光学定数を変化させた場合においては、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を上回る0.52であり、ジッタも5.3%と大幅に改善されている。   In Example 3 (half-value width W1 = 244 nm of the first prepit 42A), when the first prepit 42A is reproduced by the recording and / or reproduction laser light 36 before the laser light irradiation, the modulation degree is a standard value. It was 0.30, the same as (minimum value = 0.30), and the jitter was 10.1%, significantly exceeding the standard value (maximum value = 8.0%). However, as shown in step S8 of FIG. 9, in the case where the optical constant of the portion corresponding to the first prepit 42A in the first information recording layer 14 is changed by irradiation with laser light, recording and / or Alternatively, when the first prepit 42A is reproduced by the reproduction laser beam 36, the modulation degree is 0.52 exceeding the standard value (minimum value = 0.30), and the jitter is greatly improved to 5.3%. ing.

実施例4(第1プリピット42Aの半値幅W1=283nm)は、レーザ光の照射前に、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)よりもわずかに大きい0.31であり、ジッタは測定不能であった。しかし、図9のステップS8に示すように、レーザ光を照射して、第1情報記録層14のうち、第1プリピット42Aに対応する部分の光学定数を変化させた場合においては、記録及び/又は再生用のレーザ光36によって第1プリピット42Aを再生した際、その変調度は規格値(最小値=0.30)を上回る0.54であり、ジッタも5.3%と大幅に改善されている。   In Example 4 (half-value width W1 = 283 nm of the first prepit 42A), when the first prepit 42A is reproduced by the recording and / or reproduction laser light 36 before the laser light irradiation, the modulation degree is a standard value. The jitter was 0.31 which was slightly larger than (minimum value = 0.30), and jitter could not be measured. However, as shown in step S8 of FIG. 9, in the case where the optical constant of the portion corresponding to the first prepit 42A in the first information recording layer 14 is changed by irradiation with laser light, recording and / or Alternatively, when the first prepit 42A is reproduced by the reproduction laser beam 36, the modulation degree is 0.54 exceeding the standard value (minimum value = 0.30), and the jitter is greatly improved to 5.3%. ing.

このように、レーザ光を照射する前(第1情報記録層14の光学定数を変化させる前)は、第1プリピット42Aの再生に係る変調度が低く、ジッタが高かったのに対し、レーザ光を照射した後(第1情報記録層14の光学定数を変化させた後)は、第1プリピット42Aの再生に係る変調度が高くなり、ジッタが改善されていることがわかる。   Thus, before the laser beam irradiation (before changing the optical constant of the first information recording layer 14), the modulation degree related to the reproduction of the first prepit 42A was low and the jitter was high, whereas the laser beam After the irradiation (after changing the optical constant of the first information recording layer 14), it can be seen that the degree of modulation related to the reproduction of the first prepit 42A increases and the jitter is improved.

上述の例では、情報記録層が2層(第1情報記録層14及び第2情報記録層18)とされた光ディスク10に適用した例を示したが、その他、情報記録層が1層(例えば第1情報記録層14のみ)の光ディスクにも適用することができる。   In the example described above, the example is applied to the optical disc 10 having two information recording layers (the first information recording layer 14 and the second information recording layer 18). The present invention can also be applied to the optical disc of the first information recording layer 14 only).

なお、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   In addition, the manufacturing method of the optical information recording medium according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

本実施の形態に係る光ディスクの情報記録領域、システム・リードイン領域及びシステム・リードアウト領域を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the information recording area of the optical disk based on this Embodiment, a system lead-in area | region, and a system lead-out area | region. 本実施の形態に係る光ディスクにおける情報記録領域を一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows some information recording areas in the optical disk which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る光ディスクの第1基板を第1情報記録層及び第1反射層と共に示す一部省略断面図である。It is a partially omitted sectional view showing a first substrate of an optical disc according to the present embodiment together with a first information recording layer and a first reflective layer. 本実施の形態に係る光ディスクの第2基板を第2情報記録層及び第2反射層と共に示す一部省略断面図である。It is a partially omitted sectional view showing a second substrate of the optical disc according to the present embodiment together with a second information recording layer and a second reflective layer. 本実施の形態に係る光ディスクのシステム・リードイン領域を一部省略して示す平面図である。It is a top view which abbreviate | omits and shows some system lead-in area | regions of the optical disk based on this Embodiment. 図5におけるVI−VI線上の断面図である。It is sectional drawing on the VI-VI line in FIG. 本実施の形態に係る光ディスクのシステム・リードアウト領域を一部省略して示す平面図である。It is a top view which abbreviate | omits and shows some system lead-out area | regions of the optical disk based on this Embodiment. 図7におけるVIII−VIII線上の断面図である。It is sectional drawing on the VIII-VIII line in FIG. 本実施の形態に係る光ディスクの製造方法の一例を示す工程ブロック図である。It is process block diagram which shows an example of the manufacturing method of the optical disk which concerns on this Embodiment. 図10Aは第1情報記録層のうち、第1プリピットに対応した部分の光学定数を変化させることを目的に、局部的に一定の出力レベルのレーザ光を照射した状態を一部省略して示す平面図であり、図10Bは図10AにおけるXB−XB線上の断面図であり、図10Cは図10AにおけるXC−XC線上の断面図である。FIG. 10A shows a state in which a laser beam having a constant output level is locally irradiated for the purpose of changing the optical constant of the portion corresponding to the first prepit in the first information recording layer. 10B is a cross-sectional view taken along line XB-XB in FIG. 10A, and FIG. 10C is a cross-sectional view taken along line XC-XC in FIG. 10A. 図11Aは第1情報記録層のうち、第1プリピットに対応した部分の光学定数を変化させることを目的に、第1プリピットが形成されたトラックに沿って一定の出力レベルのレーザ光を連続的に照射した状態を一部省略して示す平面図であり、図11Bは図11AにおけるXIB−XIB線上の断面図であり、図11Cは図11AにおけるXIC−XIC線上の断面図である。In FIG. 11A, a laser beam having a constant output level is continuously applied along the track on which the first prepit is formed in order to change the optical constant of the portion corresponding to the first prepit in the first information recording layer. FIG. 11B is a cross-sectional view taken along line XIB-XIB in FIG. 11A, and FIG. 11C is a cross-sectional view taken along line XIC-XIC in FIG. 11A. 図12Aは第1情報記録層のうち、第1プリピットに対応した部分の光学定数を変化させることを目的に、局部的に一定の出力レベルのレーザ光を照射した状態を一部省略して示す平面図であり、図12Bは図12AにおけるXIIB−XIIB線上の断面図であり、図12Cは図12AにおけるXIIC−XIIC線上の断面図である。FIG. 12A shows a state in which a laser beam having a constant output level is locally irradiated for the purpose of changing the optical constant of the portion corresponding to the first prepit in the first information recording layer. 12B is a cross-sectional view taken along line XIIB-XIIB in FIG. 12A, and FIG. 12C is a cross-sectional view taken along line XIIC-XIIC in FIG. 12A. 図13Aは第1情報記録層のうち、第1プリピットに対応した部分の光学定数を変化させることを目的に、第1プリピットが形成されたトラックに沿って一定の出力レベルのレーザ光を連続的に照射した状態を一部省略して示す平面図であり、図13Bは図13AにおけるXIIIB−XIIIB線上の断面図であり、図13Cは図13AにおけるXIIIC−XIIIC線上の断面図である。FIG. 13A shows a laser beam having a constant output level continuously along the track on which the first prepit is formed for the purpose of changing the optical constant of the portion corresponding to the first prepit in the first information recording layer. FIG. 13B is a cross-sectional view taken along the line XIIIB-XIIIB in FIG. 13A, and FIG. 13C is a cross-sectional view taken along the line XIIIC-XIIIC in FIG. 13A. 実施例1〜4における第1プリピットの半値幅と、レーザ光を照射する前及びレーザ光を照射した後の第1プリピットの再生に係る変調度及びジッタの測定結果を示す表図である。It is a table | surface figure which shows the half width of the 1st prepit in Examples 1-4, and the measurement result of the modulation | alteration and jitter which concern on reproduction | regeneration of the 1st prepit before irradiating a laser beam and after irradiating a laser beam. 反射層の厚みに対するジッタの量の変化を示す一般的な特性図である。It is a general characteristic diagram showing a change in the amount of jitter with respect to the thickness of the reflective layer.

符号の説明Explanation of symbols

10…光ディスク 12…第1基板
14…第1情報記録層 16…第2基板
18…第2情報記録層 22…情報記録領域
24A…システム・リードイン領域 24B…システム・リードアウト領域
26…第1プリグルーブ 28…第2プリグルーブ
42A…第1プリピット 42B…第2プリピット
44、46…レーザ光の照射領域 48…光学定数が変化した領域
50…屈折率が変化した部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical disk 12 ... 1st board | substrate 14 ... 1st information recording layer 16 ... 2nd board | substrate 18 ... 2nd information recording layer 22 ... Information recording area 24A ... System lead-in area 24B ... System lead-out area 26 ... 1st Pre-groove 28 ... second pre-groove 42A ... first pre-pit 42B ... second pre-pits 44, 46 ... irradiation region 48 of laser light 48 ... region where optical constant has changed 50 ... part where refractive index has changed

Claims (20)

基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板の最内周の部分に、前記記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上のピットを形成するピット形成ステップと、
前記基板上に前記記録層を形成する記録層形成ステップと、
前記記録層のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射するレーザ光照射ステップとを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In a method of manufacturing an optical information recording medium comprising a substrate and a recording layer formed on the substrate, and recording and / or reproducing information by irradiating the recording layer with a laser beam.
A pit forming step for forming one or more pits used to adjust at least the output of the laser beam to the recording layer on the innermost peripheral portion of the substrate;
A recording layer forming step of forming the recording layer on the substrate;
A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising: a laser beam irradiation step of irradiating a laser beam to the innermost peripheral portion of the recording layer where the pits are formed.
請求項1記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記レーザ光照射ステップは、前記記録層のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分の前記記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記記録層に対してレーザ光を照射することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 1,
The step of irradiating the laser beam with respect to the recording layer of the innermost peripheral portion for the purpose of changing an optical constant of the recording layer of the innermost peripheral portion of the recording layer where the pits are formed. And irradiating with laser light.
請求項2記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 2,
The optical constant of the recording layer in the innermost peripheral portion is set by continuing to irradiate the innermost peripheral portion with the laser light having a constant output level over time while relatively rotating the substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized by being changed.
基板と、該基板上に形成された記録層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板の最内周の部分に、前記記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上のピットを形成するピット形成ステップと、
前記基板上に前記記録層を形成する記録層形成ステップと、
前記記録層のうち、前記ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる光学定数変化ステップとを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In a method of manufacturing an optical information recording medium comprising a substrate and a recording layer formed on the substrate, and recording and / or reproducing information by irradiating the recording layer with a laser beam.
A pit forming step for forming one or more pits used to adjust at least the output of the laser beam to the recording layer on the innermost peripheral portion of the substrate;
A recording layer forming step of forming the recording layer on the substrate;
An optical information recording medium manufacturing method comprising: an optical constant changing step of changing an optical constant of a recording layer corresponding to the pit among the recording layers.
請求項4記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記光学定数変化ステップは、前記ピット内に充填された記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 4,
In the optical constant recording step, the optical constant of the recording layer filled in the pit is changed.
請求項4又は5記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記光学定数変化ステップは、前記基板のうち、前記ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 4 or 5,
The optical constant changing step irradiates the innermost peripheral portion of the substrate where the pits are formed with laser light for the purpose of changing the optical constant of the recording layer. A method for manufacturing a recording medium.
請求項6記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記最内周部分に照射し続けて前記記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 6,
The optical constant of the recording layer is changed by continuously irradiating the innermost peripheral portion with the laser beam having a constant output level as time elapses while relatively rotating the substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium.
請求項3又は7記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記出力レベルは、記録線速度が1倍速のとき、3mW以上、10mW以下であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 3 or 7,
The method for manufacturing an optical information recording medium, wherein the output level is 3 mW or more and 10 mW or less when the recording linear velocity is 1 × speed.
請求項1〜8のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層形成ステップは、前記基板上に前記記録層となる色素を塗布することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 1-8,
The method for producing an optical information recording medium, wherein in the recording layer forming step, a dye to be the recording layer is applied on the substrate.
請求項1〜9のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記光情報記録媒体は、前記記録及び/又は再生用のレーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記光情報記録媒体の端面から前記記録層までの距離が0.6mmに対応したものであることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 1-9,
In the optical information recording medium, the wavelength of the recording and / or reproducing laser light is 405 nm, the numerical aperture of the objective lens for condensing the laser light on the recording layer is 0.65, and the end face of the optical information recording medium A method for producing an optical information recording medium, wherein the distance from the recording layer to the recording layer corresponds to 0.6 mm.
第1基板と第2基板と、
前記第1基板上に形成された第1記録層と、
前記第2基板上に形成された第2記録層とを具備し、記録及び/又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第1記録層と前記第2記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第1記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1基板の最内周の部分に、前記第1記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第1ピットを形成する第1ピット形成ステップと、
前記第1基板上に前記第1記録層を形成する第1記録層形成ステップと、
前記第2基板の最内周の部分に、前記第2記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第2ピットを形成する第2ピット形成ステップと、
前記第2基板上に前記第2記録層を形成する第2記録層形成ステップと、
前記第1基板上に前記第2基板を、前記第1記録層と前記第2記録層とが対向するように貼り合わせる貼合せステップと、
前記第1記録層のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射する第1レーザ光照射ステップと、
前記第2記録層のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分に対してレーザ光を照射する第2レーザ光照射ステップとを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
A first substrate and a second substrate;
A first recording layer formed on the first substrate;
A second recording layer formed on the second substrate, and the first recording layer and the second recording layer are in this order as viewed from the direction of irradiation with the recording and / or reproducing laser light. In a method of manufacturing an optical information recording medium that is arranged and records and / or reproduces information by irradiating at least the first recording layer with a laser beam,
A first pit forming step for forming one or more first pits used for adjusting at least the output of the laser beam to the first recording layer in the innermost peripheral portion of the first substrate;
A first recording layer forming step of forming the first recording layer on the first substrate;
A second pit forming step for forming one or more second pits used to adjust at least the output of the laser beam to the second recording layer in the innermost peripheral portion of the second substrate;
A second recording layer forming step of forming the second recording layer on the second substrate;
A bonding step of bonding the second substrate on the first substrate so that the first recording layer and the second recording layer face each other;
A first laser beam irradiation step of irradiating a laser beam to the innermost peripheral portion in which the first pit is formed in the first recording layer;
A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising: a second laser beam irradiation step of irradiating a laser beam to the innermost peripheral portion of the second recording layer in which the second pit is formed. .
請求項11記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1レーザ光照射ステップは、前記第1記録層のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分の前記第1記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記第1記録層に対してレーザ光を照射し、
前記第2レーザ光照射ステップは、前記第2記録層のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分の前記第2記録層の光学定数を変化させることを目的として、前記最内周部分の前記第2記録層に対してレーザ光を照射することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 11,
In the first laser beam irradiation step, for the purpose of changing an optical constant of the first recording layer in the innermost peripheral portion of the first recording layer where the first pit is formed, Irradiating the first recording layer in the peripheral portion with laser light;
For the purpose of changing the optical constant of the second recording layer in the innermost peripheral portion of the second recording layer in which the second pit is formed, the second laser beam irradiation step is performed. A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising irradiating a laser beam onto the second recording layer in a peripheral portion.
請求項12記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1レーザ光照射ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第1基板の最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記第1記録層の光学定数を変化させ、
前記第2レーザ光照射ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第2基板の最内周部分に照射し続けて前記最内周部分の前記第2記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 12,
In the first laser beam irradiation step, the innermost peripheral portion of the first substrate is irradiated with the laser beam having a constant output level as time passes while relatively rotating the optical information recording medium. Subsequently, the optical constant of the first recording layer in the innermost peripheral portion is changed,
In the second laser beam irradiation step, the innermost peripheral portion of the second substrate is irradiated with the laser beam having a constant output level as time passes while relatively rotating the optical information recording medium. A method of manufacturing an optical information recording medium, wherein the optical constant of the second recording layer in the innermost peripheral portion is continuously changed.
第1基板と第2基板と、
前記第1基板上に形成された第1記録層と、
前記第2基板上に形成された第2記録層とを具備し、記録及び/又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第1記録層と前記第2記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第1記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1基板の最内周の部分に、前記第1記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第1ピットを形成する第1ピット形成ステップと、
前記第1基板上に前記第1記録層を形成する第1記録層形成ステップと、
前記第2基板の最内周の部分に、前記第2記録層に対する前記レーザ光の少なくとも出力を調整するために使用される1以上の第2ピットを形成する第2ピット形成ステップと、
前記第2基板上に前記第2記録層を形成する第2記録層形成ステップと、
前記第1基板上に前記第2基板を、前記第1記録層と前記第2記録層とが対向するように貼り合わせる貼合せステップと、
前記第1記録層のうち、前記第1ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる第1光学定数変化ステップと、
前記第2記録層のうち、前記第2ピットに対応する記録層の光学定数を変化させる第2光学定数変化ステップとを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
A first substrate and a second substrate;
A first recording layer formed on the first substrate;
A second recording layer formed on the second substrate, and the first recording layer and the second recording layer are in this order as viewed from the direction of irradiation with the recording and / or reproducing laser light. In a method of manufacturing an optical information recording medium that is arranged and records and / or reproduces information by irradiating at least the first recording layer with a laser beam,
A first pit forming step for forming one or more first pits used for adjusting at least the output of the laser beam to the first recording layer in the innermost peripheral portion of the first substrate;
A first recording layer forming step of forming the first recording layer on the first substrate;
A second pit forming step for forming one or more second pits used to adjust at least the output of the laser beam to the second recording layer in the innermost peripheral portion of the second substrate;
A second recording layer forming step of forming the second recording layer on the second substrate;
A bonding step of bonding the second substrate on the first substrate so that the first recording layer and the second recording layer face each other;
A first optical constant changing step of changing an optical constant of the recording layer corresponding to the first pit in the first recording layer;
A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising: a second optical constant changing step of changing an optical constant of the recording layer corresponding to the second pit in the second recording layer.
請求項14記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1光学定数変化ステップは、前記第1ピット内に充填された第1記録層の光学定数を変化させ、
前記第2光学定数変化ステップは、前記第2ピット内に充填された第2記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 14,
In the first optical constant changing step, the optical constant of the first recording layer filled in the first pit is changed,
The method of manufacturing an optical information recording medium, wherein the second optical constant changing step changes an optical constant of a second recording layer filled in the second pit.
請求項14又は15記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1光学定数変化ステップは、前記第1基板のうち、前記第1ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射し、
前記第2光学定数変化ステップは、前記第2基板のうち、前記第2ピットが形成された前記最内周部分に対し、記録層の光学定数を変化させることを目的としてレーザ光を照射することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 14 or 15,
The first optical constant changing step irradiates a laser beam for the purpose of changing an optical constant of a recording layer to the innermost peripheral portion of the first substrate where the first pit is formed,
The second optical constant changing step irradiates a laser beam for the purpose of changing the optical constant of the recording layer to the innermost peripheral portion of the second substrate where the second pit is formed. An optical information recording medium manufacturing method characterized by the above.
請求項16記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1光学定数変化ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第1基板の最内周部分に照射し続けて前記第1ピットに対応する第1記録層の光学定数を変化させ、
前記第2光学定数変化ステップは、前記光情報記録媒体を相対的に回転しながら、時間の経過に伴って一定とされた出力レベルの前記レーザ光を前記第2基板の最内周部分に照射し続けて前記第2ピットに対応する第2記録層の光学定数を変化させることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 16,
In the first optical constant changing step, the innermost peripheral portion of the first substrate is irradiated with the laser light having a constant output level as time passes while relatively rotating the optical information recording medium. Subsequently, the optical constant of the first recording layer corresponding to the first pit is changed,
In the second optical constant changing step, the innermost peripheral portion of the second substrate is irradiated with the laser beam having a constant output level as time passes while relatively rotating the optical information recording medium. A method of manufacturing an optical information recording medium, wherein the optical constant of the second recording layer corresponding to the second pit is continuously changed.
請求項13又は17記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記出力レベルは、記録線速度が1倍速のとき、3mW以上、10mW以下であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of Claim 13 or 17,
The method for manufacturing an optical information recording medium, wherein the output level is 3 mW or more and 10 mW or less when the recording linear velocity is 1 × speed.
請求項11〜18のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第1記録層形成ステップは、前記第1基板上に前記第1記録層となる色素を塗布し、
前記第2記録層形成ステップは、前記第2基板上に前記第2記録層となる色素を塗布することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 11-18,
In the first recording layer forming step, a dye to be the first recording layer is applied on the first substrate,
The method of manufacturing an optical information recording medium, wherein the second recording layer forming step includes applying a dye to be the second recording layer on the second substrate.
請求項11〜19のいずれか1項に記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記光情報記録媒体は、前記記録及び/又は再生用のレーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を少なくとも前記第1記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記光情報記録媒体の端面から前記第1記録層までの距離が0.6mmに対応したものであることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
In the manufacturing method of the optical information recording medium of any one of Claims 11-19,
In the optical information recording medium, the wavelength of the recording and / or reproducing laser light is 405 nm, the numerical aperture of the objective lens for condensing the laser light on at least the first recording layer is 0.65, and the optical information recording A method for producing an optical information recording medium, wherein a distance from an end face of the medium to the first recording layer corresponds to 0.6 mm.
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