JP2007281334A - スピン注入磁化反転素子、その製造方法、およびそれを用いた磁気記録装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スピン注入磁化反転素子において、磁化が第1の方向に実質的に固定された強磁性固定層13と、非磁性の分離層14と、磁化の方向が可変の2以上の強磁性フリー層15、16、17を備え、強磁性固定層13は分離層14の一方の主面に配置され、前記各強磁性フリー層15、16、17はそれぞれが分離層14の他方の主面に接して配置する。 各強磁性フリー層15、16、17は、膜厚、磁化反転臨界電流密度または保磁力が全て異なることが好ましい。 また、スピン注入磁化反転素子を用いて磁気記録装置を構成する。
【選択図】図1
Description
消費電力の問題を解決する方法として、スピン注入により磁化を反転する素子が提案され、近年注目を集めている(例えば、非特許文献1、特許文献2参照。)。図8は、特許文献2で提案されているスピン注入磁化反転素子の主要部の構成例を示す断面模式図で、第1強磁性固定層413、第1分離層414、強磁性フリー層415、第2分離層424、第2強磁性固定層423から構成される。両強磁性固定層の磁化の向きは予め反平行に設定され、強磁性フリー層の磁化の向きを変えて情報を記録する。図中の白抜きの丸付きの細線の矢印は電子のスピンの向きを示し、単なる細線の矢印は電子の移動する方向を示している。白抜きの矢印が磁化の向きを表すことは前図と同様である。
また、前記各強磁性フリー層は、磁化反転臨界電流密度が全て異なるか、あるいは保磁力が全て異なることが好ましい。
また、前記強磁性固定層もしくは各強磁性フリー層の主面が実質的に長方形であり、長さを幅で除した数値が2以上であることが好ましい。
また、前記分離層が絶縁体であることが好ましく、特にAl2O3であることが好ましい。
また、上述のスピン注入磁化反転素子を用いて磁気記録装置を構成することができる。
始めに、本発明の動作原理について図3を参照しながら説明する。図3中で、磁化の向き、電子の移動方向、電子スピンの向きの表記は前述と同様である。また、各強磁性フリー層の膜厚がD1>D2>D3の場合を例にとって説明する。
各強磁性フリー層の組成が同一であることから、各強磁性フリー層の磁化反転臨界電流密度は膜厚の順に増大する。即ち、第1強磁性フリー層15、第2強磁性フリー層16、第3強磁性フリー層17の磁化反転臨界電流密度をそれぞれIC1、IC2、IC3とすると、IC1>IC2>IC3なる関係が成立している。
次に、本素子を構成する各層の構成および製造方法について詳細に説明する。
非磁性基板11の材料は、基板上に配置する複数の素子を独立に制御するために絶縁性を有し、また、素子を保持するために充分な剛性を有する材料であれば、所望の平坦度に応じて適宜選択可能である。例えば、サファイア、酸化シリコンなどの厚さ数100μmの絶縁基板や、表面を酸化し絶縁性を確保したSi等の半導体基板等が使用できる。
強磁性固定層13および各強磁性フリー層は、磁化の配向方向を基板面に平行な特定方向(例えば、図1の左右方向)とすることが好ましい。磁化をそのような向きに配向させるためには強磁性層に形状異方性を持たせることが有効である。このため、強磁性層の厚みをTとし、強磁性層を配向する方向を長さ(L)として、これと直行する方向を幅(W)とした時に、L/W≧2、L/T≧2とすることが好ましい。強磁性層が実質的に直方体形状の場合には、その主面が実質的に長方形となるので、長方形の長さと幅が上記の関係を満たせばよい。また、楕円体形状の場合等においては、最も長軸となる方向を長さとし、これと直行する方向を幅として前述の関係を満たすように形成する。
次に、各強磁性フリー層の形成方法の例について図2を参照しながら説明する。
(図2a)分離層14上の全面に、まず、強磁性フリー層115を例えばスパッター法にて形成し、引き続き、強磁性フリー層115上の全面にレジスト等により保護層120を形成する。
(図2b)第3強磁性フリー層17に対応する領域の保護層を除去する。
(図2c)異方性エッチングにより第3強磁性フリー層17をエッチングする。
(図2d)第2強磁性フリー層16に対応する領域の保護層を除去する。
(図2e)異方性エッチングにより第2強磁性フリー層16、第3強磁性フリー層17をエッチングする。
(図2f)第1強磁性フリー層15上の保護層を除去する。
ここで、図2d、図2eに対応する工程をさらに複数回繰り返すことにより、4以上の強磁性フリー層を形成可能である。
なお、各電極、強磁性固定層、分離層、各強磁性フリー層の成膜は、スパッター法、蒸着法、CVD法等の既知の成膜手法を用いることができる。
図1の構成は本発明の素子の基本構成を示すものであり、各構成要素を適宜変更して目的に応じた改変を行うことが可能である。以下、他の構成例について例示する。
強磁性固定層13は外部磁場により磁化が容易に反転しないことが要求される。磁化の固定を強化するために、公知の反強磁性結合、強磁性結合等を形成することを目的として他の層と積層することもできる。
図5は、磁壁をピン止めするための溝40を各強磁性フリー層の間に配置したものである。溝40の断面形状としては、矩形、三角形、U字形等所望により適宜選択することができる。
また、上述の素子を例えば図6aの如くに複数連結して磁気記録装置を形成できることも言うまでもない。
第1電極12、強磁性固定層13、分離層14、第2電極18は、スパッター法を用いて成膜し、各強磁性フリー層は、図2で説明した方法を用いて形成した。
非磁性基板11としては表面に膜厚100nmの酸化膜を形成したSi基板を用いた。Si基板をよく洗浄した後、Cuからなる第1電極12を幅1μm、長さ10μmの形状で200nmの厚さに成膜した。引き続き、Coからなる強磁性固定層13を幅500nm、長さ3.0μmの形状で100nmの厚さに形成し、引き続き、Cuからなる分離層14を幅500nm、長さ3.0μmの形状で1nmの厚さに形成した。引き続き、各強磁性フリー層を前述した図2の方法を用いて形成した。まず、スパッター法を用いてCo90Cr10を幅500nm、長さ3.0μmの形状で10nmの厚さに形成した。次に、フォトレジストをスピンコーターで回転塗布して保護層120を形成し、第3強磁性フリー層17に対応する領域(幅500nm、長さ1.0μm)の保護層120をウェットエッチングにて除去した。続いて、反応性イオンエッチングを用いた異方性エッチングにより第3強磁性フリー層17に対応する領域を2nmエッチングした。次に第2強磁性フリー層16に対応する領域(幅500nm、長さ1.0μm)の保護層120を前記と同様にして除去し、前記と同様な異方性エッチングにより第2強磁性フリー層16、第3強磁性フリー層17に対応する領域を2nmエッチングした。続いて、第1強磁性フリー層15に対応する領域の保護層120を前記と同様にして除去し、膜厚の異なる各強磁性フリー層を形成した。引き続き、各強磁性フリー層の上に、Cuからなる第2電極18を幅1μm、長さ10μmの形状で200nmの厚さに成膜した。このようにして、図1の構成のスピン注入磁化反転素子を得た。
12、312 第1電極
13 強磁性固定層
14、214、314 分離層
15 第1強磁性フリー層
16 第2強磁性フリー層
17 第3強磁性フリー層
18、318 第2電極
20 反強磁性結合層
21、31 強磁性層
30 強磁性結合層
40 溝
115 強磁性フリー層
120 保護層
200 TMR素子
212 ビット線
213、313 第1強磁性層
215、315 第2強磁性層
218 ワード線
219、319 書き込み用ワード線
316 第3強磁性層
413 第1強磁性固定層
414 第1分離層
415 強磁性フリー層
423 第2強磁性固定層
424 第2分離層
Claims (12)
- 電子スピンにより磁化反転を行うスピン注入磁化反転素子において、
磁化が第1の方向に実質的に固定された強磁性固定層と、非磁性の分離層と、磁化の方向が可変の2以上の強磁性フリー層を備え、
前記強磁性固定層は分離層の一方の主面に配置され、
前記各強磁性フリー層はそれぞれが前記分離層の他方の主面に接して配置されていることを特徴とするスピン注入磁化反転素子。 - 前記各強磁性フリー層は、膜厚が全て異なることを特徴とする請求項1に記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記各強磁性フリー層は、磁化反転臨界電流密度が全て異なることを特徴とする請求項1ないし2のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記各強磁性フリー層は、保磁力が全て異なることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記強磁性固定層の主面が実質的に長方形であり、長さを幅で除した数値が2以上であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記各強磁性フリー層の主面がそれぞれ実質的に長方形であり、長さを幅で除した数値が2以上であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記分離層が非磁性金属であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記分離層がCuであることを特徴とする請求項7に記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記分離層が絶縁体であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子。
- 前記分離層がAl2O3であることを特徴とする請求項9に記載のスピン注入磁化反転素子。
- 請求項1ないし10のいずれかに記載のスピン注入磁化反転素子を用いたことを特徴とする磁気記録装置。
- 磁化が第1の方向に実質的に固定された強磁性固定層と、非磁性の分離層と、磁化の方向が可変の2以上の強磁性フリー層とを備えたスピン注入磁化反転素子の製造方法において、
前記分離層の上に強磁性層を形成する第1の工程と、
前記強磁性層の上に保護層を形成する第2の工程と、
前記保護層の一部を除去する第3の工程と、
前記保護層が除去された強磁性層をエッチングする第4の工程とを備え、
前記第3および第4の工程を複数回繰り返して、膜厚の異なる前記2以上の強磁性フリー層を形成することを特徴とするスピン注入磁化反転素子の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012104818A (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-31 | Seagate Technology Llc | メモリセル、およびメモリセルを動作させる方法 |
US8750032B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-06-10 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor recording device |
US9257483B2 (en) | 2010-01-13 | 2016-02-09 | Hitachi, Ltd. | Magnetic memory, method of manufacturing the same, and method of driving the same |
US9704552B2 (en) | 2014-12-22 | 2017-07-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-level magnetic recording apparatus utilizing cooperative magnetization dynamics induced by spin-torque oscillator |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002042457A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁性メモリ |
JP2005310829A (ja) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Sony Corp | 磁気メモリ及びその記録方法 |
JP2005340824A (ja) * | 2004-05-21 | 2005-12-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 磁気ram、磁気ramの記録方法及び磁気ramの読取方法 |
-
2006
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002042457A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-08 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁性メモリ |
JP2005310829A (ja) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Sony Corp | 磁気メモリ及びその記録方法 |
JP2005340824A (ja) * | 2004-05-21 | 2005-12-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 磁気ram、磁気ramの記録方法及び磁気ramの読取方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9257483B2 (en) | 2010-01-13 | 2016-02-09 | Hitachi, Ltd. | Magnetic memory, method of manufacturing the same, and method of driving the same |
US8750032B2 (en) | 2010-04-28 | 2014-06-10 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor recording device |
JP2012104818A (ja) * | 2010-11-11 | 2012-05-31 | Seagate Technology Llc | メモリセル、およびメモリセルを動作させる方法 |
CN102543180A (zh) * | 2010-11-11 | 2012-07-04 | 希捷科技有限公司 | 具有可独立编程自由层畴的多位磁存储器 |
US9704552B2 (en) | 2014-12-22 | 2017-07-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-level magnetic recording apparatus utilizing cooperative magnetization dynamics induced by spin-torque oscillator |
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