JP2007271425A - パターン欠陥検査装置、パターン欠陥検査方法、及びフォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】単位パターンが規則的に配列されてなる繰り返しパターンを表面に備えたフォトマスク50の、上記繰り返しパターンに発生した欠陥を検査するパターン欠陥検査装置10であって、フォトマスク50の分割検査領域58に所望の入射角で光を照射する光源装置12と、上記フォトマスクを支持する支持面を備えたステージと、上記フォトマスクの繰り返しパターンからのn次回折光を受光する観察装置13と、上記フォトマスクへ異なる方向から光を照射するために、光源装置のコリメータレンズ19をステージの支持面と平行な面内で所定角度回転させる回転装置16とを有するものである。
【選択図】図1
Description
目視の斜光検査を自動化した装置としては、例えば、半導体ウエハのマクロ検査装置がその一つである。例えば、特許文献1には、半導体ウエハ上の周期的構造(繰り返しパターン)に所望の波長の光を照射する光源と、基板の表面からの回折光を受光するカメラと、このカメラによって撮影した画像データと無欠陥の基準データとを比較することによって欠陥を検出するための検出手段と、を有する装置が開示されている。このマクロ検査装置は、焦点のオフセット、ウエハの下面にゴミ(粒子)が存在してウエハ上下位置が変動することによるデフォーカス、ウエハの現像/エッチング/剥離工程に起因する半導体ウエハの構造における表面欠陥を、ウエハ全面を単一視野に収めて検査するというものである。
請求項8乃至11のいずれかに記載の欠陥検査を行う工程を含むことを特徴とするものである。
[A]第1の実施の形態(図1〜図5)
図1は、本発明に係るパターン欠陥検査装置における第1の実施の形態を示す概略斜視図である。図2は、図1のパターン欠陥検査装置を示す概略側面図である。
d(sinθn±sinθi)=nλ …(1)
(1)光源装置12のコリメータレンズ19からフォトマスク50の各欠陥検査領域58へ異なる複数の方向から光を照射するために、回転装置16が、光源装置12のコリメータレンズ19をステージ11の支持面に平行な面内で所定角度回転させる。このことから、フォトマスク50の表面における繰り返しパターン51を構成する単位パターン53が複雑な2次元形状であっても、この繰り返しパターン51に生じた欠陥を、0次よりも大きな次数の回折光(n次回折光)を用いて良好に検査することができる。
図6は、本発明に係るパターン欠陥検査装置における第2の実施の形態を示す概略斜視図である。この第2の実施の形態において、前記第1の実施の形態と同様な部分は、同一の符号を付すことにより説明を省略する。
例えば、上記両実施の形態では、観察装置13がフォトマスク50を透過した光の回折光を受光するものを述べたが、光源装置12をステージ11に対し観察装置13と同じ側に配置して、観察装置13が、フォトマスク50にて反射した光の回折光を受光してもよい。更に、観察装置13は、フォトマスク50のパターン形成面側から観察してもよく、その裏面である基板面側から観察してもよい。このように、観察装置13の配置位置を適宜選択することができる。
11 ステージ
12 光源装置(光源手段)
13 観察装置(観察手段)
16 回転装置(回転手段)
19 コリメータレンズ
50 フォトマスク(被検査体)
51 繰り返しパターン
53 単位パターン
57 検査領域
58 分割検査領域
d 繰り返しパターンのピッチ
n 回折次数
θn n次回折角
θi 入射角
Claims (12)
- 単位パターンが規則的に配列されてなる繰り返しパターンを表面に備えた被検査体の、上記繰り返しパターンに発生した欠陥を検査するパターン欠陥検査装置であって、
上記被検査体の検査領域に所望の入射角で光を照射する光源手段と、
上記被検査体を支持する支持面を備えたステージと、
上記被検査体の上記繰り返しパターンからの回折光を受光する観察手段と、
上記被検査体へ異なる方向から光を照射し、または/及び上記被検査体からの回折光を異なる方向から受光するために、上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方を上記ステージに対し所定角度回転させる回転手段と、を有することを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 上記回転手段は、光源手段と観察手段の少なくとも一方を、ステージの支持面と平行な面内で所定角度回転させるよう構成されたことを特徴とする請求項1に記載のパターン欠陥検査装置。
- 上記ステージの支持面に対して垂直に、または所定の角度をもって対向する位置に観察手段が配置され、上記支持面に対して斜めに光を照射する位置に光源手段が配置され、
上記回転手段が、上記光源手段を上記支持面と平行な面内で所定角度回転させるよう構成されたことを特徴とする請求項1または2に記載のパターン欠陥検査装置。 - 単位パターンが規則的に配列されてなる繰り返しパターンを表面に備えた被検査体の、上記繰り返しパターンに発生した欠陥を検査するパターン欠陥検査装置であって、
上記被検査体の検査領域に所望の入射角で光を照射する光源手段と、
上記被検査体を支持する支持面を備えたステージと、
上記被検査体の上記繰り返しパターンからの回折光を受光する観察手段とを有し、
上記被検査体へ異なる方向から光を照射し、または上記被検査体からの回折光を異なる方向から受光するために、上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方が、上記ステージに対し複数個設置されたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方は、ステージの支持面と平行な面内に複数個設置されたことを特徴とする請求項4に記載のパターン欠陥検査装置。
- 上記観察手段は、ステージの支持面に対し垂直方向に対向する位置に1個配置され、
上記光源手段は、上記支持面と平行な面内に複数の光源を配置して構成されたことを特徴とする請求項4または5に記載のパターン欠陥検査装置。 - 上記観察手段は、被検査体からの回折光のうち、0次よりも絶対値の大きな次数の回折光を受光することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のパターン欠陥検査装置。
- 単位パターンが規則的に配列されてなる繰り返しパターンを表面に備えた被検査体をステージの支持面に支持し、
このステージに支持された上記被検査体の検査領域に光源手段から所望の入射角で光を照射し、
この照射によって上記被検査体の上記繰り返しパターンから生ずる回折光を観察手段により受光し、
この受光した回折光から、上記繰り返しパターンに発生した欠陥に起因する回折光を検出して、当該欠陥を検査するパターン欠陥検査方法において、
上記被検査体へ複数の異なる方向から光を照射し、または回折光を複数の異なる方向から受光するために、上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方を、上記ステージの支持面と平行な面内の複数位置に配置して前記欠陥を検査することを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方を、ステージの支持面に平行な面内で所定角度回転させて当該面内の複数位置に配置することを特徴とする請求項8に記載のパターン欠陥検査方法。
- 上記光源手段と上記観察手段の少なくとも一方を、ステージの支持面に平行な面内に複数個設置して当該面内の複数位置に配置することを特徴とする請求項8に記載のパターン欠陥検査方法。
- 上記被検査体からの回折光のうち、0次よりも絶対値の大きな次数の回折光を観察手段が受光することを特徴とする請求項8乃至10のいずれかに記載のパターン欠陥検査方法。
- 基板上に遮光膜パターンを形成してフォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法において、
請求項8乃至11のいずれかに記載の欠陥検査を行う工程を含むことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
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