JP2007265639A - 電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 - Google Patents
電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007265639A JP2007265639A JP2006085322A JP2006085322A JP2007265639A JP 2007265639 A JP2007265639 A JP 2007265639A JP 2006085322 A JP2006085322 A JP 2006085322A JP 2006085322 A JP2006085322 A JP 2006085322A JP 2007265639 A JP2007265639 A JP 2007265639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- electron
- electron emission
- cold cathode
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
【解決手段】電界電子放出冷陰極は、導電性の陰極基部と、前記陰極基部の上に形成され、細長い先端を備える導電体とを備える。前記導電体の先端が複数の突起部からなり、この複数の突起部は10nm以下の間隔で配置されている。
【選択図】図1
Description
Claims (9)
- 導電性の陰極基部と、
前記陰極基部の上に形成され、細長い先端を備える導電体と
を備え、
前記導電体の先端が複数の突起部からなり、この複数の突起部は10nm以下の間隔で配置されている
電界電子放出冷陰極。 - 前記陰極基部がシリコン基板、ガラス基板に金属膜を堆積した基板および金属基板のいずれかである、請求項1に記載された電界電子放出冷陰極。
- 前記陰極基部であるシリコン基板と、
前記シリコン基板の上に形成された絶縁体層と、
前記絶縁体層の上に形成されたゲート電極層と、
前記ゲート電極層と前記絶縁体層に、前記シリコン基板表面を露出するまで設けられた開口部と、
前記開口部において前記シリコン基板表面の上に設けられ、前記複数の突起部を先端に備える前記電子放出源と
からなる電界電子放出冷陰極。 - 前記陰極基部がタングステンワイヤであり、前記タングステンワイヤの先端に前記導電体が設けられる、請求項1に記載された電界電子放出冷陰極。
- 導電性の陰極基部と、前記陰極基部の上に形成され、細長い先端を備える導電体とからなる陰極と、
前記陰極に対向して設けられる陽極と、
前記陰極と前記陽極の間に配置されるゲート電極と
からなり、
前記導電体の先端が、10nm以下の間隔で配置されている複数の突起部を備える
電界電子放出電子源。 - 真空チャンバー内で、
導電性の陰極基部の上で、有機金属ガス雰囲気中で電子ビームまたはイオンビームを照射して導電体を堆積し、
さらに、前記導電体の上に、複数の照射中心の間隔を10nm以下として、電子ビームを照射して、複数の突起部を堆積する
電界電子放出冷陰極の製造方法。 - 真空チャンバー内で、
導電性の陰極基部の上で、有機金属ガス雰囲気中で電子ビームまたはイオンビームを照射して導電体を細長く堆積し、
次に、前記の細長い導電体を窒素雰囲気で熱処理して、10nm以下の間隙で複数の突起部を前記の導電体の先端に形成する
電界電子放出冷陰極の製造方法。 - 基板上に電子線レジスト層を設けた基板を設置するためのステージと、
請求項1〜5のいずれかに記載された電界電子放出冷陰極と、
前記電界電子放出冷陰極が固定され、三軸方向に位置制御可能な位置制御素子とからなり、
前記電界電子放出冷陰極が前記ステージに対向して配置される
露光装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載された電界電子放出冷陰極と、
前記電界電子放出冷陰極の前記複数の突起部に対向して、前記複数の突起部が並ぶ方向に配列された複数の陽極と
からなる磁気センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006085322A JP2007265639A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006085322A JP2007265639A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007265639A true JP2007265639A (ja) | 2007-10-11 |
Family
ID=38638440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006085322A Pending JP2007265639A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007265639A (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09270228A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電界放射型電子源の製造方法 |
JPH11500259A (ja) * | 1995-02-15 | 1999-01-06 | ライトラブ・アーベー | 電界放出カソード及びその製造方法 |
JPH11218568A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Agency Of Ind Science & Technol | 磁気センサ |
JP2000286245A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2001068016A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | K & T:Kk | 電子銃及びその製造方法並びにフィールドエミッションディスプレイ |
JP2002279921A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-27 | Japan Society For The Promotion Of Science | コヒーレント電子源および前記コヒーレント電子源を適用した装置 |
JP2004158357A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Ricoh Co Ltd | 電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子線描画装置 |
JP2004165518A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Ricoh Co Ltd | 電子線描画装置およびその要部の製造方法 |
WO2004052489A2 (en) * | 2002-12-09 | 2004-06-24 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Methods for assembly and sorting of nanostructure-containing materials and related articles |
JP2004345009A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Japan Science & Technology Agency | 微小立体構造マニピュレータ |
-
2006
- 2006-03-27 JP JP2006085322A patent/JP2007265639A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11500259A (ja) * | 1995-02-15 | 1999-01-06 | ライトラブ・アーベー | 電界放出カソード及びその製造方法 |
JPH09270228A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電界放射型電子源の製造方法 |
JPH11218568A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Agency Of Ind Science & Technol | 磁気センサ |
JP2000286245A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2001068016A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | K & T:Kk | 電子銃及びその製造方法並びにフィールドエミッションディスプレイ |
JP2002279921A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-27 | Japan Society For The Promotion Of Science | コヒーレント電子源および前記コヒーレント電子源を適用した装置 |
JP2004158357A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Ricoh Co Ltd | 電子線放出源、電子線放出源の製造方法および電子線描画装置 |
JP2004165518A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Ricoh Co Ltd | 電子線描画装置およびその要部の製造方法 |
WO2004052489A2 (en) * | 2002-12-09 | 2004-06-24 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Methods for assembly and sorting of nanostructure-containing materials and related articles |
JP2004345009A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Japan Science & Technology Agency | 微小立体構造マニピュレータ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6797952B2 (en) | Scanning atom probe | |
Lucier | Preparation and characterization of tungsten tips suitable for molecular electronics studies | |
Schmucker et al. | Field-directed sputter sharpening for tailored probe materials and atomic-scale lithography | |
US8093144B2 (en) | Patterning of nanostructures | |
Møller et al. | Automated extraction of single H atoms with STM: tip state dependency | |
Schardein et al. | Electron-beam-induced deposition of gold from aqueous solutions | |
JPH04288815A (ja) | パターン形成方法及び装置 | |
US9574263B2 (en) | Controlled deposition of metal and metal cluster ions by surface field patterning in soft-landing devices | |
WO2009014406A2 (en) | Electron emitter having nano-structure tip and electron column using the same | |
Shaw et al. | Field emission energy distribution and three-terminal current-voltage characteristics from planar graphene edges | |
US20100006447A1 (en) | Method of preparing an ultra sharp tip, apparatus for preparing an ultra sharp tip, and use of an apparatus | |
Posada et al. | Nitrogen incorporated ultrananocrystalline diamond based field emitter array for a flat-panel X-ray source | |
JP4777006B2 (ja) | 3次元微細領域元素分析方法 | |
JP2005063802A (ja) | 導電性針の製造方法及びその方法により製造された導電性針 | |
EP2259051B1 (en) | Method and device for visualizing distribution of local electric field | |
Clericò et al. | Electron beam lithography and its use on 2D materials | |
WO2020225991A1 (ja) | 電子放出素子及び電子顕微鏡 | |
JP2005111583A (ja) | ナノメータスケールの構造物の作製方法 | |
JP2007265639A (ja) | 電子波干渉電子源とその製造方法およびそれを用いた素子 | |
Maas et al. | Helium ion microscopy | |
Latif | Nanofabrication using focused ion beam | |
Bret | Physico-chemical study of the focused electron beam induced deposition process | |
Hlawacek | Ion Microscopy | |
Grant et al. | Construction of a ultrananocrystalline diamond-based cold cathode arrays for a flat-panel x-ray source | |
Fomani et al. | Low-voltage field ionization of gases up to torr-level pressures using massive arrays of self-aligned gated nanoscale tips |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080129 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090326 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090326 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090423 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110316 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110628 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110726 |