JP2007264388A - 多層膜光学素子の製造方法 - Google Patents
多層膜光学素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007264388A JP2007264388A JP2006090647A JP2006090647A JP2007264388A JP 2007264388 A JP2007264388 A JP 2007264388A JP 2006090647 A JP2006090647 A JP 2006090647A JP 2006090647 A JP2006090647 A JP 2006090647A JP 2007264388 A JP2007264388 A JP 2007264388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- sio
- optical element
- multilayer optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】外観の良好な多層膜光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス等の基板1の上にアルミニウム薄膜2を成膜し、さらにその上にSiO2薄膜3を成膜する(a)。そして、GCIBを使用してラテラルスパッタを行う(b)。これにより、SiO2薄膜3の表面粗さは、1nm以下となる。その上に、多層薄膜4を成膜する(c)。多層薄膜4としては、例えばNb2O5薄膜とSiO2薄膜を交互に積層したものがある。最終的には、SiO2薄膜3も多層膜の一部となる。最後に、アルミニウムエッチング液によりアルミニウム薄膜2を溶解し、多層膜(SiO2薄膜3と多層薄膜4)を基板1から分離する(d)。SiO2薄膜3の表面粗さが、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とされているので、分離された多層膜からなる多層膜光学素子は、良好な外観を有する。
【選択図】 図1
【解決手段】ガラス等の基板1の上にアルミニウム薄膜2を成膜し、さらにその上にSiO2薄膜3を成膜する(a)。そして、GCIBを使用してラテラルスパッタを行う(b)。これにより、SiO2薄膜3の表面粗さは、1nm以下となる。その上に、多層薄膜4を成膜する(c)。多層薄膜4としては、例えばNb2O5薄膜とSiO2薄膜を交互に積層したものがある。最終的には、SiO2薄膜3も多層膜の一部となる。最後に、アルミニウムエッチング液によりアルミニウム薄膜2を溶解し、多層膜(SiO2薄膜3と多層薄膜4)を基板1から分離する(d)。SiO2薄膜3の表面粗さが、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とされているので、分離された多層膜からなる多層膜光学素子は、良好な外観を有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、多層膜光学素子の製造方法に関するものである。
屈折率の異なる物質からなる薄膜を積層し、薄膜の境界で反射する光の干渉を利用して、フィルタ等の所定の光学特性を持たせた光学素子は、多層膜光学素子として知られ、干渉フィルタ等に使用されている。
このような多層膜光学素子は、ガラス等の基板上に、屈折率の異なる非金属光学物質の薄膜を順次重ね合わせた構造を有し、通常は、ガラス等の基板上に、これらの非金属光学物質を、真空蒸着により、順次成膜していくことにより形成されていた。
このような光学素子において、ガラス等の基板は、光学特性を決定するのに何の役割を果たさないばかりでなく、光を吸収するので、できるだけ薄くする必要がある。このため、従来は、多層膜の形成後、これら基板を研磨して数十μm程度の厚さとしていた。
しかしながら、ガラス等の基板を数十μm程度の厚さにまで研磨することには非常な困難が伴い、研磨中にガラスが破損したりして、歩留まりを低下させるといった問題があった。
このような問題点を解決するものとして、例えば、特開平3−196001号公報(特許文献1)に記載されているような、基板を有しない多層膜光学薄膜が公知となっている。
このような多層膜光学薄膜は、以下のようにして製造される。例えば、ガラス基板の上にアルミニウムを蒸着し、その上に、酸化ケイ素の薄膜と酸化チタンの薄膜を、交互にイオンスパッタリングにより成膜する。成膜が完了した時点で、アルミニウムエッチング液によりアルミニウムを溶解すると、ガラス基板と多層光学薄膜が分離し、ガラス基板を有しない多層光学薄膜を得ることができる。
特開平3−196001号公報
近年、このような多層膜光学素子に対して、外観が良いことが求められるようになってきた。しかしながら、特許文献1に記載されるような方法で製造される多層膜光学素子は、表面粗さが粗く、要求される外観の良さが満たされないという問題点がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、外観の良好な多層膜光学素子の製造方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するための第1の手段は、基板の上に可溶性担体の薄膜を成膜し、前記可溶性担体の上に、多層光学薄膜を成膜し、その後、前記可溶性担体の薄膜を溶解させて、前記基板と前記多層光学薄膜を分離する工程を含む多層膜光学素子の製造方法であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜が、表面粗さがRMSで1nm以下のSiO2であることを特徴とする多層膜光学素子の製造方法である。
発明者が、多層膜光学素子の表面粗さが粗くなる原因を究明したところ、その原因は、初期段階で成膜される薄膜の表面粗さが、積層が進むに従って増幅されることにあることを発見した。すなわち、このような多層膜の成膜はスパッタリング等により行われるが、初期段階で成膜される薄膜に凹凸があると、斜めに飛来する成膜素材が、薄膜の凸部が陰になることにより薄膜の凹部に積層されにくくなり、凹凸の大きさが成膜が進むに従って大きくなる。そして、このことが、最終製品の表面粗さを粗くし、外観を悪くする原因となっている。
発明者は、このようなことの発生を防ぐには、可溶性担体の上に最初に成膜される材料をSiO2とし、その表面粗さをRMSで1nm以下とすれば良いことを見いだした。このような条件の下では、最終製品の外観は良好に保たれた。
前記課題を解決するための第2の手段は、前記第1の手段であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜を成膜する方法が、SiO2膜を成膜後、GCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いたラテラルスパッタリングにより、表面粗さをRMSで1nm以下とする方法であることを特徴とするものである。
GCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いたラテラルスパッタリングを用いれば、成膜されたSiO2膜の表面粗さをRMSで1nm以下とすることが容易である。
前記課題を解決するための第3の手段は、前記第1の手段であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜を成膜する方法が、アシスト成膜法によりSiO2膜を成膜する方法であることを特徴とするものである。
SiO2の成膜時にアシスト成膜法を用いれば、成膜されるSiO2膜の表面粗さをRMSで1nm以下とすることが容易である。
本発明によれば、外観の良好な多層膜光学素子の製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態である多層膜光学素子の製造方法の概要を示す図である。まず、ガラス等の基板1の上に可溶性坦体としてアルミニウム薄膜2を真空蒸着等により成膜し、さらにその上にSiO2薄膜3をイオンスパッタリング等により成膜する(a)。
そして、GCIBを使用してラテラルスパッタを行う(b)。これにより、SiO2薄膜3の表面粗さは、評価長さ1mmのRMSで1nm以下となる。その上に、多層薄膜4をイオンスパッタリング等により成膜する(c)。多層薄膜4としては、例えばNb2O5薄膜とSiO2薄膜を交互に積層したものがある。最終的には、SiO2薄膜3も多層膜の一部となる。
最後に、アルミニウムエッチング液によりアルミニウム薄膜2を溶解し、多層膜(SiO2薄膜3と多層薄膜4)を基板1から分離する(d)。SiO2薄膜3の表面粗さが、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とされているので、分離された多層膜からなる多層膜光学素子は、良好な外観を有する。
図2は、本発明の第2の実施の形態である多層膜光学素子の製造方法の概要を示す図である。まず、ガラス等の基板1の上にアルミニウム薄膜2を真空蒸着等により成膜し、さらにその上にSiO2薄膜3をアシスト成膜法で成膜する(a)。アシスト成膜法においては、イオンの運動エネルギーが大きいので、成膜時の表面粗さを小さくすることができ、その結果、SiO2薄膜3の表面粗さを、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とすることができる。
その上に、多層薄膜4をイオンスパッタリング等により成膜する(b)。多層薄膜4としては、例えばNb2O5薄膜とSiO2薄膜を交互に積層したものがある。最終的には、SiO2薄膜3も多層膜の一部となる。
最後に、アルミニウムエッチング液によりアルミニウム薄膜2を溶解し、多層膜(SiO2薄膜3と多層薄膜4)を基板1から分離する(c)。SiO2薄膜3の表面粗さが、評価長さ1mmのRMSで1nm以下とされているので、分離された多層膜からなる多層膜光学素子は、良好な外観を有する。
1…基板、2…アルミニウム薄膜、3…SiO2薄膜、4…多層薄膜
Claims (3)
- 基板の上に可溶性担体の薄膜を成膜し、前記可溶性担体の上に、多層光学薄膜を成膜し、その後、前記可溶性担体の薄膜を溶解させて、前記基板と前記多層光学薄膜を分離する工程を含む多層膜光学素子の製造方法であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜が、表面粗さがRMSで1nm以下のSiO2であることを特徴とする多層膜光学素子の製造方法。
- 請求項1に記載の多層膜光学素子の製造方法であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜を成膜する方法が、SiO2膜を成膜後、GCIB(Gas Cluster Ion Beam)を用いたラテラルスパッタリングにより、表面粗さをRMSで1nm以下とする方法であることを特徴とする多層膜光学素子の製造方法。
- 請求項1に記載の多層膜光学素子の製造方法であって、前記多層光学薄膜のうち最下層の薄膜を成膜する方法が、アシスト成膜法によりSiO2膜を成膜する方法であることを特徴とする多層膜光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006090647A JP2007264388A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 多層膜光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006090647A JP2007264388A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 多層膜光学素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007264388A true JP2007264388A (ja) | 2007-10-11 |
Family
ID=38637427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006090647A Pending JP2007264388A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 多層膜光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007264388A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011100111A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-05-19 | Seiko Epson Corp | 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器 |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006090647A patent/JP2007264388A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011100111A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-05-19 | Seiko Epson Corp | 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器 |
US9134462B2 (en) | 2009-10-09 | 2015-09-15 | Seiko Epson Corporation | Optical component having a low-density silicon oxide layer as the outermost layer of an inorganic thin-film, method of manufacturing optical component and electronic apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102305361B1 (ko) | 다층 반사막을 구비한 기판, euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크, euv 리소그래피용 반사형 마스크 및 그 제조 방법과 반도체 장치의 제조 방법 | |
CN105271795B (zh) | 用于显示器的覆盖玻璃元件的制造方法及覆盖玻璃 | |
TW201039051A (en) | Pellicle for lithography and method for manufacturing the same | |
JP2016014898A5 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランクの製造方法、透過型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
JP2010196168A5 (ja) | ||
KR20140038536A (ko) | 위상 쉬프트 마스크 블랭크, 위상 쉬프트 마스크 및 그 제조 방법 | |
US20080248267A1 (en) | Building Up Diffractive Optics by Structured Glass Coating | |
WO2019138875A1 (ja) | 機能素子および機能素子の製造方法ならびに電子機器 | |
JP2012009537A (ja) | 反射型マスクブランクス、反射型マスク、反射型マスクブランクスの製造方法、および、反射型マスクの製造方法 | |
JP6223116B2 (ja) | 無機光学素子 | |
JPWO2014080935A1 (ja) | 機能部品の製造方法 | |
JP4419958B2 (ja) | 多層膜光学素子の製造方法 | |
JP2007264388A (ja) | 多層膜光学素子の製造方法 | |
TWI378084B (en) | Method for flattening glass substrate | |
JP2012042983A (ja) | 階調マスク | |
JP4346656B2 (ja) | 反射型マスクブランク及び反射型マスク | |
US20120193646A1 (en) | Method of manufacturing an organic light emitting diode by lift-off | |
CN101562147A (zh) | 一种去除残留缺陷的方法 | |
Niimura et al. | High-precision nanofabrication technology for metal nanoparticle ensembles using nanotemplate-guided thermal dewetting | |
JP2010192824A5 (ja) | ||
JP2007292952A (ja) | 光学素子およびその製造方法 | |
JP2010038676A (ja) | 透光性部材の製造方法、透光性部材、および時計 | |
JP2005308968A (ja) | 光学多層膜及び光学素子 | |
JP7192409B2 (ja) | インプリントモールド用基板及びインプリントモールド、並びにそれらの製造方法 | |
US8309165B2 (en) | Color filter by copper and silver film and method for making same |