JP2007261018A - Transparent laminate being suitable to hold contents and method for producing the laminate - Google Patents

Transparent laminate being suitable to hold contents and method for producing the laminate Download PDF

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Masayuki Ohashi
政之 大橋
Tomokimi Nakanishi
智公 中西
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Toppan Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent and high practical laminate which has high gas-barrier properties equivalent to those of a metal foil and is suitable for holding contents high in practicality and a method for producing the laminate. <P>SOLUTION: In the transparent laminate suitable for holding contents, at least a gas-barrier coat layer is formed on a transparent plastic substrate. A coating agent containing at least one of a macromolecular compound having hydroxyl groups, a metal alkoxide and/or its hydrolyzate and/or its polymer as a component is applied, and the paint film is heated, dried, and subjected to water treatment, to form the gas-barrier coating layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、食品や非食品及び医薬品等の包装分野に用いられる包装用の積層体、または電子機器関連部材などに用いられる積層体に関するもので、特に高度なガスバリア性が必要とされる包装分野または電子機器部材・包装分野等に関するものである。   The present invention relates to a laminate for packaging used in the packaging field of foods, non-foods, pharmaceuticals, etc., or a laminate used for electronic equipment-related members, and the packaging field where particularly high gas barrier properties are required. Or, it relates to the field of electronic equipment and packaging.

食品や非食品及び医薬品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これら気体(ガス)を遮断するガスバリア性を備えることが求められている。従来は、高分子の中では比較的にガスバリア性に優れる塩化ビニリデン樹脂のフィルムまたはそれらをコーティングしたフィルム等が良く用いられてきた。しかし、それらは温度・湿度などによるガスバリア性の影響が大きい、高度なガスバリア性の要求には対応できないなどの欠点を有し問題があった。そこで高度なガスバリア性を要求されるものについては、アルミ等の金属からなる金属箔等をガスバリア層として用いた包装材料を用いざるを得なかった。   Packaging materials used for packaging foods, non-foods, pharmaceuticals, etc. are oxygen, water vapor, and other gases that alter the contents that permeate the packaging material in order to prevent the contents from being altered and to maintain their functions and properties. It is necessary to prevent the influence of the above, and it is required to have a gas barrier property that blocks these gases. Conventionally, a vinylidene chloride resin film having a relatively excellent gas barrier property among polymers or a film coated with them has been often used. However, they have problems such as a large influence of gas barrier properties due to temperature, humidity, etc., and inability to meet demands for high gas barrier properties. Therefore, for materials that require high gas barrier properties, a packaging material using a metal foil made of a metal such as aluminum as a gas barrier layer must be used.

ところが、アルミ等の金属からなる金属箔等を用いた包装材料は、温度・湿度の影響がなく高度なガスバリア性を持つが、包装材料を透視して内容物を確認することができない、使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならない、検査の際金属探知器が使用できないなど多くの欠点を有し問題があった。   However, packaging materials using metal foils made of metal such as aluminum have high gas barrier properties without the influence of temperature and humidity, but the contents cannot be confirmed through the packaging materials. There are many disadvantages such as having to treat it as an incombustible material at the time of disposal, and being unable to use a metal detector at the time of inspection.

そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、例えば、特許文献1、2に記載されているような酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機酸化物を高分子フィルム上に、真空蒸着法やスパッタリング法等の形成手段により蒸着膜を形成したフィルムが開発されている。これらの蒸着フィルムは透明性及び酸素、水蒸気等のガス遮断性を有していることが知られ、金属箔等では得ることのできない透明性、ガスバリア性の両者を有する包装材料として好適とされている。
米国特許第3442686号明細書 特公昭63−28017号公報
Therefore, as a packaging material that has overcome these drawbacks, for example, an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or the like, as described in Patent Documents 1 and 2, is deposited on a polymer film by vacuum deposition or A film in which a deposited film is formed by a forming means such as a sputtering method has been developed. These vapor-deposited films are known to have transparency and gas barrier properties such as oxygen and water vapor, and are suitable as packaging materials having both transparency and gas barrier properties that cannot be obtained with metal foil or the like. Yes.
U.S. Pat. No. 3,442,686 Japanese Patent Publication No.63-28017

しかしながら、上述した包装用材料に適するフィルムであっても、包装容器または包装材として、蒸着フィルム単体で用いられることはほとんどなく、蒸着後の後加工として蒸着フィルム表面に文字・絵柄等を印刷加工またはフィルム等との貼り合わせ、容器等の包装体への形状加工などさまざまな工程を経て包装体を完成させている。   However, even if it is a film suitable for the packaging material described above, it is rarely used as a vapor deposition film alone as a packaging container or packaging material, and characters, designs, etc. are printed on the surface of the vapor deposition film as post-processing after vapor deposition. Or the packaging body is completed through various processes, such as bonding with a film etc. and shape processing to the packaging bodies, such as a container.

そこで、上述した蒸着フィルム等を用いてシーラントフィルムと貼り合わせ製袋後、酸素透過率や水蒸気透過率等のガスバリア性を測定したところ、高分子ガスバリア性フィルム並のガスバリア性は有するもの、金属箔並のガスバリア性を達成することはできなかった。   Therefore, after the bag was bonded to the sealant film using the above-described vapor-deposited film, etc., the gas barrier properties such as oxygen permeability and water vapor permeability were measured. An average gas barrier property could not be achieved.

すなわち、高度なガスバリア性を要求される包装材料として用いられる条件として、内容物を直接透視することが可能なだけの透明性、内容物に対して影響を与える気体等を遮断する金属箔並みの高いガスバリア性等を要求されている。   In other words, as a condition to be used as a packaging material that requires a high level of gas barrier properties, it is transparent enough to allow the contents to be directly seen through, and is equivalent to a metal foil that blocks gases that affect the contents. A high gas barrier property is required.

本発明は、上記の技術的背景を考慮してなされたものであって、金属箔並みの高度なガ
スバリア性をもつ実用性の高い内容物保存適性を有する透明積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above technical background, and provides a transparent laminate having a high level of gas barrier properties comparable to that of a metal foil and a highly practical content storage suitability, and a method for producing the same. For the purpose.

上記の目的を達成するための解決手段として、請求項1記載の発明は、透明プラスチック基材に、少なくともガスバリア性被膜層を形成してなる内容物保存適性を有する透明積層体であって、
前記ガスバリア性被膜層として、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物及び/又はその重合物の少なくとも1種類以上を成分に持つコーティング剤を塗布後、加熱乾燥して、水処理を施されてなることを特徴とする内容物保存適性を有する透明積層体である。
As a means for achieving the above object, the invention according to claim 1 is a transparent laminate having a content storage suitability formed by forming at least a gas barrier coating layer on a transparent plastic substrate,
As the gas barrier coating layer, a coating agent having at least one of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide and / or a hydrolyzate thereof and / or a polymer thereof as a component is applied, dried by heating, and treated with water. It is a transparent laminate having a content storage suitability characterized by being subjected to the above.

請求項2記載の発明は、前記水処理が、前記ガスバリア性被膜層に水を噴霧することを特徴とする請求項1記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   The invention according to claim 2 is the transparent laminate having the content storage suitability according to claim 1, wherein the water treatment sprays water on the gas barrier coating layer.

請求項3記載の発明は、前記透明プラスチック基材の少なくとも一方の面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、その上に無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層、前記ガスバリア性被膜層を順次積層し、そのガスバリア性被膜層に水処理を施してなることを特徴とする請求項1又は2記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   According to a third aspect of the present invention, at least one surface of the transparent plastic substrate is subjected to a pretreatment by reactive ion etching (RIE) using plasma, and a transparent vapor-deposited thin film layer made of an inorganic oxide is formed thereon, 3. The transparent laminate having contents storage suitability according to claim 1, wherein the gas barrier coating layer is sequentially laminated and the gas barrier coating layer is subjected to water treatment.

請求項4記載の発明は、前記水酸基含有高分子化合物が、ポリビニルアルコールまたはポリ(ビニルアルコール−co−エチレン)、セルロース、デンプンの少なくとも1種類以上を成分に持つことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   The invention according to claim 4 is characterized in that the hydroxyl group-containing polymer compound has at least one of polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-co-ethylene), cellulose, and starch as a component. 3. A transparent laminate having the content storage suitability described in any one of 3 above.

請求項5記載の発明は、前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   The invention according to claim 5 is characterized in that the metal alkoxide is tetraethoxysilane, triisopropoxyaluminum, or a mixture thereof, and the content storage suitability according to any one of claims 1 to 4 It is a transparent laminated body which has.

請求項6記載の発明は、前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   The invention according to claim 6 is characterized in that the metal alkoxide is tetraethoxysilane, triisopropoxyaluminum, or a mixture thereof, and the content storage suitability according to any one of claims 1 to 4 It is a transparent laminated body which has.

請求項7記載の発明は、前記透明蒸着薄膜層を積層する際に、装置内に窒素ガスを導入することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体である。   The invention according to claim 7 is characterized in that the content storage suitability according to any one of claims 1 to 6, wherein nitrogen gas is introduced into the apparatus when the transparent vapor-deposited thin film layer is laminated. It is a transparent laminate having.

請求項8記載の発明は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法であって、
透明プラスチック基材に、少なくともガスバリア性被膜層として、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物及び/又はその重合物の少なくとも1種類以上を成分に持つコーティング剤を塗布後、加熱乾燥して、このガスバリア性被膜層に水を噴霧する水処理を施すことを特徴とする内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法である。
Invention of Claim 8 is a manufacturing method of the transparent laminated body which has the content preservation | save property of any one of Claim 1 thru | or 7, Comprising:
After applying a coating agent containing at least one of hydroxyl group-containing polymer compound, metal alkoxide and / or hydrolyzate thereof and / or polymer thereof as a component to at least a gas barrier coating layer on a transparent plastic substrate, and then heating It is a method for producing a transparent laminate having contents storage suitability, characterized in that the gas barrier coating layer is dried and subjected to water treatment in which water is sprayed onto the gas barrier coating layer.

請求項9記載の発明は、前記透明プラスチック基材の少なくとも一方の面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、その上に蒸着装置内に窒素ガスを導入しながら無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層を積層し、さらにその透明蒸着薄膜層に前記ガスバリア性被膜層を順次積層し、そのガスバリア性被膜層に水
処理を施してなることを特徴とする請求項8記載の内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法である。
According to the ninth aspect of the present invention, at least one surface of the transparent plastic substrate is subjected to pretreatment by reactive ion etching (RIE) using plasma, and nitrogen gas is introduced into the vapor deposition apparatus thereon. 9. A transparent vapor-deposited thin film layer made of an inorganic oxide is laminated, the gas barrier coating layer is sequentially laminated on the transparent vapor-deposited thin film layer, and the gas barrier coating layer is subjected to water treatment. It is a manufacturing method of the transparent laminated body which has the content storage suitability of description.

本発明によれば、内容物保存適性を有する透明積層体及びその製造方法を提供できる。本発明の内容物保存適性を有する透明積層体は、透明性に優れ積層体包装材料を通して内容物の確認が可能で、且つ金属箔並の高度なガスバリア性を持つ汎用性のある包装材料が得られ、包装分野および電子機器分野などの包装材料として巾広く使用することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transparent laminated body which has the content preservation aptitude, and its manufacturing method can be provided. The transparent laminate having the content storage suitability of the present invention provides a versatile packaging material that is excellent in transparency and allows the contents to be confirmed through the laminate packaging material and has a high gas barrier property similar to that of a metal foil. Therefore, it can be widely used as a packaging material in the packaging field and the electronic equipment field.

本発明の実施形態の一例について図面を参照して更に詳細に説明する。図1は本発明の内容物保存適性を有する透明積層体の一例を示す断面図である。   An example of an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a transparent laminate having contents storage suitability of the present invention.

まず、図1の本発明の透明積層体を説明する。図1における基材(1)は透明プラスチック材料からなるフィルムであり、その少なくとも片面にプラズマを利用したRIEによる前処理(2)を施す。そして、その処理面もしくは両面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)、ガスバリア性被膜層(4)が順次積層されている。   First, the transparent laminated body of this invention of FIG. 1 is demonstrated. The substrate (1) in FIG. 1 is a film made of a transparent plastic material, and at least one surface thereof is subjected to pretreatment (2) by RIE using plasma. And the vapor deposition thin film layer (3) and gas barrier film layer (4) which consist of inorganic oxides are laminated | stacked in order on the processing surface or both surfaces.

上述した基材1は透明プラスチック材料であり、蒸着薄膜層の透明性を生かすために透明なフィルムが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリ乳酸フィルムなどの生分解性プラスチックフィルム等が用いられ、延伸、未延伸のどちらでも良く、また機械的強度や寸法安定性を有するものが良い。これらをフィルム状に加工して用いられる。特に耐熱性等の面から二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。またこの基材1の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤などが使用されていても良く、薄膜との密着性を良くするために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理を施しておいても良く、さらに薬品処理、溶剤処理などを施しても構わない。   The substrate 1 described above is a transparent plastic material, and a transparent film is preferable in order to make use of the transparency of the deposited thin film layer. For example, polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefin films such as polyethylene and polypropylene, polystyrene films, polyamide films, polyvinyl chloride films, polycarbonate films, polyacrylonitrile films, polyimide films, polylactic acid films, etc. The biodegradable plastic film or the like is used, and may be either stretched or unstretched, and preferably has mechanical strength and dimensional stability. These are processed into a film and used. In particular, polyethylene terephthalate arbitrarily stretched biaxially from the viewpoint of heat resistance or the like is preferably used. In addition, various known additives and stabilizers such as antistatic agents, ultraviolet inhibitors, plasticizers, lubricants, and the like may be used on the surface of the substrate 1 to improve the adhesion to the thin film. In addition, corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment may be performed as pretreatment, and chemical treatment, solvent treatment, etc. may be performed.

基材(1)の厚さは1μm以上とし、包装材料としての適性、他の層を積層する場合も在ること、無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)、ガスバリア性被膜層(4)を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には3〜200μmの範囲で、用途によって6〜30μmとすることが好ましい。   The base material (1) has a thickness of 1 μm or more, suitability as a packaging material, may be laminated with other layers, a vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide, a gas barrier coating layer (4) In consideration of the workability when forming the film, it is practically in the range of 3 to 200 μm, and preferably 6 to 30 μm depending on the application.

また、量産性を考慮すれば、連続的に各層を形成できるように長尺フィルムとすることが望ましい。   In consideration of mass productivity, it is desirable to use a long film so that each layer can be formed continuously.

一般的に包装材料としては、基材(1)をポリエステルフィルムとすることが多い。本発明に使用可能なポリエステルフィルムとしては、温度−20℃〜+40℃における貯蔵弾性率が9×108〜1×1010Paの範囲であり、かつ、β転移tanδピーク温度が+10℃以下で認められる動的粘弾性を有するポリエステルフィルムであれば特に制限されるものではなし。貯蔵弾性率が9×108Pa未満であると、ポリエステルフィルムの柔軟性が不十分であり、ポリアミド系フィルムと同等の耐衝撃性、耐ピンホール性が得られない。一方、貯蔵弾性率が1×1010Paを超えると柔軟性は十分であるが、延伸フィルムとしてのハンドリング性が劣る。さらに、ポリエステル系フィルム1のβ転移に起因するピーク温度が+10℃以下で観察されない場合、低温領域での外部負荷に対する分子
鎖の応答ができないため、低温領域での変形が困難となり、低温領域での屈曲ピンホール耐性が不十分となる。また、蒸着薄膜層の透明性を生かすために可能であれば透明なフィルム基材であることが好ましい。
In general, as a packaging material, the substrate (1) is often a polyester film. As a polyester film usable in the present invention, the storage elastic modulus at a temperature of −20 ° C. to + 40 ° C. is in the range of 9 × 10 8 to 1 × 10 10 Pa, and the β transition tan δ peak temperature is + 10 ° C. or less. There is no particular limitation as long as it is a polyester film having a recognized dynamic viscoelasticity. When the storage elastic modulus is less than 9 × 10 8 Pa, the flexibility of the polyester film is insufficient, and impact resistance and pinhole resistance equivalent to those of the polyamide film cannot be obtained. On the other hand, when the storage elastic modulus exceeds 1 × 10 10 Pa, the flexibility is sufficient, but the handling property as a stretched film is inferior. Furthermore, when the peak temperature due to the β transition of the polyester film 1 is not observed at + 10 ° C. or lower, the molecular chain cannot respond to an external load in the low temperature region, so that deformation in the low temperature region becomes difficult, and in the low temperature region Insufficient bending pinhole resistance. Moreover, it is preferable that it is a transparent film base material if possible in order to make use of transparency of a vapor deposition thin film layer.

上記の条件のようなポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエステルを構成するジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ナフタレンカルボン酸、イソフタル酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、フタル酸などの芳香族ジカルボン酸、シクロヘキシンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、シュウ酸、琥珀酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸などの脂肪族ジカルボン酸、p−オキシ安息香酸などのオキシカルボン酸などが挙げられる。アルコール成分としては、エチレングリコール、プロパンジオール、1,4ブタンジオール、1,6ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールなどの脂肪族グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4シクロヘキサンジメタノール等のポリオキシアルキレングリコール、ビスフェノールA、ビスフェノールSなどの芳香族グリコールおよびそれらの誘導体などが挙げられる。これらポリエステルの中で、2軸延伸特性などの製膜性、湿度特性、耐熱性、耐薬品性、低コスト性などの観点から、ポリエチレンテレフタレートを主体としたものが好ましく、ポリエチレンテレフタレートの優れた諸物性を保てる範囲内で、他のアルコール成分を重合段階で主鎖に取り込むように制御し共重合させることにより、分子鎖内に回転障害の小さいセグメント(ソフトセグメント)が形成され、外部からの衝撃や折り曲げによる力を分子鎖内のソフトセグメントにより吸収し、耐衝撃性、屈曲性に優れたものとなる。本発明のポリエステルのカルボン酸成分およびアルコール成分の各々の50モル%以上がテレフタル酸、エチレングリコール、およびそれらの誘導体である共重合ポリエステルが好ましく用いられる。   Examples of the polyester film under the above conditions include, for example, terephthalic acid, naphthalenecarboxylic acid, isophthalic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, 5-sodium sulfone as dicarboxylic acid components constituting the polyester. Aromatic dicarboxylic acids such as isophthalic acid and phthalic acid, alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexyne dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, maleic acid and fumaric acid And oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid. As alcohol components, aliphatic glycols such as ethylene glycol, propanediol, 1,4 butanediol, 1,6 hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, 1,4 cyclohexanedimethanol And polyoxyalkylene glycols, aromatic glycols such as bisphenol A and bisphenol S, and derivatives thereof. Among these polyesters, those mainly composed of polyethylene terephthalate are preferred from the viewpoints of film forming properties such as biaxial stretching properties, humidity properties, heat resistance, chemical resistance, and low cost, and various excellent properties of polyethylene terephthalate. Within the range where physical properties can be maintained, other alcohol components are controlled to be incorporated into the main chain in the polymerization stage, and by copolymerization, a segment with a little rotational hindrance (soft segment) is formed in the molecular chain, and impact from the outside The bending force is absorbed by the soft segment in the molecular chain, resulting in excellent impact resistance and flexibility. A copolymerized polyester in which 50 mol% or more of each of the carboxylic acid component and the alcohol component of the polyester of the present invention is terephthalic acid, ethylene glycol, and derivatives thereof is preferably used.

上記ポリエステルフィルムの延伸倍率については、逐次2軸延伸、同時2軸延伸プロセスがあるが、延伸倍率(タテ延伸倍率×ヨコ延伸倍率)は5〜20倍の範囲で行うとよい。また、上記条件にて製膜した際の120℃30分条件での熱水加熱収縮率が、MD/TD方向ともに4%以下とするのが好ましい。4%超えると収縮が大きい為に、後加工後のガスバリア性の低下が大きくなる。   Regarding the stretching ratio of the polyester film, there are a sequential biaxial stretching process and a simultaneous biaxial stretching process, and the stretching ratio (vertical stretching ratio × horizontal stretching ratio) is preferably 5 to 20 times. Moreover, it is preferable that the hot-water heat shrinkage rate on 120 degreeC 30 minute conditions at the time of forming into a film on the said conditions shall be 4% or less in MD / TD direction. If it exceeds 4%, the shrinkage is large, and the deterioration of the gas barrier property after post-processing becomes large.

前記基材(1)と無機酸化物よりなる透明蒸着薄膜層(3)との密着を向上するために、表面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理(2)を施す。このRIEによる処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用して基材(1)の表面に官能基を持たせるなどの化学的効果と、表面をイオンエッチングして不純物等を飛散させたり、平滑化するといった物理的効果の2つの効果を同時に得ることが可能である。このような表面処理を行うことにより、次に行う蒸着工程において無機酸化物の緻密な薄膜を形成させることができる。その結果、基材(1)と無機酸化物よりなる蒸着薄膜層(3)との密着性を強化させることができ、ガスバリア性や防湿性の向上や蒸着薄膜層のクラック発生防止にもつながるものである。   In order to improve the adhesion between the substrate (1) and the transparent vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide, the surface is subjected to a pretreatment (2) by reactive ion etching (RIE) using plasma. By performing this RIE treatment, the generated radicals and ions are used to cause chemical effects such as imparting functional groups to the surface of the substrate (1), and the surface is ion etched to scatter impurities and the like. It is possible to simultaneously obtain two physical effects such as smoothing. By performing such surface treatment, a dense thin film of inorganic oxide can be formed in the next vapor deposition step. As a result, the adhesion between the base material (1) and the vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide can be strengthened, leading to improvements in gas barrier properties and moisture resistance and prevention of cracks in the vapor-deposited thin film layer. It is.

このRIEによる処理を巻き取り式のインライン装置で行う方法として制限はないが、プラズマ処理器を用いて処理を行う方法が一般的である。   There is no limitation on the method of performing the RIE processing with a winding-type in-line apparatus, but a method of performing processing using a plasma processor is common.

このRIEによる前処理を行うためのガス種としては、アルゴン、酸素、窒素、水素、亜酸化窒素、ヘリウムを使用することが出来る。これらのガスは単独で用いても、2種類以上のガスを混合して使用してもよい。また、複数基の処理器を用いて、連続して処理を行ってもよい。この時、複数基の処理器は同じものを使用する必要はない。   Argon, oxygen, nitrogen, hydrogen, nitrous oxide, and helium can be used as gas species for performing the pretreatment by RIE. These gases may be used alone, or two or more kinds of gases may be mixed and used. Moreover, you may process continuously using several processor. At this time, it is not necessary to use the same plurality of processors.

使用するガス種は、与えられるエネルギーや効果・扱いやすさなどによって決まってく
る。
The type of gas to be used is determined by the energy given, effects, and ease of handling.

RIEによる前処理の処理条件は、加工速度、エネルギーレベルなどで示すことが可能であり、基材(1)の組成、用途、放電装置特性などに応じ、適宜設定する。ただし、プラズマの自己バイアス値は200V以上2000V以下にすることが好ましく、200Vより若干低い値でもある程度の密着性を発現させることが可能であるが、処理をしていないものに比べて優位性が低い。また、2000Vを越える高い値であると、強い処理がかかりすぎて基材(1)表面が劣化し、密着性が低下する原因になる。プラズマに用いる気体及びその混合比などに関してはポンプ性能や取り付け位置などによって、気体導入分と実効分とでは流量が異なるので、フィルム組成、用途、装置特性に応じて適宜設定すればよい。   The processing conditions for the pretreatment by RIE can be indicated by processing speed, energy level, and the like, and are set as appropriate according to the composition of the substrate (1), application, discharge device characteristics, and the like. However, it is preferable that the self-bias value of the plasma is 200 V or more and 2000 V or less, and even if the value is slightly lower than 200 V, it is possible to develop a certain degree of adhesion, but it has an advantage over the untreated one. Low. Moreover, when it is a high value exceeding 2000V, a strong process will be applied too much, the surface of a base material (1) will deteriorate, and it will become a cause by which adhesiveness falls. Regarding the gas used for plasma and its mixing ratio, etc., the flow rate differs depending on the pump performance, the mounting position, and the like, so that the flow rate differs depending on the film composition, application, and apparatus characteristics.

無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物などの無機酸化物の蒸着膜からなり、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有するものであればよい。その中でも、特に酸化アルミニウム及び酸化珪素、酸化マグネシウムが酸素透過率及び水蒸気透過率に優れるので好ましい。ただし本発明の無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)は、上述した無機酸化物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることができる。   The vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide is made of a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, and has transparency and oxygen, water vapor, etc. Any gas barrier property may be used. Among these, aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide are particularly preferable because they are excellent in oxygen transmission rate and water vapor transmission rate. However, the vapor-deposited thin film layer (3) made of the inorganic oxide of the present invention is not limited to the inorganic oxide described above, and any material that meets the above conditions can be used.

無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には5〜300nmの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が5nm未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が300nmを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがある。好ましくは、5〜100nmの範囲内である。   The optimum thickness of the vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide varies depending on the type and configuration of the inorganic compound used, but is generally preferably in the range of 5 to 300 nm, and the value is appropriately selected. The However, if the film thickness is less than 5 nm, a uniform film may not be obtained or the film thickness may not be sufficient, and the function as a gas barrier material may not be sufficiently achieved. On the other hand, when the film thickness exceeds 300 nm, flexibility cannot be maintained in the thin film, and the thin film may be cracked due to external factors such as bending and pulling after the film formation. Preferably, it exists in the range of 5-100 nm.

無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)を、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理(2)層上に形成する方法としては種々在り、通常の真空蒸着法により形成することができるが、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることもできる。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法による真空蒸着装置の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式等が好ましく、薄膜と基材の密着成及び薄膜の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いることも可能である。また、蒸着膜の透明性を上げるために蒸着の際、酸素ガスなど吹き込んだりする反応蒸着を行っても一向に構わない。   There are various methods for forming the deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide on the pretreatment (2) layer by reactive ion etching (RIE) using plasma, and it is formed by a normal vacuum deposition method. However, other thin film forming methods such as sputtering, ion plating, and plasma vapor deposition (CVD) can also be used. However, considering productivity, the vacuum deposition method is the best at present. As a heating means of the vacuum deposition apparatus by the vacuum deposition method, an electron beam heating method, a resistance heating method, an induction heating method or the like is preferable, and in order to improve the adhesion between the thin film and the substrate and the denseness of the thin film, An ion beam assist method can also be used. In addition, in order to increase the transparency of the deposited film, it is possible to carry out reactive deposition by blowing oxygen gas or the like during deposition.

本発明では、この蒸着の際に装置内に窒素ガスを導入することを、特徴の一つとしている。窒素ガスの導入により蒸着層の不完全部の補修、及び、アルミニウムと酸素ガスとの反応の効率化、などといった物理的・化学的両面からの効果が期待できる。   One feature of the present invention is that nitrogen gas is introduced into the apparatus during the vapor deposition. By introducing nitrogen gas, physical and chemical effects such as repair of an incomplete portion of the vapor deposition layer and efficient reaction between aluminum and oxygen gas can be expected.

装置への導入としては様々な方法が考えられるが、同じく導入される酸素ガスとの混合ガスとして導入、導入は純粋な窒素ガスだが配管は酸素ガスと同じパイプを使う導入、全く新たに窒素ガス導入用としてパイプを設けた導入などが考えられるが、特に限定されない。   Various methods can be considered for introduction to the equipment, but it is also introduced as a mixed gas with the introduced oxygen gas, the introduction is pure nitrogen gas, but the piping uses the same pipe as oxygen gas, completely new nitrogen gas Although introduction with a pipe for introduction is conceivable, it is not particularly limited.

導入量に関しては、真空度(装置の排気能力)に関係してくる。ガスバリア性を発現する装置内の真空度を損なわないような窒素ガスを導入し、蒸着の反応ガスとしてO2/N2を選択した。   The amount introduced is related to the degree of vacuum (exhaust capacity of the apparatus). Nitrogen gas was introduced so as not to impair the degree of vacuum in the apparatus exhibiting gas barrier properties, and O2 / N2 was selected as a reaction gas for vapor deposition.

ガスバリア性被膜層(4)は、金属箔並の高度なガスバリア性を付与するために、また蒸着薄膜層を物理的に保護するために、無機酸化物からなる蒸着薄膜層(3)上に設けられるものである。   The gas barrier coating layer (4) is provided on the vapor-deposited thin film layer (3) made of an inorganic oxide in order to impart a high level of gas barrier properties similar to metal foils and to physically protect the vapor-deposited thin film layer. It is what

それを達成するために前記ガスバリア性被膜層(4)は、水酸基含有高分子のみ、またはそれと、1種以上の金属アルコキシド及び加水分解物を主剤とするガスバリア性コーティング剤を用いて形成される。ガスバリア性コーティング剤に含まれる各成分について更に詳細に説明する。   In order to achieve this, the gas barrier coating layer (4) is formed using a gas barrier coating agent mainly composed of a hydroxyl group-containing polymer or one or more metal alkoxides and hydrolysates. Each component contained in the gas barrier coating agent will be described in more detail.

本発明でガスバリア性コーティング剤に用いられる水酸基含有高分子とは、ポリビニルアルコール(以下、PVAと略す)またはポリ(ビニルアルコール−co−エチレン)、セルロース、デンプンを指す。とりわけPVAが本用途での取り扱い性、ガスバリア性向上に優れるが、限定するものではない。ここでいうPVAは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。PVAとして例えば、酢酸基が数十%残存している、いわゆる部分けん化PVAから酢酸基が数%しか残存していない完全PVA等を含み、特に限定されない。   The hydroxyl group-containing polymer used for the gas barrier coating agent in the present invention refers to polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) or poly (vinyl alcohol-co-ethylene), cellulose, and starch. In particular, PVA is excellent in handling property and gas barrier property improvement in this application, but is not limited thereto. PVA here is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate. Examples of the PVA include, but are not limited to, complete PVA in which only a few percent of acetic acid groups remain from a so-called partially saponified PVA in which several tens of percent of acetate groups remain.

更に、金属アルコキシドには種々あるが、取り扱い性、コストなどを考えれば珪素のアルコキシドがよろしい。また、被膜の柔軟性向上、密着性改善などの要求があれば、テトラアルコキシドに限ることなく、いわゆるシランカップリング剤を適宜選定添加することがよろしい。   Further, although there are various metal alkoxides, silicon alkoxides are preferable in view of handling properties and cost. In addition, if there is a demand for improving the flexibility and adhesion of the coating, it is preferable to appropriately add a so-called silane coupling agent without being limited to tetraalkoxide.

コーティング剤の塗布方法には、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の手段を用いることができる。被膜の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって異なる。乾燥後の厚さが、0.01μm以下の場合は、均一な塗膜が得られず十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが50μmを超える場合は膜にクラックが生じ易くなるため問題がある。好ましくは0.01〜50μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは0.1〜10μmの範囲にあることである。特に電子線硬化の場合は、ガスバリア性被膜層(4)の膜厚と電子線エネルギー条件、加工速度および除電とのバランスが重要となる。過度のエネルギー供給は帯電を引き起こし、その結果として起こる放電によりバリア性が損なわれる場合がある為注意を要する。   For the coating method of the coating agent, conventionally known means such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, a spray method, a gravure printing method and the like that are usually used can be used. The thickness of the coating varies depending on the type of coating agent, processing machine, and processing conditions. When the thickness after drying is 0.01 μm or less, a uniform coating film may not be obtained and sufficient gas barrier properties may not be obtained. Further, when the thickness exceeds 50 μm, there is a problem because cracks are likely to be generated in the film. It is preferably in the range of 0.01 to 50 μm, more preferably in the range of 0.1 to 10 μm. In particular, in the case of electron beam curing, the balance between the film thickness of the gas barrier coating layer (4), the electron beam energy conditions, the processing speed, and the charge removal is important. Excessive energy supply causes charging, and care must be taken because the resulting discharge may impair the barrier properties.

本発明で最大の特徴となる層が、前記ガスバリア性被膜層(4)を塗布・乾燥後に、水蒸気を吹き付ける層である(水処理面(5))。装置上様々な可能方法が考えられ、方法は特に限定されないが、層を形成する程の厚さは必要としないので、スプレー方式が適当と考えられる。   The layer which is the most characteristic in the present invention is a layer which sprays water vapor after applying and drying the gas barrier coating layer (4) (water treatment surface (5)). Various possible methods are conceivable on the apparatus, and the method is not particularly limited. However, since a thickness sufficient to form a layer is not required, a spray method is considered appropriate.

このことを踏まえ、スプレーによる塗布量は0.01〜0.1g/m2が適当と考えられる。0.01g以下であると、失渇影響があり効果が期待できない。0.1g以上であると、ガスバリア性被膜層(4)に影響を及ぼす可能性が高い。   Based on this, it is considered that 0.01 to 0.1 g / m 2 is appropriate for the application amount by spraying. If it is 0.01 g or less, there is a depletion effect and an effect cannot be expected. When it is 0.1 g or more, there is a high possibility of affecting the gas barrier coating layer (4).

吹き付ける水蒸気の温度は、特に限定されない。蒸気とはいえ100℃前後である必要性はなく、水分子が存在すれば問題ない。   The temperature of the water vapor sprayed is not particularly limited. Although it is a vapor | steam, it does not need to be around 100 degreeC, and if a water molecule exists, there is no problem.

起き得る現象として、水分子がガスバリア性被膜層(4)の表面を均一化・緻密化することが考えられる。   As a phenomenon that may occur, it is conceivable that water molecules make the surface of the gas barrier coating layer (4) uniform and dense.

期待される効果としては、水蒸気バリア性UP及び液体内容物に対する内容物適性UPである。   Expected effects are water vapor barrier property UP and content suitability UP for liquid content.

また、ヒートシール層(6)は袋状包装体などを形成する際に接着層として設けられるものである。例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体及びそれらの金属架橋物等の樹脂が用いられる。厚さは目的に応じて決められるが、一般的には15〜200μmの範囲である。形成方法としては、上記樹脂からなるフィルム状のものを2液硬化型ウレタン樹脂などの接着剤を用いて貼り合わせるドライラミネート法等を用いることが一般的であるがいずれも公知の方法により積層することができる。   The heat seal layer (6) is provided as an adhesive layer when forming a bag-like package or the like. For example, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer and their metals A resin such as a cross-linked product is used. The thickness is determined according to the purpose, but is generally in the range of 15 to 200 μm. As a forming method, it is common to use a dry laminating method or the like in which a film-like material made of the above resin is bonded using an adhesive such as a two-component curable urethane resin. be able to.

本発明の高い水蒸気バリア性を有する透明積層体を具体的な実施例を挙げて更に説明する。   The transparent laminate having a high water vapor barrier property of the present invention will be further described with reference to specific examples.

<実施例1>
基材(1)として、周波数1Hz、昇温速度2℃/分、測定温度範囲−150〜+150℃の測定条件における動的粘弾性測定を行った際の−20℃、+40℃における貯蔵弾性率が、それぞれ3.5×109Pa、3.2×109Paであり、β転移tanδのピーク温度0.6℃に認められる、タテ延伸3.5倍、ヨコ延伸3.5倍、熱処理温度220℃にて製膜された厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。このPETフィルムの120℃30分条件における熱水収縮率は、MD3.0%、TD2.1%であった。このPETフィルムの片面に、プラズマ処理器を用いてRIEによる前処理を施した。この時、電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用い、処理ガスにはアルゴン/酸素混合ガスを用いた。このときのプラズマの自己バイアス値は680Vであった。続いて、インライン上にて、RIEによる前処理層の上に、電子線加熱方式による真空蒸着装置によって、厚み15nmの酸化アルミニウムからなる透明蒸着薄膜層を積層した。蒸着の際には、酸素ガスと同時に窒素ガスを導入した。
<Example 1>
Storage modulus at −20 ° C. and + 40 ° C. when dynamic viscoelasticity measurement was performed under the measurement conditions of a frequency of 1 Hz, a heating rate of 2 ° C./min, and a measurement temperature range of −150 to + 150 ° C. Are 3.5 × 10 9 Pa and 3.2 × 10 9 Pa, respectively, and are observed at a peak temperature of 0.6 ° C. of β transition tan δ, warp stretching 3.5 times, horizontal stretching 3.5 times, heat treatment A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm formed at a temperature of 220 ° C. was used. The hot water shrinkage of the PET film at 120 ° C. for 30 minutes was MD 3.0% and TD 2.1%. One side of this PET film was pretreated by RIE using a plasma processor. At this time, a high frequency power source having a frequency of 13.56 MHz was used for the electrodes, and an argon / oxygen mixed gas was used for the processing gas. The plasma self-bias value at this time was 680V. Subsequently, a transparent vapor deposition thin film layer made of aluminum oxide having a thickness of 15 nm was laminated on the pretreatment layer by RIE on an in-line by a vacuum vapor deposition apparatus by an electron beam heating method. During vapor deposition, nitrogen gas was introduced simultaneously with oxygen gas.

次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後120℃1分間乾燥させ厚さ0.5μmのガスバリア性被膜層(4)を形成した。この時の乾燥後、幅方向均一にして霧吹きを用い常温の水を塗布し、本発明の透明積層体Aを得た。   Next, a coating agent having the following composition was applied by a gravure coating method and then dried at 120 ° C. for 1 minute to form a gas barrier coating layer (4) having a thickness of 0.5 μm. After drying at this time, the transparent laminate A of the present invention was obtained by uniformizing in the width direction and applying water at room temperature using a spray.

[ガスバリア性コーティング剤の組成]
(a)液と(b)液を重量%で60/40に混合したもの
(a)液:テトラエトキシシラン10.4gに0.1N塩酸89.6gを加え、30分間攪拌し加水分解させた固形分3重量%(SiO2換算)の加水分解溶液
(b)液:水/イソプロピルアルコール溶液(水:イソピロピルアルコール=90:10、重量比)
[Composition of gas barrier coating agent]
(A) Liquid and (b) liquid mixed at 60/40 by weight% (a) Liquid: 89.6 g of 0.1N hydrochloric acid was added to 10.4 g of tetraethoxysilane, and the mixture was stirred for 30 minutes for hydrolysis. Hydrolysis solution having a solid content of 3% by weight (in terms of SiO2) (b) Solution: water / isopropyl alcohol solution (water: isopropyl alcohol = 90: 10, weight ratio)

<比較例1>
実施例1の透明積層体において、ガスバリア性被膜層(4)の乾燥後に水を塗布しなかったこと以外は同様にして、透明積層体Bを得た。
<Comparative Example 1>
A transparent laminate B was obtained in the same manner as in the transparent laminate of Example 1, except that water was not applied after drying the gas barrier coating layer (4).

<比較例2>
実施例1の透明積層体において、酸化アルミニウム蒸着の際に窒素ガス導入をしなかったこと以外は同様にして、透明積層体Cを得た。
<Comparative example 2>
A transparent laminate C was obtained in the same manner as in the transparent laminate of Example 1, except that nitrogen gas was not introduced during aluminum oxide vapor deposition.

<比較例3>
実施例1の透明積層体において、RIEによる前処理を行わなかったこと及びガスバリ
ア性被膜層(4)の乾燥後に水を塗布しなかったこと以外は、同様にして、透明積層体Dを得た。
<Comparative Example 3>
In the transparent laminate of Example 1, a transparent laminate D was obtained in the same manner except that the pretreatment by RIE was not performed and water was not applied after the gas barrier coating layer (4) was dried. .

<比較例4>
実施例1の透明積層体において、RIEによる前処理の際に処理ガスを用いなかったこと及びガスバリア性被膜層(4)の乾燥後に水を塗布しなかったこと以外は同様にして、透明積層体Eを得た。
<Comparative example 4>
In the transparent laminate of Example 1, the transparent laminate was similarly used except that no processing gas was used in the pretreatment by RIE and that no water was applied after drying the gas barrier coating layer (4). E was obtained.

<比較例5>
実施例1の透明積層体において、酸化アルミニウム蒸着薄膜層(3)の代わりに7μmのアルミニウム箔を用いたこと以外は同様にして、透明積層体Fを得た。
<Comparative Example 5>
A transparent laminate F was obtained in the same manner as in the transparent laminate of Example 1, except that a 7 μm aluminum foil was used instead of the aluminum oxide deposited thin film layer (3).

〈評価1〉
本発明のハイバリア透明積層体単体にて、実施例1〜2及び比較例1〜4の積層体A〜Fのそれぞれについて、その防湿性評価として水蒸気透過率(g/m2・day)を測定した。測定結果を表1に示す。
<Evaluation 1>
For each of the laminates A to F of Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 4 using the high barrier transparent laminate of the present invention, the water vapor transmission rate (g / m 2 · day) was measured as the moisture proof evaluation. did. The measurement results are shown in Table 1.

〈評価2〉
実施例及び比較例の内容物適性評価として、ヒートシール層として30μmのCPPをドライラミネートした積層体で10cm四方のパウチを作り、内容物として水道水約10gを充填した。このパウチを40℃‐20%RHの環境下に保存し、重量減少量を測定した。その状況により良否を判定した。{(減少量少)◎>○>△>×(減少量大)}。比較結果を同じく表1に示した。
<Evaluation 2>
As an evaluation of the suitability of the contents of the examples and comparative examples, a 10 cm square pouch was made from a laminate obtained by dry laminating 30 μm CPP as a heat seal layer, and about 10 g of tap water was filled as the contents. The pouch was stored in an environment of 40 ° C.-20% RH, and the weight loss was measured. The quality was judged according to the situation. {(Low decrease amount) ◎>○>△> × (High decrease amount)}. The comparison results are also shown in Table 1.

〈評価3〉
実施例及び比較例の加工性評価として、蒸着・コーティング・後加工(押し出しラミネート)を対象とし、その状況により良否を判定した。{(良好)◎>○>△>×(不良)}。比較結果を同じく表1に示した。
<Evaluation 3>
As the workability evaluation of Examples and Comparative Examples, vapor deposition, coating, and post-processing (extrusion lamination) were targeted, and the quality was determined according to the situation. {(Good) ◎>○>△> × (Poor)}. The comparison results are also shown in Table 1.

〈評価4〉
実施例及び比較例の廃棄性評価として、上記と同じく良否を判定した。{(良好)◎>○>△>×(不良)}。比較結果を同じく表1に示した。
<Evaluation 4>
As a waste evaluation of the examples and comparative examples, the quality was determined in the same manner as described above. {(Good) ◎>○>△> × (Poor)}. The comparison results are also shown in Table 1.

〈評価5〉
実施例及び比較例のコスト評価として、材料・設備・考えうるロスなどの観点から、上記と同じく良否を判定した。{(低)◎>○>△>×(高)}。比較結果を同じく表1に示した。
<Evaluation 5>
As the cost evaluation of the examples and comparative examples, the quality was determined in the same manner as described above from the viewpoint of materials, facilities, possible loss, and the like. {(Low) ◎>○>△> × (High)}. The comparison results are also shown in Table 1.

Figure 2007261018
Figure 2007261018

実施例1で得られた本発明の内容物保存適性を有する透明積層体は、高度な防湿性(0.1g/m2/day以下)を有し、透明性に優れ積層体包装材料を通して内容物の確認が可能で、且つ金属箔並の高度なガスバリア性を持つ汎用性のある包装材料が得られ、包装分野および電子機器分野などの包装材料として巾広く使用することができるものである。 The transparent laminate having the shelf life of the present invention obtained in Example 1 has a high moisture-proof property (0.1 g / m 2 / day or less), and has excellent transparency and content through the laminate packaging material. A versatile packaging material having a gas barrier property as high as that of a metal foil can be obtained, and can be widely used as a packaging material in the packaging field and the electronic equipment field.

本発明の内容物保存適性を有する透明積層体の一例を示す透明積層体の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the transparent laminated body which shows an example of the transparent laminated body which has the content preservation | save ability of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材
2 RIEからなる前処理面
3 無機酸化物よりなる蒸着薄膜層
4 ガスバリア性被膜層
5 水処理面
6 ヒートシール層
7 透明積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Pretreatment surface 3 made of RIE Deposition thin film layer 4 made of inorganic oxide 4 Gas barrier coating layer 5 Water treatment surface 6 Heat seal layer 7 Transparent laminate

Claims (9)

透明プラスチック基材に、少なくともガスバリア性被膜層を形成してなる内容物保存適性を有する透明積層体であって、
前記ガスバリア性被膜層として、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物及び/又はその重合物の少なくとも1種類以上を成分に持つコーティング剤を塗布後、加熱乾燥して、水処理を施されてなることを特徴とする内容物保存適性を有する透明積層体。
A transparent laminate having a content storage suitability formed by forming at least a gas barrier coating layer on a transparent plastic substrate,
As the gas barrier coating layer, a coating agent having at least one of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide and / or a hydrolyzate thereof and / or a polymer thereof as a component is applied, dried by heating, and treated with water. The transparent laminated body which has the preservability of the content characterized by being given.
前記水処理が、前記ガスバリア性被膜層に水を噴霧することを特徴とする請求項1記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   The transparent laminate having contents storage suitability according to claim 1, wherein the water treatment sprays water on the gas barrier coating layer. 前記透明プラスチック基材の少なくとも一方の面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、その上に無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層、前記ガスバリア性被膜層を順次積層し、そのガスバリア性被膜層に水処理を施してなることを特徴とする請求項1又は2記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   At least one surface of the transparent plastic substrate is pretreated by reactive ion etching (RIE) using plasma, and a transparent vapor-deposited thin film layer made of an inorganic oxide and the gas barrier coating layer are sequentially laminated thereon. And the transparent laminated body which has the water preservation | save property of Claim 1 or 2 formed by water-treating the gas-barrier film layer. 前記水酸基含有高分子化合物が、ポリビニルアルコールまたはポリ(ビニルアルコール−co−エチレン)、セルロース、デンプンの少なくとも1種類以上を成分に持つことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   The hydroxyl group-containing polymer compound has at least one of polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-co-ethylene), cellulose, and starch as a component. A transparent laminate having the ability to preserve contents. 前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   5. The transparent laminate having contents storage suitability according to claim 1, wherein the metal alkoxide is tetraethoxysilane, triisopropoxyaluminum, or a mixture thereof. 前記無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層が、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物であり、その厚みが5〜300nmであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   6. The transparent vapor-deposited thin film layer made of an inorganic oxide is aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, and has a thickness of 5 to 300 nm. The transparent laminated body which has the content preservation | save property as described in a term. 前記透明蒸着薄膜層を積層する際に、装置内に窒素ガスを導入することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体。   7. The transparent laminate having contents storage suitability according to any one of claims 1 to 6, wherein nitrogen gas is introduced into the apparatus when the transparent vapor-deposited thin film layer is laminated. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法であって、
透明プラスチック基材に、少なくともガスバリア性被膜層として、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物及び/又はその重合物の少なくとも1種類以上を成分に持つコーティング剤を塗布後、加熱乾燥して、このガスバリア性被膜層に水を噴霧する水処理を施すことを特徴とする内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法。
A method for producing a transparent laminate having contents storage suitability according to any one of claims 1 to 7,
After applying a coating agent containing at least one of hydroxyl group-containing polymer compound, metal alkoxide and / or hydrolyzate thereof and / or polymer thereof as a component to at least a gas barrier coating layer on a transparent plastic substrate, and then heating A method for producing a transparent laminate having contents storage suitability, wherein the gas barrier coating layer is dried and subjected to water treatment for spraying water on the gas barrier coating layer.
前記透明プラスチック基材の少なくとも一方の面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による前処理を施し、その上に蒸着装置内に窒素ガスを導入しながら無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層を積層し、さらにその透明蒸着薄膜層に前記ガスバリア性被膜層を順次積層し、そのガスバリア性被膜層に水処理を施してなることを特徴とする請求項8記載の内容物保存適性を有する透明積層体の製造方法。
A transparent vapor deposition thin film made of an inorganic oxide while pretreating at least one surface of the transparent plastic substrate by reactive ion etching (RIE) using plasma and introducing nitrogen gas into the vapor deposition apparatus. 9. The contents storage suitability according to claim 8, wherein the gas barrier coating layer is sequentially laminated on the transparent vapor-deposited thin film layer, and the gas barrier coating layer is subjected to water treatment. A method for producing a transparent laminate.
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