JP2005059537A - Gas-barrier film and its production method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、食品、医薬品、精密電子部品等の包装分野において好適に用いられるガスバリア性フィルムおよびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a gas barrier film suitably used in the field of packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic components and the like, and a method for producing the same.
近年、食品や非食品及び医薬品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を抑制しそれらの機能や性質を保持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これらを遮断するガスバリア性等を備えることが求められている。そのため従来から、温度・湿度等の影響が少ないアルミニウム等の金属箔をガスバリア層として用いた包装材料が一般的に用いられてきた。 In recent years, packaging materials used for packaging foods, non-foods, pharmaceuticals, etc. have altered oxygen, water vapor, and other contents that permeate the packaging material in order to suppress the alteration of the contents and retain their functions and properties. It is necessary to prevent the influence of the gas to be generated, and it is required to have a gas barrier property and the like for blocking these. Therefore, conventionally, a packaging material using a metal foil such as aluminum, which is less affected by temperature, humidity and the like, as a gas barrier layer has been generally used.
ところが、アルミニウム等の金属箔を用いた包装材料は、温度・湿度の影響が極めて少なく高度なガスバリア性を有しているが、透明性がなく被包装物の確認ができなかったり、使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならない等の欠点を有し問題があった。 However, packaging materials using metal foils such as aluminum have a high gas barrier property with very little influence of temperature and humidity. There was a problem that it had to be treated as an incombustible material at the time of disposal.
そこで、これらの欠点を克服した包装材料として、高分子フィルム上に、真空蒸着法やスパッタリング法等の薄膜形成手段によりアルミニウム等の金属や、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物等からなる無機蒸着層を形成した蒸着フィルムが開発されている。これらの蒸着フィルムは、酸素、水蒸気等に対するガス遮断性を有していることが知られ、包装材料として好適とされている。 Therefore, as a packaging material that overcomes these drawbacks, an inorganic material such as a metal such as aluminum or an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is formed on a polymer film by a thin film forming means such as a vacuum deposition method or a sputtering method. A vapor deposition film having a vapor deposition layer has been developed. These vapor-deposited films are known to have gas barrier properties against oxygen, water vapor and the like, and are suitable as packaging materials.
しかし、これらの無機蒸着フィルムは、無機質層由来の耐屈曲性の低さを欠点として有している。この問題を克服するため、PVA等のバリア性高分子等からなる薄膜層を保護性の付与と酸素バリア性補助の目的で無機蒸着層上にコーティングにより設けるようにした技術が構築されている。しかし、無機蒸着フィルムの欠点を補完出来るこの方法が常圧中で行われるのに対し、無機蒸着層の形成は真空中で行われるものであり、これらを組み合わせて行う製造方法においてはその製造工程が煩雑になる欠点を内包している。 However, these inorganic vapor-deposited films have a disadvantage of low bending resistance derived from the inorganic layer. In order to overcome this problem, a technique has been established in which a thin film layer made of a barrier polymer such as PVA is provided by coating on an inorganic vapor deposition layer for the purpose of providing protection and assisting oxygen barrier properties. However, while this method that can compensate for the disadvantages of the inorganic vapor-deposited film is performed under normal pressure, the formation of the inorganic vapor-deposited layer is performed under vacuum, and in the production method that combines these, the production process Has the disadvantage of becoming complicated.
無機蒸着層上への保護コーティングも真空中で行うことが出来れば、両者を組み合わせて行う製造方法はその工程が単純化され、安価に無機蒸着フィルムが得られるばかりでなく、蒸着加工中の無機蒸着層の保護も可能となる。このような保護コーティングを可能とする技術としては特許文献1に開示の技術がある。係る技術は、真空中で有機薄膜を成膜するのに有効な手段である。従って、このような有機薄膜の成膜技術で例えば1,3,5−トリアジン誘導体の薄膜を無機蒸着層上に形成すれば、耐屈曲性や耐引っ掻き性に優れ、酸素バリア性が付加された無機蒸着フィルムを得ることが出来る。
本発明は上記のような問題点に鑑みなされたものであり、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層を有する無機蒸着フィルムに対して所定の有無機物蒸着層をさらに積層して設けることにより、耐屈曲性と耐酸素透過性を向上させるだけでなく、前記無機物蒸着層の付加により向上せしめられた諸特性が水分によって低下しないようにした、耐湿性を有するガスバリア性フィルムとその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and has a predetermined presence / absence organic vapor deposition on an inorganic vapor deposition film having an inorganic vapor deposition layer made of a metal or an inorganic oxide on at least one surface of a plastic film substrate. In addition to improving the bending resistance and oxygen permeation resistance by providing further layers, the various properties improved by the addition of the inorganic vapor deposition layer are not reduced by moisture. It aims at providing the gas-barrier film which has, and its manufacturing method.
以上のような状況に鑑みなされ、請求項1に記載の発明は、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層と1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層とが順次設けられていると共に、当該1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層にはプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理が施されていることを特徴とするガスバリア性フィルムである。
In view of the above situation, the invention according to
また、請求項2記載の発明は、請求項1に記載のガスバリア性フィルムにおいて、無機物蒸着層を構成する金属が、アルミニウム、錫、チタン或いはそれらの混合物のいずれかであることを特徴とする。
The invention described in
さらにまた、請求項3記載の発明は、請求項1に記載のガスバリア性フィルムにおいて、無機物蒸着層を構成する無機酸化物が、酸化アルミニウム、酸化珪素或いはこれらの混合物のいずれかであることを特徴とする。
Furthermore, the invention according to
さらにまた、請求項4記載の発明は、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層と1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層とを順次設けた後、当該1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層にはプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理を施し、耐湿性を向上させたことを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法である。 Furthermore, in the invention described in claim 4, an inorganic vapor deposition layer made of a metal or an inorganic oxide and an organic vapor deposition layer made of a 1,3,5-triazine derivative are sequentially provided on at least one surface of the plastic film substrate. After that, the organic vapor deposition layer made of the 1,3,5-triazine derivative is subjected to a reactive ion etching process using plasma to improve the moisture resistance. .
さらにまた、請求項5記載の発明は、請求項4に記載のガスバリア性フィルムの製造委方法において、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理が、自己バイアス値を200V以上2000V以下とし、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100V・s・m-2以上10000V・s・m-2以下である低温プラズマによる処理であることを特徴とする。 Furthermore, the invention according to claim 5 is the method for producing a gas barrier film according to claim 4, wherein the reactive ion etching process using plasma has a self-bias value of 200 V or more and 2000 V or less, and Ed = wherein the Ed value defined by plasma density × processing time is treatment with 100V · s · m -2 higher 10000V · s · m -2 cold plasma or less.
さらにまた、請求項6記載の発明は、請求項4に記載のガスバリア性フィルムの製造方法において、前記金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層と1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機蒸着層の形成、さらには1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層のプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理を、同一製膜機(インライン製膜機)にて行うことを特徴とする。 Furthermore, the invention according to claim 6 is the method for producing a gas barrier film according to claim 4, wherein the inorganic vapor deposition layer made of the metal or the inorganic oxide and the organic vapor deposition layer made of the 1,3,5-triazine derivative. Further, the reactive ion etching process using the plasma of the organic vapor deposition layer made of the 1,3,5-triazine derivative is performed by the same film forming machine (in-line film forming machine).
本発明のガスバリア性フィルムは、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層を有する無機蒸着フィルムに対して1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層を付設することにより、耐屈曲性と耐酸素透過性が向上されるだけでなく、前記無機物蒸着層により向上せしめられた諸特性が水分によって低下しない。従って、食品及び医薬品や電子部材等の非食品等の包装に用いられる実用範囲の広い包装材料を提供することが可能とある。 The gas barrier film of the present invention has an organic vapor deposition layer composed of a 1,3,5-triazine derivative on an inorganic vapor deposition film having an inorganic vapor deposition layer composed of a metal or an inorganic oxide on at least one surface of a plastic film substrate. By attaching, not only the bending resistance and oxygen permeation resistance are improved, but also the various characteristics improved by the inorganic vapor deposition layer are not deteriorated by moisture. Therefore, it is possible to provide a packaging material with a wide range of practical use that is used for packaging foods, non-foods such as pharmaceuticals and electronic components.
また、ガスバリア性フィルムを構成する無機物蒸着層と有機物蒸着層とが同じ真空雰囲気中においてインラインで形成出来るため、製造工程が単純化され、安価にガスバリア性フィルムが得られるばかりでなく、製造において無機物蒸着層の保護も図れるようになる。 Moreover, since the inorganic vapor deposition layer and the organic vapor deposition layer constituting the gas barrier film can be formed in-line in the same vacuum atmosphere, the manufacturing process is simplified, and not only a gas barrier film can be obtained at a low cost but also an inorganic substance in the production. It is also possible to protect the deposited layer.
以下に、本発明のガスバリア性フィルムを図面を参照にして説明する。 The gas barrier film of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は本発明のガスバリア性フィルムの概略の断面構成を示す説明図である。このガスバリア性フィルムはプラスチックフィルム基材1の一方の面に、金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層(以下、無機物蒸着層という。)2と、1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層(以下、有機物蒸着層という。)3とが順次設けられていると共に、有機物蒸着層3にはプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング(RIE)による後処理が施されてなる後処理層4が構築されている。
FIG. 1 is an explanatory view showing a schematic cross-sectional structure of a gas barrier film of the present invention. This gas barrier film is formed on one surface of a
プラスチックフィルム基材1はプラスチック材料からなり、後述する無機物蒸着層2や有機物蒸着層3の透明性を生かすために可能であれば透明であることが好ましい。このようなプラスチックフィルム基材1の例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリエチレンナフタレート(PEN)等からなるポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等からなるポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等が挙げられる。また、このプラスチックフィルム基材1は、延伸、未延伸のどちらでも良いが、機械的強度や寸法安定性に優れるものがよい。この中では、二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムやポリアミドフィルムが好ましく用いられる。またこのプラスチックフィルム基材1の無機物蒸着層2が設けられる面と反対側の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤等を塗布しておいてもよい。
The
プラスチックフィルム基材1の厚さは特に制限を受けるものではなく、また包装材料としての適性を考慮し、単層構成のもだけではなく、異なる性質のフィルムを積層した積層構造のものであってもよい。無機物蒸着層2や有機物蒸着層3を積層して設けることや、包装材料とするためのプライマー層を形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には3〜200μmの範囲が好ましく、特に6〜30μmとすることがより好ましい。
The thickness of the
一方、無機物蒸着層2は優れたガスバリア性を発現させるために設ける層であり、アルミニウム等の金属や珪素酸化物、酸化マグネシウム等の無機酸化物からなる蒸着薄膜である。この無機物蒸着層2の厚さは、用いられる金属または無機酸化物の種類・構成等により最適条件が異なるが、一般的には5〜300nmの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし厚さが5nm未満であると均一な膜が得られにくいことや、ガスバリア性の発現が十分でないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また厚さが300nmを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張り等の外力が加わることにより、薄膜に亀裂を生じる恐れがある。より好ましくは、10〜150nmの範囲内にあることである。
On the other hand, the inorganic
無機物蒸着層2をプラスチックフィルム基材1上に形成する方法としては種々の薄膜形成方法が適用できる。一般的には真空蒸着法により形成すればよいが、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることも可能である。ただし生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。また、真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式等の中から適宜の方式を選択して用いればよいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式を用いることがより好ましい。また無機物蒸着層2とプラスチックフィルム基材1との密着性及び蒸着して形成される薄膜層の緻密性をより向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。
As a method for forming the inorganic
他方、有機物蒸着層3は前記した無機物蒸着層2の上に接して設けてあり、1,3,5−トリアジン誘導体からなる層である。この有機物蒸着層3は、プラスチックフィルム基材1と無機物蒸着層2との二層構成になるガスバリア性に優れる積層体の耐屈曲性の低さ
を補うと共に、耐引っ掻き性を向上させ、さらには耐酸素透過性をより向上させるために設ける層である。従って、この無機物蒸着層3の厚さは、無機物蒸着層2と同様に、一般的には5〜300nmの範囲内が望ましい。厚さが5nm未満であると均一な膜が得られないことや、厚さが十分でないために前記した諸特性が十分に発揮でないことがある。また厚さが300nmを越える場合は成膜時間がより多くかかるようになり、インラインで無機物蒸着層の成膜と組み合わせて行う場合には生産性に問題が出てくる。生産性を考慮すると、より好ましくは、その厚さを10〜100nmとすることが好ましい。
On the other hand, the organic
有機物蒸着層3は、例えば真空蒸着法により形成される。この時の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式等の方式を用いることができる。この中では、装置コスト、制御性等を考慮すると抵抗加熱方式を用いることがより好ましい。また無機物蒸着層2との密着性、或いは緻密性をより向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。
The organic
この有機物蒸着層3を設けることにより、屈曲性の低さが補え、耐引っ掻き性や耐酸素透過性を向上させることも出来るわけであるが、1,3,5−トリアジン誘導体からなる層は水分に弱く、層での吸湿により1,3,5−トリアジン誘導体蒸着薄膜由来の酸素バリア性が低下してしまう。
By providing the organic
この水分による影響は、1,3,5−トリアジン誘導体蒸着薄膜の表裏から起こり得る。ただし、無機物蒸着層2側はその良好な水蒸気バリア性が寄与し、1,3,5−トリアジン誘導体蒸着層の吸湿劣化は最小限に留められる。一方、1,3,5−トリアジン誘導体の蒸着層が露出する側は、蒸着加工後の後工程にて、吸湿劣化の問題が露呈する。この問題を解決するために、プラズマを用いたインライン後処理により、1,3,5−トリアジン誘導体蒸着表層を改質(クロスリンキングによる緻密化)し、耐湿性を改善することが考えられる(例えば、特許文献2参照。)。
This influence of moisture can occur from the front and back of the 1,3,5-triazine derivative-deposited thin film. However, the good vapor barrier property contributes to the inorganic
しかしながら、従来のプラズマ処理は、プラズマ発生のための電圧を印加する電極を加工しようとする基材のあるドラム側でなく、反対側に設置して行われている。この装置の場合、基材はアノード側に設置されることになるため、高い自己バイアスは得られず、結果として高い処理効果を発揮できなかった。 However, the conventional plasma treatment is performed not on the drum side with the base material on which the electrode for applying a voltage for generating plasma is to be processed but on the opposite side. In the case of this apparatus, since the base material is installed on the anode side, a high self-bias cannot be obtained, and as a result, a high treatment effect cannot be exhibited.
高い自己バイアスを得るためには直流放電方式を用いることも出来るが、この方法で高いバイアスの電圧を得ようとすると、プラズマのモードがグローからアークへと変化するため、大面積に均一な処理を行うことは出来ない。 In order to obtain a high self-bias, a DC discharge method can be used. However, if a high bias voltage is obtained by this method, the plasma mode changes from glow to arc, so that a uniform treatment over a large area is possible. Cannot be done.
そこで、本発明においては、無機物蒸着層2上に積層して設けた有機物蒸着層3に対してプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理を施し、その少なくとも表面を架橋させて有機物蒸着層3の緻密化を効率よく行い、耐湿性を改善させる。図1に示す後処理層4はこのようにして有機物蒸着層3中に構築された層である。
Therefore, in the present invention, reactive ion etching treatment using plasma is performed on the organic
プラズマを利用したリアクティブイオンエッチングによる後処理を行うためのガスとしては、アルゴン、酸素、窒素、水素等を使用することが出来る。これらのガスは単独で用いても、2種類以上のガスを混合して用いてもよい。また、2基の処理器を用いて、連続して処理を行ってもよい。 Argon, oxygen, nitrogen, hydrogen, or the like can be used as a gas for performing post-processing by reactive ion etching using plasma. These gases may be used alone, or two or more kinds of gases may be mixed and used. Moreover, you may process continuously using two processor.
プラズマを利用したリアクティブイオンエッチングによる後処理における処理速度、エネルギーレベル等で示される処理条件は、プラスチックフィルム基材1の種類、用途、放電装置特性等に応じ、適宜設定するべきである。ただし、プラズマの自己バイアス値は200V以上2000V以下、Ed=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値が100
V・s・m-2以上10000V・s・m-2以下にすることが必要である。これより若干低い値でも、ある程度の改質をなし得るが、未処理品に比べて優位性が低い。また、高い値であると、強い処理がかかりすぎて処理表面が劣化し、酸素バリア性が下がる原因になる。プラズマ用の気体及びその混合比などに関してはガス供給に係るポンプのポンプ性能や取り付け位置などによって導入分と実効分とでは流量が異なるので、用途、被処理基材、装置特性等に応じて適宜設定するべきである。
The processing conditions indicated by the processing speed, energy level, and the like in post-processing by reactive ion etching using plasma should be appropriately set according to the type, application, discharge device characteristics, and the like of the
It is necessary to V · s · m -2 higher 10000V · s · m -2 or less. Even a value slightly lower than this can be modified to some extent, but it is less advantageous than untreated products. On the other hand, if the value is high, too strong treatment is applied, the treated surface is deteriorated, and the oxygen barrier property is lowered. Regarding the gas for plasma and its mixing ratio, etc., the flow rate differs depending on the pump performance and mounting position of the pump for gas supply, so that the flow rate differs depending on the application, substrate to be treated, device characteristics, etc. Should be set.
以上、本発明のガスバリア性フィルムとその製造方法を説明したが、本発明はこれに限定せれるものではなく、例えば、無機物蒸着層と有機物蒸着層がプラスチックフィルム基材のもう一方の面側にも積層された構造であっても良い。 As described above, the gas barrier film of the present invention and the manufacturing method thereof have been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the inorganic deposition layer and the organic deposition layer are disposed on the other side of the plastic film substrate. Also, a laminated structure may be used.
さらに、以上のような構成になるガスバリア性フィルムは、例えば有機物蒸着層3の上に印刷層、介在フィルム層、シーラント層等を積層させて、包装材料として供することが出来る。
Furthermore, the gas barrier film having the above-described configuration can be provided as a packaging material by laminating, for example, a printing layer, an intervening film layer, a sealant layer, etc. on the organic
介在フィルム層は、袋状包装材料時の破袋強度や突き刺し強度を高めるために設けられるもので、一般的に機械強度および熱安定性の面から二軸延伸ナイロンフィルム、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの内から選ばれるフィルムを積層して設ける。この介在フィルム層の厚さは、材質や要求品質に応じて決められるが、一般的には10〜30μmの範囲である。 The intervening film layer is provided in order to increase the bag breaking strength and piercing strength at the time of the bag-shaped packaging material, and is generally a biaxially stretched nylon film or a biaxially stretched polyethylene terephthalate film from the viewpoint of mechanical strength and thermal stability. A film selected from among biaxially oriented polypropylene films is laminated and provided. The thickness of the intervening film layer is determined according to the material and required quality, but is generally in the range of 10 to 30 μm.
さらにシーラント層は袋状包装体等を形成する際に接着層として働くように設けられるものである。このシーラント層の構成材料としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体及びそれらの金属架橋物等の樹脂が用いられる。この層の厚さは目的に応じて決められるが、一般的には15〜200μmの範囲である。 Further, the sealant layer is provided so as to serve as an adhesive layer when forming a bag-like package or the like. Examples of the constituent material of the sealant layer include polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic. Resins such as acid ester copolymers and metal cross-linked products thereof are used. The thickness of this layer is determined according to the purpose, but is generally in the range of 15 to 200 μm.
もちろん、プラスチックフィルム基材1の反対面にも、必要に応じて印刷層、介在フィルム層、シーラント層等を積層させることも可能である。
Of course, a printing layer, an intervening film layer, a sealant layer, and the like can be laminated on the opposite surface of the
以下に本発明のガスバリア性フィルムの実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Examples of the gas barrier film of the present invention will be specifically described below. The present invention is not limited to these examples.
プラスチックフィルム基材として厚さ12μmのPETフィルムを用い、このPETフィルムの片面に、電子線加熱方式を用いた反応蒸着により酸化アルミニウムを20nmの厚さで成膜し、無機物蒸着層を設けた、次にこの無機物蒸着層上に抵抗加熱方式を用いた反応蒸着により1,3,5−トリアジン誘導体を120nmの厚さで成膜し、有機物蒸着層を設けた。続いてこの1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理による後処理を、自己バイアス値を900Vとし、またEd=プラズマ密度×処理時間で定義されるEd値を545V・s・m-2とする低温プラズマにて行い、実施例1に係る本発明のガスバリア性フィルムを作成した。この時、電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用い、処理ガスにはアルゴンを用いた。 A PET film having a thickness of 12 μm was used as a plastic film substrate, and an aluminum oxide film was formed on one surface of the PET film by reactive vapor deposition using an electron beam heating method to a thickness of 20 nm. Next, a 1,3,5-triazine derivative was deposited to a thickness of 120 nm by reactive vapor deposition using a resistance heating method on this inorganic vapor deposition layer to provide an organic vapor deposition layer. Subsequently, post-processing by reactive ion etching using plasma on the organic vapor deposition layer made of the 1,3,5-triazine derivative is defined as self-bias value of 900 V and Ed = plasma density × processing time. The gas barrier film of the present invention according to Example 1 was prepared by performing low temperature plasma with an Ed value of 545 V · s · m −2 . At this time, a high frequency power source with a frequency of 13.56 MHz was used for the electrodes, and argon was used for the processing gas.
処理ガスにアルゴン/酸素混合ガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例2に係る本発明のガスバリア性フィルムを作成した。 A gas barrier film of the present invention according to Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that an argon / oxygen mixed gas was used as the processing gas.
処理ガスにアルゴン/窒素混合ガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で、実施例3に係る本発明のガスバリア性フィルムを作成した。 A gas barrier film of the present invention according to Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that an argon / nitrogen mixed gas was used as the processing gas.
プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング処理方法として、2基のプラズマ処理器を用い、初めにアルゴンによる処理を施し、続いて酸素による処理を連続して行った以外は、実施例1と同様の方法で実施例4に係る本発明のガスバリア性フィルムを作成した。 As a reactive ion etching processing method using plasma, the same method as in Example 1 except that two plasma processing devices were used, the processing with argon was first performed, and then the processing with oxygen was continuously performed. Thus, a gas barrier film of the present invention according to Example 4 was prepared.
1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層へのプラズマを利用したリアクティブイオンエッチングによる後処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の方法で比較のための実施例5に係る蒸着フィルムを作成した。 According to Example 5 for comparison in the same manner as in Example 1 except that post-treatment by reactive ion etching using plasma on an organic vapor deposition layer made of a 1,3,5-triazine derivative was not performed. A vapor deposited film was prepared.
1,3,5−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層への処理方法として一般的なインラインプラズマ処理器(冷却ドラム、ガイドロールの対面側に処理器がある)を使用して、プラズマエッチングによる後処理を行い、処理ガスにアルゴンガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で比較のための実施例6に係る蒸着フィルムを作成した。 Post-treatment by plasma etching using a general in-line plasma treatment device (the treatment device is on the opposite side of the cooling drum and guide roll) as the treatment method for the organic vapor deposition layer made of 1,3,5-triazine derivative The vapor deposition film which concerns on Example 6 for a comparison was created by the method similar to Example 1 except having used argon gas for process gas.
処理方法として一般的なインラインプラズマ処理器(冷却ドラム、ガイドロールの対面側に処理器がある)を使用して、プラズマエッチングによる後処理を行い、処理ガスにアルゴン/酸素混合ガスを用いた以外は、実施例1と同様の方法で比較のための実施例7に係る蒸着フィルムを作成した。
<評価>
モダンコントロール社製酸素透過度測定器(MOCON OXTRAN)を用いて、30℃−70%RH雰囲気下で各実施例のフィルムの酸素透過率を測定した。また、湿度による劣化の傾向を評価するため、30℃−0%RH雰囲気下での測定も行い、その結果を前記測定結果と一緒に表1に示した。
Using a general in-line plasma treatment device (with a treatment device on the opposite side of the cooling drum and guide roll) as the treatment method, and performing post-processing by plasma etching, except that an argon / oxygen mixed gas is used as the treatment gas Produced the vapor deposition film which concerns on Example 7 for a comparison with the method similar to Example 1. FIG.
<Evaluation>
The oxygen permeability of the film of each example was measured under an atmosphere of 30 ° C.-70% RH using an oxygen permeability meter (MOCON OXTRAN) manufactured by Modern Control. Further, in order to evaluate the tendency of deterioration due to humidity, measurement was also performed in an atmosphere of 30 ° C.-0% RH, and the results are shown in Table 1 together with the measurement results.
1・・・プラスチックフィルム基材
2・・・無機物蒸着層
3・・・有機物蒸着層
4・・・後処理層
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JP2010533608A (en) * | 2007-07-20 | 2010-10-28 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | Laminates and composite layers comprising a substrate and a coating, and methods and apparatus for preparing them |
JP2011527248A (en) * | 2008-07-10 | 2011-10-27 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | Barrier layer, its use and method for its production |
CN103025518A (en) * | 2010-07-27 | 2013-04-03 | 柯尼卡美能达控股株式会社 | Gas barrier film, process for production of gas barrier film, and electronic device |
WO2014123068A1 (en) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 東洋紡株式会社 | Laminate film |
JP2017065174A (en) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | アルプス電気株式会社 | Moisture-proof film and method for producing the same |
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Cited By (11)
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---|---|---|---|---|
JP2010533608A (en) * | 2007-07-20 | 2010-10-28 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | Laminates and composite layers comprising a substrate and a coating, and methods and apparatus for preparing them |
JP2009228015A (en) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Toppan Printing Co Ltd | Method and apparatus for manufacturing laminate and gas barrier-film |
JP2011527248A (en) * | 2008-07-10 | 2011-10-27 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | Barrier layer, its use and method for its production |
CN103025518A (en) * | 2010-07-27 | 2013-04-03 | 柯尼卡美能达控股株式会社 | Gas barrier film, process for production of gas barrier film, and electronic device |
WO2014123068A1 (en) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 東洋紡株式会社 | Laminate film |
JP2015027777A (en) * | 2013-02-06 | 2015-02-12 | 東洋紡株式会社 | Laminated film |
CN104981345A (en) * | 2013-02-06 | 2015-10-14 | 东洋纺株式会社 | Laminate film |
EP2955018A4 (en) * | 2013-02-06 | 2016-09-07 | Toyo Boseki | Laminate film |
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