JP2007258191A - バンドギャッププラズマ質量フィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁界は軸に沿って方向付けられ、電界は直流電圧成分(∇Φ0)及び交流電圧成分(∇Φ1)の両方を有する。操作において、Φ1がゼロのとき、軸の周囲の限定軌道上にイオン(m1)を位置付けするために電圧Φ0は固定的に設定される。一方、Φ1が予め定められた値に調整されたとき、イオン(m1)は軸から離れて放出される。チャンバ内に(E x B)が設定されることにより、限定軌道(Φ1=0)のとき、イオン(m1)はチャンバを通過し、非限定軌道上(Φ1=所定値)のとき、イオンはチャンバの壁に放射される。
【選択図】図2
Description
[数1]
Mc=zea2(B)2/8Vctr (1)
ここで、aは軸とチャンバの壁との間の距離であり、eは基本電荷、そしてzはイオンの電荷数である。
[数2]
d2/dt2s+[Ω/4-λ]s=0 (2)
この場合、
[数3]
λ=2eV(t)/ma2 (3)
ここで、V(t)は時間関数とした荷電電圧、aは軸とチャンバ壁間の距離である。もしλが正弦曲線で周波数がωなら、即ち
[数4]
λ=λ0+λ1cosωt (4)
この上述したヒル方程式はマシュー方程式(Mathieu’s equation)に変換される。即ち
となり、ここで、
[数6]
τ=ωt/2 (6)
[数7]
α=[Ω2/4-λ0]/ω2 (7)
[数8]
β=λ1/[4ω2] (8)
である。
[数9]
4α0=-25β2+257β4 (9)
[数10]
4α1=1±8β-8β2 (10)
[数11]
4α2=4+80/3β2 (11)
さらに、本発明のもう1つの目的は、多種プラズマの選択されたイオンを非限定軌道上に位置付ける交差電界及び磁界によるバンドギャッププラズマフィルタを提供することにあり、一方、より高いまたより低い質量/電荷比のイオンを限定軌道上に位置付けることにある。
なおさらに、本発明のもう1つの目的は、製造し易く、使用が簡単で、費用効果のあるバンドギャッププラズマフィルタを提供することにある。
[数12]
α=[Ω2/4-λ0]/ω2 (7)
[数13]
β=λ1/[4ω2] (8)
構成および動作に関する本発明の新規な特徴は、添付図面、説明および参照符号から十分理解できるはずである。
ここで、
[数15]
τ=ωt/2 (6)
[数16]
α=[Ω2/4-λ0]/ω2 (7)
[数17]
β=λ1/[4ω2] (8)
である。
[数18]
4α0=-25β2+257β4 (9)
[数19]
4α1=1±8β-8β2 (10)
[数20]
4α2=4+80/3β2 (11)
[数21]
Mc=zea2(B)2/8Vctr (1)
14 チャンバ
16 軸
18 コイル
20 電極
22 チューナ
26 多種プラズマ
28、30 イオン
32、34 軌道
36、38 領域
Claims (4)
- 第1の質量/電荷比(m1)が予め定められたカットオフ質量(Mc)よりも小さいとしたときに、前記第1の質量/電荷比m1のイオンを選択的に通過させるバンドギャッププラズマフィルタにおいて、
前記イオン(m1)を含むプラズマを実質的に円筒形状のチャンバの中空に導入するための装置を有し、前記チャンバは軸を有し、かつ壁で囲まれ、
実質的に均一な磁界(B)を設定するための磁石装置を有し、前記磁界は前記チャンバ内の軸に沿って方向付けされ、
電界(E)を生成するための装置を有し、前記電界は前記軸に関して実質的に放射方向に方向付けされて前記磁界(E x B)と直角に交わり、かつ前記電界は直流電圧成分(∇Φ0)および交流電圧成分(∇Φ1)、即ち(E=∇(Φ0+Φ1))を有し、
前記交流電圧成分(∇Φ1)が実質的にゼロのとき、前記イオン(m1)が前記チャンバを通過することを限定するために、かつ次いでそこから出すために前記直流電圧成分(∇Φ0)を設定するための装置を有し、
前記イオン(m1)を前記チャンバから放出させるために、かつその前記壁と衝突させるために前記交流電圧要素(∇Φ1)を調整する装置を有し、前記チャンバを通して前記イオン(m1)の通過を防止する、ことを備えたバンドギャッププラズマフィルタ。 - 前記カットオフ質量Mcは次式により決定される、
Mc=zea2(B)2/8Vctr
ここで、eは基本電荷、zは電荷数、aは前記軸とチャンバの壁間の距離、前記軸に沿った電圧は正の値(Vctr)を有し放物線状に減少して前記チャンバの壁でゼロとなる、請求項1に記載のバンドギャッププラズマフィルタ。 - 前記調整装置はαおよびβの値に従って前記交流電圧成分(∇Φ1)の高周波の周波数ωを選択し、
α=[Ω2/4-λ0]/ω2
β=λ1/[4ω2]
かつ
λ=2eV(t)/ma2
ここで、λ=λ0+λ1cosωtであり、eは基本電荷、V(t)は印加電圧、Φ0+Φ1は時間の関数、aは前記軸とチャンバ壁間の距離、およびΩはイオン(m1)のサイクロトロン周波数である。 - 軸に関して第1の質量/電荷比(m1)のイオンを予め定められた軌道に選択的に設定する方法において、
電界(E)を実質的に均一の磁界(B)と交差させ、前記磁界は前記軸に沿って方向付けられ、かつ前記電界は前記軸に関して実質的に放射方向に方向付けられ、さらに、前記電界は直流電圧成分(∇Φ0)および交流電圧成分(∇Φ1)、即ち
(E=∇(Φ0+Φ1))を有し、
前記交差磁界及び電界に前記イオン(m1)を導入し、
前記交流電圧成分(∇Φ1)が実質的にゼロのとき、前記軸の周囲の限定軌道に前記イオン(m1)を設けるように、前記直流電圧成分(∇Φ0)を設定し、
前記交流電圧要素(∇Φ1)が予め定められた値を有するとき、前記軸から離れて前記イオン(m1)を放出するために非限定軌道を定めるように前記交流電圧成分(∇Φ1)を選択的に調整すること、を備えた方法。
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