JP2007249134A - Electro-optical device and electronic apparatus provided with the same - Google Patents

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和也 中山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the generation of image defects such as ghosts in an electro-optical device. <P>SOLUTION: The electro-optical device is provided with: an enable circuit 101b arranged near to one side of a TFT array substrate 10 along the array direction of a plurality of data lines 6a rather than a shift register 101a in a peripheral area on the TFT array substrate 10; a plurality of enable signal terminals 102e1 to 102e4 arrayed along the direction intersecting with the one-side; and a plurality of enable signal lines respectively having portions wired so as to be extended in the one-side direction, electrically connected to respective enable signal terminals 102e1 to 102e4 and capable of supplying enable signals of a plurality of series to the enable circuit 101b. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。   The present invention relates to a technical field of an electro-optical device such as a liquid crystal device, and an electronic apparatus such as a liquid crystal projector including the electro-optical device.

この種の電気光学装置は、基板上の画素領域において、複数のデータ線及び複数の走査線が相交差して設けられ、データ線及び走査線の交差に対応して画素部が形成される。また、特許文献1に開示されているように、基板上の画素領域の周辺に位置する周辺領域には、各データ線を駆動するためのデータ線駆動回路及びサンプリング回路が設けられる。   In this type of electro-optical device, a plurality of data lines and a plurality of scanning lines are provided so as to intersect each other in a pixel region on a substrate, and a pixel portion is formed corresponding to the intersection of the data lines and the scanning lines. Further, as disclosed in Patent Document 1, a data line driving circuit and a sampling circuit for driving each data line are provided in a peripheral region located around the pixel region on the substrate.

より具体的には、データ線駆動回路には、シフトレジスタ及びシフトレジスタから順次出力される転送信号の各パルス幅を、複数系列のイネーブル信号の各々のパルス幅に基づいて整形するイネーブル回路が含まれる。また、サンプリング回路は、データ線駆動回路において、イネーブル回路においてパルス幅が整形された後の転送信号に基づいて、順次生成されて出力されるサンプリング回路駆動信号に応じて、画像信号をサンプリングして複数のデータ線に供給する。   More specifically, the data line driving circuit includes an enable circuit that shapes each pulse width of the transfer signal sequentially output from the shift register based on each pulse width of the plurality of series of enable signals. It is. The sampling circuit samples the image signal in the data line driving circuit according to the sampling circuit driving signal that is sequentially generated and output based on the transfer signal after the pulse width is shaped in the enable circuit. Supply to multiple data lines.

このような信号の処理順序に基づいて、電気光学装置において、基板上で平面的に見て、画素領域の複数のデータ線の配列方向に沿う一辺に沿ってシフトレジスタ、イネーブル回路、サンプリング回路が夫々配置されると共に、この順に、前記一辺に近づくように配置される。   Based on such a signal processing order, in the electro-optical device, a shift register, an enable circuit, and a sampling circuit are arranged along one side along the arrangement direction of the plurality of data lines in the pixel region as viewed in plan on the substrate. Each is arranged, and in this order, arranged so as to approach the one side.

ここで、イネーブル回路には、基板上の周辺領域において、前記一辺に沿う基板の一辺に沿って配列された外部回路接続端子より、複数のイネーブル信号線を介して複数系列のイネーブル信号が供給される。複数のイネーブル信号線は夫々、外部回路接続端子からイネーブル回路に至るまで、シフトレジスタの周囲を迂回して配線される。   Here, a plurality of series of enable signals are supplied to the enable circuit via a plurality of enable signal lines from the external circuit connection terminals arranged along one side of the substrate along the one side in the peripheral region on the substrate. The The plurality of enable signal lines are routed around the shift register from the external circuit connection terminal to the enable circuit.

特許第3589005号公報Japanese Patent No. 3589005

しかしながら、上述したようなイネーブル信号線の構成によれば、各イネーブル信号線の配線長が比較的大きくなると共に、複数の配線がシフトレジスタを迂回する際に外側の配線と内側の配線とで経路差が生じ、複数のイネーブル信号線間に配線長にばらつきが生じてしまう。これにより、各イネーブル信号線においてイネーブル信号の遅延量も比較的大きくなると共に、この遅延量に複数系列の各々でばらつきが生じることとなる。   However, according to the configuration of the enable signal line as described above, the wiring length of each enable signal line becomes relatively large, and when a plurality of wirings bypass the shift register, a route is routed between the outer wiring and the inner wiring. A difference occurs, and the wiring length varies among the plurality of enable signal lines. As a result, the delay amount of the enable signal in each enable signal line also becomes relatively large, and the delay amount varies in each of a plurality of series.

ここで、サンプリング回路に対して、各サンプリング回路駆動信号の入力タイミングに同期させて、画像信号が供給される。上述したようにサンプリング回路に対するサンプリング回路駆動信号の入力タイミングは、複数系列のイネーブル信号の各々によって規定されている。よって、互いに異なる系列のイネーブル信号に基づくサンプリング回路駆動信号の入力タイミングが、各々に対応する画像信号の供給タイミングに対して遅延すると共に、その遅延量にもばらつきが生じる。その結果、電気光学装置の画像表示において、ゴースト等の画像不良が生じ、画像品質が劣化するという問題点が生じる。   Here, an image signal is supplied to the sampling circuit in synchronization with the input timing of each sampling circuit drive signal. As described above, the input timing of the sampling circuit drive signal to the sampling circuit is defined by each of a plurality of series of enable signals. Therefore, the input timings of the sampling circuit drive signals based on the different series of enable signals are delayed with respect to the corresponding image signal supply timings, and the delay amounts also vary. As a result, in the image display of the electro-optical device, an image defect such as a ghost occurs and the image quality is deteriorated.

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、高品質な画像表示を行うことを可能とする電気光学装置及び該電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides an electro-optical device that can perform high-quality image display and an electronic apparatus including the electro-optical device. And

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、複数の画素部と、前記複数の画素部が配列された画素領域に相交差するように配線された複数の走査線及び複数のデータ線と、前記画素領域の周辺に位置する周辺領域において、前記複数のデータ線の配列方向に沿う前記基板の一辺に沿って配置され、転送信号を順次出力するシフトレジスタと、前記周辺領域に配置され、前記転送信号を、複数系列のイネーブル信号の各々のパルス幅で制限して、サンプリング回路駆動信号として出力するイネーブル回路と、前記サンプリング回路駆動信号に応じて、画像信号を前記複数のデータ線に夫々供給する複数のサンプリングスイッチを含むサンプリング回路と、前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記複数系列のイネーブル信号が外部回路から供給される複数のイネーブル信号端子と、前記周辺領域において、前記一辺の方向に延在するように配線された部分を夫々有すると共に、前記複数のイネーブル信号端子の各々に電気的に接続され、前記複数系列のイネーブル信号を前記イネーブル回路に供給する複数のイネーブル信号線とを備える。   In order to solve the above-described problem, an electro-optical device according to an aspect of the invention includes a plurality of pixel portions and a plurality of scanning lines wired on the substrate so as to intersect with a pixel region in which the plurality of pixel portions are arranged. A shift register that is arranged along one side of the substrate along the array direction of the plurality of data lines and sequentially outputs a transfer signal in a plurality of data lines and a peripheral region located around the pixel region, and the peripheral An enable circuit that is arranged in a region and outputs the sampling signal as a sampling circuit driving signal by limiting the transfer signal with a pulse width of each of a plurality of series of enabling signals, and the image signal is output according to the sampling circuit driving signal. A sampling circuit including a plurality of sampling switches respectively supplied to the data lines, and in the peripheral region, arranged along the direction intersecting the one side, A plurality of enable signal terminals to which a plurality of series of enable signals are supplied from an external circuit, and a portion wired in the peripheral region so as to extend in the direction of the one side, And a plurality of enable signal lines that are electrically connected to each other and supply the plurality of series of enable signals to the enable circuit.

本発明の電気光学装置によれば、基板上の周辺領域において、シフトレジスタから順次出力される転送信号の各パルス幅が、イネーブル回路において、複数系列のイネーブル信号の各々のパルス幅に基づいて制限或いは整形される。そして、サンプリング回路は、イネーブル回路から出力されるサンプリング回路駆動信号(即ち、パルス幅が整形された後の転送信号)に応じて、画像信号を複数のデータ線に供給する、言い換えれば、サンプリング回路駆動信号に基づいて画像信号をサンプリングして複数のデータ線に供給する。   According to the electro-optical device of the present invention, in the peripheral area on the substrate, each pulse width of the transfer signal sequentially output from the shift register is limited based on each pulse width of the plurality of series of enable signals in the enable circuit. Or it is shaped. The sampling circuit supplies an image signal to a plurality of data lines according to the sampling circuit drive signal (that is, the transfer signal after the pulse width is shaped) output from the enable circuit. In other words, the sampling circuit An image signal is sampled based on the drive signal and supplied to a plurality of data lines.

このようにデータ線が駆動されると、各画素部は、例えば、走査線駆動回路から走査線を介して供給される走査信号に基づいて選択状態となり、データ線より画像信号が供給され、画像信号に基づく画像表示が行われる。   When the data line is driven in this way, each pixel unit is in a selected state based on, for example, a scanning signal supplied from the scanning line driving circuit via the scanning line, and an image signal is supplied from the data line, An image display based on the signal is performed.

基板上で平面的に見て、上述したような信号処理の手順上、典型的には、シフトレジスタ、イネーブル回路、サンプリング回路は、この順に、画素領域のデータ線の配列方向に沿う一辺に対して近づくように、且つこの一辺に沿って即ち複数のデータ線の配列方向に沿って夫々配置される。ここで本発明に係る「データ線の配列方向」とは、各データ線が延びる方向に交わる方向、或いは各走査線が延びる方向である「X方向」を意味する。   In plan view on the substrate, the shift register, the enable circuit, and the sampling circuit are typically arranged in this order with respect to one side along the arrangement direction of the data lines in the pixel region. Are arranged along the one side, that is, along the arrangement direction of the plurality of data lines. Here, the “data line arrangement direction” according to the present invention means a direction intersecting with a direction in which each data line extends or a direction “X direction” in which each scanning line extends.

また、複数系列のイネーブル信号をイネーブル回路に供給する複数のイネーブル信号線は夫々、この一辺に沿って配線された部分(即ち、複数のデータ線の配列方向(即ち、X方向)に沿って配線された部分)を有している。この一辺に沿って配線された部分は、シフトレジスタよりもこの一辺の近くに、典型的には、シフトレジスタ及びサンプリング回路との間に配置される。   In addition, a plurality of enable signal lines for supplying a plurality of series of enable signals to the enable circuit are respectively wired along a portion (that is, an arrangement direction of a plurality of data lines (that is, an X direction)) along the one side. Part). The portion wired along the one side is disposed closer to the one side than the shift register, typically between the shift register and the sampling circuit.

そして、本発明の電気光学装置では、各イネーブル信号端子は、シフトレジスタ、イネーブル回路、及びサンプリング回路の各々の配置(即ち、画素領域の一辺に沿う配置)を回避する方向(即ち、一辺に交わる方向或いはY方向、言い換えれば画素領域の一辺に隣接する他辺に沿う方向)に沿って配列されている。   In the electro-optical device according to the aspect of the invention, each enable signal terminal intersects the direction (that is, one side) that avoids the arrangement (that is, the arrangement along one side of the pixel region) of the shift register, the enable circuit, and the sampling circuit. In the direction or Y direction, in other words, the direction along the other side adjacent to one side of the pixel region).

よって、シフトレジスタ及びサンプリング回路との間における、各イネーブル信号線の前記一辺に沿って配線された部分を、側に、その延長線上でそのまま延在させたとしても、シフトレジスタを回避するようなパターンを自ずと得ることができる。よって、各イネーブル信号線を、既に説明したようにシフトレジスタの周囲を迂回させるようなパターンとして形成しなくても、イネーブル信号端子からイネーブル回路まで配線することが可能となる。従って、各イネーブル信号線の配線長を、シフトレジスタの周囲を迂回させて引き回す場合と比較して小さくすることができる。   Therefore, even if the portion wired along the one side of each enable signal line between the shift register and the sampling circuit is extended to the side as it is on the extension line, the shift register is avoided. The pattern can be obtained naturally. Therefore, it is possible to wire from the enable signal terminal to the enable circuit without forming each enable signal line as a pattern that bypasses the periphery of the shift register as already described. Therefore, the wiring length of each enable signal line can be reduced as compared with the case where the enable signal line is routed around the shift register.

ここで、各イネーブル信号線をシフトレジスタの周囲を迂回させるように引き回す場合には、例えば、複数のイネーブル信号線の各々において、シフトレジスタの周囲において、画素領域の一辺に沿って(即ち、X方向に沿って)配線された部分からこれに対して交差する方向に折れ曲がる部分について、該折れ曲がる部分がシフトレジスタの近くに配線された一のイネーブル信号線と、該折れ曲がる部分が一のイネーブル信号線よりもシフトレジスタより遠ざかって配線された他のイネーブル信号線の各々とでは、互いの配線長に大きなばらつきが生じてしまう。   Here, when each enable signal line is routed so as to bypass the periphery of the shift register, for example, in each of the plurality of enable signal lines, around the shift register, along one side of the pixel region (that is, X One enable signal line in which the bent portion is wired near the shift register and one enable signal line in which the bent portion is bent in the direction intersecting with the crossed portion from the wired portion) In other enable signal lines wired farther away from the shift register than the shift register, the wiring length of each other will vary greatly.

しかるに本発明によれば、シフトレジスタ或いはサンプリング回路に対する各イネーブル信号線の位置関係はその配線長に特に大きな影響を与えないので、各イネーブル信号線間の配線長のばらつきを小さく抑えることが可能となる。即ち、複数のイネーブル信号線間の配線長の差異を殆ど或いは実践的な意味で完全に無くすことができる。   However, according to the present invention, since the positional relationship of each enable signal line with respect to the shift register or the sampling circuit does not particularly affect the wiring length, it is possible to suppress the variation in the wiring length between the enable signal lines. Become. That is, the difference in wiring length between the plurality of enable signal lines can be eliminated almost or completely in a practical sense.

従って、各イネーブル信号線においてイネーブル信号の遅延量を比較的小さくすると共に、複数系列の各々で、この遅延量のばらつきを小さく抑えることができる。その結果、サンプリング回路において、互いに異なる系列のイネーブル信号に基づく画像信号のサンプリングのタイミングの各々について、対応する画像信号の供給タイミングに対する遅延量を小さく抑えると共に、この遅延量のばらつきも小さく抑えることができる。この結果、ゴースト等の画像不良の発生を防止して、高品質な画像表示を行うことができる。   Therefore, the delay amount of the enable signal in each enable signal line can be made relatively small, and the variation in the delay amount can be suppressed small in each of the plurality of series. As a result, in the sampling circuit, for each of the sampling timings of the image signals based on the different series of enable signals, the delay amount with respect to the supply timing of the corresponding image signal can be suppressed, and variation in the delay amount can also be suppressed. it can. As a result, the occurrence of image defects such as ghosts can be prevented and high-quality image display can be performed.

本発明の電気光学装置の一態様では、前記複数のイネーブル信号端子は夫々、前記基板上で平面的に見て、前記複数のイネーブル信号線の各々の延在方向の延長線上に配置されている。   In one aspect of the electro-optical device of the present invention, each of the plurality of enable signal terminals is disposed on an extension line in the extending direction of each of the plurality of enable signal lines as viewed in plan on the substrate. .

この態様によれば、各イネーブル信号線の配線長をより小さくできると共に、複数のイネーブル信号線間の配線長のばらつきをより小さく抑えることが可能となる。   According to this aspect, the wiring length of each enable signal line can be further reduced, and variations in the wiring length among the plurality of enable signal lines can be suppressed to a smaller value.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記基板上に、前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記シフトレジスタを駆動させるための各種信号が前記外部回路から供給される複数のシフトレジスタ用信号端子と、前記周辺領域において、前記複数のシフトレジスタ用信号端子に夫々電気的に接続され、前記各種信号を前記シフトレジスタに供給する複数のシフトレジスタ用信号線とを備える。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, various signals that are arranged on the substrate along the direction intersecting the one side in the peripheral region and that drive the shift register are supplied from the external circuit. And a plurality of shift register signal lines electrically connected to the plurality of shift register signal terminals and supplying the various signals to the shift register in the peripheral region. Prepare.

この態様によれば、上述したイネーブル信号端子と同様に、複数のシフトレジスタ用信号端子は夫々、シフトレジスタの配置を回避する方向に沿って配列されている。よって、各シフトレジスタ用信号線は、シフトレジスタの周囲を迂回させるようなパターンとして形成しなくても、シフトレジスタ用信号端子からシフトレジスタまで配線することが可能となる。従って、各シフトレジスタ用信号線の配線長を短縮することができる。これにより、複数のシフトレジスタ用信号線の各々における各種信号の信号遅延を少なくすることができる。   According to this aspect, like the above-described enable signal terminal, the plurality of shift register signal terminals are arranged along a direction in which the shift register is avoided. Therefore, each shift register signal line can be wired from the shift register signal terminal to the shift register without forming a pattern that bypasses the periphery of the shift register. Therefore, the wiring length of each shift register signal line can be shortened. Thereby, signal delay of various signals in each of the plurality of shift register signal lines can be reduced.

上述したシフトレジスタ用信号端子及びシフトレジスタ用信号線を備える態様では、前記複数のシフトレジスタ用信号端子のうち少なくとも一部は、前記複数のイネーブル信号端子よりも前記一辺から遠くに配置され、前記一部のシフトレジスタ用信号端子に電気的に接続される前記シフトレジスタ用信号線は、前記複数のイネーブル信号線と相交差するように形成されるように構成してもよい。   In the aspect including the shift register signal terminal and the shift register signal line described above, at least a part of the plurality of shift register signal terminals is disposed farther from the one side than the plurality of enable signal terminals, and The shift register signal lines electrically connected to some of the shift register signal terminals may be formed so as to intersect with the plurality of enable signal lines.

このように構成すれば、シフトレジスタの構成について、例えば複数のデータ線をその配列方向に沿って片方向或いは双方向に駆動させるように、設計の自由度を確保することが可能となる。即ち、上述したように複数のデータ線を片方向に駆動するのと比較して、双方向に駆動する場合には、シフトレジスタを駆動させるための信号の種類も多くなり、これに併せてシフトレジスタ用信号端子も多数設ける必要が生じる。   With this configuration, it is possible to ensure the degree of freedom in designing the shift register so that, for example, a plurality of data lines are driven unidirectionally or bidirectionally along the arrangement direction. That is, compared to driving a plurality of data lines in one direction as described above, the number of types of signals for driving the shift register is increased in the case of driving in both directions, and the shift is performed accordingly. Many register signal terminals need to be provided.

この態様では、このような場合においても、基板上の周辺領域において、複数のシフトレジスタ用信号端子のうち少なくとも一部を、複数のイネーブル信号端子の配列を避けつつ、この配列と同方向に沿って配列させることができる。よって、複数のシフトレジスタ用信号端子の数や該端子間の間隔(即ち、配列ピッチ)、更にはこれに加えて各シフトレジスタ用信号線の引き回し形状についても、シフトレジスタの構成に併せて変化させることが可能となる。   In this aspect, even in such a case, in the peripheral region on the substrate, at least a part of the plurality of shift register signal terminals extends along the same direction as this array while avoiding the array of the plurality of enable signal terminals. Can be arranged. Therefore, the number of signal terminals for a plurality of shift registers, the interval between the terminals (that is, the arrangement pitch), and the routing shape of each shift register signal line also change in accordance with the configuration of the shift register. It becomes possible to make it.

更に、この態様では、イネーブル信号線と交差するシフトレジスタ用信号線において、イネーブル信号線と交差する交差部分は、基板上において少なくともイネーブル信号線と層間絶縁膜を介して異なる層に配置される。よって、イネーブル信号線及びシフトレジスタ用信号線を配線するための配置面積も小さくすることができる。   Furthermore, in this aspect, in the shift register signal line that intersects with the enable signal line, the intersecting portion that intersects with the enable signal line is disposed on a different layer on the substrate via at least the enable signal line and the interlayer insulating film. Therefore, the arrangement area for wiring the enable signal line and the shift register signal line can also be reduced.

上述したシフトレジスタ用信号線がイネーブル信号線と相交差する態様では、前記画素部は、前記走査線及び前記データ線に電気的に接続される各種電子素子を含み、前記複数のイネーブル信号線は夫々、前記データ線及び前記電子素子のいずれかを構成する一の導電膜と同一膜により形成され、前記シフトレジスタ用信号線のうち少なくとも前記イネーブル信号線と交差する交差部分は、層間絶縁膜を介して前記一の導電膜と異なる層に配置され、前記データ線及び前記電子素子のいずれかを構成する他の導電膜と同一膜により形成されるように構成してもよい。   In the aspect in which the shift register signal line intersects with the enable signal line, the pixel unit includes various electronic elements electrically connected to the scan line and the data line, and the plurality of enable signal lines are Each of the shift register signal lines is formed of the same film as one conductive film that constitutes one of the data line and the electronic element, and at least an intersecting portion that intersects the enable signal line includes an interlayer insulating film. The conductive film may be arranged in a different layer from the one conductive film, and may be formed of the same film as another conductive film that constitutes either the data line or the electronic element.

このように構成すれば、電気光学装置の製造プロセスにおいて、周辺領域におけるシフトレジスタ用信号線及び複数のイネーブル信号線を、データ線や各画素部における電子素子と共に形成することで、工程数を簡略化することが可能となる。尚、ここでいう「同一膜」とは、製造工程における同一機会に成膜される膜を意味し、同一種類の膜を意味する。   According to this configuration, in the electro-optical device manufacturing process, the shift register signal line and the plurality of enable signal lines in the peripheral region are formed together with the data lines and the electronic elements in each pixel portion, thereby simplifying the number of processes. Can be realized. Here, the “same film” means films formed on the same occasion in the manufacturing process, and means the same kind of film.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記基板上に、前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記画像信号として、N(但し、Nは2以上の自然数)個の系列にシリアル−パラレル変換された画像信号が前記外部回路から供給されるN個の画像信号端子と、前記周辺領域において、前記一辺に沿って配線された部分を夫々有し且つ該部分が前記イネーブル回路と前記サンプリング回路との間に配置されると共に、前記N個の画像信号端子に電気的に接続され、前記N個の系列の画像信号を前記サンプリング回路に夫々供給するN本の画像信号線とを備え、前記イネーブル回路は、前記複数のデータ線のうちN本のデータ線を一群とするデータ線群に対応する前記サンプリングスイッチ毎に、前記サンプリング回路駆動信号を出力する。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, N (where N is a natural number of 2 or more) image signals are arranged on the substrate along the direction intersecting the one side in the peripheral region. And N image signal terminals to which the image signal serial-parallel converted into the above-mentioned series is supplied from the external circuit, and a portion wired along the one side in the peripheral region, and the portion is the N image signals arranged between the enable circuit and the sampling circuit and electrically connected to the N image signal terminals and supplying the N series of image signals to the sampling circuit, respectively. And the enable circuit includes a sampling circuit for each sampling switch corresponding to a data line group including a group of N data lines among the plurality of data lines. And it outputs a motion signal.

この態様によれば、電気光学装置の駆動時、サンプリング回路では、N本の画像信号線より供給されるN個の画像信号を、イネーブル回路から出力されるパルス幅が整形された後の転送信号に基づいて、サンプリングして、複数のデータ線に対してデータ線群毎に供給する。   According to this aspect, when the electro-optical device is driven, the sampling circuit uses the N image signals supplied from the N image signal lines as the transfer signals after the pulse width output from the enable circuit is shaped. Is sampled and supplied to a plurality of data lines for each data line group.

この態様では、N本の画像信号線の各々の少なくとも一部は、画素領域の一辺に対してサンプリング回路より遠く且つイネーブル回路より近い位置に配線されている。また、N個の画像信号端子は、上述した複数のイネーブル信号端子と同様に、イネーブル回路及びサンプリング回路の各々の配置を回避する、画素領域の一辺に交わる方向に沿って配列されている。   In this aspect, at least a part of each of the N image signal lines is wired farther than the sampling circuit and closer to the enable circuit with respect to one side of the pixel region. Similarly to the plurality of enable signal terminals described above, the N image signal terminals are arranged along a direction intersecting one side of the pixel region that avoids the arrangement of the enable circuit and the sampling circuit.

よって、複数のイネーブル信号線と同様に、N本の画像信号線について夫々、イネーブル回路及びシフトレジスタの周囲を迂回させるようなパターンとして形成しなくても、画像信号端子から画素領域の一辺に沿った部分を有するように、イネーブル回路及びサンプリング回路間に配線することが可能となる。従って、各画像信号線の配線長をより短縮すると共に、N本の画像信号線間の配線長のばらつきを小さく抑える、即ち、N本の画像信号線間の配線長の差異を殆ど或いは実践的な意味で完全に無くすことができる。   Therefore, similarly to the plurality of enable signal lines, the N image signal lines can be formed from the image signal terminal along one side of the pixel region without forming a pattern that bypasses the periphery of the enable circuit and the shift register. It is possible to wire between the enable circuit and the sampling circuit so as to have a portion. Therefore, the wiring length of each image signal line is further shortened, and the variation in the wiring length between the N image signal lines is suppressed, that is, the wiring length difference between the N image signal lines is almost or practically reduced. Can be completely eliminated.

その結果、各画像信号線において画像信号の遅延量を比較的小さくすると共に、N個の系列の各々で、この遅延量のばらつきを小さく抑えることができる。よって、サンプリング回路において、互いに異なる系列の画像信号の各々の供給タイミングについて、サンプリングのタイミングに対する遅延量を小さく抑えると共に、この遅延量のばらつきも小さく抑えることが可能となる。   As a result, the delay amount of the image signal in each image signal line can be made relatively small, and variation in the delay amount can be suppressed small in each of the N series. Therefore, in the sampling circuit, for each supply timing of image signals of different series, it is possible to reduce the delay amount with respect to the sampling timing and to suppress variations in the delay amount.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記複数のイネーブル信号端子と夫々電気的に接続される複数のイネーブル信号供給用フレキシブル配線を有すると共に、前記一辺と交差する辺において前記基板に接続されたフレキシブル配線板を備える。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the electro-optical device includes a plurality of enable signal supply flexible wirings electrically connected to the plurality of enable signal terminals, and is connected to the substrate at a side intersecting the one side. A flexible wiring board.

この態様によれば、フレキシブル配線板が、電気光学装置に実装された状態で、複数のイネーブル信号端子と複数のイネーブル信号供給用フレキシブル配線とが電気的に接続される。この状態で、複数のイネーブル信号供給用フレキシブル配線の各々は、イネーブル信号線の配線部分と同様の配線方向に沿って、フレキシブル配線板に作りこまれた外部回路からイネーブル信号端子まで配線されるように形成されると共に、各イネーブル信号線の一端側を、配線部分からその延長線上に延長してイネーブル信号端子まで配線するように形成する。これにより、複数系列の各々のイネーブル信号について、外部回路からイネーブル回路までの間のイネーブル信号の供給経路の配線長を小さくすると共に、配線長の差のばらつきも小さくすることが可能となる。よって、より確実に、各系列で、遅延量を小さくして、遅延量のばらつきも小さく抑えることができる。   According to this aspect, the plurality of enable signal terminals and the plurality of enable signal supplying flexible wirings are electrically connected in a state where the flexible wiring board is mounted on the electro-optical device. In this state, each of the plurality of enable signal supplying flexible wirings is routed from the external circuit built in the flexible wiring board to the enable signal terminal along the wiring direction similar to the wiring portion of the enable signal line. In addition, one end side of each enable signal line is formed so as to extend from the wiring portion onto the extension line to the enable signal terminal. As a result, for each of the plurality of enable signals, the wiring length of the supply path of the enable signal from the external circuit to the enable circuit can be reduced, and the variation in the wiring length difference can be reduced. Therefore, the delay amount can be reduced and the variation in the delay amount can be suppressed to be small in each series.

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様も含む)を具備してなる。   In order to solve the above-described problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電子機器は、上述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置(Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display)を用いた表示装置等を実現することも可能である。   Since the electronic apparatus of the present invention includes the above-described electro-optical device of the present invention, a projection display device, a television, a mobile phone, an electronic notebook, a word processor, a view capable of performing high-quality image display. Various electronic devices such as a finder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a touch panel can be realized. Further, as the electronic apparatus of the present invention, for example, an electrophoretic device such as electronic paper, a display device using an electron emission device (Field Emission Display and Conduction Electron-Emitter Display), or the like can be realized.

本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。   The operation and other advantages of the present invention will become apparent from the best mode for carrying out the invention described below.

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, a driving circuit built-in type TFT active matrix driving type liquid crystal device, which is an example of the electro-optical device of the present invention, is taken as an example.

<液晶装置の全体構成>
本実施形態に係る液晶装置について、図1から図9を参照して説明する。
<Overall configuration of liquid crystal device>
The liquid crystal device according to this embodiment will be described with reference to FIGS.

先ず、図1及び図2を参照して、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について説明する。ここに図1は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H´線での断面図である。   First, the overall configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal device according to this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line H-H 'in FIG.

図1及び図2において、本実施形態に係る液晶装置では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。   1 and 2, in the liquid crystal device according to the present embodiment, a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 are arranged to face each other. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are surrounded by an image display region 10a as an example of the “pixel region” according to the present invention. They are bonded to each other by a sealing material 52 provided in a sealing region located in the area.

図1において、シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。   In FIG. 1, a light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display region 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal region where the sealing material 52 is disposed.

周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられており、周辺領域のうちシール領域より内側に位置する領域には、TFTアレイ基板10の一辺に沿う画像表示領域10aの一辺に沿って且つ額縁遮光膜53に覆われるようにしてサンプリング回路7が配置される。   A data line driving circuit 101 is provided along one side of the TFT array substrate 10 in a region located outside the seal region in which the sealing material 52 is disposed in the peripheral region. In the region located inside, the sampling circuit 7 is arranged along one side of the image display region 10 a along one side of the TFT array substrate 10 and covered with the frame light shielding film 53.

本実施形態では特に、データ線駆動回路101や走査線駆動回路104等の周辺回路を駆動するための各種信号が供給される複数の外部回路接続端子102が、データ線駆動回路101及びサンプリング回路7の配置を避ける方向に、データ線駆動回路101が配置されたTFTアレイ基板10の一辺に隣接する他の辺に沿って設けられている。即ち、複数の外部回路接続端子102は、データ線駆動回路101又はサンプリング回路7が配置された画像表示領域10aの一辺に隣接する他辺に沿う方向に沿って配列されている。   In this embodiment, in particular, a plurality of external circuit connection terminals 102 to which various signals for driving peripheral circuits such as the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 are supplied include the data line driving circuit 101 and the sampling circuit 7. Are provided along the other side adjacent to one side of the TFT array substrate 10 on which the data line driving circuit 101 is arranged in a direction that avoids the arrangement. That is, the plurality of external circuit connection terminals 102 are arranged along a direction along the other side adjacent to one side of the image display region 10a where the data line driving circuit 101 or the sampling circuit 7 is arranged.

また、走査線駆動回路104は、TFTアレイ基板10のデータ線駆動回路101が配置された一辺に隣接する2辺(即ち、他の辺及びこれに対向する辺)に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。そして、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿って設けられた複数の配線105によって、二つの走査線駆動回路104は互いに電気的に接続される。   In addition, the scanning line driving circuit 104 is located inside the seal region along two sides adjacent to one side where the data line driving circuit 101 of the TFT array substrate 10 is disposed (that is, the other side and the side opposite thereto). The frame shading film 53 is provided so as to be covered. The two scanning line driving circuits 104 are electrically connected to each other by a plurality of wirings 105 provided along the remaining one side of the TFT array substrate 10.

また、TFTアレイ基板10上には、対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材で電気的に接続するための上下導通端子106が配置されている。   On the TFT array substrate 10, vertical conduction terminals 106 for electrically connecting the two substrates with a vertical conduction material are disposed in regions facing the four corner portions of the counter substrate 20.

図2において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用のTFT(Thin Film Transistor)や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域10aには、画素スイッチング用TFTや走査線、データ線等の配線の上層に画素電極9aが設けられている。画素電極9a上には、同図中に図示しない配向膜が形成されている。尚、本実施形態では、画素スイッチング素子はTFTのほか、各種トランジスタ或いはTFD等により構成されてもよい。   In FIG. 2, on the TFT array substrate 10, a laminated structure in which wirings such as pixel switching TFTs (Thin Film Transistors), scanning lines, and data lines are formed. In the image display area 10a, a pixel electrode 9a is provided in an upper layer of wiring such as a pixel switching TFT, a scanning line, and a data line. On the pixel electrode 9a, an alignment film (not shown) is formed. In the present embodiment, the pixel switching element may be constituted by various transistors, TFD, or the like in addition to the TFT.

他方、対向基板20におけるTFTアレイ基板10との対向面上に、遮光膜23が形成されている。そして、遮光膜23上に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向して形成される。更に、同図中には図示しない配向膜が形成される。   On the other hand, a light shielding film 23 is formed on the surface of the counter substrate 20 facing the TFT array substrate 10. A counter electrode 21 made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed on the light shielding film 23 so as to face the plurality of pixel electrodes 9a. Further, an alignment film (not shown) is formed in the drawing.

液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、上述した一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。   The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one kind or several kinds of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films described above.

尚、ここでは図示しないが、TFTアレイ基板10上には、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。   Although not shown here, in addition to the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104, the TFT array substrate 10 is used for inspecting the quality, defects, etc. of the liquid crystal device during manufacturing or at the time of shipment. An inspection circuit, an inspection pattern, or the like may be formed.

次に、液晶装置に係る電気的な構成について、図3及び図4を参照して説明する。ここに図3は、液晶装置に電気的に接続される外部回路について説明するためのブロック図であり、図4は、液晶装置の各画素部を駆動するための電気的な構成を示すブロック図である。   Next, an electrical configuration of the liquid crystal device will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a block diagram for explaining an external circuit electrically connected to the liquid crystal device, and FIG. 4 is a block diagram showing an electrical configuration for driving each pixel portion of the liquid crystal device. It is.

図3に示すように、液晶装置には、画像信号供給回路720、タイミング制御回路730、及び電源回路710を含む外部回路が電気的に接続されて設けられる。   As shown in FIG. 3, the liquid crystal device is provided with external circuits including an image signal supply circuit 720, a timing control circuit 730, and a power supply circuit 710 that are electrically connected.

タイミング制御回路730は、各部で使用される各種タイミング信号を出力するように構成されている。タイミング制御回路730の一部であるタイミング信号出力手段により、最小単位のクロックであり各画素を走査するためのドットクロックが作成され、このドットクロックに基づいて、Yクロック信号CLY、反転Yクロック信号CLYinv、Xクロック信号CLX、反転Xクロック信号CLXinv、YスタートパルスDY及びXスタートパルスDXが生成され、液晶装置100に供給される。加えて、タイミング制御回路730より、例えば4系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4が生成されて出力され、液晶装置100に供給される。   The timing control circuit 730 is configured to output various timing signals used in each unit. A timing signal output means that is a part of the timing control circuit 730 generates a dot clock that is a minimum unit clock and scans each pixel. Based on the dot clock, a Y clock signal CLY and an inverted Y clock signal are generated. CLYinv, X clock signal CLX, inverted X clock signal CLXinv, Y start pulse DY and X start pulse DX are generated and supplied to the liquid crystal device 100. In addition, for example, four series of enable signals ENB <b> 1 to ENB <b> 4 are generated and output from the timing control circuit 730 and supplied to the liquid crystal device 100.

画像信号供給回路720には、外部から1系統の入力画像データVIDが入力される。画像信号供給回路720は、1系統の入力画像データVIDをシリアル−パラレル変換して、N系列或いはN相(但し、Nは2以上の自然数)、本実施形態では例えば6系列或いは6相(N=6)の画像信号VID1〜VID6を生成する。更に、画像信号供給回路720において、画像信号VID1〜VID6の各々の電圧が、所定の基準電位に対して正極性及び負極性に反転され、このように極性反転された画像信号VID1〜VID6が出力されるようにしてもよい。このように生成された画像信号VID1〜VID6は、画像信号供給回路720より液晶装置100に供給される。   One line of input image data VID is input to the image signal supply circuit 720 from the outside. The image signal supply circuit 720 performs serial-parallel conversion on one system of input image data VID to obtain N series or N phases (where N is a natural number of 2 or more). In this embodiment, for example, 6 series or 6 phases (N = 6) image signals VID1 to VID6 are generated. Further, in the image signal supply circuit 720, the voltages of the image signals VID1 to VID6 are inverted to a positive polarity and a negative polarity with respect to a predetermined reference potential, and the image signals VID1 to VID6 thus inverted in polarity are output. You may be made to do. The image signals VID <b> 1 to VID <b> 6 generated in this way are supplied from the image signal supply circuit 720 to the liquid crystal device 100.

また、電源回路710は、所定の共通電位LCCの共通電源、走査線駆動回路用電源VDDY及びVSSY、データ線駆動回路用電源VDDX等の各種電源を、液晶装置100に対して供給する。   The power supply circuit 710 supplies the liquid crystal device 100 with various power sources such as a common power source having a predetermined common potential LCC, scanning line driving circuit power sources VDDY and VSSY, and data line driving circuit power source VDDX.

次に、図4において、液晶装置には、そのTFTアレイ基板10の周辺領域に、内部駆動回路を構成する走査線駆動回路104、データ線駆動回路101及びサンプリング回路7が設けられている。尚、図4中には、内部駆動回路におけるこれら各種回路の配置に係る構成の一例についても概略的に的に示してある。   Next, in FIG. 4, the liquid crystal device is provided with a scanning line driving circuit 104, a data line driving circuit 101, and a sampling circuit 7 constituting an internal driving circuit in the peripheral region of the TFT array substrate 10. In FIG. 4, an example of a configuration relating to the arrangement of these various circuits in the internal drive circuit is also schematically shown.

走査線駆動回路104には、外部回路接続端子102を介して、Yクロック信号CLY、反転Yクロック信号CLYinv、YスタートパルスDY、並びに電源VDDY及びVSSYが供給される。走査線駆動回路104は、YスタートパルスDYが入力されると、Yクロック信号CLY及び反転Yクロック信号CLYinvに基づくタイミングで、走査信号G1、・・・、Gmを順次生成して出力する。   A Y clock signal CLY, an inverted Y clock signal CLYinv, a Y start pulse DY, and power supplies VDDY and VSSY are supplied to the scanning line driving circuit 104 via the external circuit connection terminal 102. When the Y start pulse DY is input, the scanning line driving circuit 104 sequentially generates and outputs the scanning signals G1,..., Gm at a timing based on the Y clock signal CLY and the inverted Y clock signal CLYinv.

本実施形態では、データ線駆動回路101には、シフトレジスタ101a及びイネーブル回路101bが含まれる。シフトレジスタ101aには、外部回路接続端子102として設けられたシフトレジスタ用信号端子及びシフトレジスタ用信号線(後述する図6参照)を介して、Xクロック信号CLX、反転Xクロック信号CLXinv、XスタートパルスDX並びに電源VDDX(更にはこの高電位電源に加えて低電位電源VSSX(係る電源の供給に関する構成については図示省略))が供給される。   In the present embodiment, the data line driving circuit 101 includes a shift register 101a and an enable circuit 101b. The shift register 101a has an X clock signal CLX, an inverted X clock signal CLXinv, and an X start via a shift register signal terminal and a shift register signal line (see FIG. 6 described later) provided as an external circuit connection terminal 102. The pulse DX and the power supply VDDX (further, in addition to the high-potential power supply, the low-potential power supply VSSX (the configuration related to the supply of the power supply is not shown)) are supplied.

イネーブル回路101bには、後述する外部回路接続端子102として設けられたイネーブル信号端子及びイネーブル信号線(図6参照)を介して、例えば4系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4が供給される。尚、イネーブル信号は4系列に限定されず、2系列以上として生成されるようにするとよい。   For example, four series of enable signals ENB1 to ENB4 are supplied to the enable circuit 101b via an enable signal terminal and an enable signal line (see FIG. 6) provided as an external circuit connection terminal 102 described later. Note that the enable signals are not limited to four sequences, and may be generated as two or more sequences.

更に、サンプリング回路7は、Pチャネル型又はNチャネル型の片チャネル型TFT、若しくは相補型のTFTから構成されたサンプリングスイッチ7aを複数備える。サンプリング回路7には、6相(或いは6系列)にシリアルーパラレル展開された画像信号VID1〜VID6が、外部回路接続端子102として設けられた画像信号端子及び、6本(N=6)の画像信号線170を介して供給される。そして、サンプリング回路7は、各サンプリングスイッチ7aが、データ線駆動回路101のイネーブル回路101bから出力されるサンプリング回路駆動信号S1、・・・、S2nに応じて、6本のデータ線6aを1群とするデータ線群毎に、画像信号VID1〜VID6を供給するように構成されている。従って、本実施形態では、複数のデータ線6aをデータ線群毎に駆動するため、駆動周波数が抑えられる。   Furthermore, the sampling circuit 7 includes a plurality of sampling switches 7a each composed of a P-channel or N-channel single-channel TFT or a complementary TFT. In the sampling circuit 7, image signals VID1 to VID6 serially and parallelly developed in 6 phases (or 6 series) are provided as image signal terminals provided as external circuit connection terminals 102 and 6 (N = 6) images. It is supplied via the signal line 170. In the sampling circuit 7, each sampling switch 7 a connects the six data lines 6 a to a group according to the sampling circuit drive signals S 1,..., S 2 n output from the enable circuit 101 b of the data line drive circuit 101. The image signals VID1 to VID6 are supplied for each data line group. Therefore, in the present embodiment, since the plurality of data lines 6a are driven for each data line group, the driving frequency can be suppressed.

液晶装置は、そのTFTアレイ基板10の中央を占める画像表示領域10aに、縦横に配線されたデータ線6a及び走査線11aを備えている。それらの交点に対応する各画素部700に、マトリクス状に配列された液晶素子118の画素電極9a、及び画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30を備える。尚、本実施形態では、走査線11aの総本数をm本(但し、mは2以上の自然数)とし、データ線6aの総本数を2n×6本(但し、nは2以上の自然数)として説明する。   The liquid crystal device includes data lines 6 a and scanning lines 11 a that are wired vertically and horizontally in an image display region 10 a that occupies the center of the TFT array substrate 10. Each pixel portion 700 corresponding to the intersection is provided with a pixel electrode 9a of a liquid crystal element 118 arranged in a matrix and a TFT 30 for switching control of the pixel electrode 9a. In the present embodiment, the total number of scanning lines 11a is m (where m is a natural number of 2 or more), and the total number of data lines 6a is 2n × 6 (where n is a natural number of 2 or more). explain.

図4中、一つの画素部700の構成に着目すれば、TFT30のソース電極には、画像信号VIDk(但し、k=1、2、3、・・・、6)が供給されるデータ線6aが電気的に接続されている一方、TFT30のゲート電極には、走査信号Gj(但し、j=1、2、3、・・・、m)が供給される走査線11aが電気的に接続されるとともに、TFT30のドレイン電極には、液晶素子118の画素電極9aが接続されている。ここで、各画素部700において、液晶素子118は、画素電極9aと対向電極21との間に液晶を挟持してなる。従って、各画素部700は、走査線11aとデータ線6aとの各交点に対応して、マトリクス状に配列されることになる。   In FIG. 4, when attention is paid to the configuration of one pixel portion 700, the data line 6a to which the image signal VIDk (where k = 1, 2, 3,..., 6) is supplied to the source electrode of the TFT 30. Is electrically connected to the gate electrode of the TFT 30, and a scanning line 11a to which a scanning signal Gj (j = 1, 2, 3,..., M) is supplied is electrically connected. In addition, the pixel electrode 9 a of the liquid crystal element 118 is connected to the drain electrode of the TFT 30. Here, in each pixel portion 700, the liquid crystal element 118 has a liquid crystal sandwiched between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21. Accordingly, each pixel unit 700 is arranged in a matrix corresponding to each intersection of the scanning line 11a and the data line 6a.

走査線駆動回路104から出力される走査信号G1、・・・、Gmによって、各走査線11aは線順次に選択される。選択された走査線11aに対応する画素部700において、TFT30に走査信号Gjが供給されると、TFT30はオン状態となり、当該画素部700は選択状態となる。液晶素子118の画素電極9aには、TFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aより画像信号VIDkが所定のタイミングで供給される。これにより、液晶素子118には、画素電極9a及び対向電極21の各々の電位によって規定される印加電圧が印加される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として液晶パネル100からは画像信号VID1〜VID6に応じたコントラストをもつ光が出射する。   Each scanning line 11a is selected line-sequentially by scanning signals G1,..., Gm output from the scanning line driving circuit 104. In the pixel portion 700 corresponding to the selected scanning line 11a, when the scanning signal Gj is supplied to the TFT 30, the TFT 30 is turned on and the pixel portion 700 is in a selected state. An image signal VIDk is supplied to the pixel electrode 9a of the liquid crystal element 118 at a predetermined timing from the data line 6a by closing the switch of the TFT 30 for a certain period. As a result, an applied voltage defined by the potentials of the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21 is applied to the liquid crystal element 118. The liquid crystal modulates light and enables gradation display by changing the orientation and order of the molecular assembly depending on the applied voltage level. In the normally white mode, the transmittance for incident light is reduced according to the voltage applied in units of each pixel, and in the normally black mode, the light is incident according to the voltage applied in units of each pixel. The light transmittance is increased, and light having a contrast corresponding to the image signals VID1 to VID6 is emitted from the liquid crystal panel 100 as a whole.

ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、蓄積容量70が、液晶素子118と並列に付加されている。蓄積容量70の一方の電極は、画素電極9aと並列してTFT30のドレインに接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量配線400に接続されている。   Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal element 118. One electrode of the storage capacitor 70 is connected to the drain of the TFT 30 in parallel with the pixel electrode 9a, and the other electrode is connected to the capacitor wiring 400 with a fixed potential so as to have a constant potential.

尚、上下導通端子106には、共通電位LCCの共通電源が供給され、上述した対向電極21の基準電位は共通電源に基づいて規定される。   Note that a common power supply of a common potential LCC is supplied to the vertical conduction terminal 106, and the reference potential of the counter electrode 21 described above is defined based on the common power supply.

<画素部の具体的構成>
次に、上述の動作を実現する画素部の具体的構成について、図5を参照して説明する。図5は、画素部の断面部分の構成を示す断面図である。尚、図5においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。この点については、後述する図7から図12の各図について同様であり、係る縮尺については各図毎でも互いに異なることもある。
<Specific configuration of pixel portion>
Next, a specific configuration of the pixel portion that realizes the above-described operation will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a cross-sectional portion of the pixel portion. In FIG. 5, the scale of each layer / member is different for each layer / member to have a size that can be recognized on the drawing. About this point, it is the same also about each figure of FIGS. 7-12 mentioned later, and it may mutually differ about each scale about this scale.

図5において、上述した画素部の各回路要素が、パターン化され、積層された導電膜としてTFTアレイ基板10上に構築され、このような積層構造が形成された側を対向基板20に対して対向させて、TFTアレイ基板10は配置される。以下、TFTアレイ基板10側の積層構造について詳細に説明する。   In FIG. 5, each circuit element of the pixel portion described above is patterned and constructed on the TFT array substrate 10 as a laminated conductive film, and the side on which such a laminated structure is formed is opposed to the counter substrate 20. The TFT array substrate 10 is disposed so as to face each other. Hereinafter, the laminated structure on the TFT array substrate 10 side will be described in detail.

まず、積層構造における第1層は、走査線11aを含み、走査線11aより上層側には下地絶縁膜12が形成される。   First, the first layer in the stacked structure includes the scanning line 11a, and the base insulating film 12 is formed on the upper layer side of the scanning line 11a.

そして、下地絶縁膜12より上層側に、TFT30等を含む第2層が形成される。TFT30は、例えばLDD(Lightly Doped Drain)構造とされ、ゲート電極3a、半導体層1a、ゲート電極3aと半導体層1aを絶縁するゲート絶縁膜を含んだ絶縁膜2を備えている。半導体層1aは、チャネル領域1a´、低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1c、並びに高濃度ソース領域1d及び高濃度ドレイン領域1eからなる。TFT30のゲート電極3aは、その一部分3bにおいて、下地絶縁膜12に形成されたコンタクトホール12cvを介して走査線11aに電気的に接続されている。   Then, a second layer including the TFT 30 and the like is formed on the upper layer side of the base insulating film 12. The TFT 30 has an LDD (Lightly Doped Drain) structure, for example, and includes a gate electrode 3a, a semiconductor layer 1a, and an insulating film 2 including a gate insulating film that insulates the gate electrode 3a from the semiconductor layer 1a. The semiconductor layer 1a includes a channel region 1a ′, a low concentration source region 1b and a low concentration drain region 1c, and a high concentration source region 1d and a high concentration drain region 1e. The gate electrode 3a of the TFT 30 is electrically connected to the scanning line 11a through a contact hole 12cv formed in the base insulating film 12 in a part 3b thereof.

また、TFT30等より上層側には、層間絶縁膜41が形成されると共に、層間絶縁膜41より上層側には、データ線6a等を含む第3層が形成される。第3層には、データ線6a及び中継層600が含まれる。データ線6aは、例えばアルミニウムを含む材料により形成されると共に、層間絶縁膜41を貫通するコンタクトホール81を介して、TFT30の高濃度ソース領域1dと電気的に接続されている。中継層600は、データ線6aと例えば同一膜により形成され、層間絶縁膜41を貫通するコンタクトホール83を介して、TFT30の高濃度ドレイン領域1eと電気的に接続されている。   An interlayer insulating film 41 is formed on the upper layer side from the TFT 30 and the like, and a third layer including the data line 6a and the like is formed on the upper layer side from the interlayer insulating film 41. The third layer includes the data line 6a and the relay layer 600. The data line 6 a is formed of, for example, a material containing aluminum and is electrically connected to the high concentration source region 1 d of the TFT 30 through a contact hole 81 that penetrates the interlayer insulating film 41. The relay layer 600 is formed of the same film as the data line 6a, for example, and is electrically connected to the high-concentration drain region 1e of the TFT 30 through a contact hole 83 that penetrates the interlayer insulating film 41.

更に、データ線6a等より上層側には、層間絶縁膜42が形成されると共に、層間絶縁膜42より上層側には、蓄積容量70等を含む第4層が形成される。蓄積容量70は、夫々例えばアルミニウムを含む材料により形成される容量電極300と下部電極71とが誘電体膜75を介して対向配置された構成となっている。容量電極300は、容量配線400(図4参照)の一部として形成されており、容量配線400と電気的に接続されている。また、下部電極71の延在部は、層間絶縁膜42を貫通するコンタクトホール84を介して、中継層600と電気的に接続されている。   Further, an interlayer insulating film 42 is formed above the data line 6a and the like, and a fourth layer including a storage capacitor 70 and the like is formed above the interlayer insulating film 42. The storage capacitor 70 has a configuration in which a capacitor electrode 300 and a lower electrode 71 formed of, for example, a material containing aluminum are arranged to face each other with a dielectric film 75 interposed therebetween. The capacitor electrode 300 is formed as a part of the capacitor wiring 400 (see FIG. 4), and is electrically connected to the capacitor wiring 400. The extending portion of the lower electrode 71 is electrically connected to the relay layer 600 through a contact hole 84 that penetrates the interlayer insulating film 42.

また、蓄積容量70等より上層側には、層間絶縁膜43が形成されると共に、層間絶縁膜43より上層側の第5層には、ITO等の透明導電膜からなる画素電極9aが形成される。画素電極9aは、層間絶縁膜43を貫通するコンタクトホール85を介して、下部電極71の延在部と電気的に接続されている。即ち、下部電極71の電位は、画素電位となっている。更に上述したように、下部電極71の延在部と中継層600と、及び、中継層600とTFT30の高濃度ドレイン領域1eとは、夫々コンタクトホール84及び83を介して、電気的に接続されている。即ち、画素電極9aとTFT30の高濃度ドレイン領域1eとは、中継層600及び下部電極71の延在部を中継して中継接続されている。   Further, an interlayer insulating film 43 is formed on the upper layer side from the storage capacitor 70 and the like, and a pixel electrode 9a made of a transparent conductive film such as ITO is formed on the fifth layer above the interlayer insulating film 43. The The pixel electrode 9 a is electrically connected to the extending portion of the lower electrode 71 through a contact hole 85 that penetrates the interlayer insulating film 43. That is, the potential of the lower electrode 71 is a pixel potential. Further, as described above, the extended portion of the lower electrode 71 and the relay layer 600 and the relay layer 600 and the high-concentration drain region 1e of the TFT 30 are electrically connected through the contact holes 84 and 83, respectively. ing. That is, the pixel electrode 9a and the high-concentration drain region 1e of the TFT 30 are relay-connected through the relay layer 600 and the extended portion of the lower electrode 71.

画素電極9aの上側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜16が設けられている。   An alignment film 16 that has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process is provided above the pixel electrode 9a.

以上が、TFTアレイ基板10側の画素部の構成である。   The above is the configuration of the pixel portion on the TFT array substrate 10 side.

他方、対向基板20には、その対向面の全面に対向電極21が設けられており、更にその上(図5では対向電極21の下側)に配向膜22が設けられている。対向電極21は、画素電極9aと同様、例えばITO膜等の透明導電性膜からなる。尚、対向基板20と対向電極21の間には、TFT30における光リーク電流の発生等を防止するため、少なくともTFT30と正対する領域を覆うように遮光膜23が設けられている。   On the other hand, the counter substrate 20 is provided with a counter electrode 21 on the entire surface of the counter substrate 20, and an alignment film 22 is further provided thereon (under the counter electrode 21 in FIG. 5). As with the pixel electrode 9a, the counter electrode 21 is made of a transparent conductive film such as an ITO film. A light-shielding film 23 is provided between the counter substrate 20 and the counter electrode 21 so as to cover at least a region facing the TFT 30 in order to prevent generation of light leakage current in the TFT 30.

このように構成されたTFTアレイ基板10と対向基板20の間には、液晶層50が設けられている。液晶層50は、基板10及び20の周縁部をシール材により封止して形成した空間に液晶を封入して形成される。液晶層50は、画素電極9aと対向電極21との間に電界が印加されていない状態において、ラビング処理等の配向処理が施された配向膜16及び配向膜22によって、所定の配向状態をとるようになっている。   A liquid crystal layer 50 is provided between the TFT array substrate 10 thus configured and the counter substrate 20. The liquid crystal layer 50 is formed by sealing liquid crystal in a space formed by sealing the peripheral portions of the substrates 10 and 20 with a sealing material. The liquid crystal layer 50 takes a predetermined alignment state by the alignment film 16 and the alignment film 22 that have been subjected to an alignment process such as a rubbing process in a state where an electric field is not applied between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21. It is like that.

<データ線の駆動に係る構成>
以下では、本実施形態において特徴的なデータ線の駆動に係る構成について、図6から図9を参照して、更に詳細に説明する。
<Configuration related to driving of data line>
In the following, the configuration related to the driving of the characteristic data line in the present embodiment will be described in more detail with reference to FIGS.

図6には、データ線駆動回路及びサンプリング回路、その他各種信号線及び信号端子の配置関係及びこれらの電気的な接続関係を概略的に示してある。尚、図6には、データ線駆動回路101における最終段(第2n段目)に係る構成を詳細に示してあるが、それ以下の段(即ち第1段目から第2n−1段目)の各々についても、その構成及び動作については最終段と同様のものとする。   FIG. 6 schematically shows the arrangement relationship between the data line driving circuit and the sampling circuit, other various signal lines and signal terminals, and their electrical connection relationship. FIG. 6 shows in detail the configuration related to the final stage (second nth stage) in the data line driving circuit 101, but the following stages (that is, the first stage to the (2n-1) th stage). For each of the above, the configuration and operation thereof are the same as those in the final stage.

図1、図4又は図6において、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、信号処理の手順上、データ線駆動回路101、サンプリング回路7はこの順に、画像表示領域10aのデータ線6aの配列方向(図6中、X方向)に沿う一辺に対して近づくように配置され、更にデータ線駆動回路101において、シフトレジスタ101a、イネーブル回路101bはこの順に、画像表示領域10aの一辺に近づくように配置される。また、図1又は図4を参照して説明したように、シフトレジスタ101a、イネーブル回路101b、及びサンプリング回路7は、画像表示領域10aの一辺に沿って、即ち複数のデータ線6aの配列方向(X方向)に沿って配置される。   In FIG. 1, FIG. 4 or FIG. 6, in the peripheral region on the TFT array substrate 10, the data line driving circuit 101 and the sampling circuit 7 are arranged in this order in the arrangement direction of the data lines 6a in the image display region 10a. In the data line drive circuit 101, the shift register 101a and the enable circuit 101b are arranged in this order so as to approach one side of the image display area 10a. Is done. Further, as described with reference to FIG. 1 or FIG. 4, the shift register 101a, the enable circuit 101b, and the sampling circuit 7 are arranged along one side of the image display area 10a, that is, in the arrangement direction of the plurality of data lines 6a ( (X direction).

図1を参照して説明したように、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、画像表示領域10aのデータ線駆動回路101又はサンプリング回路7が配置された一辺に隣接する他辺に沿う方向(図6中、Y方向或いはデータ線6aの延在方向)に沿って、夫々外部回路接続端子として、複数の、本実施形態では4個のイネーブル信号端子102e1〜102e4、複数のシフトレジスタ用信号端子102sr、及び6個(N=6)の画像信号端子102v1〜102v6が配列される。   As described with reference to FIG. 1, in the peripheral region on the TFT array substrate 10, the direction along the other side adjacent to the one side where the data line driving circuit 101 or the sampling circuit 7 of the image display region 10a is arranged (see FIG. 6, a plurality of, in this embodiment, four enable signal terminals 102 e 1 to 102 e 4 and a plurality of shift register signal terminals 102 sr as external circuit connection terminals respectively along the Y direction or the extending direction of the data line 6 a). , And 6 (N = 6) image signal terminals 102v1 to 102v6 are arranged.

シフトレジスタ101aと、複数のシフトレジスタ用信号端子102srとの間は、複数のシフトレジスタ用信号線128によって電気的に接続される。複数のシフトレジスタ用信号線128は夫々、一端側がシフトレジスタ用信号端子102srに電気的に接続されると共に他端側がシフトレジスタ101aに電気的に接続される。   The shift register 101a and the plurality of shift register signal terminals 102sr are electrically connected by a plurality of shift register signal lines 128. Each of the plurality of shift register signal lines 128 is electrically connected to the shift register signal terminal 102sr at one end side and electrically connected to the shift register 101a at the other end side.

シフトレジスタ101aは、Xクロック信号CLX、反転Xクロック信号CLXinv、XスタートパルスDX等の各種信号が、複数のシフトレジスタ用信号端子102srから夫々シフトレジスタ用信号線128を介して供給される。そして、シフトレジスタ101aは、XスタートパルスDXが入力されると、Xクロック信号CLX及び反転Xクロック信号XCLXinvに基づくタイミングで、転送信号SR1、・・・、SRnを順次生成して出力する。   The shift register 101a is supplied with various signals such as an X clock signal CLX, an inverted X clock signal CLXinv, and an X start pulse DX from a plurality of shift register signal terminals 102sr via shift register signal lines 128, respectively. When the X start pulse DX is input, the shift register 101a sequentially generates and outputs the transfer signals SR1,..., SRn at a timing based on the X clock signal CLX and the inverted X clock signal XCLXinv.

また、イネーブル回路101bの各段は、例えばAND回路121により構成されている。また、4個のイネーブル信号端子102e1〜102e4の各々には、4本のイネーブル信号線122−1〜122−4の各々の一端側が電気的に接続されており、4本のイネーブル信号線122−1〜122−4の各々の他端側は、夫々イネーブル回路101bにおける各AND回路121に電気的に接続される。   Each stage of the enable circuit 101b is configured by, for example, an AND circuit 121. Each of the four enable signal terminals 102e1 to 102e4 is electrically connected to one end side of each of the four enable signal lines 122-1 to 122-4, so that the four enable signal lines 122- The other end side of each of 1-122-4 is electrically connected to each AND circuit 121 in the enable circuit 101b.

そして、イネーブル回路101bにおいて、各AND回路121には、シフトレジスタ101aから順次出力された転送信号SR1、・・・、SRnが供給されると共に、イネーブル信号端子102e1〜102e4から4本のイネーブル信号線122−1〜122−4を介して4系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4のいずれかが供給される。ここで、図6に示すように、本実施形態では、イネーブル回路101bは、転送信号SRi(i=1、2、3・・・、n)の一つの出力から2種のサンプリング回路駆動信号S2i及びS2i−1を得るように構成される。このため、転送信号SRiの一出力に対して、2個のAND回路121が駆動される。   In the enable circuit 101b, each AND circuit 121 is supplied with transfer signals SR1,..., SRn sequentially output from the shift register 101a, and four enable signal lines from the enable signal terminals 102e1 to 102e4. Any one of four series of enable signals ENB1 to ENB4 is supplied via 122-1 to 122-4. Here, as shown in FIG. 6, in the present embodiment, the enable circuit 101b is configured to output two types of sampling circuit drive signals S2i from one output of the transfer signal SRi (i = 1, 2, 3,..., N). And S2i-1. For this reason, two AND circuits 121 are driven for one output of the transfer signal SRi.

そして、各AND回路121は、転送信号SRiと、イネーブル信号ENB1〜ENB4のいずれかとの論理積を演算することで、転送信号SRiの各パルス幅をイネーブル信号ENB1〜ENB4の各々のパルス幅に基づいて整形する。そして、各AND回路121は、このように整形された後の転送信号SRiを、サンプリング回路駆動信号S2i若しくはS2i−1として出力する。   Then, each AND circuit 121 calculates the logical product of the transfer signal SRi and any one of the enable signals ENB1 to ENB4, so that each pulse width of the transfer signal SRi is based on each pulse width of the enable signals ENB1 to ENB4. To shape. Each AND circuit 121 outputs the transfer signal SRi thus shaped as the sampling circuit drive signal S2i or S2i-1.

尚、本実施形態では、データ線駆動回路101には、シフトレジスタ101a及びイネーブル回路101bの他、レベルシフタ回路等が設けられるようにしてもよい。   In this embodiment, the data line driving circuit 101 may be provided with a level shifter circuit and the like in addition to the shift register 101a and the enable circuit 101b.

サンプリング回路7には、データ線駆動回路101のイネーブル回路101bから、データ線群に対応するサンプリングスイッチ7a毎にサンプリング回路駆動信号S1、・・・、S2nが順次供給され、サンプリング回路駆動信号S1、・・・、S2nに応じて各サンプリングスイッチ7aはオン状態となる。よって、6本の画像信号線170−1〜170−6から画像信号VID1〜VID6が、オン状態となったサンプリングスイッチ7aを介して、データ線群に属するデータ線6aに同時に、且つデータ線群毎に順次供給される。6本の画像信号線170−1〜170−6は夫々一端側が画像信号端子102v1〜102v6の各々に電気的に接続されると共に、夫々他端側がサンプリング回路7のサンプリングスイッチ7aに電気的に接続される。   Sampling circuit drive signals S1,..., S2n are sequentially supplied from the enable circuit 101b of the data line drive circuit 101 to the sampling circuit 7 for each sampling switch 7a corresponding to the data line group. ..., each sampling switch 7a is turned on in response to S2n. Therefore, the image signals VID1 to VID6 from the six image signal lines 170-1 to 170-6 are simultaneously applied to the data line 6a belonging to the data line group via the sampling switch 7a which is turned on, and the data line group. Sequentially supplied every time. Each of the six image signal lines 170-1 to 170-6 is electrically connected to each of the image signal terminals 102v1 to 102v6, and the other end is electrically connected to the sampling switch 7a of the sampling circuit 7. Is done.

次に、図7を参照して、画像信号線及びイネーブル信号線の構成についてより詳細に説明する。図7は、画像信号線及びイネーブル信号線の各々の構成について概略的に示す平面図である。   Next, the configuration of the image signal line and the enable signal line will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 7 is a plan view schematically showing the configuration of each of the image signal line and the enable signal line.

図7には、6本の画像信号線170−1〜170−6及び6個の画像信号端子102v1〜102v6の各々、及び4本のイネーブル信号線122−1〜122−4及び4個のイネーブル信号端子102e1〜102e4の各々についてのみ着目して、TFTアレイ基板10上で平面的に見た配線形状の一例と、シフトレジスタ101a、イネーブル回路101b、及びサンプリング回路7に対する配置関係を図示してある。尚、図7中、これら信号線又は信号端子以外の配線や端子、更にはシフトレジスタ101a、イネーブル回路101b、及びサンプリング回路7についての詳細な構成は図示を省略してある。   FIG. 7 shows six image signal lines 170-1 to 170-6 and six image signal terminals 102v1 to 102v6, respectively, and four enable signal lines 122-1 to 122-4 and four enable signals. Focusing only on each of the signal terminals 102e1 to 102e4, an example of the wiring shape viewed in plan on the TFT array substrate 10 and the arrangement relationship with respect to the shift register 101a, the enable circuit 101b, and the sampling circuit 7 are illustrated. . In FIG. 7, illustrations of detailed configurations of the signal lines or wirings and terminals other than the signal terminals, and the shift register 101 a, the enable circuit 101 b, and the sampling circuit 7 are omitted.

本実施形態では、4本のイネーブル信号線122−1〜122−4は夫々、複数のデータ線6aの配列方向に沿って配線された配線部分(即ち、X方向に沿って配線された部分)を有している。イネーブル信号線122−1〜122−4の各々のX方向に沿って配線された部分は、シフトレジスタ101a及びサンプリング回路7との間であって、6本の画像信号線170−1〜170−6よりも、画像表示領域10aの一辺から遠ざかった位置に配置される。   In the present embodiment, each of the four enable signal lines 122-1 to 122-4 is wired along the arrangement direction of the plurality of data lines 6a (that is, a portion wired along the X direction). have. The portions of the enable signal lines 122-1 to 122-4 that are wired along the X direction are between the shift register 101 a and the sampling circuit 7, and include six image signal lines 170-1 to 170-. It is arranged at a position farther from one side of the image display area 10 a than 6.

言い換えれば、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々のX方向に沿って配線された部分は、シフトレジスタ101a及びサンプリング回路7との間であって、6本の画像信号線170−1〜170−6よりも、基板10のシフトレジスタ101aを配置した側の一辺に近い位置に配置される。   In other words, each of the enable signal lines 122-1 to 122-4 wired in the X direction is between the shift register 101 a and the sampling circuit 7 and has six image signal lines 170-1. It is arranged at a position closer to one side of the substrate 10 on the side where the shift register 101a is arranged than ˜170-6.

また、イネーブル信号端子102e1〜102e4は夫々、シフトレジスタ101a、イネーブル回路101b、及びサンプリング回路7の各々の複数のデータ線6aの配列方向(X方向)に沿う配置を回避する方向、即ちデータ線6aの延在方向(図7中、Y方向)に沿って配列される。   In addition, the enable signal terminals 102e1 to 102e4 are directions to avoid disposing the plurality of data lines 6a of the shift register 101a, the enable circuit 101b, and the sampling circuit 7 along the arrangement direction (X direction), that is, the data line 6a. Are arranged along the extending direction (Y direction in FIG. 7).

よって、4本のイネーブル信号線122−1〜122−4は夫々、シフトレジスタ101aの周囲を迂回させるようなパターンとして形成しなくても、X方向に沿って配線された部分から、イネーブル信号端子102e1〜102e4の各々まで延在させて配線することできる。   Accordingly, the four enable signal lines 122-1 to 122-4 do not have to be formed as a pattern that bypasses the periphery of the shift register 101 a, and enable signal terminals from the portion wired along the X direction. The wiring can be extended to each of 102e1 to 102e4.

従って、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々の配線長を、シフトレジスタ101aの周囲を迂回させて引き回す場合と比較して小さくすることができる。また、シフトレジスタ101aの周囲を迂回させる場合には、イネーブル信号線122−1〜122−4のうち、シフトレジスタ101aに対してより近くに配線された一の信号線と、この一の信号線よりシフトレジスタ101aより遠ざかって配線された他の信号線とでは、互いの配線長に大きな差が生じてしまう。即ち、イネーブル信号線122−1〜122−4間に配線長のばらつきが生じてしまう。   Accordingly, the wiring length of each of the enable signal lines 122-1 to 122-4 can be reduced as compared with the case where the enable signal lines 122-1 to 122-4 are routed around the shift register 101a. In order to bypass the periphery of the shift register 101a, one of the enable signal lines 122-1 to 122-4, which is wired closer to the shift register 101a, and this one signal line There is a large difference in wiring length between other signal lines that are further away from the shift register 101a. That is, the wiring length varies between the enable signal lines 122-1 to 122-4.

これに対して、本実施形態では、シフトレジスタ101aやサンプリング回路7に対するイネーブル信号線122−1〜122−4の各々の位置関係は、その配線長に大きな影響は与えないので、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々の間での配線長のばらつきを小さく抑えることが可能となる。即ち、イネーブル信号線122−1〜122−4間の配線長の差異を殆ど或いは好ましく完全に無くすことができる。   On the other hand, in the present embodiment, the positional relationship of each of the enable signal lines 122-1 to 122-4 with respect to the shift register 101a and the sampling circuit 7 does not have a great influence on the wiring length. It becomes possible to suppress the variation in the wiring length among each of −1 to 122-4. That is, the difference in wiring length between the enable signal lines 122-1 to 122-4 can be eliminated almost or preferably completely.

ここで、図6に戻り、複数のシフトレジスタ用信号端子102srについても、イネーブル信号端子102e1〜102e4と同様に配列されるため、各シフトレジスタ用信号線128は、その一端側に向かって、シフトレジスタ101aの周囲を、このシフトレジスタ101aよりも画像表示領域10aの一辺から遠ざかる側へ迂回させて引き回すようなパターンとして形成しなくても、シフトレジスタ用信号端子102srからシフトレジスタ101aまで配線することが可能となる。従って、各シフトレジスタ用信号線128の配線長を短縮することができる。   Returning to FIG. 6, since the plurality of shift register signal terminals 102sr are also arranged in the same manner as the enable signal terminals 102e1 to 102e4, each shift register signal line 128 shifts toward one end thereof. Wiring from the shift register signal terminal 102 sr to the shift register 101 a is possible without forming the pattern around the register 101 a so as to be detoured to the side farther from one side of the image display area 10 a than the shift register 101 a. Is possible. Therefore, the wiring length of each shift register signal line 128 can be shortened.

従って、本実施形態では、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々において、4系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4の各々の遅延量を比較的小さくすると共に、4系列間での遅延量のばらつきを小さく抑えることができる。その結果、サンプリング回路7において、互いに異なる系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4に基づく画像信号VID1〜VID6のサンプリングのタイミングの各々について、対応する画像信号VIDkの供給タイミングに対する遅延量を小さく抑えると共に、この遅延量のばらつきも小さく抑えることができる。   Therefore, in this embodiment, in each of the enable signal lines 122-1 to 122-4, the delay amount of each of the four series of enable signals ENB 1 to ENB 4 is made relatively small and the delay amount varies among the four series. Can be kept small. As a result, in the sampling circuit 7, for each of the sampling timings of the image signals VID1 to VID6 based on the different series of enable signals ENB1 to ENB4, the delay amount with respect to the supply timing of the corresponding image signal VIDk is suppressed, and this delay Variations in the amount can be kept small.

また、複数のシフトレジスタ用信号端子102srの一部は、TFTアレイ基板10上で平面的に見て、4個のイネーブル信号端子102e1〜102e4よりも、その配列方向で画像表示領域10aの一辺の近く、すなわち基板10のシフトレジスタ101aを配置した側の辺から遠くに配置されている。そして、このように配置された一部のシフトレジスタ用信号端子102srに、その一端側が電気的に接続されるシフトレジスタ用信号線128は夫々、一端側から他端側に向かって、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々と相交差するように形成される。   Further, a part of the plurality of shift register signal terminals 102sr is located on one side of the image display region 10a in the arrangement direction as compared with the four enable signal terminals 102e1 to 102e4 when viewed in plan on the TFT array substrate 10. It is disposed near, that is, far from the side on which the shift register 101a of the substrate 10 is disposed. The shift register signal lines 128 whose one end is electrically connected to a part of the shift register signal terminals 102 sr arranged in this way are each enabled signal lines from one end to the other end. It is formed so as to cross each of 122-1 to 122-4.

ここで、図8には、イネーブル信号線とシフトレジスタ用信号線との交差に係る構成について示す拡大平面図であり、図9は、図8のA−A’断面図である。   Here, FIG. 8 is an enlarged plan view showing a configuration relating to the intersection of the enable signal line and the shift register signal line, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 8.

図8又は図9において、好ましくは、図5を参照して説明した蓄積容量70の下部電極71及び容量電極300の各々を構成する導電膜のうち、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、イネーブル信号線122−1〜122−4は夫々下部電極71と同一膜により形成されると共に、シフトレジスタ用信号線128における、イネーブル信号線122−1〜122−4と交差する交差部分128bが容量電極300と同一膜により形成され、この交差部分128b以外の他部128aは下部電極71と同一膜により形成される。これにより、シフトレジスタ用信号線128における交差部分128bは、容量電極300と同一層に配置されると共に、シフトレジスタ用信号線128の他部128a及びイネーブル信号線122−1〜122−4は下部電極71と同一層に配置されることとなる。   8 or 9, preferably, in the peripheral region on the TFT array substrate 10 among the conductive films constituting each of the lower electrode 71 and the capacitor electrode 300 of the storage capacitor 70 described with reference to FIG. The signal lines 122-1 to 122-4 are each formed of the same film as the lower electrode 71, and the intersection 128 b of the shift register signal line 128 that intersects with the enable signal lines 122-1 to 122-4 is a capacitive electrode. The other portion 128 a other than the intersecting portion 128 b is formed of the same film as the lower electrode 71. As a result, the crossing portion 128b of the shift register signal line 128 is disposed in the same layer as the capacitor electrode 300, and the other portion 128a of the shift register signal line 128 and the enable signal lines 122-1 to 122-4 are located below. The electrode 71 is disposed in the same layer.

そして、シフトレジスタ用信号線128において、交差部分128bと、交差部分128b以外の他部128aとは、誘電体膜75を貫通して開孔されたコンタクトホール128aa及び128abを介して互いに電気的に接続される。   In the shift register signal line 128, the intersecting portion 128b and the other portion 128a other than the intersecting portion 128b are electrically connected to each other through contact holes 128aa and 128ab opened through the dielectric film 75. Connected.

よって、本実施形態では、シフトレジスタ101aの構成を適宜変更して、例えば、図4又は図6を参照して説明したような各データ線6aを、その配列方向に沿って片方向に駆動させる構成から、双方向に駆動させる構成とする場合も、シフトレジスタ101aを駆動するための各種信号の種類の増減に併せて、複数のシフトレジスタ用信号端子102srの少なくとも一部を、イネーブル信号端子102e1〜102e4の配列を避けて、この配列と同方向に沿って配列させることができる。よって、シフトレジスタ用信号端子102srの数や該端子間の間隔、更にはこれに加えて各シフトレジスタ用信号線128の引き回し形状についても、シフトレジスタ101aの構成に併せて変化させることが可能となる。また、このように各シフトレジスタ用信号線128の引き回し形状等を適宜変更しても、その少なくとも一部をイネーブル信号線122−1〜122−4に対して交差させることにより、これらの信号線の配置に要する配置面積を小さくすることができる。   Therefore, in the present embodiment, the configuration of the shift register 101a is appropriately changed, and for example, each data line 6a as described with reference to FIG. 4 or 6 is driven in one direction along the arrangement direction. Even in the case where the configuration is such that the drive is performed bidirectionally, at least part of the plurality of shift register signal terminals 102sr is connected to the enable signal terminal 102e1 in accordance with the increase / decrease in the types of various signals for driving the shift register 101a. It can be arranged along the same direction as this arrangement, avoiding the arrangement of ~ 1022e4. Therefore, the number of shift register signal terminals 102sr, the interval between the terminals, and the routing shape of each shift register signal line 128 can be changed in accordance with the configuration of the shift register 101a. Become. Further, even if the routing shape or the like of each shift register signal line 128 is appropriately changed in this way, at least a part of the signal line is intersected with the enable signal lines 122-1 to 122-4 so that these signal lines are The arrangement area required for the arrangement can be reduced.

また、図6又は図7において、6本の画像信号線170−1〜170−6の各々の少なくとも一部は、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々の配線部分と同様に、他端側から一端側に向かって、複数のデータ線6aの配列方向(図7中、X方向)に沿って配線されており、X方向に沿う画像表示領域10aの一辺に対してサンプリング回路7より遠く且つイネーブル回路101bより近い位置に配線されている。尚、例えば6本の画像信号線170−1〜170−6は夫々、好ましくは、図5を参照して説明したデータ線6aと同一膜により形成するのがよい。   In FIG. 6 or FIG. 7, at least a part of each of the six image signal lines 170-1 to 170-6 is the same as the wiring part of each of the enable signal lines 122-1 to 122-4. From the end side to the one end side, the plurality of data lines 6a are wired along the arrangement direction (X direction in FIG. 7), and from the sampling circuit 7 to one side of the image display area 10a along the X direction. It is wired far away and closer to the enable circuit 101b. For example, each of the six image signal lines 170-1 to 170-6 is preferably formed of the same film as the data line 6a described with reference to FIG.

また、6個の画像信号端子102v1〜102v6は、上述した4個のイネーブル信号端子102e1〜102e4と同様に、シフトレジスタ101a、イネーブル回路101b及びサンプリング回路7の各々の配置を回避する方向(データ線6aの延在方向或いはY方向)に沿って配列される。   In addition, the six image signal terminals 102v1 to 102v6 are arranged in directions to avoid the arrangement of the shift register 101a, the enable circuit 101b, and the sampling circuit 7 (data lines), similarly to the four enable signal terminals 102e1 to 102e4 described above. 6a extending direction or Y direction).

よって、イネーブル信号線122−1〜122−4と同様に、6本の画像信号線170−1〜170−6について夫々、イネーブル回路101b及びシフトレジスタ101aの周囲を迂回させるようなパターンとして形成しなくても、画像信号端子102v1〜102v6の各々から、一端側から他端側に向かって、イネーブル回路101b及びサンプリング回路7間に配線することが可能となる。従って、画像信号線170−1〜170−6の各々についても配線長をより短縮すると共に、これらの信号線間の配線長のばらつきも小さく抑える、即ち、画像信号線170−1〜170−6間の配線長の差異を殆ど或いは好ましくは完全に無くすことができる。   Therefore, like the enable signal lines 122-1 to 122-4, the six image signal lines 170-1 to 170-6 are formed as patterns that bypass the periphery of the enable circuit 101 b and the shift register 101 a, respectively. Even if not, it is possible to wire between the enable circuit 101b and the sampling circuit 7 from each of the image signal terminals 102v1 to 102v6 from one end side to the other end side. Accordingly, the wiring length of each of the image signal lines 170-1 to 170-6 is further shortened, and variations in the wiring length between these signal lines are also suppressed, that is, the image signal lines 170-1 to 170-6. The difference in the wiring length between them can be eliminated almost or preferably completely.

従って、画像信号線170−1〜170−6の各々において、画像信号VID1〜VID6の各々の遅延量を比較的小さくすると共に、6系列間の遅延量のばらつきも小さく抑えることができる。よって、サンプリング回路7において、互いに異なる系列の画像信号VID1〜VID6の各々の供給タイミングについて、サンプリングのタイミングに対する遅延量を小さく抑えると共に、この遅延量のばらつきも小さく抑えることが可能となる。   Therefore, in each of the image signal lines 170-1 to 170-6, the delay amount of each of the image signals VID1 to VID6 can be made relatively small, and variation in the delay amount among the six sequences can be suppressed to be small. Therefore, in the sampling circuit 7, for each supply timing of the image signals VID1 to VID6 of different series, it is possible to reduce the delay amount with respect to the sampling timing and to suppress variations in the delay amount.

以上説明したように、本実施形態では、イネーブル信号線122−1〜122−4間の配線長の差異を殆ど無くすことができ、ゴースト等の画像不良の発生を防止して、高品質な画像表示を行うことができる。更に、本実施形態では、画像信号線170−1〜170−6間の配線長の差異を殆ど無くすことができ、一層高品質な画像表示が可能となる。   As described above, in the present embodiment, the difference in the wiring length between the enable signal lines 122-1 to 122-4 can be almost eliminated, the occurrence of image defects such as ghosts can be prevented, and a high-quality image can be obtained. Display can be made. Furthermore, in this embodiment, the difference in wiring length between the image signal lines 170-1 to 170-6 can be almost eliminated, and a higher quality image display can be performed.

また、本実施形態では、上述したように、シフトレジスタ用信号線128、イネーブル信号線122−1〜122−4、或いは画像信号線170−1〜170−6を、蓄積容量70やデータ線6aを構成する導電膜と同一膜により形成することで、液晶装置の製造プロセスにおいて、これらの各種信号線を形成するための工程数を簡略化することが可能となる。   In the present embodiment, as described above, the shift register signal line 128, the enable signal lines 122-1 to 122-4, or the image signal lines 170-1 to 170-6 are connected to the storage capacitor 70 or the data line 6a. In the manufacturing process of the liquid crystal device, the number of steps for forming these various signal lines can be simplified.

<変形例>
次に、図10から図12を参照して変形例について説明する。図10は、本変形例における一の構成について、イネーブル信号線とシフトレジスタ用信号線との交差に係る構成について示す拡大平面図であり、図11は、図10のB−B’断面図である。
<Modification>
Next, a modified example will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is an enlarged plan view showing a configuration relating to the intersection of the enable signal line and the shift register signal line, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. is there.

本変形例では、図10又は図11において、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、イネーブル信号線122−1〜122−4は夫々、例えば下部電極71と同一膜により形成されると共に、シフトレジスタ用信号線128における、イネーブル信号線122−1〜122−4と交差する交差部分に加えて、交差部分以外の他部も、例えば容量電極300と同一膜により形成するようにしてもよい。   In the present modification, in FIG. 10 or FIG. 11, in the peripheral region on the TFT array substrate 10, the enable signal lines 122-1 to 122-4 are each formed of the same film as the lower electrode 71, for example. In addition to the intersecting portions of the signal line 128 that intersect the enable signal lines 122-1 to 122-4, other portions other than the intersecting portions may be formed of the same film as the capacitor electrode 300, for example.

このように構成すれば、図11において、シフトレジスタ用信号線128において、交差部分の両端側を交差部分以外の他部とコンタクトホールを介して電気的に接続させるような構成は不要となる。よって、シフトレジスタ用信号線128におけるコンタクト抵抗を低減すると共に、その形成に係る製造工程をより簡略化することが可能となる。   With this configuration, in FIG. 11, the shift register signal line 128 is not required to be electrically connected to the other end portions of the crossing portion with other portions other than the crossing portion through the contact holes. Therefore, it is possible to reduce the contact resistance in the shift register signal line 128 and further simplify the manufacturing process related to the formation.

また、図12には、本変形例における他の構成について、イネーブル信号端子に対するフレキシブル配線板の実装に関する構成を概略的に示す部分平面図である。   FIG. 12 is a partial plan view schematically showing a configuration related to the mounting of the flexible wiring board on the enable signal terminal in another configuration in the present modification.

例えば図3を参照して説明したような外部回路は、フレキシブル配線板200が、図1に示す複数の外部回路接続端子102に対して実装されることにより、液晶装置に対して接続される。この場合、液晶装置に実装された状態で、フレキシブル配線板200において、4系列のイネーブル信号ENB1〜ENB4を供給する4本のイネーブル信号供給用フレキシブル配線210−1〜210−4の各々は、イネーブル信号端子102e1〜102e4の各々に対して、基板10のY方向の辺において異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続される。そして、この状態で、例えばイネーブル信号供給用フレキシブル配線210−1〜210−4は夫々、図12中X方向、即ち複数のデータ線6aの配列方向と同方向に沿って、配置されるように形成される。   For example, the external circuit as described with reference to FIG. 3 is connected to the liquid crystal device by mounting the flexible wiring board 200 on the plurality of external circuit connection terminals 102 shown in FIG. In this case, each of the four enable signal supply flexible wirings 210-1 to 210-4 that supplies four series of enable signals ENB <b> 1 to ENB <b> 4 in the flexible wiring board 200 in a state of being mounted on the liquid crystal device is enabled. Each of the signal terminals 102e1 to 102e4 is electrically and mechanically connected via an anisotropic conductive film on the side of the substrate 10 in the Y direction. In this state, for example, the enable signal supplying flexible wirings 210-1 to 210-4 are arranged along the X direction in FIG. 12, that is, along the same direction as the arrangement direction of the plurality of data lines 6a. It is formed.

これに対して、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々の一端側を、X方向に沿って配線された配線部分(図7参照)からその延長線上に延長して、イネーブル信号端子102e1〜102e4の各々まで配線するように形成するのが好ましい。   In contrast, in the peripheral region on the TFT array substrate 10, one end side of each of the enable signal lines 122-1 to 122-4 is extended from a wiring portion (see FIG. 7) wired along the X direction. It is preferable that the wiring is formed so as to extend to the lines of the enable signal terminals 102e1 to 102e4.

このように構成すれば、TFTアレイ基板10上の周辺領域において、イネーブル信号線122−1〜122−4の各々の配線長をより小さくすると共に、これらの信号線間の配線長のばらつきをより小さく抑えることが可能となる。更には、イネーブル信号ENB1〜ENB4の各々について、外部回路からイネーブル回路101bまでの間の信号の供給経路の配線長を小さくすると共に、これらの供給経路間の配線長のばらつきも小さくすることが可能となる。よって、より確実に、各系列で、遅延量を小さくして、遅延量のばらつきも小さく抑えることができる。
<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
With this configuration, the wiring length of each of the enable signal lines 122-1 to 122-4 is made smaller in the peripheral region on the TFT array substrate 10, and the variation in wiring length between these signal lines is further increased. It can be kept small. Further, for each of the enable signals ENB1 to ENB4, it is possible to reduce the wiring length of the signal supply path from the external circuit to the enable circuit 101b, and to reduce the variation in the wiring length between these supply paths. It becomes. Therefore, the delay amount can be reduced and the variation in the delay amount can be suppressed to be small in each series.
<Electronic equipment>
Next, the case where the liquid crystal device which is the above-described electro-optical device is applied to various electronic devices will be described.

まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図13は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。この図に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gに入射される。   First, a projector using this liquid crystal device as a light valve will be described. FIG. 13 is a plan view showing a configuration example of the projector. As shown in this figure, a lamp unit 1102 including a white light source such as a halogen lamp is provided inside the projector 1100. The projection light emitted from the lamp unit 1102 is separated into three primary colors of RGB by four mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 arranged in the light guide 1104, and serves as a light valve corresponding to each primary color. The light enters the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G.

液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、RおよびBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。   The configurations of the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G are the same as those of the liquid crystal device described above, and are driven by R, G, and B primary color signals supplied from the image signal processing circuit. The light modulated by these liquid crystal panels enters the dichroic prism 1112 from three directions. In this dichroic prism 1112, R and B light is refracted at 90 degrees, while G light travels straight. Accordingly, as a result of the synthesis of the images of the respective colors, a color image is projected onto the screen or the like via the projection lens 1114.

ここで、各液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110Gによる表示像は、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像に対して左右反転することが必要となる。   Here, paying attention to the display images by the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G, the display image by the liquid crystal panel 1110G needs to be horizontally reversed with respect to the display images by the liquid crystal panels 1110R, 1110B.

尚、液晶パネル1110R、1110Bおよび1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。   Since light corresponding to the primary colors R, G, and B is incident on the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G by the dichroic mirror 1108, it is not necessary to provide a color filter.

尚、図13を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。   In addition to the electronic device described with reference to FIG. 13, a mobile personal computer, a mobile phone, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, and an electronic notebook Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices with touch panels, and the like. Needless to say, the present invention can be applied to these various electronic devices.

また本発明は、上述の実施形態で説明した液晶装置以外にも、シリコン基板上に素子を形成する反射型液晶装置(LCOS)、プラズマディスプレイ(PDP)、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、有機ELディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、電気泳動装置等にも適用可能である。   In addition to the liquid crystal device described in the above embodiment, the present invention also includes a reflective liquid crystal device (LCOS) in which elements are formed on a silicon substrate, a plasma display (PDP), a field emission display (FED, SED), The present invention can also be applied to an organic EL display, a digital micromirror device (DMD), an electrophoresis apparatus, and the like.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. An electronic apparatus including the electro-optical device is also included in the technical scope of the present invention.

液晶装置の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of a liquid crystal device. 図1のH−H´線での断面図である。It is sectional drawing in the HH 'line of FIG. 外部回路について説明するためのブロック図である。It is a block diagram for demonstrating an external circuit. 液晶装置の各画素部を駆動するための電気的な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electrical structure for driving each pixel part of a liquid crystal device. 画素部の断面部分の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the cross-sectional part of a pixel part. データ線駆動回路及びサンプリング回路、その他各種信号線及び信号端子の配置関係及びこれらの電気的な接続関係を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the arrangement | positioning relationship of various signal lines and signal terminals, and these electrical connection relationships, a data line drive circuit and a sampling circuit. 画像信号線及びイネーブル信号線の各々の構成について概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly about each structure of an image signal line and an enable signal line. イネーブル信号線とシフトレジスタ用信号線との交差に係る構成について示す拡大平面図である。FIG. 6 is an enlarged plan view showing a configuration related to an intersection of an enable signal line and a shift register signal line. 図8のA−A’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of FIG. 本変形例における一の構成について、イネーブル信号線とシフトレジスタ用信号線との交差に係る構成について示す拡大平面図である。FIG. 10 is an enlarged plan view showing a configuration related to the intersection of an enable signal line and a shift register signal line in one configuration in the present modification. 図10のB−B’断面図である。It is B-B 'sectional drawing of FIG. 本変形例における他の構成について、イネーブル信号端子に対するフレキシブル配線板の実装に関する構成を概略的に示す部分平面図である。It is a fragmentary top view which shows schematically the structure regarding mounting of the flexible wiring board with respect to an enable signal terminal about the other structure in this modification. 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the projector which is an example of the electronic device to which the electro-optical apparatus is applied.

符号の説明Explanation of symbols

6a…データ線、7…サンプリング回路、10…TFTアレイ基板、10a…画素領域、11a…走査線、101a…シフトレジスタ、101b…イネーブル回路、102e1〜102e4…イネーブル信号端子、122−1〜122−4…イネーブル信号線、700…画素部   6a ... data line, 7 ... sampling circuit, 10 ... TFT array substrate, 10a ... pixel area, 11a ... scanning line, 101a ... shift register, 101b ... enable circuit, 102e1-102e4 ... enable signal terminal, 122-1-122- 4 ... enable signal line, 700 ... pixel portion

Claims (8)

基板上に、
複数の画素部と、
前記複数の画素部が配列された画素領域に相交差するように配線された複数の走査線及び複数のデータ線と、
前記画素領域の周辺に位置する周辺領域において、前記複数のデータ線の配列方向に沿う前記基板の一辺に沿って配置され、転送信号を順次出力するシフトレジスタと、
前記周辺領域に配置され、前記転送信号を、複数系列のイネーブル信号の各々のパルス幅で制限して、サンプリング回路駆動信号として出力するイネーブル回路と、
前記サンプリング回路駆動信号に応じて、画像信号を前記複数のデータ線に夫々供給する複数のサンプリングスイッチを含むサンプリング回路と、
前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記複数系列のイネーブル信号が外部回路から供給される複数のイネーブル信号端子と、
前記周辺領域において、前記一辺の方向に延在するように配線された部分を夫々有すると共に、前記複数のイネーブル信号端子の各々に電気的に接続され、前記複数系列のイネーブル信号を前記イネーブル回路に供給する複数のイネーブル信号線と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
On the board
A plurality of pixel portions;
A plurality of scanning lines and a plurality of data lines wired so as to cross each other in a pixel region in which the plurality of pixel portions are arranged;
A shift register that is arranged along one side of the substrate along the arrangement direction of the plurality of data lines in a peripheral region located around the pixel region, and sequentially outputs a transfer signal;
An enable circuit that is arranged in the peripheral region and that outputs the transfer signal as a sampling circuit drive signal by limiting the transfer signal with the pulse width of each of a plurality of series of enable signals;
A sampling circuit including a plurality of sampling switches for supplying an image signal to each of the plurality of data lines in response to the sampling circuit driving signal;
In the peripheral region, a plurality of enable signal terminals arranged along a direction intersecting the one side, and the plurality of series of enable signals are supplied from an external circuit;
Each of the peripheral regions has a portion wired so as to extend in the direction of the one side, and is electrically connected to each of the plurality of enable signal terminals, and the plurality of series of enable signals are supplied to the enable circuit. An electro-optical device comprising: a plurality of enable signal lines to be supplied.
前記複数のイネーブル信号端子は夫々、前記基板上で平面的に見て、前記複数のイネーブル信号線の各々の延在方向の延長線上に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The plurality of enable signal terminals are arranged on extension lines in the extending direction of each of the plurality of enable signal lines as viewed in plan on the substrate. Electro-optic device. 前記基板上に、
前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記シフトレジスタを駆動させるための各種信号が前記外部回路から供給される複数のシフトレジスタ用信号端子と、
前記周辺領域において、前記複数のシフトレジスタ用信号端子に夫々電気的に接続され、前記各種信号を前記シフトレジスタに供給する複数のシフトレジスタ用信号線と
を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
On the substrate,
In the peripheral region, a plurality of shift register signal terminals arranged along a direction intersecting the one side and supplied with various signals for driving the shift register from the external circuit;
2. The shift register according to claim 1, further comprising: a plurality of shift register signal lines electrically connected to the plurality of shift register signal terminals in the peripheral region and supplying the various signals to the shift register. Or the electro-optical device according to 2;
前記複数のシフトレジスタ用信号端子のうち少なくとも一部は、前記複数のイネーブル信号端子よりも前記一辺から遠くに配置され、
前記一部のシフトレジスタ用信号端子に電気的に接続される前記シフトレジスタ用信号線は、前記複数のイネーブル信号線と相交差するように形成される
ことを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
At least some of the plurality of shift register signal terminals are arranged farther from the one side than the plurality of enable signal terminals,
4. The shift register signal line electrically connected to the part of the shift register signal terminals is formed so as to intersect with the plurality of enable signal lines. 5. Electro-optic device.
前記画素部は、前記走査線及び前記データ線に電気的に接続される各種電子素子を含み、
前記複数のイネーブル信号線は夫々、前記データ線及び前記電子素子のいずれかを構成する一の導電膜と同一膜により形成され、
前記シフトレジスタ用信号線のうち少なくとも前記イネーブル信号線と交差する交差部分は、層間絶縁膜を介して前記一の導電膜と異なる層に配置され、前記データ線及び前記電子素子のいずれかを構成する他の導電膜と同一膜により形成される
ことを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。
The pixel unit includes various electronic elements electrically connected to the scan line and the data line,
Each of the plurality of enable signal lines is formed of the same film as one conductive film constituting either the data line or the electronic element,
Of the shift register signal lines, at least an intersecting portion intersecting with the enable signal line is disposed in a layer different from the one conductive film via an interlayer insulating film, and constitutes either the data line or the electronic element The electro-optical device according to claim 4, wherein the electro-optical device is formed of the same film as the other conductive film.
前記基板上に、
前記周辺領域において、前記一辺に交わる方向に沿って配列され、前記画像信号として、N(但し、Nは2以上の自然数)個の系列にシリアル−パラレル変換された画像信号が前記外部回路から供給されるN個の画像信号端子と、
前記周辺領域において、前記一辺に沿って配線された部分を夫々有し且つ該部分が前記イネーブル回路と前記サンプリング回路との間に配置されると共に、前記N個の画像信号端子に電気的に接続され、前記N個の系列の画像信号を前記サンプリング回路に夫々供給するN本の画像信号線と
を備え、
前記イネーブル回路は、前記複数のデータ線のうちN本のデータ線を一群とするデータ線群に対応する前記サンプリングスイッチ毎に、前記サンプリング回路駆動信号を出力する
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
On the substrate,
In the peripheral region, an image signal arranged in a direction intersecting the one side and serial-parallel converted into N (where N is a natural number of 2 or more) series is supplied from the external circuit as the image signal. N image signal terminals,
Each of the peripheral areas has a portion wired along the one side, and the portions are disposed between the enable circuit and the sampling circuit and are electrically connected to the N image signal terminals. N image signal lines for supplying the N series of image signals to the sampling circuit, respectively.
The enable circuit outputs the sampling circuit drive signal for each of the sampling switches corresponding to a data line group including a group of N data lines among the plurality of data lines. The electro-optical device according to claim 5.
前記複数のイネーブル信号端子と夫々電気的に接続される複数のイネーブル信号供給用フレキシブル配線を有すると共に、前記一辺と交差する辺において前記基板に接続されたフレキシブル配線板を備えたことを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。   A plurality of enable signal supplying flexible wirings electrically connected to the plurality of enable signal terminals, respectively, and a flexible wiring board connected to the substrate at a side crossing the one side. The electro-optical device according to claim 1. 請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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