JP2007243069A - Manufacturing method of composite filter and composite filter obtained by the method - Google Patents

Manufacturing method of composite filter and composite filter obtained by the method Download PDF

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Kazuhito Fujii
和仁 藤井
Hideki Imamura
秀機 今村
Shinichi Kato
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a composite filter capable of exposing and grounding an electromagnetic wave shield sheet without the need for exfoliating and eliminating step of another optical filter layer from on the electromagnetic wave shield sheet. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the composite filter comprising (A) a continuous belt-like electromagnetic wave shield sheet 1 with a width W formed by laminating a mesh region and a grounding region 40 with a thickness of 5μm or below capable of entirely covering an image display region of a display to be applied on one side of a transparent substrate 11, and (B) a continuous belt-like adhesive optical filter 21 with a width X narrower than the width W one side of which an adhesive layer is laminated and at least part of a grounding region can be exposed, includes: directing the adhesive layer side of the continuous belt-like adhesive optical filter 21 to the conductor layer side of the electromagnetic wave shield sheet; continuously supplying the continuous belt-like adhesive optical filter 21 in a way of opposing just above the image display region part of the display in the electromagnetic wave shield sheet; adhering and laminating them; and exposing side end edges of the electromagnetic wave shield sheet as a grounding region. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、CRT、PDPなどのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽(シールド)する電磁波遮蔽機能、及び光学フィルタ機能を有する複合フィルタの製造方法に関し、さらに詳しくは、電磁波遮蔽シートからの光学フィルタ層の剥離及び/又は除去をすることなく接地が可能な複合フィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a composite filter having an electromagnetic wave shielding function for shielding electromagnetic waves generated from a display such as a CRT or PDP, and an optical filter function, and more specifically, an optical filter layer from an electromagnetic wave shielding sheet. The present invention relates to a method for manufacturing a composite filter that can be grounded without peeling and / or removal.

近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electro Magnetic Interference;EMI)が増え、陰極線管(CRTという)、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPという。)などのディスプレイでも電磁波が発生する。PDPは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、近赤外線、及び熱が大量に発生する。通常、電磁波を遮蔽するためにPDPの前面に、電磁波遮蔽シートを含む前面板を設ける。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、30MHz〜1GHzにおいて30dB以上の機能が必要である。また、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線も、他のVTRなどの機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。   In recent years, with the advancement of functions and increased use of electric and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and displays such as cathode ray tubes (CRTs) and plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs). But electromagnetic waves are generated. A PDP is a combination of a glass having a data electrode, a fluorescent layer, and a glass having a transparent electrode, and generates a large amount of electromagnetic waves, near infrared rays, and heat when activated. Usually, in order to shield electromagnetic waves, a front plate including an electromagnetic wave shielding sheet is provided on the front surface of the PDP. The shielding property of electromagnetic waves generated from the front surface of the display requires a function of 30 dB or more at 30 MHz to 1 GHz. In addition, near infrared rays having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front of the display also cause other devices such as VTRs to malfunction, and need to be shielded.

この様な用途に用いる電磁波遮蔽シートでは電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。従って、電磁波遮蔽シートとしては、透明基材の全面に透明導電性のITO(酸化スズインジウム)膜を設けたものや、樹脂フィルムからなる透明基材に接着剤で貼り合わせた銅箔等の金属箔をエッチングしてメッシュ状としたもの等が知られている。   The electromagnetic wave shielding sheet used for such applications requires light transmittance as well as electromagnetic wave shielding performance. Therefore, as an electromagnetic shielding sheet, a transparent conductive ITO (indium tin oxide) film provided on the entire surface of a transparent substrate, or a metal such as a copper foil bonded to a transparent substrate made of a resin film with an adhesive Known is a foil etched into a mesh shape.

また、ディスプレイの前面に配置する前面板には、電磁波遮蔽機能以外に、ディスプレイから放射する不要な光(例えばPDPではネオン発光による波長590nm付近の光)を遮断し画像の色相調整を行い色再現性を向上させる機能、外光の不要な反射を抑える機能、ディスプレイからの不要な赤外線放射を抑え赤外線利用機器の誤動作を防ぐ機能等が求められることがある。そこで実際の前面板としては、電磁波遮蔽シートに、他のフィルタ機能を有する光学フィルタ、例えば、色補正フィルタ、反射防止フィルタ、近赤外線吸収フィルタ等と積層一体化して複合フィルタとしたものが使用されることが多い(例えば、特許文献1)。   In addition to the electromagnetic wave shielding function, the front plate placed on the front of the display blocks unnecessary light emitted from the display (for example, light with a wavelength of about 590 nm due to neon light emission in PDP), and adjusts the hue of the image to reproduce the color. There are cases where a function to improve the performance, a function to suppress unnecessary reflection of external light, a function to suppress unnecessary infrared radiation from the display and to prevent malfunction of an infrared using device may be required. Therefore, as the actual front plate, an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter having other filter functions, for example, a color filter, antireflection filter, near infrared absorption filter, etc., laminated and integrated into a composite filter are used. (For example, Patent Document 1).

当該光学フィルタ層を金属メッシュ面に積層する際には、予め平坦化樹脂と呼称される透明樹脂でメッシュの開口部を充填して、金属メッシュ状領域の表面を平坦化した後、該平坦化層上に接着剤層を介して該光学フィルタ層等を積層することが一般的である。これは、金属メッシュ層は開口部が凹んで凹凸面をなす為、直接接着剤によって光学フィルタ層を積層すると、金属メッシュの開口部内に気泡が残留してしまい、該気泡の光散乱により、複合フィルタの曇値(ヘイズ)が上昇するという不都合を生じるからである。
また、上記のような複合フィルタにおいては、電磁波遮蔽シートの金属メッシュを接地する必要が有る。そのために通常は、金属メッシュの周縁部に囲むように設けられた額縁状の、開口部を形成しない金属層を有し、この額縁状の金属層から接地することが一般的である(特許文献1)。
上記のような従来の複合フィルタは、各々ディスプレイ1台分の寸法形状に切断された電磁波遮蔽シートと光学フィルタとが、接地部分も含め全面に亘り全層積層されて成る。
かつ、上記のような接地工程は、必然的に、各々完成した複合フィルタとディスプレイ本体とを組合わせる、最終工程に近い段階に行うことになる。
このため、接地する際には、先ず、一旦全層積層した複合フィルタについて、接地する部分の額縁部の上から、積層してある光学フィルタ層を剥がして、額縁部の金属を露出させる必要がある。又、この場合、光学フィルタの剥離の際、薄膜の額縁部の金属層まで一緒に損傷、剥離することも起こり得る。かつ、メッシュ状領域の平坦化のための余分な材料や工程を要していた。
このような事情から、接地のための作業や、平坦化工程の省略が望まれていた。
When laminating the optical filter layer on the metal mesh surface, the surface of the metal mesh area is flattened by filling the mesh openings with a transparent resin called a flattening resin in advance. In general, the optical filter layer or the like is laminated on the layer via an adhesive layer. This is because the metal mesh layer has a concave and concave surface, and if an optical filter layer is directly laminated with an adhesive, bubbles remain in the metal mesh opening, and the light scattering of the bubbles causes compounding. This is because the problem arises that the haze value of the filter increases.
In the composite filter as described above, the metal mesh of the electromagnetic wave shielding sheet needs to be grounded. For this purpose, it is common to have a frame-like metal layer that is provided so as to surround the periphery of the metal mesh and that does not form an opening, and is grounded from this frame-like metal layer (Patent Literature). 1).
The conventional composite filter as described above is formed by laminating an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter, each cut to the size of one display, over the entire surface including the grounding portion.
In addition, the grounding process as described above is inevitably performed at a stage close to the final process in which each completed composite filter and display body are combined.
For this reason, when grounding, it is necessary to first peel off the laminated optical filter layer from the frame part of the part to be grounded to expose the metal of the frame part for the composite filter once laminated in all layers. is there. In this case, when the optical filter is peeled off, the metal layer on the frame portion of the thin film may be damaged and peeled off together. In addition, extra materials and processes for flattening the mesh-like region are required.
Under such circumstances, it is desired to omit the work for grounding and the flattening process.

一方、接地の際の露出の方法として、例えば、複合フィルタをディスプレイ1台分の寸法形状に切断する際に、切断箇所とは別に予め剥がしたい光学フィルタ層全層の厚みに達する切れ目(ハーフカット)を例えば複合フィルタの端部から10mm離れた箇所に入れた状態で電磁波遮蔽シート上に積層し、しかる後、該切れ目のところで縁部の上の光学フィルタ層、接着剤層を剥離除去する方法が提案されている(例えば、特許文献2)。
しかし、これらの特許文献に記載の接地部の露出作業は、ディスプレイ1台毎に1回ずつ実施する必要が有るため、まとめて量産加工することが不能であって、生産効率が悪く、煩雑であり、かつ加工には技量も要求され、失敗すると、複合フィルタ全体が無駄になってしまうという問題があった。
また、ガラス基板を用意し、其の表面側(観察者側)に光学フィルタを積層し、一方、該ガラス板の裏面側(ディスプレイ側)に電磁波遮蔽シートを其の金属メッシュ側が最外面に露出する向きで積層する方法も提案されている(例えば、特許文献3)。
この場合は、接地用の額縁部が最外面に露出する為、接地用額縁部上から光学フィルタを剥離除去することは不要となる。
但し、その代わり、額縁部が複合フィルタ裏面、しかも複合フィルタとディスプレイとの間隙部に挾まれる為、接地作業がし難くなるという別の問題が生じる。
On the other hand, as an exposure method at the time of grounding, for example, when the composite filter is cut into a size for one display, a cut that reaches the thickness of the entire optical filter layer to be peeled off separately from the cut portion (half cut) ) Is laminated on the electromagnetic wave shielding sheet in a state where it is placed 10 mm away from the end of the composite filter, for example, and then the optical filter layer and adhesive layer on the edge are peeled and removed at the cuts. Has been proposed (for example, Patent Document 2).
However, since the exposure work of the grounding portion described in these patent documents needs to be performed once for each display, mass production processing cannot be performed collectively, production efficiency is poor, and complicated. In addition, there is a problem that the processing requires a skill, and if it fails, the entire composite filter is wasted.
Also, a glass substrate is prepared, and an optical filter is laminated on the front surface side (observer side). On the other hand, an electromagnetic wave shielding sheet is exposed on the back surface side (display side) of the glass plate, and the metal mesh side is exposed on the outermost surface. A method of stacking in such a direction has also been proposed (for example, Patent Document 3).
In this case, since the frame portion for grounding is exposed on the outermost surface, it is not necessary to peel and remove the optical filter from the frame portion for grounding.
However, instead, the frame portion is sandwiched between the back surface of the composite filter and the space between the composite filter and the display, which causes another problem that the grounding work becomes difficult.

特開2003−86991号公報JP 2003-86991 A 特開2003−66854号公報JP 2003-66854 A 特開2001−210988号公報JP 2001-210988 A

本発明は以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去をすることなく、電磁波遮蔽シートの露出及び接地が可能であり、なお且つ接地作業も容易な複合フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and is performed for grounding a composite filter, without removing and removing other optical filter layers from the electromagnetic wave shielding sheet. The main object of the present invention is to provide a method of manufacturing a composite filter that can be exposed and grounded and that can be easily grounded.

本発明者らは、上記課題を解決すべく、額縁状接地部を有する電磁遮蔽シートと光学フィルタを積層した複合フィルタにおいて、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地が可能な複合フィルタの製造方法及び複合フィルタについて鋭意検討して、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
(A)透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な厚さ5μm以下のメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも片側端縁の一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる幅寸法Wの連続帯状電磁波遮蔽シートと、
(B)一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な、上記幅寸法Wより狭い幅寸法Xを有する連続状接着性光学フィルタとを、
上記連続状接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、かつ上記連続状接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上を覆う様に連続供給して、上記電磁波遮蔽シートに上記連続状接着性光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シートの少なくとも一側端縁を接地用領域として、露出させることを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法、及び
(2)前記(1)に記載の製造方法によって得られたことを特徴とするディスプレイ用複合フィルタ
を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have a composite filter in which an electromagnetic shielding sheet having a frame-shaped grounding portion and an optical filter are laminated, and a step of removing another optical filter layer from the electromagnetic shielding sheet. First, the present invention was completed by intensively studying a method for manufacturing a composite filter capable of exposing and grounding an electromagnetic wave shielding sheet and a composite filter.
That is, the present invention
A method for producing a composite filter for a display comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter,
(A) A mesh-like region having a thickness of 5 μm or less capable of covering the entire image display region of the applied display on one surface of the transparent substrate and a part of at least one side edge around the mesh-like region A continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet having a width dimension W formed by laminating at least a conductor layer having a grounding area;
(B) An adhesive layer is laminated on one surface to cover all portions of the electromagnetic wave shielding sheet facing the image display region of the display and to expose at least a part of the grounding region. and a continuous strip-like adhesive optical filter having a narrow width X than the width W,
The adhesive layer side of the adhesive optical filter said continuous band-like, towards the conductive layer side of the electromagnetic shielding sheet, and the continuous strip-like adhesive optical filter facing the image display area of the display in the electromagnetic shielding sheet was continuously fed to cover the portion directly above the, the electromagnetic shielding sheet to bond the continuous strip-like adhesive optical filter, and laminating at least one side edge of the electromagnetic shielding sheet as a ground area, is exposed And (2) a composite filter for display obtained by the production method described in (1) above.

本発明において、メッシュ状領域の周囲の少なくとも片側端縁の一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる幅寸法Wの連続帯状電磁波遮蔽シートと、一方の面に接着剤層が積層されてなり、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な、上記幅寸法Wより狭い幅寸法Xを有する連続帯状接着性光学フィルタとを、連続供給して、上記電磁波遮蔽シートに上記連続帯状接着性光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シートの両側端縁を接地用領域として、露出させたディスプレイ用複合フィルタの製造方法なので、接着積層工程のみで露出した接地用領域が確実形成される。このため、本発明の製造方法で得られた複合フィルタは、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有することなく、電磁波遮蔽シートの露出及び接地することができる。
また、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法において、前記電磁波遮蔽シートとして、前記メッシュ状領域のライン部の高さが5μm以下、メッシュ状領域の開口部の間口幅が150μm以上であり、かつメッシュ状領域の開口部に平坦化層の被覆の無い電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記連続帯状接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性に富む接着剤層を有する連続帯状接着性光学フィルタを用いると、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュの開口部内に気泡が残留することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇値(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。
さらに、厚さ5μm以下のメッシュ状領域としているので、平坦化工程のための余分な接着剤などを要せず、かつ、接着剤層の接地用領域への流出、逸脱、或いは光学フィルタと接着剤層との位置ズレも無いといった効果を奏するものである。
すなわち、本発明に係る複合フィルタの製造方法は、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地を可能な複合フィルタを、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができるといった効果を奏するものである。
In the present invention, a continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet having a width dimension W formed by laminating at least a conductor layer having a grounding region on a part of an edge on one side around a mesh-shaped region, and an adhesive layer on one surface A continuous band-like adhesive optical filter having a width dimension X narrower than the width dimension W, in which at least a part of the grounding region can be exposed, and the electromagnetic wave shielding. Adhering and laminating the above continuous belt-like adhesive optical filter on a sheet, and using both side edges of the electromagnetic wave shielding sheet as a grounding area, the exposed composite filter manufacturing method is used. The working area is reliably formed. For this reason, the composite filter obtained by the manufacturing method of the present invention exposes the electromagnetic wave shielding sheet without having a step of removing the other optical filter layer from the electromagnetic wave shielding sheet, which is performed for grounding the composite filter. And can be grounded.
Moreover, in the method for manufacturing a composite filter for display according to the present invention, as the electromagnetic wave shielding sheet, the line portion height of the mesh region is 5 μm or less, and the opening width of the opening portion of the mesh region is 150 μm or more. A continuous belt-like adhesive optical filter using an electromagnetic wave shielding sheet without a flattening layer coating at the opening in the mesh-like region, and having an adhesive layer having high fluidity during bonding and lamination as the continuous belt-like adhesive optical filter Can prevent bubbles from remaining in the openings of the mesh when laminating and bonding the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter while omitting the step of flattening the mesh surface. To avoid the inconvenience of increasing the haze value of the product, and to obtain a highly transparent composite filter with high production efficiency it can.
Furthermore, since the mesh area is 5 μm or less in thickness, no extra adhesive is required for the flattening process, and the adhesive layer flows out of the ground area, deviates, or adheres to the optical filter. There is an effect that there is no positional deviation from the agent layer.
That is, the method for manufacturing a composite filter according to the present invention does not have a step of removing the other optical filter layer from the electromagnetic wave shielding sheet for grounding the composite filter, and exposes and grounds the electromagnetic wave shielding sheet. It is possible to obtain a composite filter having high transparency with high production efficiency while omitting the step of flattening the possible composite filter on the mesh surface.

本発明の製造方法は、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
(A)透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な厚さ5μm以下のメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも片側端縁の一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる幅寸法Wの連続帯状電磁波遮蔽シートと、
(B)一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な、上記幅寸法Wより狭い幅寸法Xを有する連続帯状接着性光学フィルタとを、
上記連続帯状接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、かつ上記連続帯状接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上を覆う様に連続供給して、上記電磁波遮蔽シートに上記連続帯状接着性光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シートの少なくとも一側端縁を接地用領域として、露出させることを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法である。
また、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、前記製造方法によって得られたことを特徴とするディスプレイ用複合フィルタである。
以下、本発明について詳述する。
The production method of the present invention is a method for producing a composite filter for a display comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter,
(A) A mesh-like region having a thickness of 5 μm or less capable of covering the entire image display region of the applied display on one surface of the transparent substrate and a part of at least one side edge around the mesh-like region A continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet having a width dimension W formed by laminating at least a conductor layer having a grounding area;
(B) An adhesive layer is laminated on one surface to cover all portions of the electromagnetic wave shielding sheet facing the image display region of the display and to expose at least a part of the grounding region. A continuous strip-like adhesive optical filter having a width dimension X narrower than the width dimension W;
Directly above the part where the adhesive layer side of the continuous band-like adhesive optical filter faces the conductor layer side of the electromagnetic wave shielding sheet and the continuous band-like adhesive optical filter faces the image display area of the display in the electromagnetic wave shielding sheet The continuous band-like adhesive optical filter is adhered to and laminated on the electromagnetic wave shielding sheet, and at least one side edge of the electromagnetic wave shielding sheet is exposed as a grounding region. This is a method for manufacturing a composite filter for display.
Moreover, the composite filter for display of this invention is a composite filter for display obtained by the said manufacturing method.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<(A)電磁波遮蔽シート>
本発明における(A)の電磁波遮蔽シートは、透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも片側端縁の一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる幅寸法Wの連続帯状の形状から成る電磁波遮蔽シートである(以下、単に電磁波遮蔽シートとも呼稱する)。幅寸法Wは、当該複合フィルタを連続生産するに際して、連続帯状で供給される電磁波遮蔽シートの連続方向(流れ方向、乃至は長手方向)に直交する方向の寸法であり、図1(A)に電磁波遮蔽シートの一単位(ディスプレイ装置1台分に対応する部分のこと)として例示されるものである。図1(A)では、左右方向が長手方向であり、此の方向に図示した1単位の電磁波遮蔽シートが、連続して、周期的に、接続している(図示は略)。そして、幅寸法Wは図1(A)の上下(y)方向の寸法に対応する。通常この幅方向がディスプレイ装置の上下方向に充当されることが一般的であるが、長手(x)方向をディスプレイ装置の上下方向とすることも可能である。
一般に、連続供給する長手方向(x)に直交する(y)方向の幅をWとし、その幅W内に接地領域として使用する側端縁が含まれるようにすればよい。
<(A) Electromagnetic wave shielding sheet>
The electromagnetic wave shielding sheet of (A) in the present invention is a mesh-like region capable of covering the entire image display region of the display to be applied on one surface of the transparent substrate, and at least one side edge around the mesh-like region. This is an electromagnetic wave shielding sheet having a continuous belt-like shape with a width dimension W formed by laminating at least a conductor layer having a grounding region at a part of the edge (hereinafter also simply referred to as an electromagnetic wave shielding sheet). The width dimension W is a dimension in a direction orthogonal to the continuous direction (flow direction or longitudinal direction) of the electromagnetic wave shielding sheet supplied in a continuous band shape when the composite filter is continuously produced, as shown in FIG. It is exemplified as one unit of electromagnetic wave shielding sheet (a part corresponding to one display device). In FIG. 1A, the left-right direction is the longitudinal direction, and one unit of the electromagnetic wave shielding sheets illustrated in this direction is connected continuously and periodically (not shown). The width dimension W corresponds to the dimension in the vertical (y) direction in FIG. Usually, the width direction is generally applied to the vertical direction of the display device, but the longitudinal (x) direction may be the vertical direction of the display device.
In general, the width in the (y) direction perpendicular to the longitudinal direction (x) to be continuously supplied is W, and the width W may include a side edge used as a grounding region.

本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例を図1に示す。図1(A)は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シート(一単位)の一例の平面図であり、図1(B)は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の断面図である。図1(A)に示すように、本発明の電磁波遮蔽用シート1は、平面方向においては、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域101と、当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域102を有する導電体層12が形成されている。当該メッシュ状領域101は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な寸法及び形状を有し、適用されるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30が必ず含まれる。当該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30の外の領域となる外縁部は、メッシュ状領域101が含まれてもよいし、接地用領域102のみからなってもよい。接地用領域102は、通常、メッシュ状領域101と同じ層構成を有しながら開口部を形成しないものであり、ディスプレイへ設置した場合にアースをとり易いために設けられる。なお、接地用領域102は、開口部が形成されたメッシュ状であってもよい。接地用領域102は、通常四角形のディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30の外の領域となる外縁部である画像表示に影響しない部分に、四辺周囲の額縁状に設けられることが多いが、本発明においては、メッシュ状領域101の全周囲でなく、周囲の一部に設ける形態であり、二辺、或いは一辺のみに設ける形態とするところに特徴がある。且つ、本発明に於いては、其の製造方法の特徴から、該接地用部分は電磁波遮蔽用シートを連続帯状シートとして供給する際の幅方向(y方向)の側端縁の少なくとも一方には形成される。なお且つ、該側端縁の少なくとも一方の少なくとも一部領域は、光学フィルタが積層時点に於いて最初から露出して成る。
そして、相対する側端縁を接地領域とする場合は、その露出幅を略1:1とすることが、複合フィルタとして、中心線に対して対称となるので好ましい。
An example of the electromagnetic wave shielding sheet used in the present invention is shown in FIG. FIG. 1A is a plan view of an example of an electromagnetic wave shielding sheet (one unit) used in the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view of an example of an electromagnetic wave shielding sheet used in the present invention. As shown in FIG. 1A, the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention includes a mesh region 101 that can cover all image display regions of a display to be applied in the plane direction, and the mesh region. A conductor layer 12 having a grounding region 102 is formed on at least a part of the periphery of the substrate. The mesh area 101 has a size and shape that can cover the entire image display area of the applied display, and always includes a portion 30 that faces the image display area of the applied display. An outer edge portion that is an area outside the portion 30 that faces the image display area of the display may include the mesh area 101 or may include only the grounding area 102. The grounding region 102 normally has the same layer configuration as the mesh region 101 but does not form an opening, and is provided to facilitate grounding when installed on a display. The grounding region 102 may have a mesh shape in which an opening is formed. The grounding region 102 is often provided in a frame shape around the four sides in a portion that does not affect image display, which is an outer edge portion that is an outer region of the portion 30 facing the image display region of a rectangular display, The present invention is characterized in that it is provided not on the entire periphery of the mesh region 101 but on a part of the periphery and provided on only two sides or only one side. In the present invention, due to the characteristics of the manufacturing method, the grounding portion has at least one side edge in the width direction (y direction) when the electromagnetic shielding sheet is supplied as a continuous belt-like sheet. It is formed. In addition, at least a partial region of at least one of the side edges is formed by exposing the optical filter from the beginning at the time of lamination.
And when making the opposite side edge into a grounding region, it is preferable that the exposed width is approximately 1: 1 because the composite filter is symmetrical with respect to the center line.

また、図1(B)に示すように、本発明の電磁波遮蔽用シート1は、厚み方向において透明基材11の一方の面に、メッシュ状領域101と接地用領域102を有する導電体層12が少なくとも積層されて形成されている。本発明の電磁波遮蔽用シートは、導電体層の表裏面上に、導電性を有しない層が更に積層されて形成されていてもよい。当該導電性を有しない層としては、例えば、導電性を有しない防錆層や黒化層等が挙げられる。
防錆層や黒化層等であっても、導電性を有する場合には、本発明において導電体層に含まれる。導電体層の表裏面上に更に積層された導電性を有しない層は、導電体層と一体となって、メッシュ状領域や接地用領域を形成する。
また、本発明において電磁波遮蔽シートは、連続帯状のシートの状態で準備して、ディスプレイ装置1台分に対応する1単位に裁断される迄の工程では連続帯状のまま用いられる。
以下、本発明に用いられる電磁波シールドフィルタについて、透明基材11から順に説明する。
As shown in FIG. 1B, the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention has a conductor layer 12 having a mesh region 101 and a grounding region 102 on one surface of a transparent substrate 11 in the thickness direction. Are at least laminated. The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention may be formed by further laminating a non-conductive layer on the front and back surfaces of the conductor layer. Examples of the non-conductive layer include a rust preventive layer and a blackened layer that do not have conductivity.
Even if it is a rust prevention layer, a blackening layer, etc., when it has electroconductivity, it is contained in a conductor layer in this invention. The non-conductive layer further laminated on the front and back surfaces of the conductor layer is integrated with the conductor layer to form a mesh region and a grounding region.
In the present invention, the electromagnetic wave shielding sheet is prepared in the form of a continuous belt-like sheet, and is used in the form of a continuous belt in the process until it is cut into one unit corresponding to one display device.
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding filter used in the present invention will be described in order from the transparent substrate 11.

[透明基材]
透明基材11は、機械的強度が弱いメッシュ層を補強するための層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すればよい。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂板、樹脂シート(乃至はフィルム、以下同様)等である。
[Transparent substrate]
The transparent substrate 11 is a layer for reinforcing a mesh layer having a low mechanical strength. Therefore, as long as it has light transmittance as well as mechanical strength, it may be selected and used depending on the application after considering heat resistance and the like as appropriate. Specific examples of the transparent substrate include a resin plate, a resin sheet (or a film, the same applies hereinafter), and the like.

樹脂板、樹脂シート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of transparent resins used as resin plates and resin sheets include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer. Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene and polymethylpentene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymer, triacetyl Examples thereof include cellulose resins such as cellulose, imide resins, and polycarbonate resins.

なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、また層としては、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えてもよい。
In addition, these resin is used as single or multiple types of mixed resin (a polymer alloy is included), and as a layer, it is used as a single layer or a laminated body of two or more layers. In the case of a resin sheet, a uniaxially stretched or biaxially stretched sheet is more preferable in terms of mechanical strength.
Moreover, you may add additives, such as a ultraviolet absorber, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, in these resins suitably as needed.

なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすればよく、特に制限はなく、透明樹脂から成る場合は、通常12〜1000μm程度であるが、好ましくは50〜500μmである。これらの厚み範囲であれば、機械的強度が十分で、反りや弛み、破断などがなく、過剰性能によるコスト高となることなく、帯状で供給して加工する事が容易で、且つ複合フィルタ全体の薄型化を図ることができる。   In addition, what is necessary is just to set the thickness of a transparent base material according to a use, and there is no restriction | limiting in particular, When it consists of transparent resin, it is about 12-1000 micrometers normally, Preferably it is 50-500 micrometers. Within these thickness ranges, the mechanical strength is sufficient, there is no warp, slack, breakage, etc., and there is no cost increase due to excessive performance. Can be made thinner.

また、電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性の向上を図る為に、透明基材は、複合フィルタの全積層工程が完了し、ディスプレイ装置1台分の形状寸法に裁斷する迄の段階に於いては、連続帯状のシートの形態で取り扱う。
この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で80%以上となる光透過性がよい。
In addition, in order to continuously manufacture electromagnetic shielding filters and improve productivity, the transparent base material is in a stage until the entire lamination process of the composite filter is completed and the shape dimensions of one display device are determined. In this case, it is handled in the form of a continuous belt-like sheet.
In this respect, a resin sheet is a preferable material for the transparent substrate, but among the resin sheets, in particular, polyester resin sheets such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate have transparency, heat resistance, cost, and the like. In view of this, a biaxially stretched polyethylene terephthalate sheet is more preferable. In addition, although the transparency of a transparent base material is so good that it is good, Preferably the light transmittance which becomes 80% or more by visible light transmittance | permeability is good.

なお、樹脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。   In addition, a transparent substrate such as a resin sheet is appropriately coated on the surface thereof with known easy processes such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, and alkali treatment. An adhesion treatment may be performed.

[導電体層]
導電体層12は、導電性を有する層であって、電磁波遮蔽機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であっても、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波シールド性能と光透過性を両立させている。メッシュ状領域101を形成している導電体層12の一例の斜視図を図2に示す。メッシュ状領域101を形成している導電体層12は、開口部103が密に配列したメッシュ状であり、該メッシュ状領域は開口部103とこれを区劃する枠をなしているライン部104から構成されている。
[Conductor layer]
The conductor layer 12 is a layer having conductivity, and is a layer responsible for an electromagnetic wave shielding function. Even if the conductive layer 12 itself is opaque, the presence of an opening in a mesh shape causes an electromagnetic wave shield. It balances performance and light transmission. A perspective view of an example of the conductor layer 12 forming the mesh region 101 is shown in FIG. The conductor layer 12 forming the mesh region 101 has a mesh shape in which the openings 103 are closely arranged, and the mesh region has a line portion 104 that forms a frame that separates the openings 103 from each other. It is composed of

本発明において、メッシュ状領域や上記接地用領域を形成している導電体層の材料及び形成方法は特に限定されるものではなく、従来公知の導電体メッシュ方式の電磁波遮蔽シートにおける各種導電体層を適宜採用できるものである。導電体層は、通常金属層を主とし、これに加えて、後述するような導電処理層や、場合により、導電性を有する黒化層や防錆層を含むものである。   In the present invention, the material and forming method of the conductor layer forming the mesh region and the grounding region are not particularly limited, and various conductor layers in a conventionally known conductor mesh type electromagnetic wave shielding sheet. Can be appropriately adopted. In general, the conductor layer mainly includes a metal layer, and in addition to this, includes a conductive treatment layer as will be described later, and, in some cases, a conductive blackening layer and a rust prevention layer.

メッシュの形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状としては正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられる。メッシュはこれらの形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部104の幅(ライン幅)は、図2に示すようにライン幅Tと称し、100μm以下、好ましくは50μm以下であることが好ましい。但し、電磁波遮蔽効果の発現、破断防止のためには、少なくとも5μm以上確保することが好ましい。また、開口部の間口幅は(ラインピッチP)−(ライン幅T)で表され、本発明においては100μm以上、好ましくは150μm以上とする。且つ、上記のライン幅T及び間口幅Pは、開口率=[(P−T)×(P−T)/P×P]×100%が60%以上とするのが、光透過性、及び後述する光学フィルタとの積層時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、MHz〜GHz帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大3000μm以下開口率97%以下とする。また、本発明においては、最終的に得られるメッシュ状領域の厚み、すなわち、開口部間のライン部104の高さHを5μm以下とすることが好ましい。このような場合には、光学フィルタとの積層前に予めメッシュ面への平坦化工程を省略した場合であっても、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時に金属メッシュの開口部内に接着剤層が均一に入り易く、開口部内に気泡が残留し難いからである。この場合には、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇値(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすくならないように、電磁波遮蔽機能の点を考慮すると、メッシュ状領域のライン部の高さは、1〜3μmとなるようにすることが更に好ましい。なお、メッシュ状領域のライン部の高さは、ライン部104を形成する層の厚みを全て含む総厚みをいう。例えば、ライン部104が導電体層のみから成る場合は、ライン部の高さは導電体層の厚さに等しいが、例えば、ライン部が導電体層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層とから成る場合は、ライン部の高さは導電体層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層の厚みの合計値となる。また、メッシュ状領域のバイアス角度(メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すればよい。   The shape of the mesh is arbitrary and not particularly limited, but the shape of the opening is typically a square. Examples of the shape of the opening include a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, and a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, and an ellipse. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are usually line-shaped line portions having a uniform width. Usually, the openings and the openings have the same shape and the same size over the entire surface. As an example of the specific size, the width of the line portion 104 between the openings (line width) is referred to as a line width T as shown in FIG. Preferably it is 50 micrometers or less. However, it is preferable to secure at least 5 μm or more for the expression of the electromagnetic wave shielding effect and prevention of breakage. The opening width of the opening is represented by (line pitch P) − (line width T), and is 100 μm or more, preferably 150 μm or more in the present invention. The line width T and the frontage width P are such that the aperture ratio = [(P−T) × (P−T) / P × P] × 100% is 60% or more. This is preferable because bubbles are less likely to remain in the opening during lamination with an optical filter described later. However, in order to exhibit electromagnetic wave shielding properties in the MHz to GHz band, the maximum aperture ratio is 3000 μm or less and 97% or less. In the present invention, the thickness of the finally obtained mesh region, that is, the height H of the line portion 104 between the openings is preferably 5 μm or less. In such a case, even when the step of flattening the mesh surface is omitted in advance before the lamination with the optical filter, the adhesive is placed in the opening of the metal mesh when the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter are laminated and bonded. This is because the layer easily enters uniformly, and bubbles do not easily remain in the opening. In this case, it is possible to avoid the disadvantage that the cloudiness value (haze) of the composite filter increases due to light scattering of the bubbles, and it is possible to obtain a composite filter with high transparency with high production efficiency. In consideration of the electromagnetic wave shielding function so that the electric resistance value of the metal is not increased and the electromagnetic wave shielding effect is not easily lost, it is more preferable that the height of the line portion of the mesh region is 1 to 3 μm. . In addition, the height of the line part of a mesh-like area | region says the total thickness including all the thickness of the layer which forms the line part 104. FIG. For example, when the line part 104 is composed of only a conductor layer, the height of the line part is equal to the thickness of the conductor layer. For example, the line part has a conductor layer, a non-conductive blackening layer, and a non-conductive layer. In the case of the conductive rust preventive layer, the height of the line portion is the total thickness of the conductor layer, the nonconductive blackened layer, and the nonconductive rust preventive layer. In addition, the bias angle of the mesh region (angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the electromagnetic wave shielding sheet) may be appropriately set to an angle at which moire is difficult to occur in consideration of the pixel pitch of the display and the light emission characteristics. .

このような、メッシュ状領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽用シートを準備する方法としては、特に制限されず、例えば、次の4つの方法が挙げられる。
(1)透明基材へ導電インキをパターン状に印刷し、該導電インキ層の上へ金属メッキする方法(例えば、特開2000−13088号公報)。
(2)透明基材へ、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、該塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、該メッシュの上へ金属メッキする方法(例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学メッキ触媒”、[online]、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、[平成15年1月7日検索]、インターネット〈URL:http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html〉)。
(3)透明基材と金属箔とを接着剤で積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とする(例えば、特開平11−145678号公報)。
(4)透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属メッキ層として金属層を形成した透明基材を準備し、該金属メッキした透明基材の金属メッキ層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする(例えば、特許第3502979号公報、特開2004−241761号公報)。
A method for preparing such an electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer having a mesh-like region is laminated is not particularly limited, and examples thereof include the following four methods.
(1) A method in which a conductive ink is printed in a pattern on a transparent substrate, and metal plating is performed on the conductive ink layer (for example, JP 2000-13088 A).
(2) A method in which a conductive ink or a chemical plating catalyst-containing photosensitive coating solution is applied to the entire surface of a transparent substrate, and the coating layer is made into a mesh by photolithography, followed by metal plating on the mesh (for example, , Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. New Materials Division, New Materials Research Institute, New Materials Research Group, “Photoresolvable Chemical Plating Catalyst”, [online], date not listed, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. [2003 Search on January 7], Internet <URL: http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html>).
(3) After laminating a transparent base material and a metal foil with an adhesive, the metal foil is formed into a mesh by a photolithography method (for example, JP-A-11-145678).
(4) On one surface of the transparent substrate, a metal thin film is formed by sputtering or the like to form a conductive treatment layer, and a transparent substrate on which a metal layer is formed as a metal plating layer by electrolytic plating is prepared. The metal plating layer and the conductive treatment layer of the metal-plated transparent base material are formed into a mesh shape by a photolithography method (for example, Japanese Patent No. 3502979, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-241761).

中でも、本発明においては特に、厚さが5μm以下の薄膜である点、及び透明性及びメッシュ精度に優れディスプレイ画像を良好に視認性でき、さらに、製造工程において、反りや気泡の混入などが少なく、短い工程で歩留りがよく安価に製造できる点から、上記(4)の方法を用いることが特に好ましい。そこで、上記(4)の方法によりメッシュ状領域を形成している導電体層を有する電磁波遮蔽用シートを準備する方法を、詳細に説明する。   Among them, in the present invention, in particular, a thin film having a thickness of 5 μm or less, transparency and mesh accuracy are excellent, and a display image can be seen well. Further, in the manufacturing process, there is little warping or bubble mixing. It is particularly preferable to use the method (4) from the viewpoint of good yield and low cost in a short process. Then, the method to prepare the electromagnetic wave shielding sheet which has the conductor layer which forms the mesh-shaped area | region by the method of said (4) is demonstrated in detail.

上記(4)の方法により形成された、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を形成している導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートについて、その一例を図3に示す。図3は、図2のAA断面図、及びBB断面図である。図3(A)は開口部を横断する断面を示し、開口部103とライン104が交互に構成され、図3(B)はライン104を縦断する断面を示し、導電体層12からなるライン104が連続して形成されている。図3において、導電体層12は導電処理層13と金属メッキ層14(以下両者を総称して単に金属層とも称する)とを含むものである。なお、図3を始めとするメッシュ状領域の断面図に於いては、明瞭に図示する都合上、ライン部104の高さ及び幅を其他の寸法よりも大幅に縮尺を大きく誇張して図示してある。   An example of an electromagnetic wave shielding sheet formed by the method (4) above, in which a conductor layer forming a mesh-like region is laminated on one surface of a transparent substrate, is shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA and BB in FIG. 3A shows a cross section that crosses the opening, and the openings 103 and the lines 104 are alternately formed. FIG. 3B shows a cross section that cuts the line 104 vertically, and the line 104 made of the conductor layer 12 is formed. Are formed continuously. In FIG. 3, the conductor layer 12 includes a conductive treatment layer 13 and a metal plating layer 14 (hereinafter, both are collectively referred to as a metal layer). In addition, in the cross-sectional views of the mesh-shaped region including FIG. 3, the height and width of the line portion 104 are greatly exaggerated much larger than other dimensions for the sake of clarity. It is.

(導電処理層の形成)
上記のような透明基材11は電気絶縁性の為、上記(4)の方法を採用する場合においては、後述する金属電解メッキに先立ち透明基材11表面に導電処理を行い、導電処理層を形成する。該導電処理の方法としては、公知の導電性を持つ材料の薄膜を形成すればよい。該導電性を持つ材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、或いはこれらの金属の合金(例えば、ニッケル−クロム合金)から成る。また、酸化スズ、ITO、ATOなどの透明な金属酸化物でもよい。該導電処理は単層あるいは多層(例えば、ニッケル−クロム合金と銅層との積層)であってもよく、これらの材料を公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッキ法などの方法で形成し導電処理層13とする。該導電処理層13の厚さは、メッキ時に必要な導電性が得られればよいので、0.001〜1μm程度の極薄い層であることが好ましい。
(Formation of conductive treatment layer)
Since the transparent substrate 11 as described above is electrically insulating, when the method (4) is adopted, the surface of the transparent substrate 11 is subjected to a conductive treatment prior to metal electrolytic plating described later, and a conductive treatment layer is formed. Form. As a method for the conductive treatment, a thin film of a known conductive material may be formed. Examples of the conductive material include metals such as gold, silver, copper, iron, nickel, and chromium, or alloys of these metals (for example, nickel-chromium alloys). Moreover, transparent metal oxides, such as a tin oxide, ITO, and ATO, may be sufficient. The conductive treatment may be a single layer or a multilayer (for example, a laminate of a nickel-chromium alloy and a copper layer), and these materials are formed by a known vacuum deposition method, sputtering method, electroless plating method, or the like. The conductive treatment layer 13 is used. The thickness of the conductive treatment layer 13 is preferably an extremely thin layer of about 0.001 to 1 μm, as long as necessary conductivity can be obtained at the time of plating.

(金属メッキ層)
導電処理層13の面へ電解メッキ法により金属メッキ層14を形成して、金属メッキ透明基材とする。金属メッキ層14の材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持つ金属、或いはこれらの金属を含む合金が適用できる。金属メッキ層14は単体でなくても、多層であってもよく、電解メッキのしやすさと導電性から銅又は銅合金が好ましい。本発明においては、上述のようにメッシュ状領域のライン部の高さを1〜3μmとすることが好ましいため、該金属メッキ層14の厚さは最大2μm程度であることが好ましい。上記メッシュ状領域のライン部の高さがこれ以下の厚さでは、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすく、これ以上の厚さでは、メッシュに加工した際にライン部と開口部の段差が大きくなり、接着剤層を積層する際に気泡が残留し易くなる。
(Metal plating layer)
A metal plating layer 14 is formed on the surface of the conductive treatment layer 13 by electrolytic plating to form a metal-plated transparent substrate. As the material of the metal plating layer 14, for example, a metal having sufficient conductivity to shield electromagnetic waves, such as gold, silver, copper, iron, nickel, chromium, or an alloy containing these metals can be applied. The metal plating layer 14 may not be a simple substance, but may be a multilayer, and copper or a copper alloy is preferable from the viewpoint of ease of electrolytic plating and conductivity. In the present invention, since the height of the line portion of the mesh region is preferably 1 to 3 μm as described above, the thickness of the metal plating layer 14 is preferably about 2 μm at the maximum. If the height of the line portion of the mesh region is less than this, the electric resistance value of the metal is increased and the electromagnetic wave shielding effect tends to be impaired. The level difference of the part becomes large, and bubbles tend to remain when the adhesive layer is laminated.

(黒化層)
電磁波遮蔽用シート1への外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、メッシュ状領域を形成している導電体層12の観察側に黒化処理を行って、コントラスト感を向上せしめることが好ましい。このために、図4に示されるように、金属メッキ層14の少なくとも片面に、必要に応じて、黒化層15A及び/又は15Bを設ける。該黒化層は金属メッキ層14面を粗面化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する(黒化)か、或いは両者を併用するかの何れかにより行なう。また、導電体層を電解メッキで形成する場合に於いて、透明基材11面側に黒化層15Aを設ける場合には、以下の2方式が可能である。(方式1)該透明基材11上に黒色の導電処理層13を設け、これを黒化層15Aと兼用させ、而かる後に該黒化層兼導電処理層13(15A)上に金属メッキ層を形成する(図示略)。(方式2)該透明基材11上にITO等の透明な導電処理層13を設け、該導電処理層上11に導電性黒化層15Aを形成し、而かる後に該黒化15A上に金属メッキ層を形成する(結果物は図4の層構成)。
(Blackening layer)
In order to absorb external light to the electromagnetic wave shielding sheet 1 and improve the visibility of the image on the display, a blackening process is performed on the observation side of the conductor layer 12 forming the mesh-like region, and the contrast is increased. It is preferable to improve the feeling. For this purpose, as shown in FIG. 4, a blackening layer 15A and / or 15B is provided on at least one surface of the metal plating layer 14 as necessary. The blackening layer is performed by either roughening the surface of the metal plating layer 14, providing light absorption over the entire visible light spectrum (blackening), or using both in combination. Further, when the conductive layer is formed by electrolytic plating, when the blackening layer 15A is provided on the surface of the transparent substrate 11, the following two methods are possible. (Method 1) A black conductive treatment layer 13 is provided on the transparent substrate 11, and this is also used as a blackening layer 15A. After that, a metal plating layer is formed on the blackening layer / conductive treatment layer 13 (15A). (Not shown). (Method 2) A transparent conductive treatment layer 13 such as ITO is provided on the transparent substrate 11, and a conductive blackening layer 15A is formed on the conductive treatment layer 11, and then a metal is formed on the blackening 15A. A plating layer is formed (the result is the layer structure of FIG. 4).

黒化層15A、15Bとしては、金属酸化物、金属硫化物の形成や種々の手法が適用できる。鉄の場合には、通常スチーム中、450〜470℃程度の温度で、10〜20分間さらして、1〜2μm程度の酸化膜(黒化膜)を形成するが、濃硝酸などの薬品処理による酸化膜(黒化膜)でもよい。また、銅の場合には銅‐コバルト合金の粒子層、硫化ニッケル層、酸化銅層等が好ましい。   As the blackening layers 15A and 15B, formation of metal oxides and metal sulfides and various methods can be applied. In the case of iron, it is usually exposed to steam at a temperature of about 450 to 470 ° C. for 10 to 20 minutes to form an oxide film (blackened film) of about 1 to 2 μm. An oxide film (blackened film) may be used. In the case of copper, a particle layer of copper-cobalt alloy, a nickel sulfide layer, a copper oxide layer, or the like is preferable.

黒化層の好ましい黒濃度は0.6以上である。なお、黒濃度の測定方法は、COLOR CONTROL SYSTEMのGRETAG SPM100−11(キモト社製、商品名)を用いて、観察視野角10度、観察光源D50、照明タイプとして濃度標準ANSITに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定する。また、黒化層の光線反射率としては5%以下が好ましい。光線反射率は、JIS−K7105に準拠して、ヘイズメーターHM150(村上色彩社製、商品名)を用いて測定する。また、反射率の測定に換えて、色差計により反射のY値で表わしてもよく、この際にはY値として10以下が好ましい。   A preferable black density of the blackened layer is 0.6 or more. In addition, the measurement method of black density was set to the density standard ANSIT as an observation viewing angle of 10 degrees, an observation light source D50, and an illumination type using GRETAG SPM100-11 (trade name, manufactured by Kimoto Co., Ltd.) of COLOR CONTROL SYSTEM. The specimen is measured after calibration. Further, the light reflectance of the blackened layer is preferably 5% or less. The light reflectance is measured using a haze meter HM150 (trade name, manufactured by Murakami Color Co., Ltd.) in accordance with JIS-K7105. In addition, instead of measuring the reflectance, the Y value of reflection may be expressed by a color difference meter. In this case, the Y value is preferably 10 or less.

(防錆層)
さらに、最表面に露出する金属メッキ層14、或いは黒化層15Bの表面を覆うように、防錆層16Bを設けることが好ましい。
防錆層16Bは、防錆機能と黒化層の脱落や変形を防止するために、少なくとも、黒化層上に設けることが好ましい。防錆層16Bとしては、ニッケル、亜鉛、及び/又は銅の酸化物、又はクロメート処理層が適用できる。ニッケル、亜鉛、及び/又は銅の酸化物の形成は、公知のメッキ法でよく、厚さとしては、0.001〜1μm程度、好ましくは0.001〜0.1μmである。
(Rust prevention layer)
Furthermore, it is preferable to provide the rust prevention layer 16B so that the surface of the metal plating layer 14 exposed on the outermost surface or the blackening layer 15B may be covered.
The rust prevention layer 16B is preferably provided on at least the blackening layer in order to prevent the rust prevention function and the blackening layer from dropping or deforming. As the rust prevention layer 16B, an oxide of nickel, zinc, and / or copper, or a chromate treatment layer can be applied. The nickel, zinc, and / or copper oxide may be formed by a known plating method, and the thickness is about 0.001 to 1 μm, preferably 0.001 to 0.1 μm.

黒化層15A、15Bは、少なくとも観察側に設ければよく、コントラストが向上してディスプレイの画像の視認性が良くなる。また、他方の面、即ちディスプレイ面側に設けてもよく、ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。   The blackening layers 15A and 15B may be provided at least on the observation side, and the contrast is improved and the visibility of the image on the display is improved. Further, it may be provided on the other surface, that is, on the display surface side, and stray light generated from the display can be suppressed, so that the visibility of the image is further improved.

次に、上述のように設けられた透明基材上の導電体層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする工程について説明する。
まず、上記のように準備した透明基材上の導電体層、例えば透明基材上の金属層(金属メッキ層)14面へ、レジスト層を設け、メッシュパターン化し、レジスト層で覆われていない部分の金属層14をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去する所謂フォトリソグラフィー法で、メッシュ状の金属層とする。さらに、既存の設備を使用でき、これらの製造工程の多くを連続的に行うことで、品質がよく、かつ、生産効率が高く歩留りがよく、安価に生産できる。
Next, the process of making the conductor layer on the transparent substrate provided as described above into a mesh by a photolithography method will be described.
First, a conductive layer on a transparent substrate prepared as described above, for example, a metal layer (metal plating layer) 14 on a transparent substrate is provided with a resist layer, mesh-patterned, and not covered with a resist layer. After removing a portion of the metal layer 14 by etching, a mesh-like metal layer is formed by a so-called photolithography method in which the resist layer is removed. Furthermore, existing equipment can be used, and by performing many of these manufacturing processes continuously, quality is high, production efficiency is high, yield is high, and production can be performed at low cost.

(フォトリソグラフィー法)
積層体の導電体層面へ、レジスト層をメッシュパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分の導電体層をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去するフォトリソグラフィー法で、メッシュ状とする。
(Photolithography method)
A resist layer is provided in a mesh pattern on the conductor layer surface of the laminate, and a portion of the conductor layer not covered with the resist layer is removed by etching, and then the resist layer is removed to form a mesh. .

(マスキング)
まず、透明基材11と導電体層12の積層体の導電体層側の面をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とし、メッシュ状領域101を形成する。この工程も、帯状で連続して巻き取られたロール状の積層体を加工して行く(巻取り加工、ロールツーロール加工という)ことが好ましい。積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、緩みなく伸張した状態で、マスキング、エッチング、レジスト剥離する。
(masking)
First, the surface on the conductor layer side of the laminate of the transparent base material 11 and the conductor layer 12 is made into a mesh shape by a photolithography method, and the mesh-like region 101 is formed. Also in this step, it is preferable to process a roll-shaped laminated body continuously wound in a band shape (referred to as a winding process or a roll-to-roll process). Masking, etching, and resist peeling are performed in a state where the laminate is stretched without looseness while being conveyed continuously or intermittently.

まず、マスキングは、例えば、メッシュ状領域を形成する導電体層12上へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターン版(フォトマスク)にて密着露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングする。なお、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可である。感光性レジストがネガ型の場合は、パターン版のメッシュパターンはライン部が透明なポジ(陽画)とする。又感光性レジストがポジ型の場合は、パターン版のメッシュパターンは開口部が透明なネガ(陰画)とする。又、露光パターンとしては、電磁波遮蔽用シートとして所望のパターンであり、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。更に必要に応じて、図1の如く、メッシュ状領域の外周に接地用領域のパターンを追加する。   First, in the masking, for example, a photosensitive resist is applied onto the conductor layer 12 forming the mesh-like region, and after drying, contact exposure with a predetermined pattern plate (photomask), water development, and dura Treat and bake. Note that either a negative type or a positive type of photosensitive resist can be used. When the photosensitive resist is a negative type, the mesh pattern of the pattern plate is a positive (positive image) with transparent line portions. When the photosensitive resist is positive, the mesh pattern of the pattern plate is a negative (negative image) with a transparent opening. Further, the exposure pattern is a desired pattern as an electromagnetic wave shielding sheet, and is composed of a pattern of a mesh area at a minimum. Further, as necessary, a grounding area pattern is added to the outer periphery of the mesh area as shown in FIG.

レジストの塗布は、巻取り加工では、連続帯状の積層体(透明基材11と、導電体層12との積層体)を連続又は間歇で搬送させながら、メッシュ状領域を形成する導電体層12面へ、カゼイン、PVA、ゼラチンなどのレジストをディッピング(浸漬)、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。ベーキングはカゼインレジストの場合、200〜300℃で行うが、積層体の反りを防止するために、できるだけ低温度が好ましい。   In the winding of the resist, the conductive layer 12 that forms a mesh-like region while continuously or intermittently transporting a continuous belt-shaped laminated body (a laminated body of the transparent base material 11 and the conductive layer 12) is used in the winding process. A resist such as casein, PVA, or gelatin is applied to the surface by dipping (dipping), curtain coating, pouring, or the like. Moreover, a dry film resist may be used instead of application | coating, and workability | operativity can be improved. In the case of a casein resist, baking is performed at 200 to 300 ° C., but the lowest possible temperature is preferable in order to prevent warping of the laminate.

(エッチング)
マスキング後にエッチングを行う。該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う場合には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、塩化第二銅の溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ20〜80μmの薄板をエッチングするカラーTVのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備と、基本的に同様の工程である。即ち、該シャドウマスクの既存の製造設備を流用でき、マスキングからエッチングまでが一貫して連続生産できて、極めて効率がよい。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。このようにして形成された、メッシュ開口部の表面は透明基材が露出しているので、メッシュ開口部の透明性がよい。
(etching)
Etching is performed after masking. As the etching solution used for the etching, a solution of ferric chloride or cupric chloride that can be easily circulated when etching is continuously performed is preferable. The etching is basically the same as the equipment for manufacturing a shadow mask for a color TV cathode ray tube that etches a strip-like continuous steel material, particularly a thin plate having a thickness of 20 to 80 μm. That is, the existing manufacturing equipment of the shadow mask can be diverted, and from masking to etching can be continuously produced continuously, which is extremely efficient. After etching, the substrate may be dried after washing with water, stripping the resist with an alkaline solution, and washing. Since the transparent base material is exposed on the surface of the mesh opening thus formed, the transparency of the mesh opening is good.

<(B)連続帯状接着性光学フィルタを準備する工程>
本発明に係る(B)の連続帯状接着性光学フィルタ(以下、単に光学フィルタとも呼称する)としては、一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記連続帯状電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、該電磁波遮蔽シートの両側端部の少なくとも一方に在る当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び幅寸法Xを有する、連続帯状接着性光学フィルタを準備する。ここにおいて、幅寸法Xは、図6に示す様に、連続供給する長手方向(x)に対して直交する(y)方向の幅であり、前記の電磁波遮蔽シートの幅Wより狭い幅であることを要する。当該幅Wと幅Xの差が接地領域の幅となるので、(W−X)は、接地のための所要面積や、導電テープとの接続方式等から決定される。
<(B) Step of preparing a continuous belt-like adhesive optical filter>
As the continuous band-like adhesive optical filter (B) according to the present invention (hereinafter also simply referred to as an optical filter), an adhesive layer is laminated on one surface, and the image of the display in the continuous band-like electromagnetic wave shielding sheet. A continuous belt-like shape having a shape and a width dimension X that covers all the part facing the display area and can expose at least a part of the grounding area on at least one of both end portions of the electromagnetic wave shielding sheet Prepare an adhesive optical filter. Here, as shown in FIG. 6, the width dimension X is a width in the (y) direction orthogonal to the longitudinal direction (x) to be continuously supplied, and is a width narrower than the width W of the electromagnetic wave shielding sheet. It takes a thing. Since the difference between the width W and the width X is the width of the grounding region, (W−X) is determined from the required area for grounding, the connection method with the conductive tape, and the like.

本発明に用いられる光学フィルタの一例の断面図を図5に示す。図5に示されるように、本発明に用いられる連続帯状接着性光学フィルタ20は、幅寸法Xで長手方向xには連続し、光学フィルタ21の一方の面に接着剤層22が積層されてなるものであり、当該光学フィルタ21は、透明基材23と機能発現層24とが積層されてなるものである。機能発現層としては、特に限定されないが例えば、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層等の光学フィルタ機能層を必須とし、更に必要に応じハードコート層、防汚層、防眩層等が追加される。図5では大きく分けて機能発現層24と透明基材23と接着剤層22との3層構成からなる場合を例示したものであるが、これら機能発現層、透明基体、接着剤層の各々は単層の場合もあるし多層の場合もあるし、機能発現層と透明基体とが相互に積層された構成もあり得る。また、機能発現層が透明基体の機能を兼ねて、機能発現層と接着剤層から構成されるものであってもよい。或いは、各機能発現層間又は機能発現層と透明基体の間に、それぞれ接着剤層が設けられていてもよい。本発明に用いられる光学フィルタは少なくとも一方の表面に接着剤層を有し、接着性を有するものとする。従って、透明基体側に限られず、機能発現層側に接着剤層が設けられた構成もあり得る。   A cross-sectional view of an example of the optical filter used in the present invention is shown in FIG. As shown in FIG. 5, the continuous band-like adhesive optical filter 20 used in the present invention is continuous in the longitudinal direction x with a width dimension X, and an adhesive layer 22 is laminated on one surface of the optical filter 21. The optical filter 21 is formed by laminating a transparent base material 23 and a function expressing layer 24. The functional expression layer is not particularly limited. For example, an optical filter functional layer such as a near-infrared absorbing layer, a neon light absorbing layer, an ultraviolet absorbing layer, an antireflection layer, or the like is essential, and a hard coat layer or an antifouling layer is used as necessary. An anti-glare layer is added. FIG. 5 exemplifies a case where the functional expression layer 24, the transparent base material 23, and the adhesive layer 22 are composed of three layers. Each of the functional expression layer, the transparent substrate, and the adhesive layer is illustrated as follows. There may be a single layer or a multilayer, and there may be a configuration in which the function-expressing layer and the transparent substrate are laminated to each other. In addition, the function-expressing layer may serve as the function of the transparent substrate, and may be composed of a function-expressing layer and an adhesive layer. Alternatively, an adhesive layer may be provided between each function expressing layer or between the function expressing layer and the transparent substrate. The optical filter used in the present invention has an adhesive layer on at least one surface and has adhesiveness. Therefore, it is not limited to the transparent substrate side, and there may be a configuration in which an adhesive layer is provided on the function expressing layer side.

[光学フィルタの層構成]
(透明基材)
光学フィルタに用いられる透明基材としては、電磁波遮蔽シートに記載したのと同様な透明基材を用いることができる。
[Layer structure of optical filter]
(Transparent substrate)
As the transparent substrate used for the optical filter, the same transparent substrate as described in the electromagnetic wave shielding sheet can be used.

(機能発現層)
機能発現層のうち、近赤外線吸収層としては、近赤外線吸収剤を有する市販フィルム(例えば、東洋紡績社製、商品名No2832)を接着剤で積層したり、近赤外線吸収色素をバインダ樹脂へ含有させて塗布してもよい。近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるPDPの前面に適用される場合、PDPがキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、800nm〜1100nmの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が20%以下、更に10%以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、380nm〜780nmの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、6塩化タングステン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機系近赤外線吸収色素、を1種、又は2種以上を併用することができる。
また、バインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂や、エポキシ、アクリレート、メタアクリレート等の単量体、プレポリマー等から成る熱硬化型樹脂或いは紫外線硬化型樹脂、水酸基とイソシアネート基の反応を利用した2液硬化型ウレタン樹脂等の硬化性樹脂などが適用できる。
(Functional expression layer)
Among the function expressing layers, as the near-infrared absorbing layer, a commercially available film having a near-infrared absorber (for example, Toyobo Co., Ltd., trade name No. 2832) is laminated with an adhesive, or a near-infrared absorbing dye is contained in the binder resin. May be applied. As the near-infrared absorbing dye, when an optical filter is applied to the front surface of a typical PDP, the near-infrared region generated when the PDP emits light using xenon gas discharge, that is, a wavelength of 800 nm to 1100 nm. It is preferable that the near-infrared transmittance in the band is 20% or less, more preferably 10% or less. At the same time, the near-infrared absorbing layer desirably has a sufficient light transmittance in the visible light region, that is, in the wavelength region of 380 nm to 780 nm. Specific examples of near-infrared absorbing dyes include polymethine compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, imonium compounds, diimonium compounds, aminium compounds, pyrylium. Compounds, cerium compounds, squarylium compounds, copper complexes, nickel complexes, dithiol metal complexes organic near-infrared absorbing dyes, tin oxide, indium oxide, tungsten hexachloride, aluminum oxide, zinc oxide, iron oxide One or two or more inorganic near-infrared absorbing dyes such as these can be used in combination.
The binder resin may be a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, or an acrylic resin, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin made of a monomer such as epoxy, acrylate, or methacrylate, a prepolymer, or a hydroxyl group. A curable resin such as a two-component curable urethane resin utilizing a reaction between the alkenyl group and an isocyanate group can be used.

機能発現層のうち、ネオン光吸収層は、光学フィルタがプラズマディスプレイ用として用いられる際には、PDPから放射されるネオン光を吸収するべく設置される。ネオン原子の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmであり、中心波長590nmにおける光線の透過率が50%以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収層は、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素として従来から利用されてきた色素を近赤外線吸収層のところに挙げたようなバインダ樹脂に分散させて形成することができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。   Among the function expressing layers, the neon light absorbing layer is installed to absorb neon light emitted from the PDP when the optical filter is used for plasma display. The emission spectrum band of neon atoms is 550 to 640 nm, and it is preferable to design the light transmittance at a center wavelength of 590 nm to be 50% or less. The neon light absorption layer may be formed by dispersing a dye conventionally used as a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm in a binder resin as mentioned in the near infrared absorption layer. it can. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin.

また、機能発現層のうち、紫外線吸収層としては、例えば、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させて形成することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。当該バインダ樹脂としては、上記近赤外線吸収層のところに挙げたような樹脂を用いることができる。   Of the function expressing layers, the ultraviolet absorbing layer can be formed by, for example, dispersing an ultraviolet absorbent in a binder resin. Examples of the ultraviolet absorber include organic compounds such as benzotriazole and benzophenone, and inorganic compounds composed of particulate zinc oxide, cerium oxide, and the like. As the binder resin, resins such as those listed for the near infrared absorption layer can be used.

また、機能発現層のうち、反射防止層〔AR(Anti Reflection)層とも略称〕としては、例えば、低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式法で、或いは塗工等の湿式法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。該多層膜に於ける光干渉で反射光を相殺するものである。   Moreover, as the antireflection layer (also abbreviated as AR (Anti Reflection) layer) among the function-expressing layers, for example, a multi-layer configuration in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately stacked is generally used. It can be formed by a dry method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet method such as coating. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer. The reflected light is canceled by the light interference in the multilayer film.

また、機能発現層のうち、ハードコート層〔HC(Hard Coat)層とも略称〕としては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーを単独で或いはこれらのモノマー或いはプレポリマーの中から2種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成するとことができる。
なおここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。
In addition, as a hard coat layer (abbreviated as HC (Hard Coat) layer) among the function expressing layers, for example, polyfunctional (meth) such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, etc. An acrylate prepolymer, or a trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomer such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or the like It can be formed as a coating film using an ionizing radiation curable resin selected and combined in combination of two or more of monomers or prepolymers.
Here, (meth) acrylate is a composite notation meaning acrylate or methacrylate.

また、機能発現層のうち、防眩層〔AG(Anti Glare)層とも略称〕としては、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形シートや賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、上記ハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適には使用される。   In addition, as the anti-glare layer (also abbreviated as AG (Anti Glare) layer) among the function-expressing layers, a coating film formed by adding an inorganic filler such as silica in a resin binder, or a shaped sheet or a shaped plate, etc. Can be formed as a layer in which fine irregularities for irregularly reflecting external light are provided on the surface of the layer. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the hard coat layer because surface strength is desired as the surface layer.

また、機能発現層のうち、防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をSiO2により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。 Of the function expressing layers, the antifouling layer is generally a water-repellent or oil-repellent coat, and a siloxane-based, fluorinated alkylsilyl compound or the like can be applied. A fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be preferably used. For example, when the low refractive index layer of the antireflection layer is formed of SiO 2 , a fluorosilicate water-repellent paint is preferably used.

(接着剤層)
次に、本発明に用いられる光学フィルタにおいて、必須の層である、一方の面に積層される接着剤層について説明する。
当該接着剤層は、当該光学フィルタと前記電磁波遮蔽シートとを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、各種の天然又は合成樹脂が用いられ、接着方式としては、熱硬化又は電離放射線硬化、熱融着、粘着などが適用できる。
(Adhesive layer)
Next, the adhesive layer which is an essential layer in the optical filter used in the present invention and is laminated on one surface will be described.
If the said adhesive bond layer is a layer which can adhere | attach the said optical filter and the said electromagnetic wave shielding sheet, the kind etc. will not be specifically limited, Various natural or synthetic resins are used, and it adheres. As a method, heat curing or ionizing radiation curing, heat fusion, adhesion, or the like can be applied.

また本発明においては、中でも、前記電磁波遮蔽シートとの接着及び積層時に流動性を有する接着剤層であることが好ましい。なお、ここで云う流動性とは、外力に対して復元力を持たないか、或いは持っても僅かで、事実上無制限に変形、変位する性質を云う。例えば水の様なNewton粘性、ダイラタンシー又はチキソトロピック(非Newton)粘性、或いはクリープ変形性を包括していう。このような場合には、電磁波遮蔽シートのメッシュ面が平坦化されていないものであっても、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュの開口部内の隅々にまで接着剤層が行き渡るため、開口部内に気泡が残留することを防止できる。従って、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、気泡の光散乱による複合フィルタの曇値(ヘイズ)が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い光学フィルタを生産効率良く得ることができる。従って本発明における接着剤層が有する流動性は、接着剤層が変形してメッシュ状領域開口部内の空気と置換し、該開口部を充填し得る程度の流動性とする。本発明における接着剤層が有する流動性は、目安として、該接着剤がメッシュ面に圧着される時に、50000cps以下、好ましくは10000cps程度(C型回転粘度計での測定値。接着時の温度に於ける値。)の粘度を有することが好適な高流動性ものとして挙げられる。又粘度が50000cps超過の低流動性の接着剤を用いた場合でも、接着時に接着剤層を加熱し、更に該接着剤層とメッシュ面との間の空気を真空吸引すれば、上記気泡残留を解消することが可能である。但し、連続帯状電磁波遮蔽シートのメッシュ開口部を充填し、連続帯状接着性光学フィルタと積層した以降は、必要に応じて、該粘着剤の流動性を低下させてもよい。即ち、電磁波遮蔽シートとの接着時においては、メッシュ開口部を確実に充填する都合上、粘着剤の流動性は高い程好ましい。
しかしながら、接着及び積層後においては、粘着剤は流動性がないことが重要であり、電磁波遮蔽シートと接着性光学フィルタとの積層界面から粘着剤が流出したり、粘着剤層中に色素(着色剤)を添加した場合の該色素の変褪色を促進することがない粘着剤を選択して使用すればよい。但し、低流動性の接着剤でも接着時に加圧と共に加熱、真空吸引を併用すれば、上記気泡残留を防ぐことは可能である。
Moreover, in this invention, it is especially preferable that it is an adhesive layer which has fluidity | liquidity at the time of adhesion | attachment with the said electromagnetic wave shielding sheet, and lamination | stacking. The fluidity mentioned here refers to the property of deforming or displacing indefinitely with little or no restoring force against external force. For example, Newton viscosity such as water, dilatancy or thixotropic (non-Newton) viscosity, or creep deformability is comprehensively referred to. In such a case, even if the mesh surface of the electromagnetic wave shielding sheet is not flattened, the adhesive layer spreads to every corner in the mesh opening during lamination and adhesion of the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter. Therefore, it is possible to prevent bubbles from remaining in the opening. Accordingly, it is possible to avoid the disadvantage that the haze value of the composite filter increases due to light scattering of bubbles while omitting the step of flattening the mesh surface, and it is possible to obtain a highly transparent optical filter with high production efficiency. . Accordingly, the fluidity of the adhesive layer in the present invention is such that the adhesive layer can be deformed to replace the air in the mesh region opening and fill the opening. The fluidity of the adhesive layer in the present invention is, as a guide, when the adhesive is pressed onto the mesh surface, 50,000 cps or less, preferably about 10000 cps (measured value with a C-type rotational viscometer. It is preferable to have a viscosity of a value of 2). Further, even when a low-flowing adhesive having a viscosity exceeding 50000 cps is used, if the adhesive layer is heated at the time of bonding and the air between the adhesive layer and the mesh surface is sucked in vacuum, the above-mentioned residual bubbles can be obtained. It can be resolved. However, after filling the mesh opening of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet and laminating with the continuous band-shaped adhesive optical filter, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive may be lowered as necessary. That is, at the time of adhesion with the electromagnetic wave shielding sheet, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive is preferably higher for the purpose of reliably filling the mesh opening.
However, after adhesion and lamination, it is important that the pressure-sensitive adhesive does not have fluidity, and the pressure-sensitive adhesive flows out from the lamination interface between the electromagnetic wave shielding sheet and the adhesive optical filter, or a dye (colored) in the pressure-sensitive adhesive layer. A pressure-sensitive adhesive that does not promote discoloration of the dye when the agent is added may be selected and used. However, even with a low-fluidity adhesive, it is possible to prevent the bubbles from remaining by using heating and vacuum suction together with pressurization.

流動性を有する接着剤層としては、接着及び積層時に流動性を有すれば良く、例えば、粘着剤、溶剤で溶解又は分散して流動化(液状化)した樹脂からなる接着剤層、溶剤で溶解又は分散することなくそれ自体室温で流動性を有する天然ゴムや合成樹脂、或いは反応モノマー中にその重合体が溶解しているようなシロップ型の粘着剤からなる接着剤層ものであってもよい。また、適宜温度をかけることにより溶融して流動性を有するホットメルト型の接着剤層であってもよい。更に、室温で液状の重合反応性モノマーを含有する接着剤層であって、積層後に紫外線、熱等により硬化させる形態をとる接着剤層であってもよい。中でも、接着剤層の流動性を低下させる方法としては、例えば、予め接着剤層中に架橋剤を添加し、電磁波遮蔽シートと接着して以後、加熱、紫外線照射等により、粘着剤を架橋乃至は重合せしめる方法等が好適な方法として挙げられる。   As the adhesive layer having fluidity, it is sufficient that the adhesive layer has fluidity at the time of adhesion and lamination. For example, an adhesive layer made of a resin that has been fluidized (liquefied) by dissolving or dispersing in an adhesive or solvent, Even an adhesive layer composed of a natural rubber or synthetic resin that is fluid at room temperature without being dissolved or dispersed, or a syrup-type adhesive in which the polymer is dissolved in the reaction monomer Good. Further, it may be a hot-melt adhesive layer that is melted by applying an appropriate temperature and has fluidity. Further, it may be an adhesive layer containing a polymerization reactive monomer that is liquid at room temperature, and may be an adhesive layer that is cured by ultraviolet rays, heat, or the like after lamination. Among them, as a method for reducing the fluidity of the adhesive layer, for example, a cross-linking agent is added to the adhesive layer in advance and bonded to the electromagnetic wave shielding sheet. Examples of suitable methods include a polymerization method.

これらの中でも、本発明に用いられる流動性を有する接着剤層としては、粘着剤が好ましい。
ここで粘着剤とは、接着剤の1種のことであり、接着剤のうち、接着の際には単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。
粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線(紫外線や電子線等)照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、かつ重合反応等の化学反応も不要である。
また、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。
このような粘着剤としては、特に制限はなく、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性(接着力)、透明性、塗工適性を有し、本発明において使用する光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択する。
Among these, a pressure-sensitive adhesive is preferable as the fluid adhesive layer used in the present invention.
Here, the pressure-sensitive adhesive is a kind of adhesive. Of the adhesives, only adhesiveness on the surface is obtained only by pressing moderately, usually lightly by hand, at the time of bonding. It can be glued.
In order to develop the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive, usually, physical energy or action such as heating, humidification, and radiation (ultraviolet ray, electron beam, etc.) irradiation is unnecessary, and no chemical reaction such as polymerization reaction is required.
Moreover, the pressure-sensitive adhesive can maintain the adhesive strength to the extent that it can be re-peeled even after bonding.
There is no restriction | limiting in particular as such an adhesive, It has moderate adhesiveness (adhesive force), transparency, and coating suitability from what is conventionally used as a well-known adhesive, and it is used in this invention. An optical filter that does not substantially change the transmission spectrum of the optical filter is appropriately selected.

好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸をいう。   An acrylic adhesive is mentioned as an adhesive suitably used. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. Generally, it is a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group. In the present invention, (meth) acrylic acid refers to acrylic acid and / or methacrylic acid.

ここで使用される(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸sec-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル及び(メタ)アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、通常はアクリル系粘着剤中に30〜99.5重量部の量で共重合されている。
Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers used here include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, sec-propyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate.
Moreover, the said (meth) acrylic-acid alkylester is copolymerized in the quantity of 30-99.5 weight part normally in an acrylic adhesive.

また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。   Moreover, as a monomer which has a carboxyl group which forms an acrylic adhesive, monomers containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, monobutyl maleate and β-carboxyethyl acrylate are used. Can be mentioned.

さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていてもよい。他の官能基を有するモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー;(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド及びN-エチル(メタ)アクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー;N-メチロール(メタ)アクリルアミド及びジメチロール(メタ)アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー;アミノメチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー;アリルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。   Furthermore, in addition to the above, the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention may be copolymerized with a monomer having another functional group within a range not impairing the properties of the acrylic pressure-sensitive adhesive. Examples of monomers having other functional groups include monomers containing hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and allyl alcohol; (meth) acrylamide, N-methyl Monomers containing amide groups such as (meth) acrylamide and N-ethyl (meth) acrylamide; Monomers containing amide groups and methylol groups such as N-methylol (meth) acrylamide and dimethylol (meth) acrylamide; Monomers having functional groups such as monomers containing amino groups such as (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and vinylpyridine; epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether Can be mentioned. In addition to these, fluorine-substituted (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylonitrile, and the like, vinyl group-containing aromatic compounds such as styrene and methylstyrene, vinyl acetate, and vinyl halide compounds can be used.

さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα,β-不飽和二塩基酸のジエステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル;ビニルエーテル;スチレン、α-メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物;(メタ)アクリロニトリル等を挙げることができる。
また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を2個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ-ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。
Furthermore, in the acrylic pressure-sensitive adhesive used in the present invention, in addition to the monomer having other functional groups as described above, another monomer having an ethylenic double bond can be used. Examples of monomers having an ethylenic double bond include diesters of α, β-unsaturated dibasic acids such as dibutyl maleate, dioctyl maleate and dibutyl fumarate; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate. Vinyl ether; vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene and vinyl toluene; (meth) acrylonitrile and the like.
In addition to the monomer having an ethylenic double bond as described above, a compound having two or more ethylenic double bonds may be used in combination. Examples of such compounds include divinylbenzene, diallyl malate, diallyl phthalate, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, methylene bis (meth) acrylamide, and the like.

さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2-メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-メトキシブチル、(メタ)アクリル酸4-メトキシブチル、(メタ)アクリル酸2-エトキシエチル、(メタ)アクリル酸3-エトキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-エトキシブチルなどを挙げることができる。   Furthermore, in addition to the above-described monomers, monomers having an alkoxyalkyl chain can be used. Examples of alkoxyalkyl esters of (meth) acrylic acid include 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate , 2-Methoxybutyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate And so on.

また、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体であってもよい。例えば、(メタ)アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸プロピル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)アクリル酸オクチル等が挙げられる。
アクリル酸エステル単位2種以上を含む共重合体としては、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシ3フェニルオキシプロピル共重合体等が挙げられる。
Moreover, the homopolymer of the (meth) acrylic-acid alkylester monomer may be sufficient. For example, (meth) acrylic acid ester homopolymers include poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) ethyl acrylate, poly (meth) acrylate propyl, poly (meth) acrylate butyl, poly (meth) Examples include octyl acrylate.
As a copolymer containing 2 or more types of acrylate units, methyl (meth) acrylate- (meth) ethyl acrylate copolymer, (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer, ( Examples include methyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, methyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl copolymer, and the like.

(メタ)アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−エチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
例えば、(メタ)アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸プロピル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)アクリル酸オクチル等が挙げられる。
アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、巴川製紙所製の、商品名TU−41A、TD−06、日東電工製の、No.591、No.5915、No.5919M、No.595B、CS9621、LA−50、LA−100、HJ−9210、HJ−9150W等が好適に用いられる。
As a copolymer of (meth) acrylic acid ester and other functional monomers, (meth) methyl acrylate-styrene copolymer, (meth) methyl acrylate-ethylene copolymer, (meth) acrylic An acid methyl- (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl-styrene copolymer may be mentioned.
For example, (meth) acrylic acid ester homopolymers include poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) ethyl acrylate, poly (meth) acrylate propyl, poly (meth) acrylate butyl, poly (meth) Examples include octyl acrylate.
Examples of commercially available acrylic pressure-sensitive adhesives include Nos. TU-41A, TD-06, and Nitto Denko's No. 591, no. 5915, no. 5919M, no. 595B, CS9621, LA-50, LA-100, HJ-9210, HJ-9150W, etc. are preferably used.

又、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などの中から選ばれた少なくとも1種を含有するものが用いられる。   As the rubber-based adhesive, the main component is, for example, natural rubber, polyisoprene rubber, polyisobutylene, polybutadiene rubber, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, etc. Those containing at least one selected are used.

また、接着剤層には、ベンゾトリアゾール等の酸化防止剤を配合することが好ましい。得られる複合フィルタの接着剤層と導電体層との界面で、接着剤に含まれる酸成分によって導電体層が酸化され、色変化が起きるのを防ぐことができる。
更に、接着剤層には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、充填剤等を配合することができる。
Moreover, it is preferable to mix | blend antioxidant, such as benzotriazole, with an adhesive bond layer. It is possible to prevent the color change from occurring due to oxidation of the conductive layer by the acid component contained in the adhesive at the interface between the adhesive layer and the conductive layer of the obtained composite filter.
Furthermore, a crosslinking agent such as an isocyanate compound, a tackifier, a silane coupling agent, a filler, and the like can be blended in the adhesive layer as desired.

なお、当該接着剤層中に、上述のような近赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、及び/又は、ネオン光吸収色素を1種以上含有させてもよい。このようにすることにより、複数の機能層の機能を1層で兼務し、かつこれを接着剤層とも統合することができるため、複合フィルタとしての総厚み、工程数、原価を低減することが可能となり、好ましい。その場合、800nm〜1100nmの波長域における光線透過率が20%以下、中でも10%以下、560〜630nmの波長域における光線透過率が30%以下、中でも25%以下となるようにすることが好ましい。   The adhesive layer may contain one or more near infrared absorbing dyes, ultraviolet absorbers, and / or neon light absorbing dyes as described above. By doing in this way, since the function of a plurality of functional layers can be combined with one layer and integrated with the adhesive layer, the total thickness, the number of processes, and the cost as a composite filter can be reduced. This is possible and preferable. In that case, it is preferable that the light transmittance in the wavelength region of 800 nm to 1100 nm is 20% or less, especially 10% or less, and the light transmittance in the wavelength region of 560 to 630 nm is 30% or less, especially 25% or less. .

[光学フィルタの形状及び寸法]
次に、光学フィルタの形状及び寸法について説明する。
本発明に用いられる光学フィルタは、第一に、適用されるディスプレイの画像表示領域の全領域を均一に当該光学フィルタの機能を発揮させるために、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な形状及び寸法を有する必要がある。従って、本発明に用いられる光学フィルタは、第一に、上記電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30を全て覆うことが可能な形状及び寸法を有する。
[Shape and dimensions of optical filter]
Next, the shape and dimensions of the optical filter will be described.
The optical filter used in the present invention first covers the entire image display area of the display to be applied in order to uniformly exert the function of the optical filter over the entire area of the image display area of the applied display. Must have a shape and dimensions that are possible. Therefore, the optical filter used for this invention has the shape and dimension which can cover all the part 30 which opposes the image display area | region of the display of the said electromagnetic wave shielding sheet first.

ここで上記画像表示領域とは、ディスプレイの表示側から見た場合に外枠体による枠の内側全体の領域をいい、当該枠の内側であって実質的に画像を表示している領域の外側に実質的に画像を表示していない黒い領域(縁取り)が存在する場合には、ここは本来画像表示領域外である。但し、実用上好ましくは当該黒い領域の部分も目に触れる以上は外観が画像表示領域と異なることは違和感がある。よって便宜上、当該黒い領域も画像表示領域に含めて扱うことが好ましい。また、電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30とは、電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域101のうち、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うように画像表示領域に対面させる領域をいい、画像表示領域と概略同じ形状及び寸法を有する領域である。通常は、ディスプレイの画像表示領域との位置合わせを容易にするために、ディスプレイの画像表示領域と比べて若干(数mm程度)大きめにする場合が多い。   Here, the image display area refers to the entire area inside the frame by the outer frame when viewed from the display side of the display, outside the area that is substantially inside the frame and displaying the image. If there is a black area (border) that substantially does not display an image, it is outside the image display area. However, it is uncomfortable that the appearance is different from that of the image display area as long as the black area is also seen from the viewpoint of practical use. Therefore, for convenience, it is preferable to handle the black area by including it in the image display area. Moreover, the part 30 which opposes the image display area of the display of an electromagnetic wave shielding sheet is the area | region which faces an image display area so that all the image display areas of the applied display may be covered among the mesh-shaped area | regions 101 of an electromagnetic wave shielding sheet. This is an area having substantially the same shape and size as the image display area. Usually, in order to facilitate alignment with the image display area of the display, it is often slightly (a few millimeters) larger than the image display area of the display.

本発明に用いられる光学フィルタの形状及び寸法は、上記電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30を全て覆うことが可能であれば良く、ディスプレイの画像表示領域と全く同じの形状及び寸法であってもよいが、通常は、ディスプレイの画像表示領域や電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分との位置合わせを容易にするために、ディスプレイの画像表示領域と比べて若干大きめにする。従って、光学フィルタの形状としては、例えば、適用されるディスプレイの画像表示領域や電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域を覆うことが可能な形状とすることができる。また、光学フィルタの寸法は、適用されるディスプレイの画像表示領域と比べて、幅寸法Xを例えば1mm〜20mm、更に好ましくは1mm〜10mm、特に好ましくは2mm〜5mm程度ずつ大きくすることができる。   The shape and dimensions of the optical filter used in the present invention are only required to be able to cover the entire portion 30 facing the image display area of the display of the electromagnetic wave shielding sheet, and have the same shape and the same as the image display area of the display. However, in order to facilitate alignment with the display image display area of the display and the portion of the electromagnetic shielding sheet facing the display image display area, it is usually slightly smaller than the display image display area. Make it larger. Therefore, the shape of the optical filter can be, for example, a shape that can cover the image display area of the display to be applied or the image display area of the display of the electromagnetic wave shielding sheet. In addition, as for the size of the optical filter, the width dimension X can be increased by, for example, about 1 mm to 20 mm, more preferably 1 mm to 10 mm, and particularly preferably about 2 mm to 5 mm, as compared with the image display area of the display to which the optical filter is applied.

一方、本発明においては連続帯状接着性光学フィルタを前記連続帯状電磁波遮蔽シートと積層すると同時に該電磁波遮蔽シート上に接地部を確保するために、本発明に用いられる光学フィルタは、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する。この接地用領域は、本来メッシュ形成が不要であるが、メッシュが形成されていてもよい。また露出される部分は、ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の外側に存在するメッシュ状領域の一部を含んでいてもよい。   On the other hand, in the present invention, in order to secure a grounding portion on the electromagnetic wave shielding sheet at the same time as laminating the continuous band adhesive optical filter with the continuous electromagnetic wave shielding sheet, the optical filter used in the present invention is the electromagnetic wave shielding sheet. It has a shape and a dimension capable of exposing at least a part of the grounding region. The grounding region originally does not require mesh formation, but a mesh may be formed. Further, the exposed portion may include a part of the mesh region existing outside the portion facing the image display region of the display.

上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有するためには、該光学フィルタは、電磁波遮蔽シートが実際にディスプレイ用複合フィルタとして用いられる際の一枚分の電磁波遮蔽シートの全領域と全く同じ形状及び幅寸法とすることはできず、電磁波遮蔽シートの前記幅Wよりも小さい幅寸法Xを有する必要がある。しかしながら、該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能であればよく、例えば図6(A)のように電磁波遮蔽シートの一枚分の領域の左右縁部に重なる線が存在しながら上下縁部のみが露出部40となるような形状であればよい。また、光学フィルタの幅寸法Xは、例えば、電磁波遮蔽シートの幅Wと比べて、上下2辺を例えば1mm〜20mm、更に好ましくは1mm〜10mm、特に好ましくは2mm〜5mm程度ずつ露出できるように、すなわち、幅寸法差(W−X)を2〜40mm、更に好ましくは2〜20mm、特に好ましくは4〜10mm程度小さくすることが望ましい。
なお、ディスプレイの設計上、図6(B)に示すように、接地領域を左右両辺とする場合には、図の上下方向に連続する連続帯状電磁波遮蔽フィルタを準備すればよい。なお、光学フィルタの幅寸法Xは、電磁波シートの左右方向幅Wとの関係から前記と同様に決定される。
In order to have a shape and dimensions that can expose at least a part of the grounding region of the electromagnetic wave shielding sheet, the optical filter is one sheet when the electromagnetic wave shielding sheet is actually used as a composite filter for display. It is not possible to have the same shape and width dimensions as the entire area of the electromagnetic shielding sheet, and it is necessary to have a width dimension X smaller than the width W of the electromagnetic shielding sheet. However, it is only necessary that at least a part of the grounding region can be exposed. For example, as shown in FIG. 6A, there are lines that overlap the left and right edges of the region for one electromagnetic wave shielding sheet. The shape may be such that only the upper and lower edges become the exposed portion 40. The width dimension X of the optical filter is such that, for example, the upper and lower sides can be exposed, for example, 1 mm to 20 mm, more preferably 1 mm to 10 mm, and particularly preferably about 2 mm to 5 mm, as compared with the width W of the electromagnetic wave shielding sheet. That is, it is desirable to reduce the width dimension difference (W−X) by 2 to 40 mm, more preferably 2 to 20 mm, and particularly preferably 4 to 10 mm.
In the design of the display, as shown in FIG. 6 (B), when the grounding region is on both the left and right sides, a continuous band-shaped electromagnetic wave shielding filter that is continuous in the vertical direction in the figure may be prepared. The width dimension X of the optical filter is determined in the same manner as described above from the relationship with the width W in the left-right direction of the electromagnetic wave sheet.

<電磁波遮蔽シート縁部の露出>
本発明に係る複合フィルタの製造方法では、上記連続帯状接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電連続帯状磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、かつ上記連続帯状接着性光学フィルタが上記電連続帯状電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上を被覆し、しかも幅方向両側縁の接地用領域の片方または両方の所望の部分が露出する様に位置合わせした状態で、上記電連続帯状電磁波遮蔽シートに上記連続帯状接着性光学フィルタを接着、及び積層する。これによって、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出させる。
<Exposure of electromagnetic shielding sheet edge>
In the method for producing a composite filter according to the present invention, the adhesive layer side of the continuous band-shaped adhesive optical filter is directed toward the conductor layer side of the electro-continuous band-shaped magnetic wave shielding sheet, and the continuous band-shaped adhesive optical filter is the above-mentioned In the state of covering the portion directly opposite the image display area of the display in the electromagnetic continuous electromagnetic wave shielding sheet and aligning so that one or both desired portions of the grounding area on both side edges in the width direction are exposed, The continuous band-like adhesive optical filter is bonded and laminated on the electric continuous band-like electromagnetic wave shielding sheet. Thereby, at least a part of the grounding region of the electromagnetic wave shielding sheet is exposed.

このような本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法について、図面を用いて具体的に説明する。図7は、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法の積層工程の一例を、その一単位分を抜出して示す工程図である。図7(A1)は、連続供給される長手方向に直交する方向において、幅寸法Xの上記連続帯状接着性光学フィルタが、幅寸法Wの上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上を被覆する様に位置合わせされた状態で連続的に供給される状態を示す断面図であり、図7(A2)は当該位置合わせをした状態を示す平面図である。   A method for producing such a composite filter for display of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. FIG. 7 is a process diagram illustrating one example of a stacking process of the manufacturing method of the composite filter for display according to the present invention. FIG. 7A1 shows a portion where the continuous band-like adhesive optical filter having the width dimension X is opposed to the image display region of the display in the electromagnetic wave shielding sheet having the width dimension W in a direction orthogonal to the continuously supplied longitudinal direction. It is sectional drawing which shows the state supplied continuously in the state aligned so that it may coat | cover just above, FIG. 7 (A2) is a top view which shows the state which performed the said position alignment.

本工程においては、まず、図7(A1)に示すように、上記連続帯状接着性光学フィルタ20の接着剤層22側を、上記電磁波遮蔽シート1の導電体層側12に向け、かつ図7(A2)に示すように、上記連続帯状接着性光学フィルタ20が、幅方向に於いて、連続帯状の電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30直上に、当該画像表示領域に対峙する部分30を全て覆うように対峙させて位置合わせをする。この位置合わせをする際には、電磁波遮蔽シート上に見当マークを付したり、光センサーを利用する等して、位置精度を上げることが好ましい。   In this step, first, as shown in FIG. 7A1, the adhesive layer 22 side of the continuous band-like adhesive optical filter 20 is directed toward the conductor layer side 12 of the electromagnetic wave shielding sheet 1, and FIG. As shown in (A2), the continuous band-like adhesive optical filter 20 faces the image display area in the width direction directly above the portion 30 that faces the image display area of the display of the continuous band-like electromagnetic wave shielding sheet. The position is adjusted so as to cover all the portions 30 to be covered. When performing this alignment, it is preferable to increase the positional accuracy by attaching a register mark on the electromagnetic wave shielding sheet or using an optical sensor.

上記のように位置合わせをした状態で、次に、図7(B1)に示すように、連続帯状電磁波遮蔽シート1に連続帯状接着性光学フィルタ20の接着剤層22を接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シート1の接地用領域の少なくとも一部を露出させる。露出部40としては、接地が可能となるように適宜設計されれば特に制限されないが、通常四角形の電磁波遮蔽シートの4辺周囲の画像表示に影響しない部分を額縁状に設けられることが多いが、本発明では、電磁波遮蔽シートの縁部の全周囲を露出させず、相対する二辺又は、少なくともそれらのうちの一辺を露出させればよい。因みに、図7の形態では両側縁部とも接地用領域40を露出させている。なお、図7に於いては、図示、説明の簡略化の為、実際には、x方向に1単位分の電磁波遮蔽シート、及び光学フィルタが、多数連続して繋がっており連続帯状をなすところ、唯一単位のみ抜粋して図示してある。実際には、図7(A2)の複合フィルタの左右方向には、接着積層の工程完了直後の時点では、図示と同じ複合フィルタ(1単位分)と同じ物が、図8に示すように多数連結されて連なっている。そして、かかる接着、積層工程の後、適宜時点で、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとが積層された連続帯状の複合フィルタを1単位毎に裁断して枚葉化する。枚葉化された複合フィルタをディスプレイ前面に設置する。其の前後の適宜の時点で接地用領域40に於いて接地を行う。   In the state aligned as described above, next, as shown in FIG. 7 (B1), the adhesive layer 22 of the continuous band-like adhesive optical filter 20 is bonded and laminated to the continuous band-like electromagnetic wave shielding sheet 1. Then, at least a part of the grounding area of the electromagnetic wave shielding sheet 1 is exposed. The exposed portion 40 is not particularly limited as long as it is appropriately designed so as to enable grounding. However, a portion that does not affect the image display around the four sides of the rectangular electromagnetic shielding sheet is often provided in a frame shape. In the present invention, the entire periphery of the edge of the electromagnetic wave shielding sheet is not exposed, and two opposing sides or at least one side thereof may be exposed. Incidentally, in the form of FIG. 7, the grounding region 40 is exposed at both side edges. In FIG. 7, in order to simplify the illustration and description, in practice, a number of electromagnetic wave shielding sheets and optical filters for one unit are connected in the x direction in a continuous manner to form a continuous belt shape. Only the unit is extracted and illustrated. Actually, in the left-right direction of the composite filter of FIG. 7A2, there are a number of the same composite filters (for one unit) as shown in FIG. It is connected and connected. And after this adhesion | attachment and a lamination | stacking process, the continuous strip | belt-shaped composite filter with which the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter were laminated | stacked is cut | judged for every unit at a suitable time, and is sheet-ized. A single filter is installed in front of the display. Grounding is performed in the grounding area 40 at appropriate time points before and after that.

以上のような製造方法により製造された本発明のディスプレイ用複合フィルタは、複合フィルタの接地のため従来必須であった、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地が可能である。ディスプレイ1台毎に1回ずつ実施する必要が有る剥離除去工程を有しないため、まとめて量産加工可能であって生産効率がよい。   The display composite filter of the present invention manufactured by the manufacturing method as described above does not have a step of removing other optical filter layers from the electromagnetic shielding sheet, which has been essential for grounding the composite filter. The electromagnetic shielding sheet can be exposed and grounded. Since there is no peeling and removing step that needs to be performed once for each display, mass production processing is possible and production efficiency is good.

また、特に、前記電磁波遮蔽シートとして、前記メッシュ状領域のライン部の高さが5μm以下、メッシュの開口部の間口幅が150μm以上であり、かつメッシュの開口部に平坦化層の被覆の無い連続帯状電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記連続帯状接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する連続帯状接着性光学フィルタを用いる場合には、メッシュ状領域の平坦化工程が不要であり、余分な材料及び工程を削減することが可能な上、優れた透明性を有する複合フィルタを生産効率良く得ることができる。   In particular, as the electromagnetic wave shielding sheet, the height of the line portion of the mesh-like region is 5 μm or less, the opening width of the mesh opening is 150 μm or more, and the mesh opening has no flattening layer coating. When using a continuous belt-like electromagnetic shielding sheet and using a continuous belt-like adhesive optical filter having a fluid adhesive layer at the time of adhesion and lamination as the continuous belt-like adhesive optical filter, the step of flattening the mesh region is performed. It is unnecessary, and it is possible to reduce unnecessary materials and processes, and to obtain a composite filter having excellent transparency with high production efficiency.

本発明に係る製造方法によって得られるディスプレイ用複合フィルタは、透明性が高いものが得られることが好ましく、ヘイズが3以下であることが好ましい。ここでヘイズは、JIS K7105−1981に準拠した方法により測定された値を意味する。   The display composite filter obtained by the production method according to the present invention preferably has a high transparency, and preferably has a haze of 3 or less. Here, haze means a value measured by a method according to JIS K7105-1981.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。
<実施例1>
(1)電磁波遮蔽シートの製造
図1(A)の平面図に一単位として示す連続帯状電磁波遮蔽シート1を次の様にして作製した。
透明基材11として厚さ100μmで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
この透明基材のプライマー層上に、スパッタ法で、順次、厚さが0.1μmのニッケル−クロム合金層及び厚さが0.2μmの銅層(導電体層の一部)を設けて導電処理層13とした。
該導電処理層面に、硫酸銅浴を用いた電解メッキ法で厚さが2.0μmの銅の金属メッキ層14(導電体層の残りの部分)を設け、これら導電処理層13及び金属メッキ層14の両層を導電体層12として形成して、透明基材上に導電体層が接着剤層を間に介さずに、直接形成された連続状銅貼り積層シートを作製した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
<Example 1>
(1) Manufacture of electromagnetic wave shielding sheet The continuous strip | belt-shaped electromagnetic wave shielding sheet 1 shown as a unit in the top view of FIG. 1 (A) was produced as follows.
A continuous belt-like uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm and a polyester resin primer layer formed on one side was prepared as the transparent substrate 11.
On the primer layer of the transparent substrate, a nickel-chromium alloy layer having a thickness of 0.1 μm and a copper layer having a thickness of 0.2 μm (a part of the conductor layer) are sequentially provided by sputtering. Treatment layer 13 was obtained.
A copper metal plating layer 14 (remaining portion of the conductor layer) having a thickness of 2.0 μm is provided on the surface of the conductive treatment layer by an electrolytic plating method using a copper sulfate bath, and the conductive treatment layer 13 and the metal plating layer are provided. Both layers 14 were formed as the conductor layer 12, and a continuous copper-clad laminate sheet was produced in which the conductor layer was directly formed on the transparent substrate without interposing the adhesive layer therebetween.

次いで、該導電体層上に黒化層15Bを形成した。具体的には、アノードにニッケル板を使用し、硫酸ニッケルアンモニウム水溶液と硫酸亜鉛水溶液とチオシアン酸ナトリウム水溶液との混合水溶液からなる黒化処理メッキ浴に、上記導電体層が透明基材上に形成された積層シートを、浸漬して電解メッキを行って黒化処理して、ニッケル−亜鉛合金からなる黒化層15Bを、露出している導電体層全面に被覆形成して、導電体層12(導電処理層13、金属メッキ層14、及び黒化層15A)が積層された連続状シートを得た。   Next, a blackened layer 15B was formed on the conductor layer. Specifically, a nickel plate is used for the anode, and the conductor layer is formed on a transparent substrate in a blackening plating bath made of a mixed aqueous solution of nickel ammonium sulfate aqueous solution, zinc sulfate aqueous solution and sodium thiocyanate aqueous solution. The laminated sheet thus immersed is subjected to electrolytic plating and blackening treatment, and a blackening layer 15B made of a nickel-zinc alloy is formed on the entire exposed conductor layer to form a conductor layer 12. A continuous sheet on which (the conductive treatment layer 13, the metal plating layer 14, and the blackening layer 15A) were laminated was obtained.

次いで、上記積層シートに対して、その導電体層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部103及びライン部104とから成るメッシュ状領域101、及びメッシュ状領域101の4周を囲繞する外縁部に額縁状の接地用領域102を形成した。
エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対してマスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの導電体層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層がない様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、導電体層及び黒化層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
Next, the conductive layer of the laminated sheet is etched using a photolithography method, and the mesh region 101 including the opening 103 and the line portion 104, and the outer edge that surrounds the four circumferences of the mesh region 101. A frame-shaped grounding region 102 was formed in the part.
Specifically, using a production line for a color TV shadow mask, the etching was performed consistently from masking to etching on the continuous belt-like laminated sheet. That is, after applying a photosensitive etching resist to the entire conductor layer surface of the laminated sheet, a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked, and on the area corresponding to the line portion of the mesh. After processing the resist layer into a pattern in which the resist layer remains and there is no resist layer on the area corresponding to the opening, the conductor layer and the blackened layer are removed by etching with an aqueous ferric chloride solution. A mesh-shaped opening was formed, and then water washing, resist peeling, washing, and drying were sequentially performed.

メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は10μm、そのライン間隔(ピッチ)は300μm、ライン部の高さは2.3μm、図1(A)のように長方形の枚葉シートに切断した場合に、該長方形の長辺に対するライン部の劣角として定義されるバイアス角度は49度であった。また、メッシュ状領域101内部には、完成された複合フィルタを画像表示装置(ディスプレイ)前面に装着した際に、該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分30が存在し、又該メッシュ状領域101の周縁部には、複合フィルタとしての連続帯状シートを切断した時に、その上下辺に接地用領域102として開口部がない、幅15mmの露出部を残す様なパターンに設計した。
このようにして、平坦化層のない、幅寸法Wが570mmの実施例1の電磁波遮蔽用シート1を得た。
The mesh shape of the mesh region is such that the line width of the linear part whose opening is a square and non-opening is 10 μm, the line interval (pitch) is 300 μm, and the height of the line part is 2.3 μm. When cut into rectangular sheets as in (A), the bias angle defined as the subordinate angle of the line portion with respect to the long side of the rectangle was 49 degrees. Further, when the completed composite filter is mounted on the front surface of the image display device (display), a portion 30 that faces the image display region of the display exists in the mesh region 101, and the mesh region 101 At the peripheral edge, when the continuous belt-like sheet as a composite filter is cut, the pattern is designed such that an exposed portion having a width of 15 mm is left on the upper and lower sides as the grounding region 102 without opening.
In this way, an electromagnetic wave shielding sheet 1 of Example 1 having no flattening layer and having a width dimension W of 570 mm was obtained.

(2)連続帯状接着性光学フィルタの製造
次いで、上記連続帯状電磁波遮蔽用シート1上に積層すべき連続帯状接着性光学フィルタ20を用意した。光学フィルタの層構成としては、反射防止層/紫外線吸収層/接着剤層22(接着剤層22は近赤外線吸収層、ネオン光吸収層を兼用)、の構成のものを準備した。なお、「/」はその左右の層が積層一体化されていることを示す。
(2) Manufacture of continuous strip-like adhesive optical filter Next, the continuous strip-like adhesive optical filter 20 to be laminated on the continuous strip-like electromagnetic wave shielding sheet 1 was prepared. As the layer configuration of the optical filter, an anti-reflection layer / ultraviolet absorption layer / adhesive layer 22 (adhesive layer 22 also serves as a near infrared absorption layer and a neon light absorption layer) was prepared. “/” Indicates that the left and right layers are laminated and integrated.

該紫外線吸収層としては、紫外線吸収剤を練込んで成る透明な、幅寸法Xが550mm、厚さ50μmの2軸延伸PETフィルムであるテトロンフィルム(帝人(株)製、商品名「HBタイプ」)を用いた。又該紫外線吸収層は、反射防止層を塗工形成する為の基材としても利用した。
該反射防止層は、該紫外線吸収層の上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した物から構成した。
ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物(JSR(株)製、商品名「KZ7973」)の厚さ3μm、屈折率1.69の硬化物層から成る。
また、低屈折率樹脂層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂(JSR(株)製、商品名「TM086」)の厚さ100nm、屈折率1.41の硬化物から成る。
As the ultraviolet absorbing layer, a Tetron film (trade name “HB type”, manufactured by Teijin Ltd.), which is a transparent biaxially stretched PET film having a width dimension X of 550 mm and a thickness of 50 μm, kneaded with an ultraviolet absorber. ) Was used. The ultraviolet absorbing layer was also used as a substrate for coating and forming an antireflection layer.
The antireflection layer was formed by sequentially forming a high refractive index layer and a low refractive index layer on the ultraviolet absorbing layer.
Here, the high refractive index layer is a cured product having a thickness of 3 μm and a refractive index of 1.69 of a composition (trade name “KZ7973” manufactured by JSR Corporation) in which ultrafine zirconia particles are dispersed in an ultraviolet curable resin. Consists of layers.
The low refractive index resin layer is made of a cured product having a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.41 made of a fluororesin-based ultraviolet curable resin (trade name “TM086” manufactured by JSR Corporation).

また、該紫外線吸収剤層の反射防止層側とは反対側に接着剤層22を形成し、かつ該接着剤層22中に、近赤外線吸収剤、及びネオン光吸収剤を添加することにより、該接着剤層を近赤外線吸収層、及びネオン光吸収層と兼用した。
ネオン光吸収剤としてシアニン系色素を、また、近赤外線吸収剤として、ジイモニウム系色素、及びフタロシアニン系色素を添加した。
Further, by forming an adhesive layer 22 on the side opposite to the antireflection layer side of the ultraviolet absorber layer, and adding a near infrared absorber and a neon light absorber in the adhesive layer 22, The adhesive layer was also used as a near infrared absorption layer and a neon light absorption layer.
A cyanine dye was added as a neon light absorber, and a diimonium dye and a phthalocyanine dye were added as a near infrared absorber.

接着剤としては、低流動性のアクリル樹脂系の粘着剤(製造元;日東電工(株)製、商品名;CS9621)を用いた。
上記のような構成の光学フィルタ20を、電磁波遮蔽シート1のメッシュ上領域の画像表示領域と対峙する部分30及び左右の接地用額縁部の大半と対峙する部分(長方形)を覆う形状で、かつ画像表示領域より10mm大きな、幅寸法550mmの連続帯状接着性光学フィルタとした。
As the adhesive, a low-flowing acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive (manufacturer: Nitto Denko Corporation, trade name: CS9621) was used.
The optical filter 20 configured as described above has a shape that covers a portion 30 that faces the image display region on the mesh of the electromagnetic wave shielding sheet 1 and a portion (rectangle) that faces most of the left and right ground frame portions, and It was set as the continuous strip | belt-shaped adhesive optical filter 10 mm larger than an image display area and the width dimension 550mm.

(3)複合フィルタの製造
そして、得られた該連続帯状電磁波遮蔽用シート1と該連続帯状接着性光学フィルタ20とを、図7の如く、該接着剤層22が導電体層12の該メッシュ状領域101と対向する向きで、かつ該連続状接着性光学フィルタが、該メッシュ状領域101の画像表示領域と対峙する部分30及び左右の接地用額縁部と重なる部分を被覆し、しかも該接地用領域102の上下辺の内周側2mmは該連続状接着性光学フィルタで被覆され、一方、該上下辺の接地用領域102の外周側10mmは何も被覆されずに導電体層が露出する様に位置合わせした上で、メッシュ状領域101と接着剤層22とを互いに接着積層した。この際の積層条件としては、電磁波遮蔽用シート1と連続帯状接着性光学フィルタ20とを、案内ガイド類を介して上記の位置合わせ状態で、上下対をなす1対の挟圧ゴムロール(鉄芯の周囲をシリコンゴムで被覆したもの)間に最大線圧10kg/cmの加圧にて挿通する一方、この挟圧ゴムロールを覆う加熱減圧室を真空ポンプを使って、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの間の空気を吸引し、かつ連続状接着性光学フィルタ側から80℃の温風吹付けにより、加熱加圧状態で積層(いわゆるロール・ツウ・ロール加工)した。
(3) Manufacture of composite filter Then, the obtained continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet 1 and the continuous band-shaped adhesive optical filter 20 are combined with the mesh in which the adhesive layer 22 is the conductor layer 12 as shown in FIG. The continuous adhesive optical filter covers the portion 30 facing the image display area of the mesh-like region 101 and the portion overlapping the left and right grounding frame portions, and facing the ground-like region 101. The inner peripheral side 2 mm of the upper and lower sides of the working region 102 is covered with the continuous adhesive optical filter, while the outer peripheral side 10 mm of the grounding region 102 of the upper and lower sides is not covered and the conductor layer is exposed. Then, the mesh region 101 and the adhesive layer 22 were bonded and laminated together. As a lamination condition at this time, the electromagnetic wave shielding sheet 1 and the continuous belt-like adhesive optical filter 20 are paired with a pair of sandwiched rubber rolls (iron cores) in the above alignment state via guide guides. Is surrounded by silicon rubber) with a maximum linear pressure of 10 kg / cm, while the heating and decompression chamber covering the nipping rubber roll is used with a vacuum pump, an electromagnetic wave shielding sheet, an optical filter, The air was sucked in between, and was laminated in a heated and pressurized state (so-called roll-to-roll processing) by blowing hot air at 80 ° C. from the continuous adhesive optical filter side.

<実施例2>
実施例1の(3)複合フィルタの製造における、積層条件として、室温(20℃)にて、ゴムローラで最大10kg/cmの加圧にて積層した以外は、実施例1と同様に、複合フィルタを製造した。
<Example 2>
In the production of the composite filter of Example 1 (3), the composite filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that lamination was performed at room temperature (20 ° C.) with a rubber roller at a maximum pressure of 10 kg / cm. Manufactured.

<実施例3>
実施例1の(2)連続帯状接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤(製造元;巴川製紙所製、商品名;「TU−41A」)を用いた以外は、実施例1と同様に、複合フィルタを製造した。
<Example 3>
In the production of the continuous band-like adhesive optical filter of Example 1 (2), an acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive having high fluidity (manufacturer; manufactured by Yodogawa Paper, trade name: “TU-41A”) is used as an adhesive. A composite filter was produced in the same manner as in Example 1 except that it was used.

<実施例4>
実施例2の(2)連続帯状接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤(製造元;巴川製紙所製、商品名;「TU−41A」を用いた以外は、実施例2と同様にして、複合フィルタを製造した。
<Example 4>
In the production of the continuous belt-like adhesive optical filter of Example 2 (2), as an adhesive, an acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive (manufacturer; manufactured by Yodogawa Paper Mill, trade name: “TU-41A”) is used. A composite filter was produced in the same manner as in Example 2 except that.

<比較例1>
実施例1の(2)連続帯状接着性光学フィルタに替えて、幅寸法Xが電磁波遮蔽用シートの幅寸法Wと同一の連続帯状接着性光学フィルタを枚葉に裁断する際に、その形状及び寸法を、図1(A)の形状に枚葉化した電磁波遮蔽シート1と同じとした。
また、枚葉化接着性光学フィルタを電磁波遮蔽用シート1と積層する際に、両者の外縁部輪郭を揃え、枚葉化接着性光学フィルタが電磁波遮蔽用シート1のメッシュ上領域101及び接地用領域102の両方を全域に亘って被覆する様にした。
その他は、実施例1と同様に加工して、比較例1の複合フィルタを得た。
<Comparative Example 1>
In place of the continuous band-like adhesive optical filter of Example 1 (2), when the continuous band-like adhesive optical filter having the same width dimension X as the width dimension W of the electromagnetic wave shielding sheet is cut into sheets, the shape and The dimensions were the same as those of the electromagnetic wave shielding sheet 1 formed into a single sheet in the shape of FIG.
Further, when laminating the sheet-adhesive adhesive optical filter with the electromagnetic wave shielding sheet 1, both outer edges are aligned, and the sheet-adhesive adhesive optical filter is used for the ground region 101 on the mesh of the electromagnetic wave shielding sheet 1 and for grounding. Both regions 102 were covered over the entire area.
Others were processed in the same manner as in Example 1 to obtain a composite filter of Comparative Example 1.

<比較例2>
比較例1と同様に、枚葉化接着性光学フィルタの形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート1と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタが電磁波遮蔽用シート1のメッシュ上領域101及び接地用領域102の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例2と同様に加工して、比較例2の複合フィルタを得た。
<Comparative example 2>
Similarly to Comparative Example 1, the shape and dimensions of the single-wafer adhesive optical filter are the same as those of the single-wafer electromagnetic wave shielding sheet 1, and the single-wafer adhesive optical filter is a region 101 on the mesh of the electromagnetic wave shielding sheet 1. The composite filter of Comparative Example 2 was obtained by processing in the same manner as in Example 2 except that both the grounding region 102 and the grounding region 102 were laminated so as to cover the entire region.

<比較例3>
比較例1と同様に、枚葉化接着性光学フィルタの形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート1と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタが電磁波遮蔽用シート1のメッシュ上領域101及び接地用領域102の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例3と同様に加工して、比較例3の複合フィルタを得た。
<Comparative Example 3>
Similarly to Comparative Example 1, the shape and dimensions of the single-wafer adhesive optical filter are the same as those of the single-wafer electromagnetic wave shielding sheet 1, and the single-wafer adhesive optical filter is a region 101 on the mesh of the electromagnetic wave shielding sheet 1. The composite filter of Comparative Example 3 was obtained by processing in the same manner as in Example 3 except that both the grounding region 102 and the grounding region 102 were laminated so as to cover the entire region.

<比較例4>
比較例1と同様に、枚葉化接着性光学フィルタの形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート1と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタが電磁波遮蔽用シート1のメッシュ上領域101及び接地用領域102の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例4と同様に加工して、比較例4の複合フィルタを得た。
<Comparative example 4>
Similarly to Comparative Example 1, the shape and dimensions of the single-wafer adhesive optical filter are the same as those of the single-wafer electromagnetic wave shielding sheet 1, and the single-wafer adhesive optical filter is a region 101 on the mesh of the electromagnetic wave shielding sheet 1. The composite filter of Comparative Example 4 was obtained by processing in the same manner as in Example 4 except that both the grounding region 102 and the grounding region 102 were laminated so as to cover the entire region.

〔性能評価方法〕
上記、各実施例、及び比較例に対して、以下の点を評価した。評価結果を表1に示す。表1から、本発明の実施例に於いては何れも、接地領域上の光学フィルタ剥離作業が不要の為、これに起因する接地作業上の問題は無い。又、接着剤に高流動性の物を用いるか、或いは接着時に加圧と共に、加熱、真空吸引を併用することにより、メッシュ開口部内への気泡残留による白濁の無いものが得られることが確認された。
(1)接地時の作業性
接地作業を10枚の試料につき実施した。接地用領域の露出作業の要不要、露出作業の煩雑さ、不良発生度合いを比較した。
[判定基準]
露出作業が不要;○
露出作業が必要。但し、毎回確実に剥離可能、毎回導電体層の破断損傷無し;△
露出作業が必要。但し、1回以上剥離不能、或いは導電体層の破断損傷有り;×
[Performance evaluation method]
The following points were evaluated with respect to the above examples and comparative examples. The evaluation results are shown in Table 1. From Table 1, in any of the embodiments of the present invention, the optical filter peeling work on the grounding area is unnecessary, so there is no problem in grounding work due to this. In addition, it is confirmed that by using a highly fluid material for the adhesive, or by applying heating and vacuum suction together with pressurization at the time of bonding, a product free of white turbidity due to residual bubbles in the mesh opening can be obtained. It was.
(1) Workability at the time of grounding The grounding work was performed on 10 samples. We compared the necessity of exposure work in the ground contact area, the complexity of the exposure work, and the degree of occurrence of defects.
[Criteria]
No exposure work required; ○
Exposure work is required. However, it can be reliably peeled every time, there is no breakage of the conductor layer every time;
Exposure work is required. However, it cannot be peeled once or more, or there is breakage damage to the conductor layer; ×

(2)メッシュ状領域の透明性
複合フィルタを目視にて透視して比較した。
白濁(曇り)、或いは気泡の存在を認め無いもの;○
白濁(曇り)、或いは気泡の存在を認めるもの;△
白濁(曇り)、或いは気泡の存在を認めるものであって、特に目立つもの;×
(2) Transparency of mesh-like region The composite filters were compared through visual observation.
Cloudy (cloudy) or those that do not recognize the presence of bubbles; ○
Appearance of cloudiness or air bubbles;
Appearance of cloudiness or bubbles, especially noticeable; ×

Figure 2007243069
Figure 2007243069

図1(A)は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の一単位を示す平面図であり、図1(B)は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の断面図である。FIG. 1A is a plan view showing an example of an electromagnetic wave shielding sheet used in the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view of an example of an electromagnetic wave shielding sheet used in the present invention. 本発明の導電体層のメッシュ状領域101の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the mesh-like area | region 101 of the conductor layer of this invention. 本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the electromagnetic wave shielding sheet used for this invention. 本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the electromagnetic wave shielding sheet used for this invention. 本発明に用いられる光学フィルタの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the optical filter used for this invention. 本発明における電磁波遮蔽シートの露出部の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the exposed part of the electromagnetic wave shielding sheet in this invention. 本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法の接着、積層工程の一例を一単位で示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the adhesion | attachment of the manufacturing method of the composite filter for displays of this invention, and a lamination process as a unit. 本発明のディスプレイ用複合フィルタの積層直後の連続状体を示す図である。It is a figure which shows the continuous body immediately after lamination | stacking of the composite filter for displays of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 電磁波遮蔽シート
11 透明基材
12 導電体層
13 導電処理層
14 金属メッキ層(金属層)
15 黒化層
16 防錆層
20 接着性光学フィルタ
21 光学フィルタ
22 接着剤層
23 透明基材
24 機能発現層
40(102) 接地用領域
50 複合フィルタ
101 メッシュ状領域
103 開口部
104 ライン部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave shielding sheet 11 Transparent base material 12 Conductor layer 13 Conductive treatment layer 14 Metal plating layer (metal layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Blackening layer 16 Rust prevention layer 20 Adhesive optical filter 21 Optical filter 22 Adhesive layer 23 Transparent base material 24 Function expression layer 40 (102) Grounding area 50 Composite filter 101 Mesh area 103 Opening part 104 Line part

Claims (5)

電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
(A)透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な厚さ5μm以下のメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも片側端縁の一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる幅寸法Wの連続帯状電磁波遮蔽シートと、
(B)一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な、上記幅寸法Wより狭い幅寸法Xを有する連続帯状接着性光学フィルタとを、
上記連続帯状接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、かつ上記連続帯状接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上を覆う様に連続供給して、上記電磁波遮蔽シートに上記連続状接着性光学フィルタを接着、及び積層し、上記電磁波遮蔽シートの少なくとも一側端縁を接地用領域として、露出させることを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
A method for producing a composite filter for a display comprising a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter,
(A) A mesh-like region having a thickness of 5 μm or less capable of covering the entire image display region of the applied display on one surface of the transparent substrate and a part of at least one side edge around the mesh-like region A continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet having a width dimension W formed by laminating at least a conductor layer having a grounding area;
(B) An adhesive layer is laminated on one surface to cover all portions of the electromagnetic wave shielding sheet facing the image display region of the display and to expose at least a part of the grounding region. A continuous strip-like adhesive optical filter having a width dimension X narrower than the width dimension W;
Directly above the part where the adhesive layer side of the continuous band-like adhesive optical filter faces the conductor layer side of the electromagnetic wave shielding sheet and the continuous band-like adhesive optical filter faces the image display area of the display in the electromagnetic wave shielding sheet characterized by continuously supplying to cover, bonded to the continuous strip-like adhesive optical filter to the electromagnetic shielding sheet, and then laminated, as a ground area at least one side edge of the electromagnetic shielding sheet, an exposing The manufacturing method of the composite filter for displays.
前記電磁波遮蔽シートとして、メッシュ状領域の開口部の開口幅が150μm以上である請求項1に記載のディスプレイ用複合フィルタの製造方法。   The method for producing a composite filter for display according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding sheet has an opening width of 150 μm or more in an opening of a mesh region. 前記連続帯状接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する連続状接着性光学フィルタを用いる請求項1又は2に記載のディスプレイ用複合フィルタの製造方法。   The manufacturing method of the composite filter for displays of Claim 1 or 2 which uses the continuous adhesive optical filter which has a fluid adhesive layer at the time of adhesion | attachment and lamination | stacking as said continuous strip adhesive optical filter. 前記接地用領域が前記電磁波遮蔽シートの両側端縁であって、且つ両側端縁の露出幅が略1:1である請求項1〜3のいずれか1項に記載のディスプレイ用複合フィルタの製造方法。   The manufacturing of the composite filter for display according to any one of claims 1 to 3, wherein the grounding region is a side edge of the electromagnetic wave shielding sheet, and an exposed width of the side edge is approximately 1: 1. Method. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法によって得られたことを特徴とするディスプレイ用複合フィルタ。   A composite filter for a display, which is obtained by the manufacturing method according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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