JP2007234273A - プラズマ反応装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理対象物Kを収容する容器2,6と、被処理対象物Kが載置される支持台11と、支持台11より上方位置で、容器6の周囲に、これを巻回するように配設された、無端環状のコイル15と、コイル15に高周波電力を供給する電力供給手段20と、容器6に接続され、処理ガスを容器6内に供給するガス供給手段30とを備える。電力供給手段20は、少なくともコイル15に接続される第1及び第2の2つの接続端子24,25を備える。第1及び第2の接続端子24,25は、コイル15の全長を2等分する位置a,bにそれぞれ接続され、第1の接続端子24とアース(接地端子26)との間と、第2の接続端子25とアース(接地端子26)との間とに、それぞれ大きさが等しく、相互に位相が逆となる電圧が印加される。
【選択図】図1
Description
I=V/Z
P=V・I・cosψ
=V2cosψ/Z
但し、cosψはコイル151及びプラズマの力率である。
I1=V1/Z/2=2・V1/Z
P=2・V1・I1・cosψ
=4・V1 2・cosψ/Z
但し、cosψはコイル108及びプラズマの力率である。
P=V2cosψ/Z=4・V1 2・cosψ/Z
V1=V/2
前記電力供給手段は、少なくとも前記コイルに接続される第1及び第2の2つの接続端子を備え、前記第1及び第2の接続端子は、各々によって前記コイルの全長を2等分する位置にそれぞれ接続され、前記第1の接続端子とアースとの間と、前記第2の接続端子とアースとの間とに、それぞれ大きさが等しく、相互に位相が逆となる電圧を印加するように構成されたプラズマ反応装置に係る。
前記電力供給手段は、少なくとも前記コイルに接続される第1及び第2の2つの接続端子を備え、前記第1の接続端子は前記コイルの始端及び終端、並びに該始端と終端とを結ぶ垂線と交差する部分に接続され、前記第2の接続端子は前記コイルの中心軸を中心として前記垂線に対し線対称の位置に設定した仮想の垂線と前記コイルとが交差する部分に接続され、前記第1の接続端子とアースとの間と、前記第2の接続端子とアースとの間とに、それぞれ大きさが等しく、相互に位相が逆となる電圧を印加するように構成されたプラズマ反応装置に係る。
I2=V2/Z2=4・V2/Z
P=4・V2・I2・cosψ
=16・V2 2cosψ/Z
但し、cosψはコイル15及びプラズマの力率である。
P=V2cosψ/Z=16・V2 2・cosψ/Z
V2=V/4
I3=V3/Z3=4・n・V3/Z
P11=4・V3・I3・cosψ=P12=P13=・・・=P1n
=16・n・V3 2cosψ/Z
但し、cosψはコイル15及びプラズマの力率である。
P=P11+P12+・・・+P1n
=n・P11
=16・n2・V3 2cosψ/Z
P=V2cosψ/Z=16・n2・V3 2・cosψ/Z
V3=V/(4・n)
I4=V4/Z4=4・n・V4/Z
P21=4・V4・I4・cosψ=P22=P23=・・・=P2n
=16・n・V4 2cosψ/Z
但し、cosψはコイル51及びプラズマの力率である。
P=P21+P22+・・・+P2n
=n・P21
=16・n2・V4 2cosψ/Z
P=V2cosψ/Z=16・n2・V4 2・cosψ/Z
V4=V/(4・n)
2 下部容器
6 上部容器
11 載置台
15 コイル
20 電力供給装置
30 処理ガス供給装置
35 排気装置
Claims (3)
- 被処理対象物を収容する容器と、
前記容器内に配設され、前記被処理対象物が載置される支持台と、
前記支持台より上方位置で、前記容器の周囲に、これを巻回するように配設された、無端環状のコイルと、
前記コイルに高周波電力を供給する電力供給手段と、
前記容器に接続して、処理用のガスを該容器内に供給するガス供給手段とを備え、
前記容器内に供給されたガスを、前記コイルに印加された高周波電力によってプラズマ化し、プラズマ化した処理ガスによって、前記支持台上の被処理対象物表面を処理するように構成されたプラズマ反応装置において、
前記電力供給手段は、少なくとも前記コイルに接続される第1及び第2の2つの接続端子を備え、前記第1及び第2の接続端子は、各々によって前記コイルの全長を2等分する位置にそれぞれ接続され、前記第1の接続端子とアースとの間と、前記第2の接続端子とアースとの間とに、それぞれ大きさが等しく、相互に位相が逆となる電圧を印加するように構成されてなることを特徴とするプラズマ反応装置。 - 前記コイルの複数個が上下に並設されてなり、
前記電力供給手段の第1及び第2の接続端子が、それぞれ前記複数のコイルに接続されてなることを特徴とする請求項1記載のプラズマ反応装置。 - 被処理対象物を収容する容器と、
前記容器内に配設され、前記被処理対象物が載置される支持台と、
前記支持台より上方位置で、前記容器の周囲に、これを整数周回巻回するように配設された螺旋状のコイルと、
前記コイルに高周波電力を供給する電力供給手段と、
前記容器に接続して、処理用のガスを該容器内に供給するガス供給手段とを備え、
前記容器内に供給されたガスを、前記コイルに印加された高周波電力によってプラズマ化し、プラズマ化した処理ガスによって、前記支持台上の被処理対象物表面を処理するように構成されたプラズマ反応装置において、
前記電力供給手段は、少なくとも前記コイルに接続される第1及び第2の2つの接続端子を備え、前記第1の接続端子は前記コイルの始端及び終端、並びに該始端と終端とを結ぶ垂線と交差する部分に接続され、前記第2の接続端子は前記コイルの中心軸を中心として前記垂線に対し線対称の位置に設定した仮想の垂線と前記コイルとが交差する部分に接続され、前記第1の接続端子とアースとの間と、前記第2の接続端子とアースとの間とに、それぞれ大きさが等しく、相互に位相が逆となる電圧を印加するように構成されてなることを特徴とするプラズマ反応装置。
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---|---|---|---|---|
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2006
- 2006-02-28 JP JP2006051666A patent/JP4864488B2/ja active Active
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