JP2007220723A - 配線基板の配線形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】めっき厚にバラツキがあっても、フィルムレジスト(DFR)を加工することなく、均一な厚さの配線パターンを得ることのできる配線基板の製造方法を得る。
【解決手段】絶縁樹脂(1)の表面にめっき用給電層(8)を形成し、その上にDFR(2)を所定の均一な厚さに積層し、DFRの配線形成に必要な部分を除去して、除去部分にめっき用給電層を露出させ、めっき用給電層を利用して電解めっきを施すことにより、DFRの厚さより高く配線材料(4)を析出させ、樹脂製の研磨パッド(5)を用いて、酸系スラリー(6)でDFRの表面より突出した配線材料の部分を、DFRの厚さと同じ高さになるまで研磨し、レジスト及びめっき用給電層を除去する。
【選択図】図4
【解決手段】絶縁樹脂(1)の表面にめっき用給電層(8)を形成し、その上にDFR(2)を所定の均一な厚さに積層し、DFRの配線形成に必要な部分を除去して、除去部分にめっき用給電層を露出させ、めっき用給電層を利用して電解めっきを施すことにより、DFRの厚さより高く配線材料(4)を析出させ、樹脂製の研磨パッド(5)を用いて、酸系スラリー(6)でDFRの表面より突出した配線材料の部分を、DFRの厚さと同じ高さになるまで研磨し、レジスト及びめっき用給電層を除去する。
【選択図】図4
Description
本発明は、配線基板の製造方法、特にフィルムレジストを使用した配線基板の配線形成方法に関する。
配線基板に要求される電気的特性は年々厳しくなっており、特に電気的特性に影響の大きい配線厚を設計値どおりに作製し、製品間のバラツキも小さくすることは、必須となってきている。一方で、配線基板の設計においては、所定の電気特性を得るために、1つの製品内においても幅の異なる配線が必要になってきている。また配線基板の製造方法においては、生産性を向上するため、最終段階までは複数の個別製品を配置した大型のワークで処理が行われている。これらの設計、処理は、1つの基板内の個々の製品に関する均一性を低下させるため、配線を形成するめっき厚さのバツラキを増加する原因となる。
配線基板の配線厚さを均一にする1つの方法として、最終の配線厚さよりも厚くめっきを形成し、その後研磨やエッチングにより設計厚さまで配線厚さを薄くするように加工する技術が提案されている。
このような、研磨やエッチングにより配線厚さを設計厚さにまで調整する従来技術について、図1〜図3を参照して説明する。
図1において、配線基板の基材1上にDFR2を被覆し、DFR2をフォトプロセス等で露光・現像を行った溝パターン3を形成し、電解銅めっきによりパターン溝3内に配線材料である銅4を析出させて、銅4を最終の配線厚さよりも厚く且つDFR2の表面より例えば厚さtだけ飛び出すように形成する。
図2はDFRの表面より飛び出した銅めっきの凸部を研磨により加工して設計厚さまで配線厚さを薄くする工程を示す。研磨砥石5として、バフ、ベルトサンダー等を使用する(図2(a))。研磨砥石5の加工面が、機械精度による振れや基板側の表面の凹凸等により、基板表面に対して傾いた場合、DFR2も配線4と同様に加工されてしまうため、配線4の厚さは均一とならず、研磨砥石5の傾きと同様の傾きとなってしまう(図2(b))。
図3はDFRの表面より飛び出した銅めっきの凸部をエッチングにより加工して設計厚さまで配線厚さを薄くする工程を示す。エッチングの前の状態では、上述のように、電解銅めっき等によりDFRのパターン溝内に銅4を析出させて形成したもので、銅の配線4は厚さにバラツキ(A)がある(図3(a))。エッチングにより、銅4の配線の厚さを調整加工する場合においても、通常エッチングはどの配線に対しても均一に作用するため銅配線の厚さのバラツキ(A)がめっき後の厚さのバラツキにトレースされ、銅配線の厚さを均一な厚さとすることは困難である。
配線のめっき厚さの調整方法に関する先行技術としては次のようなものが提案されている。特許文献1(特開平06−053660号公報)では、レジストのパターニング後セミアディディブ法により行うめっきをレジストの厚さより厚く析出後、研磨によりめっきの突出部を除去し平坦化する。この提案では、研磨の方法について具体的な開示はないが、前述のように機械的な研磨であり、研磨砥石の加工面が、機械精度による振れや基板側の表面の凹凸等により、基板表面に対して傾いた場合、レジストも配線と同様に加工されてしまうため、配線の厚さを均一とすることは困難である。
特許文献2(特開2002−076620号公報)では、レジストのパターニング後セミアディディブ法により行うめっきをレジストの厚さより厚く析出後、レジストとめっき表面との間にストッパーメタルを形成し、その後、研磨によりめっきの突出部を除去しめっきの厚さを基準値に揃える。この提案では、ストッパーメタルを形成することが必要となり、また加工終了後、ストッパーメタルを除去する工程が必要となる。更に、研磨は機械的研磨が必要であり、研磨後の配線金属にはバリが発生し、その除去が必要になると共に、そのバリの処理により高精度の配線厚さの制御が困難となる。
特許文献3(特開2003−258410号公報)では、レジストのパターニング後セミアディディブ法により行うめっきをレジストの厚さより厚く析出後、機械研磨によりめっきの突出部を除去しめっきの厚さをレジストの厚さを基準として配線の高さを揃える。この提案では、機械研磨を採用しているが、めっきと樹脂とは研磨レートの差が非常に大きい為、レジスト樹脂の表面でめっき金属の研磨を完了させることは困難である。
特許文献4(特開2005−277258号公報)では、めっきレジストのパターニング後、レジストを含む全面にめっきシード層を形成し、レジストより高くめっきを析出した後、物理的又は化学的研磨によりレジストを露出させて、レジストを剥離、エッチングを行う。この提案では、めっきをレジスト全面に形成するため、研磨するめっき金属の量が多い。研磨手法としては、バフエッチングを例としているが、バフではめっきよりもレジストを容易に研磨してしまうため、レジストの表面でめっき金属の研磨を精度良く終了することは困難である。また、エッチングの場合は、パターン面積が異なるため、均一なエッチングを行うことは困難で、めっき金属の厚さをレジストの表面に正確に揃えることはできない。
従来例において、フィルムレジストを使用して配線基板を製造する場合には、配線パターンを形成するためのドライフィルムレジスト(DFR)に対して、配線のめっきはDFRの厚さよりも、通常は、低く形成される。しかし、上述のように、DFRの厚さが均一であることから、めっきをDFRの表面より飛び出すように形成し、飛び出して凸部となっためっきの部分を研磨で除去することで、配線厚さを均一にすることが提案されている。しかし、めっきによる配線素材として銅(Cu)等が用いられているので、Cuと比較して非常に加工されやすいDFRを加工することなく、配線材料のみをDFRの厚さと同一の高さとなるまで加工することは非常に難しい。
また、DFRを加工しないエッチングによりDFRの表面より飛び出した余剰のめっきを除去する方法もあるが、もともとバラツキのあるめっき表面に対して、エッチングはめめっきの低い部分にも均一に作用してしまうため、めっきによる厚さのバラツキを解消することは困難である。
そこで、本発明では、めっき厚にバラツキがあっても、フィルムレジストを加工することなく、均一な厚さの配線パターンを得ることのできる配線基板の配線形成方法を提供することを課題とする。
上記の課題を達成するために、本発明によれば、絶縁樹脂の表面にめっき用給電層を形成し、該めっき用給電層上にレジストを所定の均一な厚さに積層する工程と、該レジストの配線形成に必要な部分を除去し、該除去部分に前記めっき用給電層を露出させる工程と、前記めっき用給電層を利用して電解めっきを施すことにより、少なくとも前記レジストの厚さより高く配線材料を析出させる工程と、樹脂製の研磨パッドを用いて、酸系スラリーで前記レジストの表面より突出した前記配線材料の部分を、前記レジストの厚さと同じ高さになるまで研磨する工程と、前記レジスト及び前記めっき用給電層を除去する工程と、からなることを特徴とする配線基板の配線形成方法が提供される。
本発明によれば、電解めっき後の配線材料の析出高さにバラツキがあっても、所定の均一な厚さを有するレジストを基準として、レジストの表面より突出した配線材料の部分を、樹脂製の研磨パッドを用いて、酸系スラリーで、レジストの厚さと同じ高さになるまで研磨するので、配線材料の厚い部分が優先的に研磨され、レジストの厚さを基準として均一な配線厚さにまで研磨を行うことができる。また、樹脂製の研磨パッドを使用し且つ酸系スラリーを用いて化学機械研磨(CMP)を行うので、レジスト自体を加工することなくレジストに損傷を与えることなく、配線材料のレジストの表面から突出した部分のみを加工することができる。
前記レジストとしてドライフィルムレジスト(DFR)を用いることを特徴とする。これにより、より所定の均一な厚さをもったDFRにより、配線の厚さをより一層均一なものとすることができる。
前記レジストは最終の配線厚さに前記めっき給電層の厚さを減じた厚さを有することを特徴とする。これにより、レジスト表面に揃えるように配線材料のめっきを加工することにより、所望の厚さの配線を得ることができる。
樹脂製の前記研磨パッドはポリウレタンを含浸させたポリエステル不織布繊維又はポリウレタン樹脂発泡体であることを特徴とする。このように樹脂製の前記研磨パッドにポリウレタンを含むことにより、内部に空気層をもたせることとなり、樹脂製の研磨パッドのスラリーの保持性が向上する。
前記酸系スラリーは、酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などの有機酸を主成分とし、砥粒としてSiO2粉末又はアルミナ粉末が調合されたものであることを特徴とする。
前記レジスト及び前記めっき用給電層を除去する工程では、前記レジストを剥離除去した後、前記めっき用給電層をエッチングにより除去することを特徴とする。
以下、添付図面(図4〜図6)を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
図4(a)において、配線基板の下地材料である絶縁樹脂基材1の全面に、後の工程で行う電解めっきのための給電層8を形成する。この電解めっき用給電層8は、例えばスパッタリング、蒸着又は無電解めっき等により電解めっき用の給電層として必要な程度の薄い銅層として形成する。
ついで、このめっき用給電層上に所定の均一な厚さを有するドライフィルムレジスト(DFR)2を被覆する。このDFR2の厚さは、最終の配線厚さにめっき給電層の厚さを減じた厚さに相当する。そして、DFR2をフォトプロセス等で露光・現像を行って溝パターン3を形成し、配線形成に必要な部分のDFR2を除去して、このDFR2の除去部分3にめっき用給電層8を露出させる。
ついで、めっき用給電層8より給電することにより、銅の電解めっきを施し、パターン溝3内に銅4を析出させて、配線の最終の厚さよりも厚く且つDFRの表面より例えば厚さtだけ飛び出すように配線材料4を形成する。
図4(b)において、DFR2の表面より飛び出した配線材料である銅めっき4の凸部を、樹脂製の研磨パッド5を回転させると共に酸系の研磨スラリー6を用いて研磨加工して、配線材料4の高さをDFR2の表面に揃える。
本発明では、樹脂製の研磨パッド5の材質として、ポリエステル不織布繊維にポリウレタン樹脂を含浸させたもの、或いは、ポリウレタン樹脂発泡体を用いる。このように研磨パッド5として樹脂製のものを使用することにより、研磨パッド5が矢印の方向に回転して配線材料4に対して研磨作用を行う際、研磨パッド5を構成している樹脂素材がDFR2を研磨したり損傷を与えたりしないようにしている。また、研磨用のスラリー6は、酸系のもの、例えば、酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などの有機酸を主成分とし、砥粒としてSiO2粉末又はアルミナ粉末が調合されたものである。このように、研磨用のスラリー6を酸系のものとすることにより、配線材料である銅4に対して多少のエッチングの作用を行う一方で、アルカリに反応性のあるDFR2に対して反応せずに、DFR2に影響を及ぼさないようにしている。
このようにして、DFR2の表面より突出した配線材料4の部分を加工して、配線材料4の高さをDFR2の表面と一致する高さにまで揃えた後、よく知られている方法でDFR2を剥離し、その後めっき給電層8をエッチングにより除去する。
図5は、本発明により、研磨パッド5が矢印の方向に回転して、DFR2の表面より突出した配線材料4の部分を加工する状態を示したものである。図示のように、DFR2の表面より突出した配線材料4の高さには、バラツキがあるが、本発明によれば、配線材料4の突出した高さの高い部分から優先的に加工されて研磨が進行する。したがって、配線材料4の高さをDFR2の表面と一致する高さにまで精度良く揃えることができる。
図6は、本発明により、研磨パッド5が矢印の方向に回転して、DFR2の表面より突出した配線材料4の部分を加工する場合において、研磨パッド5に傾きがある状態を示している。このように、研磨パッド5に傾きがあって、研磨パッド5がDFR2に接触した場合においても、研磨パッド5が樹脂で構成されているので、DFR2はほとんど加工されない。従って、配線材料4がDFR2の表面より低く加工されることはない。また、研磨スラリー6も酸系のものを使用しているので、DFR2に対して影響を及ぼすことはない。
以上添付図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の精神ないし範囲内において種々の形態、変形、修正等が可能である。
以上説明したように、本発明によれば、レジストの厚さより高く配線材料を析出させた部分を加工するに際して、樹脂製の研磨パッドを用いて、酸系スラリーでレジストの表面より突出した前記配線材料の部分を、レジストの厚さと同じ高さになるまで研磨している。従って、電解めっき後の配線材料の析出高さにバラツキがあっても、所定の均一な厚さを有するレジストを基準として、レジストの表面より突出した配線材料の部分を、樹脂製の研磨パッドを用いて、酸系スラリーで、レジストの厚さと同じ高さになるまで研磨するので、配線材料の厚い部分が優先的に研磨され、レジストの厚さを基準として均一な配線厚さを達成することができる。
また、樹脂製の研磨パッドを用い且つ酸系スラリーを用いて化学機械研磨(CMP)を行うので、レジスト自体を加工することなく且つレジストを損傷することなく、配線材料のレジストの表面から突出した部分のみを加工することができる。
1 絶縁樹脂基材
2 レジスト(DFR)
3 溝パターン
4 配線材料(銅)
5 研磨パッド
6 研磨スラリー
8 電解めっき用給電層
2 レジスト(DFR)
3 溝パターン
4 配線材料(銅)
5 研磨パッド
6 研磨スラリー
8 電解めっき用給電層
Claims (6)
- 絶縁樹脂の表面にめっき用給電層を形成し、該めっき用給電層上にレジストを所定の均一な厚さに積層する工程と、
該レジストの配線形成に必要な部分を除去し、該除去部分に前記めっき用給電層を露出させる工程と、
前記めっき用給電層を利用して電解めっきを施すことにより、少なくとも前記レジストの厚さより高く配線材料を析出させる工程と、
樹脂製の研磨パッドを用いて、酸系スラリーで前記レジストの表面より突出した前記配線材料の部分を、前記レジストの厚さと同じ高さになるまで研磨する工程と、
前記レジスト及び前記めっき用給電層を除去する工程と、からなることを特徴とする配線基板の配線形成方法。 - 前記レジストとしてドライフィルムレジストを用いることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の配線形成方法。
- 前記レジストは最終の配線厚さに前記めっき給電層の厚さを減じた厚さを有することを特徴とする請求項1に記載の配線形成方法。
- 樹脂製の前記研磨パッドはポリウレタンを含浸させたポリエステル不織布繊維又はポリウレタン樹脂発泡体であることを特徴とする請求項1に記載の配線形成方法。
- 前記酸系スラリーは、酢酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸などの有機酸を主成分とし、砥粒としてSiO2粉末又はアルミナ粉末が調合されたものであることを特徴とする請求項1に記載の配線形成方法。
- 前記レジスト及び前記めっき用給電層を除去する工程は、前記レジストを剥離除去した後、前記めっき用給電層をエッチングにより除去することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の配線形成方法。
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Citations (2)
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JPH0653660A (ja) * | 1992-07-29 | 1994-02-25 | Oki Electric Ind Co Ltd | 配線層の平坦化方法 |
JP2002517593A (ja) * | 1998-06-10 | 2002-06-18 | ロデール ホールディングス インコーポレイテッド | 金属cmpにおける研磨用組成物および研磨方法 |
-
2006
- 2006-02-14 JP JP2006036530A patent/JP2007220723A/ja active Pending
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JP2002517593A (ja) * | 1998-06-10 | 2002-06-18 | ロデール ホールディングス インコーポレイテッド | 金属cmpにおける研磨用組成物および研磨方法 |
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