JP2007219492A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムが順に積層するアセンブリ母基板形成ステップと、
   前記アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化するステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
   前記アセンブリ母基板形成ステップは、
   前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
   前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
   前記積層ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
   前記アセンブリ母基板形成ステップは、
   前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
   前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、
   前記アセンブリステップの後、前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
   前記アセンブリ母基板の形成ステップは、
   前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
   前記各母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／または前記カラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
   前記セル形成ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記緩衝層は、接着性を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置するクッション層と、を含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 液晶パネルと、
   前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
   前記偏光板上の緩衝層と、
   前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
   前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルムの外周縁は同じ切断面を含むことを特徴とする液晶表示装置。
8. 前記緩衝層は接着性を有することを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
9. 前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 液晶パネルと、
    前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
    前記偏光板上の緩衝層と、
    前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
    前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルム間の公差は２０ないし３０μｍであることを特徴とする液晶表示装置。