JP2007212455A - 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円偏光放射成分を有する少なくとも1つの入ってくる状態を含む、偏光の複数の入ってくる状態で、光学系に関する入ってくる光学的放射を供給するステップと、入ってくる光学的放射を光学系に向けるステップと、偏光の入ってくる状態のそれぞれに関する光学系から発する結果の出てゆく光学的放射の、位相分布を含む少なくとも1つの特性を測定するステップと、出てゆく光学的放射の測定された特性を評価することによって、光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似するステップとを含む。
【選択図】図1
Description
I=trace|(T+TΔ)P(T+TΔ)+|=IT+ITΔ+2Re{trace[TPTΔ +]} (3)
ここで、Tは、投影対物レンズの瞳分解されたジョーンズ行列であり、TΔは、シアリング距離(shearing distance)だけシフトされた瞳位置での対応するジョーンズ行列である。プラス記号は、それが参照するめいめいの行列の複素共役を示す上付き文字である。ITおよびITΔは、シアリング干渉計の2つの干渉する部分的光波のめいめいの強度項であり、項(2Re{trace[TPTΔ +]})は、2つの干渉する部分的光波の干渉項を示す。
ΔΦpol=arg(trace[TPTΔ +]) (5)
さらに、偏光依存強度分布Apolは、次式のように得られる。
Apol=abs(trace[TPTΔ +]) (6)
a(n)=FT[Φpol(φ)] (7)
b(n)=FT[Apol(φ)] (8)
t=abs[b(0)] (11)
T=TR(α1)TRP(α2,β1)TP(σ1,σ2)TRP(−α3,β2)TR(−α4) (16)
Teff=TlinTcirc (17)
但し、
Tlin=TRP(α,R)TR(β)TP(σ1,σ2)TR(Rz−β) (18)
かつ
Tcirc=TRP(π/4,π/2)TR(π/4)TP(σ1z,σ2z)TR(−π/4)TRP(−π/4,π/2) (19)
であり、Tlinは、リターデイションR、直線偏光二色性d、および回転Rzの寄与を含むジョーンズ行列の表現であり、Tcircは、円偏光二色性dzを記述する、追加のジョーンズ行列の表現である。
TSph=UVW (25)
その後、ユニタリ基準ジョーンズ行列Trefを、次のように作成する。
Tref=UW (26)
11 照明システム
12 投影対物レンズ
13 入ってくる光学的放射を与える手段
14 拡散スクリーン
16 偏光子
18 リターダ(補償板)
20 スポット・レンズ
22 コヒーレンス・マスク
24 入ってくる光学的放射
26 出てゆく光学的放射
28 シアリング干渉計
30 CCD検出器
32 評価ユニット
34 回折格子
36 作動ユニット
38 部分的波
40 部分的波
42 コヒーレンス・マスク
44 ビーム整形手段
Claims (17)
- 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法であって、
円偏光放射成分を有する少なくとも1つの入ってくる状態を含む、偏光の複数の入ってくる状態で、前記光学系に関する入ってくる光学的放射を供給するステップと、
前記入ってくる光学的放射を前記光学系に向けるステップと、
偏光の前記入ってくる状態のそれぞれに関する前記光学系から発する結果の出てゆく光学的放射の、位相分布を含む少なくとも1つの特性を測定するステップと、
前記出てゆく光学的放射の前記測定された特性を評価することによって、光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響を近似するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法であって、
前記光学系に関する入ってくる光学的放射を偏光の複数の入ってくる状態で供給するステップと、
前記入ってくる光学的放射を前記光学系に向けるステップと、
偏光の前記入ってくる状態のそれぞれに関する前記光学系から発する結果の出てゆく光学的放射の少なくとも1つの特性を測定するステップと、
前記出てゆく光学的放射の前記測定された特性から前記光学系の回転および/または円偏光二色性を計算することによって、光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響を近似するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法であって、
前記光学系に関する入ってくる光学的放射を偏光の複数の入ってくる状態で供給するステップと、
前記入ってくる光学的放射を前記光学系に向けるステップと、
共通光路干渉計内の共通の経路を進む少なくとも2つの部分的光波の干渉を引き起こす前記干渉計を使用して、偏光の前記入ってくる状態のそれぞれに関する前記光学系から発する結果の出てゆく光学的放射の、位相分布を含む少なくとも1つの特性を測定するステップと、
前記出てゆく光学的放射の前記測定された特性を評価することによって、光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響を近似するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 光学的放射の偏光の状態に対する光学系の影響を近似する方法であって、
前記光学系に関する入ってくる光学的放射を偏光の少なくとも1つの入ってくる状態で供給するステップと、
前記入ってくる光学的放射を前記光学系に向けるステップと、
偏光子を使用せずに、偏光の前記少なくとも1つの入ってくる状態のそれぞれに関する前記光学系から発する結果の出てゆく光学的放射の少なくとも1つの特性を測定するステップと、
前記出てゆく光学的放射の前記測定された少なくとも1つの特性から、光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響を近似するステップとを含むことを特徴とする方法。 - 前記出てゆく光学的放射の前記少なくとも1つの特性を測定することが、偏光の前記入ってくる状態のそれぞれに関して前記出てゆく光学的放射の位相分布および/または強度分布を測定することを含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
- 位相分布および/または強度分布の前記測定が、干渉計、具体的にはシアリング干渉計および/または点回折干渉計などの共通光路干渉計の使用を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響の前記近似が、前記測定された位相分布および/または前記測定された強度分布をモデル関数内で処理することを含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響の前記近似が、前記光学系の近似ジョーンズ行列の再構成を含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
- 偏光の前記入ってくる状態が、偏光の任意の状態を偏光の前記入ってくる状態の線形組合せによって形成できるように選択されることを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
- 前記光学系が、所与の開口を有する光学結像系を含み、光学的放射の偏光の前記状態に対する前記光学系の前記影響が、瞳分解を用いて判定されることを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
- 前記入ってくる放射が、主に直線偏光の放射成分を有する少なくとも1つの第1の入ってくる状態と、主に円偏光の放射成分を有する少なくとも1つの第2の入ってくる状態とで供給されることを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1の入ってくる状態の前記直線偏光の放射成分の支配的な偏光方向が、0°≦φ<180°の範囲内で等しいステップで前記支配的な偏光方向の方位角を回転することによって得られる少なくとも3つの偏光方向の間で変更されることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記支配的な偏光方向の前記変更から生じる前記測定された出てゆく光学的放射の位相分布および強度分布の変動が、測定され、前記光学系のリターデイションおよび直線偏光二色性が、それから判定されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第2の入ってくる状態が、主に左円偏光光の第1の入ってくる円偏光状態と主に右円偏光光の第2の入ってくる円偏光状態とを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記光学系の前記回転および前記円偏光二色性が、前記第1のおよび前記第2の入ってくる円偏光状態に関する前記出てゆく光学的放射の前記測定された特性から判定されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記光学系の透過が、偏光の前記少なくとも1つの第1の入ってくる状態および/または偏光の前記少なくとも1つの第2の入ってくる状態に関する前記出てゆく光学的放射の前記測定された特性から判定されることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 偏光の前記入ってくる状態が、偏光子およびリターダの少なくとも1つの組合せによって前記入ってくる光学的放射の偏光状態を変更することによって提供され、前記少なくとも1つの偏光子および前記少なくとも1つのリターダのそれぞれが、そのめいめいの空間的方位において独立に調整可能であることを特徴とする請求項1乃至4のうちのいずれか1つに記載の方法。
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