JP2007210924A - カルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 従来から提供されている殺菌性組成物は、予防効果と治療効果のいずれか一方が不十分であったり、残効性が不十分であったり、施用場面によっては植物病害に対する防除効果が不十分であったりするなど、実用上いくつかの問題点を抱えており、このような問題点を克服した殺菌性組成物が希求されている。
【解決手段】式(I):
【化1】
[式中、Aは置換されてもよいフェニル、置換されてもよい複素環基又は置換されてもよい縮合複素環基であり、Bは置換されてもよい複素環基(但し、ピリジルは除く)又は置換されてもよいシクロアルキルであり、R1及びR2は各々独立に水素原子又はアルキルである]で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物を提供する。
【選択図】なし。
【解決手段】式(I):
【化1】
[式中、Aは置換されてもよいフェニル、置換されてもよい複素環基又は置換されてもよい縮合複素環基であり、Bは置換されてもよい複素環基(但し、ピリジルは除く)又は置換されてもよいシクロアルキルであり、R1及びR2は各々独立に水素原子又はアルキルである]で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物を提供する。
【選択図】なし。
Description
本発明は、カルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物に関する。
特許文献1及び特許文献2には、一定の化学構造を有するカルボン酸アミド誘導体が有害生物防除剤の有効成分として有用であることが記載されている。しかしながら、そこには後記式(I)の化合物が殺菌作用を有することについては記載されていない。一方、特許文献3には、カルボン酸アミド誘導体を有効成分として含有する殺菌性組成物が記載されているが、このものの有効成分化合物は後記式(I)の化合物とは異なる。
従来から提供されている多くの殺菌性組成物は、予防効果と治療効果のいずれか一方が不十分であったり、残効性が不十分であったり、或は、施用場面によっては植物病害に対する防除効果が不十分であったりするなど、実用上いくつかの問題点を抱えている。従って、このような問題点を克服した殺菌性組成物が希求されている。
本発明者らは、前述の問題点を解決すべく研究した結果、後記式(I)のカルボン酸アミド誘導体を含有する殺菌性組成物が、種々の有害菌類、例えば卵菌類、子嚢菌類、担子菌類、不完全菌類に起因する各種病害に対して優れた予防効果及び治療効果を発揮し、同時に、実用上満足できる残効性を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、式(I):
すなわち本発明は、式(I):
[式中、AはXで置換されてもよいフェニル、Xで置換されてもよい複素環基又はXで置換されてもよい縮合複素環基であり、BはYで置換されてもよい複素環基(但し、ピリジルは除く)又はYで置換されてもよいシクロアルキルであり、R1及びR2は各々独立に水素原子又はアルキルであり、Xはハロゲン、Eで置換されてもよいアルキル、Eで置換されてもよいアルケニル、Eで置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、Eで置換されてもよいアルコキシ、Eで置換されてもよいアルケニルオキシ、Eで置換されてもよいアルキニルオキシ、トリアルキルシリルオキシ、シクロアルキルオキシ、Eで置換されてもよいアルキルチオ、Eで置換されてもよいフェニル又はジアルキルアミノであり、Yはハロゲン、Eで置換されてもよいアルキル、Eで置換されてもよいアルコキシ又はシアノであり、Eはハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ又はシアノである]で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物に関する。また、本発明は、前記誘導体又はその塩の有効量を施用して種々の有害菌類或は種々の有害菌類に起因する各種病害を防除する方法、前記誘導体又はその塩の有効量を施用して作物を保護する或は作物の収穫量を向上させる方法に関する。さらに、本発明は、従来、具体的に知られておらず、また、殺菌活性が特に優れた化合物群である式(I-α):
[式中、Bはハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ及びシアノよりなる群から選ばれた少なくとも1種の置換基で置換されてもよい5員又は6員複素環基であり、Xはハロゲン、Eで置換されてもよいアルキル、Eで置換されてもよいアルケニル、Eで置換されてもよいアルキニル、ヒドロキシ、シアノオキシ、Eで置換されてもよいアルコキシ、Eで置換されてもよいアルケニルオキシ、Eで置換されてもよいアルキニルオキシ、トリアルキルシリルオキシ、シクロアルキルオキシ、Eで置換されてもよいアルキルチオ、Eで置換されてもよいフェニル又はジアルキルアミノであり、Eはハロゲン、アルコキシ、アルキルチオ、ジアルキルアミノ又はシアノであり、nは1、2又は3である]で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩に関する。
前記式(I)中、Aに含まれる置換基としてのXの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。Bに含まれる置換基としてのYの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。X又はYに含まれる置換基としてのEの置換数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、これら置換基は同一でも相異なっていてもよい。
本発明における複素環基としては酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を1〜4含有する3〜6員複素環が望ましく、例えばオキシラニルのような3員複素環;フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、ピロリル、ピロリニル、ピロリジニル、ジオキソラニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、トリアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリルなどの5員複素環;ピラニル、ピリジル、ピペリジニル、ジオキサニル、オキサジニル、モルホリニル、チアジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピペラジニル、トリアジニル、ジヒドロオキサチイニル、ジヒドロオキソオキサチイニル、ジヒドロジオキソオキサチイニル、ジヒドロピラニル、ジヒドロチイニルなどの6員複素環が挙げられる。これらの中でも、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を1〜2含有する5員又は6員複素環基がさらに望ましく、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ジヒドロオキサチイニル、ジヒドロオキソオキサチイニル、ジヒドロジオキソオキサチイニル、ジヒドロピラニル、ジヒドロチイニルなどが最も望ましい。
本発明における縮合複素環としては酸素原子、硫黄原子及び窒素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を1〜4含有する8〜10員縮合複素環、例えばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロイソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イソベンゾチエニル、ジヒドロベンゾチエニル、ジヒドロイソベンゾチエニル、テトラヒドロベンゾチエニル、インドリル、イソインドリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾジオキソラニル、ベンゾジオキサニル、クロメニル、クロマニル、イソクロマニル、クロモニル、クロマノニル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、インドリジニル、キノリジニル、イミダゾピリジル、ナフチリジニル、プテリジニル、ジヒドロベンゾオキサジニル、ジヒドロベンゾオキサゾリノニル、ジヒドロベンゾオキサジノニル、ベンゾチオキサニルなどが挙げられる。
本発明におけるアルキル又はアルキル部分は、炭素数1〜12の直鎖又は分枝状のもの、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデカニル、ドデカニルなどが挙げられる。
本発明におけるシクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、炭素数3〜6のもの、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
本発明におけるアルケニル又はアルケニル部分としては、炭素数2〜12の直鎖又は分枝状のもの、例えばビニル、1−プロペニル、アリル、イソプロペニル、1−ブテニル、1,3−ブタジエニル、1−ヘキセニル、1−ヘプテニルなどが挙げられる。また、アルキニル又はアルキニル部分としては、炭素数2〜12の直鎖又は分枝状のもの、例えばエチニル、2−ブチニル、2−ペンチニル、3−ヘキシニル、4−ジメチル−2−ペンチニルなどが挙げられる。
本発明におけるハロゲン又は置換基としてのハロゲンとしては、弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。置換基としてのハロゲンの数は1又は2以上であってよく、2以上の場合、各ハロゲンは同一でも相異なってもよい。また、ハロゲンの置換位置はいずれの位置でもよい。
前記式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体の塩としては、農業上許容されるものであればあらゆるものが含まれるが、例えばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩;塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。
前記式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体には、各種異性体、例えば光学異性体、幾何異性体などが存在するが、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含まれる。尚、本発明には、当該技術分野における技術常識の範囲内において、前記したもの以外の各種異性体も含まれる。また、異性体の種類によっては、前記式(I)又は(I-α)とは異なる化学構造となる場合があるが、当業者であればそれらが異性体の関係にあることが十分認識できる為、本発明の範囲内であることは明らかである。
前記式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩は、反応〔A〕並びに通常の塩の製造方法に従って製造することができる。
前記式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩は、反応〔A〕並びに通常の塩の製造方法に従って製造することができる。
反応〔A〕中、A、B、R1及びR2は前述の通りであり、Zはヒドロキシ、アルコキシ又はハロゲンであり、ハロゲンとしては弗素、塩素、臭素又は沃素の各原子が挙げられる。
反応〔A〕は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類;メチルリチウム、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(II)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜2倍モル使用できる。
反応〔A〕は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類;メチルリチウム、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(II)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜2倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔A〕は、必要に応じて脱水縮合剤の存在下で行うことができる。該脱水縮合剤としてはN,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロスルホニルイソシアネート、N,N'−カルボニルジイミダゾール、トリフルオロ酢酸無水物などが挙げられる。
反応〔A〕は、通常0〜100℃、望ましくは0〜50℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜48時間程度、望ましくは1〜24時間程度とすることができる。
前記反応〔A〕で使用される式(II)の化合物は、以下の反応〔B〕〜〔D〕に従って製造することができる。
反応〔A〕は、通常0〜100℃、望ましくは0〜50℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜48時間程度、望ましくは1〜24時間程度とすることができる。
前記反応〔A〕で使用される式(II)の化合物は、以下の反応〔B〕〜〔D〕に従って製造することができる。
反応〔B〕中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応〔B〕においては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造できる。
反応〔B〕は、通常酸化剤及び水の存在下で行うことができる。
酸化剤としては、例えばフェリシアン化カリウムなどが挙げられる。酸化剤は、式(III)の化合物に対して1〜10倍モル、望ましくは1〜5倍モル使用できる。
反応〔B〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。また、反応〔B〕で用いる水は、過剰に用いることにより、溶媒を兼ねることができる。
反応〔B〕は、通常20〜150℃、望ましくは50〜100℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜30時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔B〕は、通常酸化剤及び水の存在下で行うことができる。
酸化剤としては、例えばフェリシアン化カリウムなどが挙げられる。酸化剤は、式(III)の化合物に対して1〜10倍モル、望ましくは1〜5倍モル使用できる。
反応〔B〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。また、反応〔B〕で用いる水は、過剰に用いることにより、溶媒を兼ねることができる。
反応〔B〕は、通常20〜150℃、望ましくは50〜100℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜30時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔C〕中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応〔C〕においては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造できる。
反応〔C〕の環化反応は、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(IV)の化合物に対して1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔C〕の環化反応は、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(IV)の化合物に対して1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔C〕の環化反応の反応は、通常0〜150℃、望ましくは30〜100℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは1〜12時間程度とすることができる。
反応〔C〕の環化反応の反応は、通常0〜150℃、望ましくは30〜100℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは1〜12時間程度とすることができる。
反応〔C〕の加水分解反応は、一般的な加水分解反応に準じて行うことができ、通常酸又は塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
酸としては、例えば塩化水素、硫酸などが挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げられる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔C〕の加水分解反応の反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜80℃で行なうことができ、反応時間は、通常0.1〜12時間程度、望ましくは0.1〜1時間程度とすることができる。
酸としては、例えば塩化水素、硫酸などが挙げられる。塩基としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などが挙げられる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔C〕の加水分解反応の反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜80℃で行なうことができ、反応時間は、通常0.1〜12時間程度、望ましくは0.1〜1時間程度とすることができる。
反応〔D〕中、A、R1及びR2は前述の通りである。反応〔D〕においては、反応の後処理或は通常の塩形成反応に準じて化合物(II)の塩を製造できる。
反応〔D〕の還元反応としては、例えば接触還元、金属水素化物(水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウムなど)による還元;トリフェニルホスフィン、ジメチルスルフィド又はジフェニルスルフィドによる還元;鉄、銅のような金属と、ギ酸、酢酸のようなカルボン酸から構成される反応系での還元などが挙げられる。接触還元は、通常、水素雰囲気下で、白金、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル、パラジウム、パラジウム炭素、ロジウム、ロジウム-アルミナなどを触媒として使用することにより行うことができる。
反応〔D〕の還元反応としては、例えば接触還元、金属水素化物(水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウムなど)による還元;トリフェニルホスフィン、ジメチルスルフィド又はジフェニルスルフィドによる還元;鉄、銅のような金属と、ギ酸、酢酸のようなカルボン酸から構成される反応系での還元などが挙げられる。接触還元は、通常、水素雰囲気下で、白金、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル、パラジウム、パラジウム炭素、ロジウム、ロジウム-アルミナなどを触媒として使用することにより行うことができる。
反応〔D〕は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔D〕は、通常0〜150℃、望ましくは0〜80℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは0.5〜48時間程度とすることができる。
前記反応〔C〕で使用される式(IV)の化合物は、以下の反応〔E〕に従って製造できる。
反応〔D〕は、通常0〜150℃、望ましくは0〜80℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは0.5〜48時間程度とすることができる。
前記反応〔C〕で使用される式(IV)の化合物は、以下の反応〔E〕に従って製造できる。
反応〔E〕中、A、R1及びR2は前述の通りである。
反応〔E〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔E〕は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔E〕のヨウ化メチルは、式(VI)の化合物に対し1〜10倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用できる。また、ヨウ化メチルは過剰に用いることにより、溶媒を兼ねることができる。
反応〔E〕は、通常0〜100℃、望ましくは10〜50℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜48時間程度、望ましくは1〜24時間程度とすることができる。
前記反応〔D〕で使用される式(V)の化合物は、以下の反応〔F〕に従って製造できる。
反応〔E〕は、通常0〜100℃、望ましくは10〜50℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜48時間程度、望ましくは1〜24時間程度とすることができる。
前記反応〔D〕で使用される式(V)の化合物は、以下の反応〔F〕に従って製造できる。
反応〔F〕中、A、R1及びR2は前述の通りであり、Uは塩素又は臭素の各原子である。
反応〔F〕は、アジド化剤の存在下で行うことができる。該アジド化剤としては、例えばアジ化ナトリウム、アジ化カリウム、トリメチルシリルアジドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔F〕は、アジド化剤の存在下で行うことができる。該アジド化剤としては、例えばアジ化ナトリウム、アジ化カリウム、トリメチルシリルアジドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔F〕は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔F〕は、通常0〜150℃、望ましくは20〜90℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.1〜96時間程度、望ましくは0.5〜12時間程度とすることができる。
前記反応〔E〕で使用される式(VI)の化合物は、以下の反応〔G〕に従って製造できる。
反応〔F〕は、通常0〜150℃、望ましくは20〜90℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.1〜96時間程度、望ましくは0.5〜12時間程度とすることができる。
前記反応〔E〕で使用される式(VI)の化合物は、以下の反応〔G〕に従って製造できる。
反応〔G〕中、A、R1及びR2は前述の通りである。
反応〔G〕は一般的なヒドラゾン合成反応に準じて行うことができ、必要に応じて脱水剤及び/又は触媒の存在下で行うことができる。
脱水剤としては、例えばモレキュラーシーブなどが挙げられる。脱水剤は、式(VIII)の化合物の重量に対して通常は1〜30倍、望ましくは5〜10倍使用できる。
触媒としては、例えば四塩化チタンなどが挙げられる。
反応〔G〕のジメチルヒドラジンは、式(VIII)の化合物に対して通常は1〜30倍モル、望ましくは5〜10倍モル使用できる。
反応〔G〕の反応は、通常20〜150℃、望ましくは50〜120℃で行なうことができ、その反応時間は、通常5〜200時間程度、望ましくは24〜120時間程度とすることができる。
前記反応〔F〕で使用される式(VII)の化合物は、以下の反応〔H〕に従って製造できる。
反応〔G〕は一般的なヒドラゾン合成反応に準じて行うことができ、必要に応じて脱水剤及び/又は触媒の存在下で行うことができる。
脱水剤としては、例えばモレキュラーシーブなどが挙げられる。脱水剤は、式(VIII)の化合物の重量に対して通常は1〜30倍、望ましくは5〜10倍使用できる。
触媒としては、例えば四塩化チタンなどが挙げられる。
反応〔G〕のジメチルヒドラジンは、式(VIII)の化合物に対して通常は1〜30倍モル、望ましくは5〜10倍モル使用できる。
反応〔G〕の反応は、通常20〜150℃、望ましくは50〜120℃で行なうことができ、その反応時間は、通常5〜200時間程度、望ましくは24〜120時間程度とすることができる。
前記反応〔F〕で使用される式(VII)の化合物は、以下の反応〔H〕に従って製造できる。
反応〔H〕中、A、R1及びR2及びUは前述の通りである。
反応〔H〕は、塩素化剤又は臭素化剤の存在下で行うことができる。該塩素化剤としては、例えば塩素、N-クロロコハク酸イミドなどから1種又は2種以上を適宜選択し、臭素化剤としては、例えば臭素、N-ブロモコハク酸イミド、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔H〕は、塩素化剤又は臭素化剤の存在下で行うことができる。該塩素化剤としては、例えば塩素、N-クロロコハク酸イミドなどから1種又は2種以上を適宜選択し、臭素化剤としては、例えば臭素、N-ブロモコハク酸イミド、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミドなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔H〕は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;酢酸、プロピオン酸のような有機酸;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔H〕は、必要に応じ塩基の存在下で行うことができる。該塩基としては、例えばリチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられる。塩基は、式(VIII)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.2倍モル使用できる。
塩基の存在下で行う場合、通常溶媒はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類から1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔H〕は、必要に応じ酢酸、プロピオン酸のような有機酸或は塩化アルミニウムのようなルイス酸を触媒として使用することができる。また、溶媒としての有機酸を過剰に用いることにより触媒を兼ねることができる。
塩基の存在下で行う場合、通常溶媒はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類から1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔H〕は、必要に応じ酢酸、プロピオン酸のような有機酸或は塩化アルミニウムのようなルイス酸を触媒として使用することができる。また、溶媒としての有機酸を過剰に用いることにより触媒を兼ねることができる。
反応〔H〕は、通常-100〜150℃、望ましくは-78〜110℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.1〜48時間程度、望ましくは0.5〜24時間程度とすることができるが、塩基の存在下で行う場合、通常-100〜0℃、望ましくは-78〜-20℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.1〜12時間程度、望ましくは0.5〜6時間程度とすることができ、また、酸の存在下で行う場合、通常0〜150℃、望ましくは20〜110℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.1〜48時間程度、望ましくは1〜24時間程度とすることができる。
前記反応〔B〕で使用される式(III)の化合物は公知化合物であるか、或は以下の反応〔I〕、〔J〕又はこれらに準じた方法に従って製造することができる。
前記反応〔B〕で使用される式(III)の化合物は公知化合物であるか、或は以下の反応〔I〕、〔J〕又はこれらに準じた方法に従って製造することができる。
反応〔I〕中、R1及びR2は前述の通りであり、Xaは水素原子、塩素原子又はアルキルであり、Xa'は塩素原子又はアルキルであり、Xb、Xc、Xd及びXeは各々独立に水素原子、弗素原子又は塩素原子であり、Vは臭素原子又は沃素原子であり、jは0又は1であり、Lは脱離基、より具体的には塩素原子、臭素原子のようなハロゲン;メトキシ、エトキシのようなアルコキシ;ジメチルアミノ、ジエチルアミノのようなジアルキルアミノ;N-メトキシ-N-メチルアミノ又はアルキルで置換されていてもよいアジリジニルなどである。
反応〔I〕の第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔I〕の第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、リチウムジイソプロピルアミドのような有機リチウム化合物などから適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔I〕の第1工程で用いる塩素化剤としては、例えばN-クロロコハク酸イミドなどが挙げられる。
反応〔I〕の第1工程で用いる式:Xa'−Iは、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜10倍モル、望ましくは1〜5倍モル使用できる。また、反応〔I〕の第1工程で用いる塩素化剤は、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜5倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用できる。
反応〔I〕の第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。
反応〔I〕の第1工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔I〕の第1工程で用いる塩素化剤としては、例えばN-クロロコハク酸イミドなどが挙げられる。
反応〔I〕の第1工程で用いる式:Xa'−Iは、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜10倍モル、望ましくは1〜5倍モル使用できる。また、反応〔I〕の第1工程で用いる塩素化剤は、式(IX−1)又は(IX−2)の化合物に対し1〜5倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用できる。
反応〔I〕の第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。
反応〔I〕の第1工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔I〕の第2工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、メチルリチウム、n−ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔I〕の第2工程で用いる式(XI)の化合物は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔I〕の第2工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。
反応〔I〕の第2工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
塩基は、メチルリチウム、n−ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔I〕の第2工程で用いる式(XI)の化合物は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔I〕の第2工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。
反応〔I〕の第2工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔J〕中、R1、R2、Xa、Xa’、Xb、Xc、Xd、Xe、V及びjは前述の通りである。
反応〔J〕の第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、メチルリチウム、n−ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔J〕の第1工程で用いる式(XII)は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔J〕の第1工程は、通常、塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、メチルリチウム、n−ブチルリチウムのような有機リチウム化合物;イソプロピルマグネシウムクロリドのようなグリニャール化合物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルのようなエーテル類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔J〕の第1工程で用いる式(XII)は、式(IX−1)、(IX−2)、(X−1)又は(X−2)の化合物に対し1〜3倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用できる。
反応〔J〕の第1工程は、必要に応じ不活性ガスの存在下で行うことができる。該不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどから適宜選択できる。
反応〔J〕の第1工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔J〕の第2工程は、通常、酸化剤及び溶媒の存在下で行うことができる。
酸化剤は、クロロクロム酸ピリジニウム、二酸化マンガンなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。酸化剤は、式(XIII−1)又は(XIII−2)の化合物に対し1〜10倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔J〕の第2工程は、通常0〜150℃、望ましくは20〜100℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは1〜12時間程度とすることができる。
尚、式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩は、必要に応じWO2001/60783或はWO2003/27059に開示された方法を参考にして製造することもできる。
反応〔J〕の第1工程は、通常−100〜50℃、望ましくは−70〜25℃で行うことができ、その反応時間は、通常1〜48時間程度、望ましくは1〜20時間程度とすることができる。
反応〔J〕の第2工程は、通常、酸化剤及び溶媒の存在下で行うことができる。
酸化剤は、クロロクロム酸ピリジニウム、二酸化マンガンなどから1種又は2種以上を適宜選択できる。酸化剤は、式(XIII−1)又は(XIII−2)の化合物に対し1〜10倍モル、望ましくは1〜3倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔J〕の第2工程は、通常0〜150℃、望ましくは20〜100℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは1〜12時間程度とすることができる。
尚、式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩は、必要に応じWO2001/60783或はWO2003/27059に開示された方法を参考にして製造することもできる。
前記式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩は、反応〔K〕〜〔M〕並びに通常の塩の製造方法に従って製造することもできる。
反応〔K〕中、B、R1及びR2は前述の通りであり、A1はX1で置換されたフェニル、X1で置換された複素環基又はX1で置換された縮合複素環基であり、A2はX2で置換されたフェニル、X2で置換された複素環基又はX2で置換された縮合複素環基であり、X1は塩素、臭素又は沃素の各原子であり、X2はEで置換されてもよいアルキル、Eで置換されてもよいアルケニル又はEで置換されてもよいアルキニルであり、Eは前述の通りである。
反応〔K〕は、通常触媒、塩基、溶媒及び不活性ガスの存在下で行うことができる。
触媒は、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)のようなパラジウム錯体などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(I−1)の化合物に対して1〜20倍モル、望ましくは1〜10倍モル使用できる。
反応〔K〕は、通常触媒、塩基、溶媒及び不活性ガスの存在下で行うことができる。
触媒は、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)のようなパラジウム錯体などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物などから1種又は2種以上を適宜選択できる。塩基は、式(I−1)の化合物に対して1〜20倍モル、望ましくは1〜10倍モル使用できる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
不活性ガスは、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどを使用できる。
反応〔K〕の反応は、通常0〜150℃、望ましくは15〜100℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは1〜48時間程度とすることができる。
反応〔K〕の反応は、通常0〜150℃、望ましくは15〜100℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは1〜48時間程度とすることができる。
反応〔L〕中、Bは前述の通りであり、Mは保護基で置換されたフェニル、保護基で置換された複素環基又は保護基で置換された縮合複素環基であり、A3はヒドロキシで置換されたフェニル、ヒドロキシで置換された複素環基又はヒドロキシで置換された縮合複素環基であり、R1a及びR2aは各々独立にアルキルである。前述の保護基としては、例えばアルコキシ、アルコキシアルコキシ、アシルオキシ、ベンジルオキシ、アルコキシカルボニルオキシなどが挙げられる。
反応〔L〕は、脱保護反応であり、例えばアルカリ加水分解反応、接触還元反応、ルイス酸存在下の反応などである。
アルカリ加水分解反応は、通常、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリと、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
アルカリ加水分解反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜80℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.1〜24時間程度、望ましくは0.1〜12時間程度とすることができる。
アルカリ加水分解反応は、通常、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリと、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
アルカリ加水分解反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜80℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.1〜24時間程度、望ましくは0.1〜12時間程度とすることができる。
接触還元反応は、通常、水素雰囲気下で、白金、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル、パラジウム、パラジウム炭素、ロジウム、ロジウム-アルミナなどを触媒として使用することにより行うことができる。
接触還元反応は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
接触還元反応は、通常0〜150℃、望ましくは0〜80℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは0.5〜48時間程度とすることができる。
接触還元反応は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジン、アセトニトリル、プロピオニトリルのような極性非プロトン性溶媒;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類;メタノール、エタノール、プロパノール、tert-ブタノールのようなアルコール類;水などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
接触還元反応は、通常0〜150℃、望ましくは0〜80℃で行うことができ、その反応時間は、通常0.5〜96時間程度、望ましくは0.5〜48時間程度とすることができる。
ルイス酸存在下の反応は、通常、塩化アルミニウムや四塩化チタンのようなルイス酸と、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジクロロメタン、ジクロロエタンのような脂肪族炭化水素類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
ルイス酸存在下の反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜50℃で行なうことができ、その反応時間は、通常1〜100時間程度、望ましくは1〜48時間程度とすることができる。
ルイス酸存在下の反応は、通常0〜100℃、望ましくは20〜50℃で行なうことができ、その反応時間は、通常1〜100時間程度、望ましくは1〜48時間程度とすることができる。
反応〔M〕中、A3、B、R1a及びR2aは前述の通りであり、A4は−OTで置換されたフェニル、−OTで置換された複素環基又は−OTで置換された縮合複素環基であり、Gは塩素、臭素又は沃素の各原子であり、Tはシアノ、Eで置換されてもよいアルキル、Eで置換されてもよいアルケニル、Eで置換されてもよいアルキニル、トリアルキルシリル又はシクロアルキルであり、Eは前述の通りである。
反応〔M〕中、式(XV)との反応は、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(I−3)の化合物に対して1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用することができる。
反応〔M〕中、式(XV)との反応は、通常塩基及び溶媒の存在下で行うことができる。
塩基は、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム第3級ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような炭酸塩;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような重炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような金属水酸化物;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような金属水素化物;モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリエチルアミンのようなアミン類;ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンのようなピリジン類などから1種又は2種以上を適宜選択する。塩基は、式(I−3)の化合物に対して1〜2倍モル、望ましくは1〜1.5倍モル使用することができる。
溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;四塩化炭素、塩化メチル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ピリジンのような極性非プロトン性溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類などから1種又は2種以上を適宜選択できる。
反応〔M〕中、式(XV)との反応は、通常−20〜100℃、望ましくは0〜50℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.1〜24時間程度、望ましくは0.1〜12時間程度である。
反応〔M〕中、式(XV)との反応は、通常−20〜100℃、望ましくは0〜50℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.1〜24時間程度、望ましくは0.1〜12時間程度である。
反応〔M〕中、式(XVI)との反応は、アゾジカルボン酸ジエチルとトリフェニルホスフィンを用いた光延反応のような脱水縮合反応である。この反応は、通常、溶媒の存在下で行うことができる。該溶媒は、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばテトラヒドロフランのようなエーテル類などが挙げられる。
反応〔M〕中、式(XVI)との反応は、通常0〜50℃、望ましくは0〜25℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは0.5〜12時間程度である。
反応〔M〕中、式(XVI)との反応は、通常0〜50℃、望ましくは0〜25℃で行なうことができ、その反応時間は、通常0.5〜24時間程度、望ましくは0.5〜12時間程度である。
式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物(以下本発明組成物と略す)は、低薬量で有害菌類を防除することができ、例えば農園芸用の殺菌性組成物として有用である。
本発明組成物の望ましい態様について以下に記述する。
本発明組成物は、低薬量で有害菌類を防除できる殺菌性組成物として有用であり、特に、農園芸用の殺菌性組成物として有用である。農園芸用の殺菌性組成物として用いた場合、本発明組成物は、例えば卵菌類(Oomycetes)、子嚢菌類(Ascomycetes)、担子菌類(Basidiomycetes)、不完全菌類(Deuteromycetes)などに属する有害菌類を防除でき、なかでも子嚢菌類(Ascomycetes)、不完全菌類(Deuteromycetes)などに属する有害菌類の防除に特に有効である。
本発明組成物は、低薬量で有害菌類を防除できる殺菌性組成物として有用であり、特に、農園芸用の殺菌性組成物として有用である。農園芸用の殺菌性組成物として用いた場合、本発明組成物は、例えば卵菌類(Oomycetes)、子嚢菌類(Ascomycetes)、担子菌類(Basidiomycetes)、不完全菌類(Deuteromycetes)などに属する有害菌類を防除でき、なかでも子嚢菌類(Ascomycetes)、不完全菌類(Deuteromycetes)などに属する有害菌類の防除に特に有効である。
前記有害菌類のより具体的な例としては、例えば以下のようなものなどが挙げられる。
卵菌類として、ジャガイモまたはトマト疫病菌(Phytophthora infestans)、トマト灰色疫病菌(Phytophthora capsici)のようなファイトフィトラ(Phytophthora)属;キュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis)のようなシュウドペロノスポーラ(Pseudoperonospora)属;ブドウべと病菌(Plasmopara viticola)のようなプラズモパラ(Plasmopara)属;イネ苗立枯病菌(Pythium graminicola)、コムギ褐色雪腐病菌(Pythium iwayamai)のようなピシューム(Pythium)属などが挙げられる。
卵菌類として、ジャガイモまたはトマト疫病菌(Phytophthora infestans)、トマト灰色疫病菌(Phytophthora capsici)のようなファイトフィトラ(Phytophthora)属;キュウリべと病菌(Pseudoperonospora cubensis)のようなシュウドペロノスポーラ(Pseudoperonospora)属;ブドウべと病菌(Plasmopara viticola)のようなプラズモパラ(Plasmopara)属;イネ苗立枯病菌(Pythium graminicola)、コムギ褐色雪腐病菌(Pythium iwayamai)のようなピシューム(Pythium)属などが挙げられる。
子嚢菌類として、コムギうどんこ病菌(Erysiphe graminis)のようなエリシフェ(Erysiphe)属;キュウリうどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea)、イチゴうどんこ病菌(Sphaerotheca humuli)のようなスファエロテカ(Sphaerotheca)属;ブドウうどんこ病菌(Uncinula necator)のようなウンシニュラ(Uncinula)属;リンゴうどんこ病菌(Podosphaera leucotricha)のようなポドスファエラ(Podosphaera)属;エンドウ褐紋病菌(Mycosphaerella pinodes)、リンゴ黒点病菌(Mycosphaerella pomi)、バナナブラックシガトカ病菌(Mycosphaerella musicola)、カキ円星落葉病菌(Mycosphaerella nawae)、イチゴ蛇の目病菌(Mycosphaerella fragariae)のようなミコスファエレラ(Mycosphaerella)属;リンゴ黒星病菌(Venturia inaequalis)、ナシ黒星病菌(Venturia nashicola)のようなベンチュリア(Venturia)属;オオムギ網斑病菌(Pyrenophora teres)、オオムギ斑葉病菌(Pyrenophora graminea)のようなピレノホーラ(Pyrenophora)属;インゲン菌核病菌、キュウリ菌核病菌、キャベツ菌核病菌、ハクサイ菌核病菌、トウガラシ菌核病菌、ピーマン菌核病菌又はタマネギ菌核病菌のような各種菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)、コムギ雪腐大粒菌核病菌(Sclerotinia borealis)、トマト小粒菌核病菌(Sclerotinia minor)、アルファルファ菌核病菌(Sclerotinia trifoliorum)のようなスクレロティニア(Sclerotinia)属;ラッカセイ小菌核病菌(Botryolinia arachidis)のようなボトリオリニア(Botryolinia)属;イネごま葉枯病菌(Cochliobolus miyabeanus)のようなコクリオボーラス(Cochliobolus)属;キュウリつる枯病菌(Didymella bryoniae)のようなディディメラ(Didymella)属;コムギ赤かび病菌(Gibberella zeae)のようなジベレラ(Gibberella)属;ブドウ黒痘病菌(Elsinoe ampelina)、カンキツそうか病菌(Elsinoe fawcettii)のようなエルシノエ(Elsinoe)属;カンキツ黒点病菌(Diaporthe citri)、ブドウ枝膨病菌(Diaporthe sp.)のようなディアポルセ(Diaporthe)属;リンゴモニリア病菌(Monilinia mali)、モモ灰星病菌(Monilinia fructicola)のようなモニリニア(Monilinia)属;ブドウ晩腐病菌(Glomerella cingulata)のようなグロメレラ(Glomerella)属などが挙げられる。
担子菌類として、イネ紋枯病菌(Rhizoctonia solani)のようなリゾクトニア(Rhizoctonia)属;コムギ裸黒穂病菌(Ustilago nuda)のようなウスティラゴ(Ustilago)属;エンバク冠さび病菌(Puccinia coronata)、コムギ赤さび病菌(Puccinia recondita)、コムギ黄さび病菌(Puccinia striiformis)のようなプクシニア(Puccinia)属;コムギ又はオオムギ雪腐小粒菌核病菌(Typhula incarnata, Typhula ishikariensisis) のようなティフラ(Typhula)属などが挙げられる。
不完全菌類として、コムギふ枯病菌(Septoria nodorum)、コムギ葉枯病菌(Septoria tritici)のようなセプトリア(Septoria)属;ブドウ灰色かび病菌、カンキツ灰色かび病菌、キュウリ灰色かび病菌、トマト灰色かび病菌、イチゴ灰色かび病菌、ナス灰色かび病菌、インゲン灰色かび病菌、アズキ灰色かび病菌、エンドウ灰色かび病菌、ラッカセイ灰色かび病菌、トウガラシ灰色かび病菌、ピーマン灰色かび病菌、レタス灰色かび病菌、タマネギ灰色かび病菌、スターチス灰色かび病菌、カーネーション灰色かび病菌、バラ灰色かび病菌、パンジー灰色かび病菌又はヒマワリ灰色かび病菌のような各種灰色かび病菌(Botrytis cinerea)、タマネギ灰色腐敗病菌(Botrytis allii)、タマネギのボトリティス属菌による葉枯れ症を引き起こす病原菌(Botrytis squamosa, Botrytis byssoidea, Botrytis tulipae)のようなボトリティス(Botrytis)属;イネいもち病菌(Pyricularia oryzae)のようなピリキュラリア(Pyricularia)属;テンサイ褐斑病菌(Cercospora beticola)、カキ角斑病菌(Cercospora kakivola)のようなサーコスポーラ(Cercospora)属;キュウリ炭そ病菌(Colletotrichum orbiculare)のようなコレトトリカム(Colletotrichum)属;リンゴ斑点落葉病菌(Alternaria alternata apple pathotype)、ナシ黒斑病菌(Alternaria alternata Japanese pear pathotype)、ジャガイモ夏疫またはトマト輪紋病菌(Alternaria solani)、キャベツ又はハクサイ黒斑病菌(Alternaria brassicae)、キャベツ黒すす病菌(Alternaria brassicola)、タマネギ又はネギ黒斑病菌(Alternaria porri)のようなアルタナリア(Alternaria)属;コムギ眼紋病菌(Pseudocercosporella herpotrichoides)のようなシュウドサーコスポレラ(Pseudocercosporella)属;ブドウ褐斑病菌(Pseudocercospora vitis)のようなシュウドサーコスポーラ(Pseudocercospora)属;オオムギ雲形病菌(Rhynchosporium secalis)のようなリンコスポリウム(Rhynchosporium)属;モモ黒星病菌(Cladosporium carpophilum)のようなクラドスポリウム(Cladosporium)属;モモホモプシス腐敗病菌(Phomopsis sp.)のようなホモプシス(Phomopsis)属;カキ炭そ病菌(Gloeosporium kaki)のようなグロエオスポリウム(Gloeosporium)属;トマト葉かび病菌(Fulvia fulva)のようなフルビア(Fulvia)属;キュウリ褐斑病菌(Corynespora cassiicola)のようなコリネスポーラ(Corynespora)属などが挙げられる。
本発明組成物は、前述した各種有害菌類を防除できることから、各種病害を予防的又は治療的に防除することができる。特に本発明組成物は、農園芸分野で問題となる各種病害、例えばイネのいもち病、ごま葉枯病、紋枯病又は苗立枯病;ムギ類のうどんこ病、赤かび病、赤さび病、黄さび病、網斑病、斑葉病、雪腐病、裸黒穂病、眼紋病、雲形病、葉枯病又はふ枯病;カンキツの黒点病又はそうか病;リンゴのモニリア病、うどんこ病、黒点病、斑点落葉病又は黒星病;ナシの黒星病又は黒斑病;モモの灰星病、黒星病又はフォモプシス腐敗病;ブドウの黒とう病、晩腐病、褐斑病、枝膨病、うどんこ病又はべと病;カキの炭そ病、円星落葉病又は角斑病;ウリ類の炭そ病、うどんこ病、つる枯病、褐斑病又はべと病;トマトの輪紋病、灰色疫病、葉かび病又は疫病;バナナのブラックシガトカ病;テンサイの褐斑病;エンドウの褐紋病;アブラナ科野菜の黒斑病;ジャガイモの疫病又は夏疫病;イチゴのうどんこ病又は蛇の目病;豆類、野菜類、果樹類、花卉類など種々の作物の灰色かび病又は菌核病;等の各種病害の防除に有効であり、中でも、キュウリ、インゲン、アズキ、ダイズ、エンドウ、ラッカセイ、トマト、イチゴ、ナス、トウガラシ、ピーマン、レタス、タマネギ、ブドウ、カンキツ、スターチス、カーネーション、バラ、パンジー、ヒマワリなどの灰色かび病又は菌核病の防除に特に有効である。
また本発明組成物は、フザリウム菌、ピシウム菌、リゾクトニア菌、バーティシリウム菌、プラズモディオホーラ菌等の植物病原菌によって引き起こされる土壌病害の予防的又は治療的防除にも有効である。
また、本発明組成物はベンズイミダゾール、ストロビルリン、ジカルボキシイミド、フェニルアマイド、エルゴステロール生合成阻害剤などの薬剤に対する各種抵抗性有害菌類の防除にも有効である。
更に本発明組成物は、優れた浸透移行性を有していることから、本発明組成物を含有する有害生物防除剤を土壌に施用することによって土壌中の有害菌類の防除と同時に、茎葉部の有害菌類をも防除することができる。
また、本発明組成物はベンズイミダゾール、ストロビルリン、ジカルボキシイミド、フェニルアマイド、エルゴステロール生合成阻害剤などの薬剤に対する各種抵抗性有害菌類の防除にも有効である。
更に本発明組成物は、優れた浸透移行性を有していることから、本発明組成物を含有する有害生物防除剤を土壌に施用することによって土壌中の有害菌類の防除と同時に、茎葉部の有害菌類をも防除することができる。
本発明組成物は、通常、式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と各種農業上の補助剤とを混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、水性懸濁剤、油性懸濁剤、水溶剤、乳剤、液剤、ペースト剤、エアゾール剤、微量散布剤などの種々の形態に製剤して使用されるが、本発明の目的に適合するかぎり、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固型担体;水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、アルコールなどの溶剤;脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤;ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤;オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤の各成分は、本発明の目的から逸脱しないかぎり、1種又は2種以上を適宜選択して使用することができる。また、前記した補助剤以外にも当該分野で知られたものの中から適宜選んで使用することもでき、例えば、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤など通常使用される各種補助剤も使用することができる。式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と各種補助剤との配合割合は0.001:99.999〜95:5、望ましくは0.005:99.995〜90:10である。これら製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、または水等の希釈剤で所定濃度に希釈し、必要に応じて各種展着剤(界面活性剤、植物油、鉱物油など)を添加して使用することができる。
本発明組成物の施用は、気象条件、製剤形態、対象作物、施用時期、施用場所、有害菌類の種類や発生状況、病害の種類や発生状況などの相違により一概に規定できないが、一般に、茎葉処理の場合0.1〜10,000ppm、望ましくは1〜2,000ppmの有効成分濃度で施用することができ、その施用適量は1ヘクタールあたり式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩が、0.1〜50,000g、望ましくは1〜30,000g程度とすることができる。土壌処理の場合には、一般に1ヘクタールあたり式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を10〜100,000g、望ましくは、200〜20,000g施用することができる。
本発明組成物の種々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法すなわち、散布(例えば散布、噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粒、水面施用等)、土壌施用(混入、灌注等)、表面施用(塗布、粉衣、被覆等)等により行うことができる。また、いわゆる超高濃度少量散布法(ultra low volume)により施用することもできる。この方法においては、活性成分を100%含有することが可能である。
本発明組成物は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或は併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、抗生物質、植物ホルモン、植物成長調整剤などが挙げられる。特に、式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物の1種又は2種以上とを混用或は併用した混合殺菌性組成物は、適用範囲、薬剤処理の時期、防除活性等を好ましい方向へ改良することがある。尚、式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と他の殺菌剤の有効成分化合物は、各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用しても、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、このような混合殺菌性組成物も含まれる。
式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と他の殺菌性有効成分化合物との混合比は、気象条件、製剤形態、対象作物、施用時期、施用場所、有害菌類の種類や発生状況、病害の種類や発生状況などの相違により一概に規定できないが、一般に1:300〜300:1、望ましくは1:100〜100:1とすることができる。また、施用適量は1ヘクタール当りの総有効成分化合物量として0.1〜70,000g、望ましくは1〜30,000gとすることができる。本発明には、このような混合殺菌性組成物の施用による有害菌類の防除方法も含まれる。
上記他の農薬中の、殺菌性有効成分化合物(一般名;一部申請中を含む、又は日本植物防疫協会供試試験コード)としては、例えば、メパニピリム(Mepanipyrim)、ピリメサニル(Pyrimethanil)、シプロジニル(Cyprodinil)のようなアニリノピリミジン系化合物;
フルアジナム(Fluazinam)のようなピリジナミン系化合物;
トリアジメホン(Triadimefon)、ビテルタノール(Bitertanol)、トリフルミゾール(Triflumizole)、エタコナゾール(Etaconazole)、プロピコナゾール(Propiconazole)、ペンコナゾール(Penconazole)、フルシラゾール(Flusilazole)、マイクロブタニル(Myclobutanil)、シプロコナゾール(Cyproconazole)、テブコナゾール(Tebuconazole)、ヘキサコナゾール(Hexaconazole)、ファーコナゾールシス(Furconazole‐cis)、プロクロラズ(Prochloraz)、メトコナゾール(Metconazole)、エポキシコナゾール(Epoxiconazole)、テトラコナゾール(Tetraconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(Oxpoconazole fumarate)、シプコナゾール(Sipconazole)、プロチオコナゾール(Prothioconazole)、トリアジメノール(Triadimenol)、フルトリアフオール(Flutriafol)、ジフェノコナゾール(Difenoconazole)、フルキンコナゾール(Fluquinconazole)、フェンブコナゾール(Fenbuconazole)、ブロムコナゾール(Bromuconazole)、ジニコナゾール(Diniconazole)、トリシクラゾール(Tricyclazole)、プロベナゾール(Probenazole)、シメコナゾール(Simeconazole)、ペフラゾエート(Pefurazoate)、イプコナゾール(Ipconazole)、イミベンコナゾール(Imibenconazole)のようなアゾール系化合物;
キノメチオネート(Quinomethionate)のようなキノキサリン系化合物;
マンネブ(Maneb)、ジネブ(Zineb)、マンゼブ(Mancozeb)、ポリカーバメート(Polycarbamate)、メチラム(Metiram)、プロピネブ(Propineb)、チラム(thiram)のようなジチオカーバメート系化合物;
フサライド(Fthalide)、クロロタロニル(Chlorothalonil)、キントゼン(Quintozene)のような有機塩素系化合物;
ベノミル(Benomyl)、チオファネートメチル(Thiophanate‐Methyl)、カーベンダジム(Carbendazim)、チアベンダゾール(Thiabendazole)、フベリアゾール(fuberiazole)、シアゾファミド(Cyazofamid)のようなイミダゾール系化合物;
シモキサニル(Cymoxanil)のようなシアノアセトアミド系化合物;
メタラキシル(Metalaxyl)、メタラキシル−M(Metalaxyl-M)、メフェノキサム(Mefenoxam)、オキサジキシル(Oxadixyl)、オフレース(Ofurace)、ベナラキシル(Benalaxyl)、ベナラキシル−M(Benalaxyl-M、別名キララキシル(Kiralaxyl、Chiralaxyl))、フララキシル(Furalaxyl)、シプロフラム(Cyprofuram)のようなフェニルアミド系化合物;
ジクロフルアニド(Dichlofluanid)のようなスルフェン酸系化合物;
水酸化第二銅(Cupric hydroxide)、有機銅(Oxine Copper)のような銅系化合物;
ヒメキサゾール(Hymexazol)のようなイソキサゾール系化合物;
ホセチルアルミニウム(Fosetyl‐Al)、トルコホスメチル(Tolcofos‐Methyl)、S−ベンジル O,O−ジイソプロピルホスホロチオエート、O−エチル S,S−ジフェニルホスホロジチオエート、アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネートのような有機リン系化合物;
キャプタン(Captan)、キャプタホル(Captafol)、フォルペット(Folpet)のようなN−ハロゲノチオアルキル系化合物;
プロシミドン(Procymidone)、イプロジオン(Iprodione)、ビンクロゾリン(Vinclozolin)のようなジカルボキシイミド系化合物;
フルトラニル(Flutolanil)、メプロニル(Mepronil)、ゾキサミド(Zoxamid)、チアジニル(Tiadinil)のようなベンズアニリド系化合物;
カルボキシン(Carboxin)、オキシカルボキシン(Oxycarboxin)、チフルザミド(Thifluzamide)、MTF-753(ペンチオピラド、Penthiopyrad)、ボスカリド(Boscalid) のようなアニリド系化合物;
トリホリン(Triforine)のようなピペラジン系化合物;
ピリフェノックス(Pyrifenox)のようなピリジン系化合物;
フェナリモル(Fenarimol)、フルトリアフォル(Flutriafol)のようなカルビノール系化合物;
フェンプロピディン(Fenpropidine)のようなピペリジン系化合物;
フェンプロピモルフ(Fenpropimorph)、トリデモルフ(Tridemorph)のようなモルフォリン系化合物;
フェンチンヒドロキシド(Fentin Hydroxide)、フェンチンアセテート(Fentin Acetate)のような有機スズ系化合物;
ペンシキュロン(Pencycuron)のような尿素系化合物;
ジメトモルフ(Dimethomorph)、フルモルフ(Flumorph)のようなシンナミック酸系化合物;
ジエトフェンカルブ(Diethofencarb)のようなフェニルカーバメート系化合物;
フルジオキソニル(Fludioxonil)、フェンピクロニル(Fenpiclonil)のようなシアノピロール系化合物;
アゾキシストロビン(Azoxystrobin)、クレソキシムメチル(Kresoxim‐Methyl)、メトミノフェン(Metominofen)、トリフロキシストロビン(Trifloxystrobin)、ピコキシストロビン(Picoxystrobin)、オリザストロビン(Oryzastrobin)、ジモキシストロビン(Dimoxystrobin)、ピラクロストロビン(Pyraclostrobin)、フルオキサストロビン(Fluoxastrobin)、フルアクリピリム(Fluacrypyrin)のようなストロビルリン系化合物;
ファモキサドン(Famoxadone)のようなオキサゾリジノン系化合物;
エタボキサム(Ethaboxam)のようなチアゾールカルボキサミド系化合物;
シルチオファム(Silthiopham)のようなシリルアミド系化合物;
イプロバリカルブ(Iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ−イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)のようなアミノアシッドアミドカーバメート系化合物;
フェナミドン(Fenamidone)のようなイミダゾリジン系化合物;
フェンヘキサミド(Fenhexamid)のようなハイドロキシアニリド系化合物;
フルスルファミド(Flusulfamide)のようなベンゼンスルホンアミド系化合物;
シフルフェナミド(Cyflufenamid)のようなオキシムエーテル系化合物;
フェノキサニル(Fenoxanil)のようなフェノキシアミド系化合物;
バリダマイシン(Validamycin)、カスガマイシン(Kasugamycin)、ポリオキシン(Polyoxins)のような抗生物質;
イミノクタジン(Iminoctadine)のようなグアニジン系化合物;
また、その他の化合物として、イソプロチオラン(Isoprothiolane)、ピロキロン(Pyroquilon)、ジクロメジン(Diclomezine)、キノキシフェン(Quinoxyfen)、プロパモカルブ塩酸塩(Propamocarb Hydrochloride)、スピロキサミン(Spiroxamine)、クロルピクリン(Chloropicrin)、ダゾメット(Dazomet)、メタムナトリウム塩(Metam‐sodium)、ニコビフェン(Nicobifen)、メトラフェノン(Metrafenone)、UBF-307、ジクロシメット(Diclocymet)、プロキンアジド(Proquinazid)、アミスルブロム(Amisulbrom;別名アミブロドール(Amibromdole))、KIF-7767(KUF-1204、Pyribencarb methyl、Mepyricarb)、Syngenta 446510(Mandipropamid、Dipromandamid)などが挙げられる。
フルアジナム(Fluazinam)のようなピリジナミン系化合物;
トリアジメホン(Triadimefon)、ビテルタノール(Bitertanol)、トリフルミゾール(Triflumizole)、エタコナゾール(Etaconazole)、プロピコナゾール(Propiconazole)、ペンコナゾール(Penconazole)、フルシラゾール(Flusilazole)、マイクロブタニル(Myclobutanil)、シプロコナゾール(Cyproconazole)、テブコナゾール(Tebuconazole)、ヘキサコナゾール(Hexaconazole)、ファーコナゾールシス(Furconazole‐cis)、プロクロラズ(Prochloraz)、メトコナゾール(Metconazole)、エポキシコナゾール(Epoxiconazole)、テトラコナゾール(Tetraconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(Oxpoconazole fumarate)、シプコナゾール(Sipconazole)、プロチオコナゾール(Prothioconazole)、トリアジメノール(Triadimenol)、フルトリアフオール(Flutriafol)、ジフェノコナゾール(Difenoconazole)、フルキンコナゾール(Fluquinconazole)、フェンブコナゾール(Fenbuconazole)、ブロムコナゾール(Bromuconazole)、ジニコナゾール(Diniconazole)、トリシクラゾール(Tricyclazole)、プロベナゾール(Probenazole)、シメコナゾール(Simeconazole)、ペフラゾエート(Pefurazoate)、イプコナゾール(Ipconazole)、イミベンコナゾール(Imibenconazole)のようなアゾール系化合物;
キノメチオネート(Quinomethionate)のようなキノキサリン系化合物;
マンネブ(Maneb)、ジネブ(Zineb)、マンゼブ(Mancozeb)、ポリカーバメート(Polycarbamate)、メチラム(Metiram)、プロピネブ(Propineb)、チラム(thiram)のようなジチオカーバメート系化合物;
フサライド(Fthalide)、クロロタロニル(Chlorothalonil)、キントゼン(Quintozene)のような有機塩素系化合物;
ベノミル(Benomyl)、チオファネートメチル(Thiophanate‐Methyl)、カーベンダジム(Carbendazim)、チアベンダゾール(Thiabendazole)、フベリアゾール(fuberiazole)、シアゾファミド(Cyazofamid)のようなイミダゾール系化合物;
シモキサニル(Cymoxanil)のようなシアノアセトアミド系化合物;
メタラキシル(Metalaxyl)、メタラキシル−M(Metalaxyl-M)、メフェノキサム(Mefenoxam)、オキサジキシル(Oxadixyl)、オフレース(Ofurace)、ベナラキシル(Benalaxyl)、ベナラキシル−M(Benalaxyl-M、別名キララキシル(Kiralaxyl、Chiralaxyl))、フララキシル(Furalaxyl)、シプロフラム(Cyprofuram)のようなフェニルアミド系化合物;
ジクロフルアニド(Dichlofluanid)のようなスルフェン酸系化合物;
水酸化第二銅(Cupric hydroxide)、有機銅(Oxine Copper)のような銅系化合物;
ヒメキサゾール(Hymexazol)のようなイソキサゾール系化合物;
ホセチルアルミニウム(Fosetyl‐Al)、トルコホスメチル(Tolcofos‐Methyl)、S−ベンジル O,O−ジイソプロピルホスホロチオエート、O−エチル S,S−ジフェニルホスホロジチオエート、アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネートのような有機リン系化合物;
キャプタン(Captan)、キャプタホル(Captafol)、フォルペット(Folpet)のようなN−ハロゲノチオアルキル系化合物;
プロシミドン(Procymidone)、イプロジオン(Iprodione)、ビンクロゾリン(Vinclozolin)のようなジカルボキシイミド系化合物;
フルトラニル(Flutolanil)、メプロニル(Mepronil)、ゾキサミド(Zoxamid)、チアジニル(Tiadinil)のようなベンズアニリド系化合物;
カルボキシン(Carboxin)、オキシカルボキシン(Oxycarboxin)、チフルザミド(Thifluzamide)、MTF-753(ペンチオピラド、Penthiopyrad)、ボスカリド(Boscalid) のようなアニリド系化合物;
トリホリン(Triforine)のようなピペラジン系化合物;
ピリフェノックス(Pyrifenox)のようなピリジン系化合物;
フェナリモル(Fenarimol)、フルトリアフォル(Flutriafol)のようなカルビノール系化合物;
フェンプロピディン(Fenpropidine)のようなピペリジン系化合物;
フェンプロピモルフ(Fenpropimorph)、トリデモルフ(Tridemorph)のようなモルフォリン系化合物;
フェンチンヒドロキシド(Fentin Hydroxide)、フェンチンアセテート(Fentin Acetate)のような有機スズ系化合物;
ペンシキュロン(Pencycuron)のような尿素系化合物;
ジメトモルフ(Dimethomorph)、フルモルフ(Flumorph)のようなシンナミック酸系化合物;
ジエトフェンカルブ(Diethofencarb)のようなフェニルカーバメート系化合物;
フルジオキソニル(Fludioxonil)、フェンピクロニル(Fenpiclonil)のようなシアノピロール系化合物;
アゾキシストロビン(Azoxystrobin)、クレソキシムメチル(Kresoxim‐Methyl)、メトミノフェン(Metominofen)、トリフロキシストロビン(Trifloxystrobin)、ピコキシストロビン(Picoxystrobin)、オリザストロビン(Oryzastrobin)、ジモキシストロビン(Dimoxystrobin)、ピラクロストロビン(Pyraclostrobin)、フルオキサストロビン(Fluoxastrobin)、フルアクリピリム(Fluacrypyrin)のようなストロビルリン系化合物;
ファモキサドン(Famoxadone)のようなオキサゾリジノン系化合物;
エタボキサム(Ethaboxam)のようなチアゾールカルボキサミド系化合物;
シルチオファム(Silthiopham)のようなシリルアミド系化合物;
イプロバリカルブ(Iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ−イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)のようなアミノアシッドアミドカーバメート系化合物;
フェナミドン(Fenamidone)のようなイミダゾリジン系化合物;
フェンヘキサミド(Fenhexamid)のようなハイドロキシアニリド系化合物;
フルスルファミド(Flusulfamide)のようなベンゼンスルホンアミド系化合物;
シフルフェナミド(Cyflufenamid)のようなオキシムエーテル系化合物;
フェノキサニル(Fenoxanil)のようなフェノキシアミド系化合物;
バリダマイシン(Validamycin)、カスガマイシン(Kasugamycin)、ポリオキシン(Polyoxins)のような抗生物質;
イミノクタジン(Iminoctadine)のようなグアニジン系化合物;
また、その他の化合物として、イソプロチオラン(Isoprothiolane)、ピロキロン(Pyroquilon)、ジクロメジン(Diclomezine)、キノキシフェン(Quinoxyfen)、プロパモカルブ塩酸塩(Propamocarb Hydrochloride)、スピロキサミン(Spiroxamine)、クロルピクリン(Chloropicrin)、ダゾメット(Dazomet)、メタムナトリウム塩(Metam‐sodium)、ニコビフェン(Nicobifen)、メトラフェノン(Metrafenone)、UBF-307、ジクロシメット(Diclocymet)、プロキンアジド(Proquinazid)、アミスルブロム(Amisulbrom;別名アミブロドール(Amibromdole))、KIF-7767(KUF-1204、Pyribencarb methyl、Mepyricarb)、Syngenta 446510(Mandipropamid、Dipromandamid)などが挙げられる。
上記他の農薬中の、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤或いは殺土壌害虫剤の有効成分化合物(一般名;一部申請中を含む)としては、例えばプロフェノホス(Profenofos)、ジクロルボス(Dichlorvos)、フェナミホス(Fenamiphos)、フェニトロチオン(Fenitrothion)、EPN、ダイアジノン(Diazinon)、クロルピリホスメチル(Chlorpyrifos-methyl)、アセフェート(Acephate)、プロチオホス(Prothiofos)、ホスチアゼート(Fosthiazate)、ホスホカルブ(Phosphocarb)、カズサホス(Cadusafos)、ジスルホトン(Disulfoton)、クロルピリホス(Chlorpyrifos)、デメトン-S-メチル(Demeton-S-methyl)、ジメトエート(Dimethoate)、メタミドホス(Methamidophos)のような有機リン酸エステル系化合物;
カルバリル(Carbaryl)、プロポキスル(Propoxur)、アルジカルブ(Aldicarb)、カルボフラン(Carbofuran)、チオジカルブ(Thiodicarb)、メソミル(Methomyl)、オキサミル(Oxamyl)、エチオフェンカルブ(Ethiofencarb)、ピリミカルブ(Pirimicarb)、フェノブカルブ(Fenobucarb)、カルボスルファン(Carbosulfan)、ベンフラカルブ(Benfuracarb)のようなカーバメート系化合物;
カルタップ(Cartap)、チオシクラム(Thiocyclam)、ベンスルタップ(Bensultap)のようなネライストキシン誘導体;
ジコホル(Dicofol)、テトラジホン(Tetradifon)、エンドスルファン(Endosulfan)のような有機塩素系化合物;
酸化フェンブタスズ(Fenbutatin Oxide)のような有機金属系化合物;
フェンバレレート(Fenvalerate)、ペルメトリン(Permethrin)、シペルメトリン(Cypermethrin)、デルタメトリン(Deltamethrin)、シハロトリン(Cyhalothrin)、テフルトリン(Tefluthrin)、エトフェンプロックス(Ethofenprox)、フェンプロパトリン(Fenpropathrin)、ビフェントリン(Bifenthrin)のようなピレスロイド系化合物;
ジフルベンズロン(Diflubenzuron)、クロルフルアズロン(Chlorfluazuron)、テフルベンズロン(Teflubenzuron)、フルフェノクスロン(Flufenoxuron)、ルフェヌロン(Lufenuron)、ノバルロン(Novaluron)のようなベンゾイルウレア系化合物;
メトプレン(Methoprene)、ピリプロキシフェン(Pyriproxyfen)、フェノキシカルブ(Fenoxycarb)のような幼若ホルモン様化合物;
ピリダベン(Pyridaben)のようなピリダジノン系化合物;
フェンピロキシメート(Fenpyroximate)、フィプロニル(Fipronil)、テブフェンピラド(Tebufenpyrad)、エチプロール(Ethiprole)、トルフェンピラド(Tolfenpyrad)、アセトプロール(Acetoprole)、ピラフルプロール(Pyrafluprole)、ピリプロール(Pyriprole)のようなピラゾール系化合物;
イミダクロプリド(Imidacloprid)、ニテンピラム(Nitenpyram)、アセタミプリド(Acetamiprid)、チアクロプリド(Thiacloprid)、チアメトキサム(Thiamethoxam)、クロチアニジン(Clothianidin)、ジノテフラン(Dinotefuran)などのネオニコチノイド;
テブフェノジド(Tebufenozide)、メトキシフェノジド(Methoxyfenozide)、クロマフェノジド(Chromafenozide)、ハロフェノジド(Halofenozide)などのヒドラジン系化合物;
ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドラゾン系化合物また、その他の化合物として、フロニカミド(Flonicamid)、ブプロフェジン(Buprofezin)、ヘキシチアゾクス(Hexythiazox)、アミトラズ(Amitraz)、クロルジメホルム(Chlordimeform)、シラフルオフェン(Silafluofen)、トリアザメイト(Triazamate)、ピメトロジン(Pymetrozine)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、クロルフェナピル(Chlorfenapyr)、インドキサカルブ(Indoxacarb)、アセキノシル(Acequinocyl)、エトキサゾール(Etoxazole)、シロマジン(Cyromazine)、1,3−ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、ジアフェンチウロン(Diafenthiuron)、ベンクロチアズ(Benclothiaz)、フルフェンリム(Flufenerim)、ピリダリル(Pyridalyl)、スピロジクロフェン(Spirodiclofen)、ビフェナゼート(Bifenazate)、スピロメシフェン(Spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、プロパルギット(Propargite)、クロフェンテジン(Clofentezine)、フルアクリピリム(Fluacrypyrim)、メタフルミゾン(Metaflumizone)、フルベンジアミド(Flubendiamide)、シフルメトフェン(Cyflumetofen)のような化合物;などが挙げられる。更に、BT剤、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤などのような微生物農薬、アベルメクチン(Avermectin)、エマメクチンベンゾエート(Emamectin-Benzoate)、ミルベメクチン(Milbemectin)、スピノサッド(Spinosad)、イベルメクチン(Ivermectin)、レピメクチン(Lepimectin)のような抗生物質、アザディラクチン(Azadirachtin)、ロテノン(Rotenone)のような天然物などが挙げられる。
カルバリル(Carbaryl)、プロポキスル(Propoxur)、アルジカルブ(Aldicarb)、カルボフラン(Carbofuran)、チオジカルブ(Thiodicarb)、メソミル(Methomyl)、オキサミル(Oxamyl)、エチオフェンカルブ(Ethiofencarb)、ピリミカルブ(Pirimicarb)、フェノブカルブ(Fenobucarb)、カルボスルファン(Carbosulfan)、ベンフラカルブ(Benfuracarb)のようなカーバメート系化合物;
カルタップ(Cartap)、チオシクラム(Thiocyclam)、ベンスルタップ(Bensultap)のようなネライストキシン誘導体;
ジコホル(Dicofol)、テトラジホン(Tetradifon)、エンドスルファン(Endosulfan)のような有機塩素系化合物;
酸化フェンブタスズ(Fenbutatin Oxide)のような有機金属系化合物;
フェンバレレート(Fenvalerate)、ペルメトリン(Permethrin)、シペルメトリン(Cypermethrin)、デルタメトリン(Deltamethrin)、シハロトリン(Cyhalothrin)、テフルトリン(Tefluthrin)、エトフェンプロックス(Ethofenprox)、フェンプロパトリン(Fenpropathrin)、ビフェントリン(Bifenthrin)のようなピレスロイド系化合物;
ジフルベンズロン(Diflubenzuron)、クロルフルアズロン(Chlorfluazuron)、テフルベンズロン(Teflubenzuron)、フルフェノクスロン(Flufenoxuron)、ルフェヌロン(Lufenuron)、ノバルロン(Novaluron)のようなベンゾイルウレア系化合物;
メトプレン(Methoprene)、ピリプロキシフェン(Pyriproxyfen)、フェノキシカルブ(Fenoxycarb)のような幼若ホルモン様化合物;
ピリダベン(Pyridaben)のようなピリダジノン系化合物;
フェンピロキシメート(Fenpyroximate)、フィプロニル(Fipronil)、テブフェンピラド(Tebufenpyrad)、エチプロール(Ethiprole)、トルフェンピラド(Tolfenpyrad)、アセトプロール(Acetoprole)、ピラフルプロール(Pyrafluprole)、ピリプロール(Pyriprole)のようなピラゾール系化合物;
イミダクロプリド(Imidacloprid)、ニテンピラム(Nitenpyram)、アセタミプリド(Acetamiprid)、チアクロプリド(Thiacloprid)、チアメトキサム(Thiamethoxam)、クロチアニジン(Clothianidin)、ジノテフラン(Dinotefuran)などのネオニコチノイド;
テブフェノジド(Tebufenozide)、メトキシフェノジド(Methoxyfenozide)、クロマフェノジド(Chromafenozide)、ハロフェノジド(Halofenozide)などのヒドラジン系化合物;
ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドラゾン系化合物また、その他の化合物として、フロニカミド(Flonicamid)、ブプロフェジン(Buprofezin)、ヘキシチアゾクス(Hexythiazox)、アミトラズ(Amitraz)、クロルジメホルム(Chlordimeform)、シラフルオフェン(Silafluofen)、トリアザメイト(Triazamate)、ピメトロジン(Pymetrozine)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、クロルフェナピル(Chlorfenapyr)、インドキサカルブ(Indoxacarb)、アセキノシル(Acequinocyl)、エトキサゾール(Etoxazole)、シロマジン(Cyromazine)、1,3−ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、ジアフェンチウロン(Diafenthiuron)、ベンクロチアズ(Benclothiaz)、フルフェンリム(Flufenerim)、ピリダリル(Pyridalyl)、スピロジクロフェン(Spirodiclofen)、ビフェナゼート(Bifenazate)、スピロメシフェン(Spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、プロパルギット(Propargite)、クロフェンテジン(Clofentezine)、フルアクリピリム(Fluacrypyrim)、メタフルミゾン(Metaflumizone)、フルベンジアミド(Flubendiamide)、シフルメトフェン(Cyflumetofen)のような化合物;などが挙げられる。更に、BT剤、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤などのような微生物農薬、アベルメクチン(Avermectin)、エマメクチンベンゾエート(Emamectin-Benzoate)、ミルベメクチン(Milbemectin)、スピノサッド(Spinosad)、イベルメクチン(Ivermectin)、レピメクチン(Lepimectin)のような抗生物質、アザディラクチン(Azadirachtin)、ロテノン(Rotenone)のような天然物などが挙げられる。
本発明の望ましい態様は以下の通りである。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
(1)前記式(I)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(2)AがXで置換されてもよいフェニルである、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(3)AがXで置換されてもよいフェニルであり、BがYで置換されてもよい5員又は6員複素環基である、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(4)Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである、前記(3)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(5)AがXで置換されてもよい複素環基又はXで置換されてもよい縮合複素環基である、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(6)前記式(I-α)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(7)Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである、前記式(I-α)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(1)前記式(I)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(2)AがXで置換されてもよいフェニルである、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(3)AがXで置換されてもよいフェニルであり、BがYで置換されてもよい5員又は6員複素環基である、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(4)Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである、前記(3)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(5)AがXで置換されてもよい複素環基又はXで置換されてもよい縮合複素環基である、前記(1)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(6)前記式(I-α)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(7)Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである、前記式(I-α)で表されるカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
(8)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を有効成分として含有する殺菌性組成物。
(9)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物とを有効成分として含有する混合殺菌性組成物。
(10)他の殺菌性有効成分化合物が、アニリノピリミジン系化合物、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、キノキサリン系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、シアノアセトアミド系化合物、フェニルアミド系化合物、スルフェン酸系化合物、銅系化合物、イソキサゾール系化合物、有機リン系化合物、N−ハロゲノチオアルキル系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、ベンズアニリド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、ピペリジン系化合物、モルフォリン系化合物、有機スズ系化合物、尿素系化合物、シンナミック酸系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、オキサゾリジノン系化合物、チアゾールカルボキサミド系化合物、シリルアミド系化合物、アミノアシッドアミドカーバメート系化合物、イミダゾリジン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、ベンゼンスルホンアミド系化合物、オキシムエーテル系化合物、フェノキシアミド系化合物、抗生物質、グアニジン系化合物、イソプロチオラン、ピロキロン、ジクロメジン、キノキシフェン、プロパモカルブ塩酸塩、スピロキサミン、クロルピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、ニコビフェン、メトラフェノン、MTF-753、UBF-307、ジクロシメット、プロキンアジド、アミスルブロム、KIF-7767及びSyngenta 446510よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする、前記(9)の混合殺菌性組成物。
(11)他の殺菌性有効成分化合物が、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、銅系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、MTF-753及びKIF-7767よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする、前記(10)の混合殺菌性組成物。
(9)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物とを有効成分として含有する混合殺菌性組成物。
(10)他の殺菌性有効成分化合物が、アニリノピリミジン系化合物、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、キノキサリン系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、シアノアセトアミド系化合物、フェニルアミド系化合物、スルフェン酸系化合物、銅系化合物、イソキサゾール系化合物、有機リン系化合物、N−ハロゲノチオアルキル系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、ベンズアニリド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、ピペリジン系化合物、モルフォリン系化合物、有機スズ系化合物、尿素系化合物、シンナミック酸系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、オキサゾリジノン系化合物、チアゾールカルボキサミド系化合物、シリルアミド系化合物、アミノアシッドアミドカーバメート系化合物、イミダゾリジン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、ベンゼンスルホンアミド系化合物、オキシムエーテル系化合物、フェノキシアミド系化合物、抗生物質、グアニジン系化合物、イソプロチオラン、ピロキロン、ジクロメジン、キノキシフェン、プロパモカルブ塩酸塩、スピロキサミン、クロルピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、ニコビフェン、メトラフェノン、MTF-753、UBF-307、ジクロシメット、プロキンアジド、アミスルブロム、KIF-7767及びSyngenta 446510よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする、前記(9)の混合殺菌性組成物。
(11)他の殺菌性有効成分化合物が、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、銅系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、MTF-753及びKIF-7767よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする、前記(10)の混合殺菌性組成物。
(12)他の殺菌性有効成分化合物が、フルアジナム、トリアジメホン、ビテルタノール、トリフルミゾール、エタコナゾール、プロピコナゾール、ペンコナゾール、フルシラゾール、マイクロブタニル、シプロコナゾール、テブコナゾール、ヘキサコナゾール、ファーコナゾールシス、プロクロラズ、メトコナゾール、エポキシコナゾール、テトラコナゾール、オキスポコナゾールフマル酸塩、シプコナゾール、プロチオコナゾール、トリアジメノール、フルトリアフオール、ジフェノコナゾール、フルキンコナゾール、フェンブコナゾール、ブロムコナゾール、ジニコナゾール、トリシクラゾール、プロベナゾール、シメコナゾール、ペフラゾエート、イプコナゾール、イミベンコナゾール、マンネブ、ジネブ、マンゼブ、ポリカーバメート、メチラム、プロピネブ、フサライド、クロロタロニル、キントゼン、ベノミル、チオファネートメチル、カーベンダジム、シアゾファミド、水酸化第二銅、有機銅、プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン、ボスカリド、ジエトフェンカルブ、フルジオキソニル、フェンピクロニル、アゾキシストロビン、クレソキシムメチル、メトミノフェン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、オリザストロビン、ジモキシストロビン、ピラクロストロビン、フルオキサストロビン、フルアクリピリム、フェンヘキサミド、ポリオキシン、イミノクタジン、MTF-753及びKIF-7767よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする、前記(11)の混合殺菌性組成物。
(13)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、有害菌類を防除する方法。
(14)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、植物病害を防除する方法。
(15)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、作物を保護する方法。
(16)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、作物の収穫量を向上させる方法。
(13)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、有害菌類を防除する方法。
(14)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、植物病害を防除する方法。
(15)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、作物を保護する方法。
(16)前記(1)〜(7)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量、或いは前記(9)〜(12)の混合殺菌性組成物の有効量を施用して、作物の収穫量を向上させる方法。
次に本発明の実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。まず式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の合成例を記載する。
合成例1
N-[(3',4'-ジクロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]-2,3-ジヒドロ-6-メチル-1,4-オキサチイン-5-カルボキサミド(後記化合物No.1-118)の合成
(1)亜鉛3.12gに、3,4-ジクロロベンゾイルクロライド10.0g、2-ブロモイソ酪酸エチル9.31g及び無水エーテル90mlの混合物を、窒素雰囲気下で滴下した後、還流下で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を20%硫酸、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/19)で精製して、油状の2-(3',4'-ジクロロベンゾイル)イソ酪酸エチル8.7gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.11(t,3H),1.52(s,6H),4.14(q,2H),7.48(d,1H),7.63(dd,1H),7.96(d,1H)
合成例1
N-[(3',4'-ジクロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]-2,3-ジヒドロ-6-メチル-1,4-オキサチイン-5-カルボキサミド(後記化合物No.1-118)の合成
(1)亜鉛3.12gに、3,4-ジクロロベンゾイルクロライド10.0g、2-ブロモイソ酪酸エチル9.31g及び無水エーテル90mlの混合物を、窒素雰囲気下で滴下した後、還流下で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を20%硫酸、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/19)で精製して、油状の2-(3',4'-ジクロロベンゾイル)イソ酪酸エチル8.7gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.11(t,3H),1.52(s,6H),4.14(q,2H),7.48(d,1H),7.63(dd,1H),7.96(d,1H)
(2)2-(3',4'-ジクロロベンゾイル)イソ酪酸エチル8.7g、硫酸14.2ml、水14.2ml及び酢酸40mlの混合物を、還流下で15時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/19)で精製して、油状の3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.47gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.21(d,6H),3.46(m,1H),7.55(d,1H),7.79(dd,1H),8.02(d,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.21(d,6H),3.46(m,1H),7.55(d,1H),7.79(dd,1H),8.02(d,1H)
(3)3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.47g及びテトラヒドロフラン100mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド9.32gを加え、室温で4時間反応させた。反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のα-ブロモ-3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.39gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
2.01(s,6H),7.50(d,1H),8.0(dd,1H),8.20(d,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
2.01(s,6H),7.50(d,1H),8.0(dd,1H),8.20(d,1H)
(4)α-ブロモ-3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.39g及びジメチルスルホキシド60mlの混合物に、アジ化ナトリウム2.8gを加え、50℃で1時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/9)で精製して、油状のα-アジド-3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.34gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.60(s,6H),7.53(d,1H),7.97(dd,1H),8.20(d,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.60(s,6H),7.53(d,1H),7.97(dd,1H),8.20(d,1H)
(5)α-アジド-3,4-ジクロロイソブチロフェノン6.34g、テトラヒドロフラン90ml及び水3.2mlの混合物に、トリフェニルホスフィン7.74gを加え、室温で23時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水、次いで塩酸を加え弱酸性とした後エーテルで洗浄した。水層を水酸化ナトリウム水溶液で中和し、エーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、氷冷下で塩化水素ガスを導入し、生じた固体を濾取し乾燥して、α-アミノ-3,4-ジクロロイソブチロフェノン塩酸塩5.92gを得た。
(6)α-アミノ-3,4-ジクロロイソブチロフェノン塩酸塩 0.2g及び1,2-ジクロロエタン8mlの混合物に、トリエチルアミン0.19gを加えた。次いで氷冷下にて2,3-ジヒドロ-6-メチル-1,4-オキサチイン-5-カルボン酸塩化物0.13g及び1,2-ジクロロエタン1mlの混合物を滴下した後、室温で1.5時間反応させた。反応混合物をジクロロメタンで希釈して、希塩酸、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=3/7)で精製して、融点130〜132℃の目的物0.21gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.63(s,6H),1.94(s,3H),2.96(t,2H),4.32(t,2H),6.64(s,1H),7.45(d,1H),7.83(dd,1H), 8.09(d,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.63(s,6H),1.94(s,3H),2.96(t,2H),4.32(t,2H),6.64(s,1H),7.45(d,1H),7.83(dd,1H), 8.09(d,1H)
合成例2
N-[(4'-イソプロポキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-51)の合成
(1)マグネシウム2.6g及び無水エーテル60mlの混合物に2-ブロモプロパン15.3g及び無水エーテル28mlの混合物を加えてグリニヤール試薬を調製した。これに室温で4-イソプロポキシベンゾニトリル13.4g及び無水エーテル57mlの混合物を滴下した。滴下終了後、還流下で18時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、6N硫酸を加え弱酸性とした後0.5時間攪拌した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/19)で精製して、油状の4-イソプロポキシイソブチロフェノン14.2gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.18(d,6H),1.34(d,6H),3.49(m,1H),4.62(m,1H),6.88(d,2H),7.91(d,2H)
N-[(4'-イソプロポキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-51)の合成
(1)マグネシウム2.6g及び無水エーテル60mlの混合物に2-ブロモプロパン15.3g及び無水エーテル28mlの混合物を加えてグリニヤール試薬を調製した。これに室温で4-イソプロポキシベンゾニトリル13.4g及び無水エーテル57mlの混合物を滴下した。滴下終了後、還流下で18時間反応させた。反応混合物を氷水中に投入し、6N硫酸を加え弱酸性とした後0.5時間攪拌した。その混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/19)で精製して、油状の4-イソプロポキシイソブチロフェノン14.2gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.18(d,6H),1.34(d,6H),3.49(m,1H),4.62(m,1H),6.88(d,2H),7.91(d,2H)
(2)4-イソプロポキシイソブチロフェノン14.2g及びテトラヒドロフラン130mlの混合物に、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド25.9gを加え、室温で1時間反応させた。反応混合物にエーテルを加えて濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のα-ブロモ-4-イソプロポキシイソブチロフェノン19.6gを得た。
(3)α-ブロモ-4-イソプロポキシイソブチロフェノン19.6g及びジメチルスルホキシド130mlの混合物に、アジ化ナトリウム8.95gを加え、50℃で1.5時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出した後水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/9)で精製して、油状のα-アジド-4-イソプロポキシイソブチロフェノン15.6gを得た。
このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.35(d,6H),1.58(s,6H),4.63(m,1H),6.88(d,2H),8.13(d,2H)
このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.35(d,6H),1.58(s,6H),4.63(m,1H),6.88(d,2H),8.13(d,2H)
(4)α-アジド-4-イソプロポキシイソブチロフェノン5.0g、メタノール70ml及び5%パラジウム炭素0.5gの混合物を、水素雰囲気下、室温で24時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、油状のα-アミノ-4-イソプロポキシイソブチロフェノン3.5gを得た。
(5)α-アミノ-4-イソプロポキシイソブチロフェノン3.5g及びテトラヒドロフラン40mlの混合物に、トリエチルアミン1.92gを加え、そこへ3-メチル-2-チオフェンカルボニルクロライド2.54g及びテトラヒドロフラン10mlの混合物を氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で3時間反応させた。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/2)で精製して、融点124〜131℃の目的物4.0gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.33(d,6H),1.83(s,6H),2.44(s,3H),4.60(m,1H),6.83(d,1H),6.85(d,2H),7.06(s,1H), 7.24(d,1H),8.02(d,2H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.33(d,6H),1.83(s,6H),2.44(s,3H),4.60(m,1H),6.83(d,1H),6.85(d,2H),7.06(s,1H), 7.24(d,1H),8.02(d,2H)
合成例3
N-[(4'-ヒドロキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-136)の合成
N-[(4'-イソプロポキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド2.7g及びジクロロメタン50mlの混合物に、氷冷下で四塩化チタン(1.0Mジクロロメタン溶液)11.7mlを滴下した後、室温で1.5時間攪拌した。そこへ、氷冷下で塩化アルミニウム1.04gを加え、室温まで昇温し、20時間反応させた。反応混合物を氷及び酢酸エチルの混合物に投入し、攪拌した後酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/2)で精製して、融点203〜209℃の目的物1.1gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.65(s,6H),2.28(s,3H),6.67(d,2H),6.71(d,1H),7.11(d,1H),7.25(s,1H),7.85(d,2H)
N-[(4'-ヒドロキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-136)の合成
N-[(4'-イソプロポキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド2.7g及びジクロロメタン50mlの混合物に、氷冷下で四塩化チタン(1.0Mジクロロメタン溶液)11.7mlを滴下した後、室温で1.5時間攪拌した。そこへ、氷冷下で塩化アルミニウム1.04gを加え、室温まで昇温し、20時間反応させた。反応混合物を氷及び酢酸エチルの混合物に投入し、攪拌した後酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/2)で精製して、融点203〜209℃の目的物1.1gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.65(s,6H),2.28(s,3H),6.67(d,2H),6.71(d,1H),7.11(d,1H),7.25(s,1H),7.85(d,2H)
合成例4
N-[(4'-ブトキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-138)の合成
N-[(4'-ヒドロキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド0.2g、炭酸カリウム0.18g及びジメチルホルムアミド10mlの混合物に、1-ヨードブタン0.49gを加え、室温で7時間反応させた。反応混合物をに水中に投入し、エーテルで抽出して水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をn-ヘキサン及びジエチルエーテルの混合物で洗浄して、融点101〜104℃の目的物0.12gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
0.95(t,3H),1.46(m,2H),1.74(m,2H),1.82(s,6H),2.44(s,3H),3.98(t,2H),6.84(d,1H), 6.86(d,2H),7.03(s,1H),8.03(d,2H)
N-[(4'-ブトキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド(化合物No.1-138)の合成
N-[(4'-ヒドロキシ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド0.2g、炭酸カリウム0.18g及びジメチルホルムアミド10mlの混合物に、1-ヨードブタン0.49gを加え、室温で7時間反応させた。反応混合物をに水中に投入し、エーテルで抽出して水洗した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をn-ヘキサン及びジエチルエーテルの混合物で洗浄して、融点101〜104℃の目的物0.12gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
0.95(t,3H),1.46(m,2H),1.74(m,2H),1.82(s,6H),2.44(s,3H),3.98(t,2H),6.84(d,1H), 6.86(d,2H),7.03(s,1H),8.03(d,2H)
合成例5
3-メチル-N-[2-[(ピリジン-2'-イル)カルボニル]イソプロピル]-2−チオフェンカルボキサミド(後記化合物No.2-4)の合成
(1)ピコリンアルデヒド3.67g及びエーテル30mlの混合物に2-ブロモプロパン5.6g、マグネシウム1.0g及びエーテル30mlより調製したイソプロピルマグネシウムブロミドエーテル溶液を-30℃以下で滴下し、同温度に1時間保った後室温まで昇温した。反応混合物を氷水中に投入し、希硫酸を加え攪拌した後エーテルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=3/7)で精製して、油状の2-メチル-1-(2'-ピリジル)-プロパノール2.5gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
0.80(d,3H),1.01(d,3H),2.05(m,1H),4.29(bS,1H),4.58(d,1H),7.23〜7.29(m,2H),7.73(dt,1H),8.56(d,1H)
3-メチル-N-[2-[(ピリジン-2'-イル)カルボニル]イソプロピル]-2−チオフェンカルボキサミド(後記化合物No.2-4)の合成
(1)ピコリンアルデヒド3.67g及びエーテル30mlの混合物に2-ブロモプロパン5.6g、マグネシウム1.0g及びエーテル30mlより調製したイソプロピルマグネシウムブロミドエーテル溶液を-30℃以下で滴下し、同温度に1時間保った後室温まで昇温した。反応混合物を氷水中に投入し、希硫酸を加え攪拌した後エーテルで抽出し、水洗した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=3/7)で精製して、油状の2-メチル-1-(2'-ピリジル)-プロパノール2.5gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
0.80(d,3H),1.01(d,3H),2.05(m,1H),4.29(bS,1H),4.58(d,1H),7.23〜7.29(m,2H),7.73(dt,1H),8.56(d,1H)
(2)クロロクロム酸ピリジニウム3.56g、酢酸ナトリウム2.71g及びジクロロメタン50mlの混合物に、2-メチル-1-(2'-ピリジル)プロパノール2.5g及びジクロロメタン25mlの混合物を加え、室温で15時間反応させた。反応混合物をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=1/4)で精製して、油状のイソプロピル(2'-ピリジル)ケトン0.65gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.21(m,6H),4.11(m,1H),7.46(m,1H),7.84(dt,1H),8.05(dd,1H),8.69(d,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.21(m,6H),4.11(m,1H),7.46(m,1H),7.84(dt,1H),8.05(dd,1H),8.69(d,1H)
(3)イソプロピル (2'-ピリジル)ケトン 0.65g及び酢酸8mlの混合物に、臭素1.0g及び酢酸2mlの混合物を室温で滴下した後100℃まで昇温し、1.5時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、酢酸エチルで抽出し炭酸水素ナトリウム水溶液次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮して、油状の2-ブロモ-2-プロピル(2'-ピリジル)ケトン0.95gを得た。
(4)2-ブロモ-2-プロピル(2'-ピリジル)ケトン0.95g及びジメチルスルホキシド7.9mlの混合物に、アジ化ナトリウム0.57gを加え、55℃で1時間反応させた。反応混合物を水中に投入し、エーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n-ヘキサン=15/85)で精製して、油状の2-アジド-2-プロピル (2'-ピリジル)ケトン0.51gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.79(s,6H),7.46(m,1H),7.85(dt,1H),8.03(dd,1H),8.68(m,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /400MHz )
1.79(s,6H),7.46(m,1H),7.85(dt,1H),8.03(dd,1H),8.68(m,1H)
(5)2-アジド-2-プロピル (2'-ピリジル)ケトン0.25g、メタノール8ml、濃塩酸0.27g及び5%パラジウム炭素0.13gの混合物を、水素雰囲気下、室温で1.5時間反応させた。反応混合物に水1mlを加えセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して、2-アミノ-2-プロピル(2'-ピリジル)ケトン塩酸塩0.25gを得た。
(6)2-アミノ-2-プロピル(2'-ピリジル)ケトン塩酸塩0.25g、3-メチル-2-チオフェンカルボニルクロライド0.21g及び1,2-ジクロロエタン10mlの混合物に、氷冷下でトリエチルアミン0.33g及び1,2-ジクロロエタン2mlの混合物を滴下した。滴下終了後、氷冷下で2時間反応させた。反応混合物を水中投入し、塩化メチレンで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=3/7)で精製して、融点67〜72℃の目的物0.21gを得た。このもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.88(s,6H),2.35(s,3H),6.81(d,1H),6.97(s,1H),7.21(d,1H),7.36(dq,1H),7.82(dt,1H),8.04(dd,1H),8.49(dd,1H)
1H-NMR δppm ( Solvent : CDCl3 /300MHz )
1.88(s,6H),2.35(s,3H),6.81(d,1H),6.97(s,1H),7.21(d,1H),7.36(dq,1H),7.82(dt,1H),8.04(dd,1H),8.49(dd,1H)
次に、式(I)又は(I-α)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の代表例を第1表〜第2表に具体的に挙げる。これら化合物は前記合成例或は前記した種々の製造方法に基づいて合成することができる。また、NMRスペクトルデータを第3表に示す。
表中、No.は化合物No.を示し、Meはメチル、Etはエチル、Pr(n)はノルマルプロピル、Pr(i)はイソプロピル、Bu(n)はノルマルブチル、Bu(i)はイソブチル、Bu(sec)はセカンダリーブチル、Bu(t)はターシャリーブチル、Pent(n)はノルマルペンチル、Hex(n)はノルマルヘキシル、Phはフェニルを各々示す。また、表中、4-Br-Phとあるのは、4位に臭素原子が置換したフェニルを示し、他の同様の記載もこれらに準じる。また、表中で用いた略号B1〜B70は、各々以下の置換基を示す。
表中、No.は化合物No.を示し、Meはメチル、Etはエチル、Pr(n)はノルマルプロピル、Pr(i)はイソプロピル、Bu(n)はノルマルブチル、Bu(i)はイソブチル、Bu(sec)はセカンダリーブチル、Bu(t)はターシャリーブチル、Pent(n)はノルマルペンチル、Hex(n)はノルマルヘキシル、Phはフェニルを各々示す。また、表中、4-Br-Phとあるのは、4位に臭素原子が置換したフェニルを示し、他の同様の記載もこれらに準じる。また、表中で用いた略号B1〜B70は、各々以下の置換基を示す。
以下に、本発明組成物の試験例を記載する。各試験において、防除指数は以下の基準に従った。
〔防除指数〕 〔発病程度:肉眼観察〕
5 : 病斑又は胞子形成が全く認められない。
4 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の10% 未満。
3 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の40% 未満。
2 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70% 未満。
1 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70% 以上。
〔防除指数〕 〔発病程度:肉眼観察〕
5 : 病斑又は胞子形成が全く認められない。
4 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の10% 未満。
3 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の40% 未満。
2 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70% 未満。
1 : 病斑長、病斑数又は胞子形成面積が、無処理区の70% 以上。
試験例1 (コムギうどんこ病予防効果試験)
直径7.5cmのポリ鉢でコムギ(品種:農林61号)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日)に、うどんこ病菌(Erysiphe graminis)の分生胞子を振り掛け接種し、20℃の恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-5、1-7、1-15、1-32、1-37、1-50、1-60、1-61、1-64、1-71、1-81、1-93、1-95、1-102、1-104、1-106、1-109、1-110、1-113、1-122、1-123、1-149、1-167、1-176、1-182、1-184、1-257又は2-4について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径7.5cmのポリ鉢でコムギ(品種:農林61号)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日)に、うどんこ病菌(Erysiphe graminis)の分生胞子を振り掛け接種し、20℃の恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-5、1-7、1-15、1-32、1-37、1-50、1-60、1-61、1-64、1-71、1-81、1-93、1-95、1-102、1-104、1-106、1-109、1-110、1-113、1-122、1-123、1-149、1-167、1-176、1-182、1-184、1-257又は2-4について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
試験例2(キュウリうどんこ病予防効果試験)
直径7.5cmのポリ鉢でキュウリ(品種:相模半白)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、うどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、20℃の恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-1、1-3、1-4、1-5、1-6、1-7、1-11、1-12、1-13、1-15、1-16、1-23、1-32、1-33、1-36、1-39、1-42、1-50、1-53、1-54、1-60、1-61、1-64、1-68、1-72、1-73、1-74、1-76、1-77、1-79、1-81、1-82、1-84、1-86、1-87、1-94、1-95、1-98、1-101、1-102、1-103、1-104、1-106、1-107、1-109、1-110、1-113、1-114、1-115、1-116、1-118、1-120、1-122、1-123、1-125、1-126、1-127、1-129、1-130、1-131、1-133、1-138、1-143、1-144、1-149、1-167、1-174、1-182、1-183、1-184、1-191、1-252、1-253、1-256、1-257、2-3、2-4、2-8又は2-9について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径7.5cmのポリ鉢でキュウリ(品種:相模半白)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、うどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、20℃の恒温室内に保った。接種6から7日後に胞子形成面積を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-1、1-3、1-4、1-5、1-6、1-7、1-11、1-12、1-13、1-15、1-16、1-23、1-32、1-33、1-36、1-39、1-42、1-50、1-53、1-54、1-60、1-61、1-64、1-68、1-72、1-73、1-74、1-76、1-77、1-79、1-81、1-82、1-84、1-86、1-87、1-94、1-95、1-98、1-101、1-102、1-103、1-104、1-106、1-107、1-109、1-110、1-113、1-114、1-115、1-116、1-118、1-120、1-122、1-123、1-125、1-126、1-127、1-129、1-130、1-131、1-133、1-138、1-143、1-144、1-149、1-167、1-174、1-182、1-183、1-184、1-191、1-252、1-253、1-256、1-257、2-3、2-4、2-8又は2-9について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
試験例3(稲いもち病予防効果試験)
直径7.5cmのポリ鉢で稲(品種:日本晴)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、いもち病菌(Pyricularia oryzae)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、24時間20℃の接種箱に保ち、その後20℃の恒温室内に保った。接種5から7日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-8、1-66、1-71、1-79、1-94、1-107、1-131、1-142、1-176、1-177又は2-9について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径7.5cmのポリ鉢で稲(品種:日本晴)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、いもち病菌(Pyricularia oryzae)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、24時間20℃の接種箱に保ち、その後20℃の恒温室内に保った。接種5から7日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-8、1-66、1-71、1-79、1-94、1-107、1-131、1-142、1-176、1-177又は2-9について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
試験例4(インゲン灰色かび病予防効果試験)
直径15cmのポリ鉢でインゲン(品種:大正金時)を栽培し、本葉が十分展開した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、灰色かび病菌(Botrytis cinerea)胞子懸濁液(水で50%に希釈したジャガイモ・グルコース煎汁液)を接種し、20℃の恒温室内に保った。接種3日後に病斑長(mm)を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-12、1-14、1-17、1-28、1-34、1-36、1-38、1-45、1-47、1-48、1-49、1-51、1-55、1-68、1-74、1-75、1-77、1-78、1-88、1-116、1-121、1-128、1-132、1-133、1-135、1-137、1-138、1-139、1-145、1-147、1-158、1-165、1-166、1-172、1-173、1-179、1-180、1-191、1-208、1-237、1-240、1-241、1-248、1-250又は1-267について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径15cmのポリ鉢でインゲン(品種:大正金時)を栽培し、本葉が十分展開した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、灰色かび病菌(Botrytis cinerea)胞子懸濁液(水で50%に希釈したジャガイモ・グルコース煎汁液)を接種し、20℃の恒温室内に保った。接種3日後に病斑長(mm)を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-12、1-14、1-17、1-28、1-34、1-36、1-38、1-45、1-47、1-48、1-49、1-51、1-55、1-68、1-74、1-75、1-77、1-78、1-88、1-116、1-121、1-128、1-132、1-133、1-135、1-137、1-138、1-139、1-145、1-147、1-158、1-165、1-166、1-172、1-173、1-179、1-180、1-191、1-208、1-237、1-240、1-241、1-248、1-250又は1-267について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
試験例5(インゲン菌核病予防効果試験)
直径15cmのポリ鉢でインゲン(品種:大正金時)を栽培し、本葉が十分展開した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌叢ディスクを接種し、20℃の恒温室内に保った。接種3日後に病斑長(mm)を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-1、1-3、1-4、1-8、1-9、1-10、1-11、1-13、1-14、1-16、1-17、1-21、1-22、1-23、1-26、1-33、1-34、1-35、1-37、1-38、1-39、1-41、1-44、1-45、1-47、1-48、1-49、1-53、1-54、1-55、1-62、1-70、1-72、1-73、1-75、1-82、1-83、1-84、1-86、1-87、1-88、1-92、1-93、1-98、1-99、1-101、1-103、1-108、1-115、1-118、1-120、1-121、1-127、1-128、1-129、1-130、1-132、1-135、1-140、1-142、1-143、1-144、1-145、1-146、1-147、1-152、1-153、1-154、1-156、1-157、1-161、1-172、1-173、1-174、1-177、1-180、1-181、1-183、1-208、1-224、1-237、1-240、1-241、1-246、1-248、1-250、1-251、1-256、1-263、1-267、2-8又は2-10について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径15cmのポリ鉢でインゲン(品種:大正金時)を栽培し、本葉が十分展開した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日もしくは翌日)に、菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌叢ディスクを接種し、20℃の恒温室内に保った。接種3日後に病斑長(mm)を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-1、1-3、1-4、1-8、1-9、1-10、1-11、1-13、1-14、1-16、1-17、1-21、1-22、1-23、1-26、1-33、1-34、1-35、1-37、1-38、1-39、1-41、1-44、1-45、1-47、1-48、1-49、1-53、1-54、1-55、1-62、1-70、1-72、1-73、1-75、1-82、1-83、1-84、1-86、1-87、1-88、1-92、1-93、1-98、1-99、1-101、1-103、1-108、1-115、1-118、1-120、1-121、1-127、1-128、1-129、1-130、1-132、1-135、1-140、1-142、1-143、1-144、1-145、1-146、1-147、1-152、1-153、1-154、1-156、1-157、1-161、1-172、1-173、1-174、1-177、1-180、1-181、1-183、1-208、1-224、1-237、1-240、1-241、1-246、1-248、1-250、1-251、1-256、1-263、1-267、2-8又は2-10について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
試験例6 (コムギふ枯病予防効果試験)
直径7.5cmのポリ鉢でコムギ(品種:農林61号)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日)に、ふ枯病菌(Septoria nodorum)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、72時間20℃の接種箱に保ち、その後20℃の恒温室内に保った。接種5から10日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-6、1-51、1-76、1-78、1-114、1-179、1-252又は2-3について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
直径7.5cmのポリ鉢でコムギ(品種:農林61号)を栽培し、1.5葉期に達した時に式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩を所定濃度に調整した薬液10mlをスプレーガンにて散布した。薬液が乾燥した後(処理当日)に、ふ枯病菌(Septoria nodorum)の分生胞子懸濁液を噴霧接種し、72時間20℃の接種箱に保ち、その後20℃の恒温室内に保った。接種5から10日後に病斑数を調査し、前記評価基準に従って防除指数を求めた。前記化合物No.1-6、1-51、1-76、1-78、1-114、1-179、1-252又は2-3について試験したところ、全ての化合物が500ppmで防除指数4又は5の効果を示した。
次に本発明組成物の製剤例を記載するが、配合割合、剤型等は記載例のみに限定されるものではない。
製剤例1
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)クレー 72重量部
(3)リグニンスルホン酸ソーダ 8重量部
以上のものを均一に混合して水和剤とする。
製剤例2
(1)式(I)の化合物 5重量部
(2)タルク 95重量部
以上のものを均一に混合して粉剤とする。
製剤例3
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)N,N′−ジメチルアセトアミド 20重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル 10重量部
(4)キシレン 50重量部
以上のものを均一に混合、溶解して乳剤とする。
製剤例1
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)クレー 72重量部
(3)リグニンスルホン酸ソーダ 8重量部
以上のものを均一に混合して水和剤とする。
製剤例2
(1)式(I)の化合物 5重量部
(2)タルク 95重量部
以上のものを均一に混合して粉剤とする。
製剤例3
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)N,N′−ジメチルアセトアミド 20重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル 10重量部
(4)キシレン 50重量部
以上のものを均一に混合、溶解して乳剤とする。
製剤例4
(1)クレー 68重量部
(2)リグニンスルホン酸ソーダ 2重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルアリールサルフェート 5重量部
(4)微粉シリカ 25重量部
以上の各成分の混合物と、式(I)の化合物とを4:1の重量割合で混合し、水和剤とする。
製剤例5
(1)式(I)の化合物 50重量部
(2)オキシレーテッドポリアルキルフェニルフォスフェート
−トリエタノールアミン 2重量部
(3)シリコーン 0.2重量部
(4)水 47.8重量部
以上のものを均一に混合、粉砕した原液に更に
(5)ポリカルボン酸ナトリウム 5重量部
(6)無水硫酸ナトリウム 42.8重量部
を加え均一に混合、造粒、乾燥して顆粒水和剤とする。
製剤例6
(1)式(I)の化合物 5重量部
(2)ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル 1重量部
(3)ポリオキシエチレンの燐酸エステル 0.1重量部
(4)粒状炭酸カルシウム 93.9重量部
(1)〜(3)を予め均一に混合し、適量のアセトンで希釈した後、(4)に吹付け、アセトンを除去して粒剤とする。
(1)クレー 68重量部
(2)リグニンスルホン酸ソーダ 2重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルアリールサルフェート 5重量部
(4)微粉シリカ 25重量部
以上の各成分の混合物と、式(I)の化合物とを4:1の重量割合で混合し、水和剤とする。
製剤例5
(1)式(I)の化合物 50重量部
(2)オキシレーテッドポリアルキルフェニルフォスフェート
−トリエタノールアミン 2重量部
(3)シリコーン 0.2重量部
(4)水 47.8重量部
以上のものを均一に混合、粉砕した原液に更に
(5)ポリカルボン酸ナトリウム 5重量部
(6)無水硫酸ナトリウム 42.8重量部
を加え均一に混合、造粒、乾燥して顆粒水和剤とする。
製剤例6
(1)式(I)の化合物 5重量部
(2)ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル 1重量部
(3)ポリオキシエチレンの燐酸エステル 0.1重量部
(4)粒状炭酸カルシウム 93.9重量部
(1)〜(3)を予め均一に混合し、適量のアセトンで希釈した後、(4)に吹付け、アセトンを除去して粒剤とする。
製剤例7
(1)式(I)の化合物 2.5重量部
(2)N−メチル−2−ピロリドン 2.5重量部
(3)大豆油 95.0重量部
以上のものを均一に混合、溶解して微量散布剤(ultra low volume formulation)とする。
製剤例8
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)オキシレーテッドポリアルキルフェノールフォスフェート
−トリエタノールアミン 2重量部
(3)シリコーン 0.2重量部
(4)ザンサンガム 0.1重量部
(5)エチレングリコール 5重量部
(6)水 72.7重量部
以上のものを均一に混合、粉砕して水性懸濁剤とする。
(1)式(I)の化合物 2.5重量部
(2)N−メチル−2−ピロリドン 2.5重量部
(3)大豆油 95.0重量部
以上のものを均一に混合、溶解して微量散布剤(ultra low volume formulation)とする。
製剤例8
(1)式(I)の化合物 20重量部
(2)オキシレーテッドポリアルキルフェノールフォスフェート
−トリエタノールアミン 2重量部
(3)シリコーン 0.2重量部
(4)ザンサンガム 0.1重量部
(5)エチレングリコール 5重量部
(6)水 72.7重量部
以上のものを均一に混合、粉砕して水性懸濁剤とする。
Claims (13)
- 式(I):
- AがXで置換されてもよいフェニルである請求項1に記載の殺菌性組成物。
- AがXで置換されてもよいフェニルであり、BがYで置換されてもよい5員又は6員複素環基である請求項1に記載の殺菌性組成物。
- Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである請求項3に記載の殺菌性組成物。
- AがXで置換されてもよい複素環基又はXで置換されてもよい縮合複素環基である請求項1に記載の殺菌性組成物。
- 前記請求項1に記載した式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩と、他の殺菌性有効成分化合物とを有効成分として含有する混合殺菌性組成物。
- 他の殺菌性有効成分化合物が、アニリノピリミジン系化合物、ピリジナミン系化合物、アゾール系化合物、キノキサリン系化合物、ジチオカーバメート系化合物、有機塩素系化合物、イミダゾール系化合物、シアノアセトアミド系化合物、フェニルアミド系化合物、スルフェン酸系化合物、銅系化合物、イソキサゾール系化合物、有機リン系化合物、N−ハロゲノチオアルキル系化合物、ジカルボキシイミド系化合物、ベンズアニリド系化合物、アニリド系化合物、ピペラジン系化合物、ピリジン系化合物、カルビノール系化合物、ピペリジン系化合物、モルフォリン系化合物、有機スズ系化合物、尿素系化合物、シンナミック酸系化合物、フェニルカーバメート系化合物、シアノピロール系化合物、ストロビルリン系化合物、オキサゾリジノン系化合物、チアゾールカルボキサミド系化合物、シリルアミド系化合物、アミノアシッドアミドカーバメート系化合物、イミダゾリジン系化合物、ハイドロキシアニリド系化合物、ベンゼンスルホンアミド系化合物、オキシムエーテル系化合物、フェノキシアミド系化合物、抗生物質、グアニジン系化合物、イソプロチオラン、ピロキロン、ジクロメジン、キノキシフェン、プロパモカルブ塩酸塩、スピロキサミン、クロルピクリン、ダゾメット、メタムナトリウム塩、ニコビフェン、メトラフェノン、MTF-753、UBF-307、ジクロシメット、プロキンアジド、アミスルブロム、KIF-7767及びSyngenta 446510よりなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項6に記載の混合殺菌性組成物。
- 前記請求項1に記載した式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、有害菌類を防除する方法。
- 前記請求項1に記載した式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、植物病害を防除する方法。
- 前記請求項1に記載した式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、作物を保護する方法。
- 前記請求項1に記載した式(I)のカルボン酸アミド誘導体又はその塩の有効量を施用して、作物の収穫量を向上させる方法。
- 式(I-α):
- Bの複素環基が、硫黄原子及び酸素原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子を含有するものである請求項12に記載のカルボン酸アミド誘導体又はその塩。
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