JP2007206575A - マスク保持機構 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスク保持機構2は、枠体3の各縁面に沿ってそれぞれ設けられるとともに、クランプ機構5をスライド自在に支持する第1ないし第4スライドレール6A〜6Dと、前記枠体に設けられ、直交する位置の第1スライドレール6Aおよび第2スライドレール6Bを押動する第1および第2押動機構7,8と、を備え、前記第1押動機構が、一端側、他端側第1スライドレール移動機構7A,7Bを有し、前記第2押動機構が、一端側、他端側第2スライドレール移動機構8A,8Bを有する構成とした。
【選択図】図2
Description
すなわち、マスク保持機構は、マスクフィルムの四辺をそれぞれ複数のクランプ機構を介して四角縁形状に形成された枠体に保持するマスク保持機構において、前記枠体の各縁面に沿ってそれぞれ設けられるとともに、前記クランプ機構をスライド自在に支持する第1ないし第4スライドレールと、前記枠体に設けられ、直交する位置に配置された前記第1スライドレールおよび前記第2スライドレールのそれぞれを押動する第1押動機構および第2押動機構と、を備えている。
なお、第3および第4押動機構と、スライドレールとは、支持枠の一方面と他方面に配置されることが望ましい。
マスク保持機構は、基板との位置ずれ量に基づいて、マスクフィルムを保持するクランプ機構が支持される第1または第2スライドレールを、第1押動機構における二つのスライドレール移動機構(一端側第1スライドレール移動機構と他端側第1スライドレール移動機構)、あるいは、第2押動機構における二つのスライドレール移動機構(一端側第2スライドレール移動機構と他端側第2スライドレール移動機構)により整合移動させることで、マスクフィルムの弾性変形の範囲内で伸長させている。
そのため、マスク保持機構は、簡易な構成であるにもかかわらず、マスクフィルムを伸長させ、基板に対して適切な位置合せ作業を行うことが可能となる。さらに、マスク保持機構は、従来のように個々のクランプ機構がマスクフィルムを伸長させるための移動駆動部を備えていないことから、製造コストを抑制でき、かつ、枠体に係る荷重も最小限で済むため、クランプ機構のメンテナンスおよび調整作業を行いやすい。
また、マスク保持機構は、そのクランプ機構が、一辺が引っ張られることに伴って、クランプ機構の各スライドレールにおけるポジションが適宜調整される。つまり、クランプ機構は、各スライドレールにスライド自在に支持されているため、一辺側のクランプ機構の引っ張る動作に伴い、マスクフィルムMを挟持する各スライドレール上の最適なポジションとなる。
図1はマスク保持機構を設置する露光装置の全体を模式的に示す斜視図、図2はマスク保持機構を模式的に示す平面図、図3はマスク保持機構の一部を切欠いて示す断面図である。
第1押動機構7は、第1スライドレール6Aの一方の端部側に配置した一端側第1スライドレール移動機構7Aと、第1スライドレール6Aの他方の端部側に配置した他端側第1スライドレール移動機構7Bとを備えている。
なお、他端側第1スライドレール移動機構7Bは、図2に示すように、一端側第1スライドレール移動機構7Aに平行となる位置に設置されている。
スライド軸7bは、駆動部7aによりボールネジが正回転すると、その先端側が回転することなく案内部7cに案内されて送り出される方向に移動し、また、駆動部7aによりボールネジが逆回転すると、その先端側が案内部7cに案内されて回転することなく後退するように構成されている。
図5(b)に示すように、回転体7gは、直線移動部7eの左右となる位置で案内体7fに形成した凹部に所定間隔で整列して設置されている。
すなわち、第1押動機構7によりマスクフィルムMを伸長させるときには、はじめにマスクフィルムMを保持している透光板4の真空吸着を解除し、一端側第1スライドレール移動機構7Aと他端側第1スライドレール移動機構7Bの駆動部7a,7aとを同期させて作動することで、直線移動部7e,7eを互いに平行に移動させている。そうすると、直線移動部7e,7eが移動することに伴って、係合部7h、7hを介してレールベース6aが移動し、そのレールベース6aに支持されているクランプ機構5により挟持されているマスクフィルムMの一辺が引っ張られることで、マスクフィルムMが弾性変形の範囲で伸長する(図6(a)参照)。
さらに、マスク保持機構2は、第2押動機構8を作動させるとき、一端側第2スライドレール移動機構8Aと、他端側第2スライドレール移動機構8Bとのどちらか一方を作動する場合、両者の移動量を異ならせる場合、あるいは、同時に作動する場合とがある。
その結果、マスク保持機構2は、第1スライドレール6Aまたは第2スライドレール6Bの少なくとも一方を平行あるいは非平行に移動させることで、クランプ機構5を移動させ、マスクフィルムMを弾性変形の範囲で伸長させていることができ、第1スライドレール6A、あるいは、第2スライドレール6Bを整合移動させるときに、2つの機構を制御すればよく、簡易な構成で正確な調整を行うことができる。
はじめに、マスクフィルムMは、クランプ機構5によりその周縁を挟持された状態で透光板4の吸着溝4a(図3参照)に吸着保持される。
マスクフィルムMが伸長された状態になると、透光板4に真空吸着して保持させ、再度、基板WとマスクフィルムMとを当接した状態で撮像カメラKにより撮像して、基板WとマスクフィルムMの整合マークの位置が許容範囲に整合されていれば、光学系Lを介して所定波長の紫外線を含む光を照射して露光作業を行う(ステップ6)。
さらに、マスクフィルムMの伸長させる動作は、基板Wの一枚ごとに対して行う場合や、あるいは、基板Wのワンロットに対して行う場合であっても構わない。
さらに、この図8におけるマスク保持機構2Aでは、すべてのスライドレール6A〜6Dが、すでに説明したレールベース6aとスライドガイド6bとを備える構成である。
なお、マスクフィルムMの一辺側が伸長すると、他の辺を挟持しているクランプ機構5のスライドレール6上にポジジョンが適宜、その伸長した状態に対応して変化することになる。
2 マスク保持機構
3 枠体
3A 一方面
3B 他方面
3a 開口
3b 貫通穴
4 透光板
4a 吸着溝
5 クランプ機構
5a スライド係合部
5b 支持台
5c クランプベース
5d クランプレバー
5e マスククランプ部
6A 第1スライドレール
6B 第2スライドレール
6C 第3スライドレール
6D 第4スライドレール
6a レールベース
6b スライドガイド
7 第1押動機構
7A 一端側第1スライドレール移動機構
7B 他端側第1スライドレール移動機構
7a 駆動部
7b スライド軸
7c 案内部
7d 接続係合部
7e 直線移動部
7f 案内体
7g 回転体
7h 係合部
8 第2押動機構
8A 一端側第2スライドレール移動機構
8B 他端側第2スライドレール移動機構
8d 接続係合部
8e 直線移動部
9 第3押動機構
9A 一端側第3スライドレール移動機構
9B 他端側第3スライドレール移動機構
10 第4押動機構
10A 一端側第4スライドレール移動機
10B 他端側第4スライドレール移動機構
L 光学系
11 光源ランプ
12 楕円反射鏡
13 フライアイレンズ
14 平面反射鏡
15 コリメーション反射鏡
17h 係合部
17j 軸受部
17k 回動支持部
20 基板保持テーブル
21 保持手段
22 移動手段
23 整合移動手段
K 撮像カメラ
M マスクフィルム
W 基板
Claims (2)
- マスクフィルムの四辺をそれぞれ複数のクランプ機構を介して四角縁形状に形成された枠体に保持するマスク保持機構において、
前記枠体の各縁面に沿ってそれぞれ設けられるとともに、前記クランプ機構をスライド自在に支持する第1ないし第4スライドレールと、
前記枠体に設けられ、直交する位置の一方に配置された前記第1スライドレールを押動する第1押動機構と、
前記枠体に設けられ、直交する位置の他方に配置された前記第2スライドレールを押動する第2押動機構と、を備え、
前記第1押動機構は、前記第1スライドレールの両端側において、当該スライドレールを前記マスクフィルムの弾性変形の範囲で離間させる方向に移動させる一端側第1スライドレール移動機構および他端側第1スライドレール移動機構を有し、
前記第2押動機構は、前記第2スライドレールの両端側において、当該スライドレールを前記マスクフィルムの弾性変形の範囲で離間させる方向に移動させる一端側第2スライドレール移動機構および他端側第2スライドレール移動機構を有することを特徴とするマスク保持機構。 - 前記支持枠に設けられ、直交する位置の一方に配置された前記第3スライドレールを押動する第3押動機構と、
前記支持枠に設けられ、直交する位置の他方に配置された前記第4スライドレールを押動する第4押動機構と、を備え、
前記第3押動機構は、前記第3スライドレールの両端側において、当該スライドレールを前記マスクフィルムの弾性変形の範囲で離間させる方向に移動させる一端側第3スライドレール移動機構および他端側第3スライドレール移動機構を有し、
前記第4押動機構は、前記第4スライドレールの両端側において、当該スライドレールを前記マスクフィルムの弾性変形の範囲で離間させる方向に移動させる一端側第4スライドレール移動機構および他端側第4スライドレール移動機構を有する請求項1に記載のマスク保持機構。
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
KR100922657B1 (ko) * | 2007-11-30 | 2009-10-19 | 주식회사 동부하이텍 | 스캐너 장비의 레티클 슬라이딩 감지 장치 및 방법 |
CN104372289A (zh) * | 2013-08-15 | 2015-02-25 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种用于oled金属掩模板绷网用的位置调整机构 |
CN109143759A (zh) * | 2018-09-06 | 2019-01-04 | 海信集团有限公司 | 一种投影装置的底座与投影设备 |
KR20200107963A (ko) * | 2018-01-25 | 2020-09-16 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 기판 보유 장치 및 기판 검사 장치 |
JP2023515713A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-04-13 | 中国科学院光電技術研究所 | 超解像フォトリソグラフィ精密マスク用のインテリジェント補正装置制御システム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0749575A (ja) * | 1993-06-02 | 1995-02-21 | Sanee Giken Kk | 露光における位置合わせ方法および装置 |
JPH09211872A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-15 | Canon Inc | 原版、原版保持装置およびこれを用いた露光装置ならびにディバイス製造方法 |
JPH10186682A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-14 | Sanee Giken Kk | 露光装置およびその露光装置を用いた露光方法 |
JP2003131403A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Orc Mfg Co Ltd | マスク用透光板固定装置およびその方法 |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0749575A (ja) * | 1993-06-02 | 1995-02-21 | Sanee Giken Kk | 露光における位置合わせ方法および装置 |
JPH09211872A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-15 | Canon Inc | 原版、原版保持装置およびこれを用いた露光装置ならびにディバイス製造方法 |
JPH10186682A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-14 | Sanee Giken Kk | 露光装置およびその露光装置を用いた露光方法 |
JP2003131403A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Orc Mfg Co Ltd | マスク用透光板固定装置およびその方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100922657B1 (ko) * | 2007-11-30 | 2009-10-19 | 주식회사 동부하이텍 | 스캐너 장비의 레티클 슬라이딩 감지 장치 및 방법 |
CN104372289A (zh) * | 2013-08-15 | 2015-02-25 | 昆山思拓机器有限公司 | 一种用于oled金属掩模板绷网用的位置调整机构 |
KR20200107963A (ko) * | 2018-01-25 | 2020-09-16 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 기판 보유 장치 및 기판 검사 장치 |
KR102697578B1 (ko) | 2018-01-25 | 2024-08-21 | 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 | 기판 보유 장치 및 기판 검사 장치 |
CN109143759A (zh) * | 2018-09-06 | 2019-01-04 | 海信集团有限公司 | 一种投影装置的底座与投影设备 |
JP2023515713A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-04-13 | 中国科学院光電技術研究所 | 超解像フォトリソグラフィ精密マスク用のインテリジェント補正装置制御システム |
US11714358B2 (en) | 2020-04-29 | 2023-08-01 | The Institute Of Optics And Electronics, The Chinese Academy Of Sciences | Intelligent correction device control system for super-resolution lithography precision mask |
JP7431475B2 (ja) | 2020-04-29 | 2024-02-15 | 中国科学院光電技術研究所 | 超解像フォトリソグラフィ精密マスク用のインテリジェント補正装置制御システム |
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