JP2007201165A - Wiring board - Google Patents

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JP2007201165A JP2006017820A JP2006017820A JP2007201165A JP 2007201165 A JP2007201165 A JP 2007201165A JP 2006017820 A JP2006017820 A JP 2006017820A JP 2006017820 A JP2006017820 A JP 2006017820A JP 2007201165 A JP2007201165 A JP 2007201165A
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誠 永井
Mitsuo Shiraishi
光雄 白石
Masahito Morita
雅仁 森田
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board including pads on the rear surface of a main body made of ceramic so as to attain sufficient conduction with a printed substrate to be mounted via the pad, even when the temperature of a usage environment is changed. <P>SOLUTION: The wiring board 1 comprises: the main body 2 made of ceramic having a front surface 3 and the rear surface 4; the pair of pads 12 formed on the rear surface 4 of the main body 2; and a plurality of projections 15 which are formed on the rear surface 4, 34 of the main body 2 and have a thickness T larger than the thickness (t) of each horizontal piece 13 of the pads 12. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、セラミックからなる基板本体の裏面にパッドを有し、使用環境の温度変化に遭遇しても、実装すべきプリント基板などとの間で十分な導通が取れる配線基板に関する。   The present invention relates to a wiring board having a pad on the back surface of a substrate body made of ceramic and capable of providing sufficient conduction with a printed circuit board to be mounted even when a temperature change occurs in a use environment.

例えば、発光素子を収容する貫通穴を有するセラミック窓枠と、これを上面に積層した平板状のセラミック基板とからなる発光素子収容用パッケージにおいては、上記セラミック基板の下面にW、Moなどの金属粉末メタライズからなる複数のメタライズ配線導体が形成されている(例えば、特許文献1参照)。
上記発光素子収容用パッケージは、実装すべきプリント基板などの表面に位置する複数の電極(パッド)ごとにハンダを介して接合することで、上記プリント基板などの表面上に実装される。
For example, in a light emitting element accommodation package comprising a ceramic window frame having a through hole for accommodating a light emitting element and a flat ceramic substrate laminated on the upper surface, a metal such as W or Mo is formed on the lower surface of the ceramic substrate. A plurality of metallized wiring conductors made of powder metallization are formed (for example, see Patent Document 1).
The light emitting element housing package is mounted on the surface of the printed circuit board or the like by bonding each of a plurality of electrodes (pads) positioned on the surface of the printed circuit board or the like to be mounted via solder.

特開2002−232017 (第1〜7頁、図1)JP 2002-232017 (pages 1-7, FIG. 1)

ところで、前記発光素子収容用パッケージにおけるセラミック基板の下面から前記各メタライズ配線導体の突起部分の厚みは、その表層に被覆するメッキ層を含めても、約10〜20μmである。このため、セラミックからなる上記パッケージのセラミック基板の下面と前記プリント基板などの表面との間には、殆んどギャップが形成されない。この結果、かかるパッケージをプリント基板などの表面に位置する複数の電極ごとにハンダを介して接合しても、かかるハンダが過度に薄肉となり易いため、上記パッケージとプリント基板との熱膨張差などに起因して、温度サイクル試験を受けた場合に、上記ハンダ部分で破断し、導通が取れなくなる、という問題があった。   By the way, the thickness of the protruding portion of each metallized wiring conductor from the lower surface of the ceramic substrate in the light emitting element accommodation package is about 10 to 20 μm including the plating layer covering the surface layer. For this reason, a gap is hardly formed between the lower surface of the ceramic substrate of the package made of ceramic and the surface of the printed circuit board or the like. As a result, even if such a package is joined to each of a plurality of electrodes located on the surface of a printed circuit board via solder, the solder tends to become excessively thin, so that the difference in thermal expansion between the package and the printed circuit board may occur. As a result, when a temperature cycle test is performed, there is a problem that the solder portion breaks and conduction cannot be obtained.

本発明は、背景技術において説明した問題点を解決し、セラミックからなる基板本体の裏面にパッドを有し、使用環境の温度変化に遭遇しても、前記パッドを介して実装すべきプリント基板などとの間で十分な導通が取れる配線基板を提供する、ことを課題とする。   The present invention solves the problems described in the background art, and has a pad on the back surface of the substrate body made of ceramic, and even if it encounters a temperature change in the use environment, a printed circuit board to be mounted through the pad, etc. It is an object of the present invention to provide a wiring board capable of providing sufficient conduction between the circuit board and the circuit board.

課題を解決するための手段および発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

本発明は、前記課題を解決するため、セラミックからなる基板本体の裏面に形成されたパッドと、実装すべきプリント基板の表面に位置する電極との間に、十分なギャップを形成する、ことに着想して成されたものである。
即ち、本発明の配線基板(請求項1)は、セラミックからなり表面および裏面を有する基板本体と、かかる基板本体の裏面に形成されたパッドと、前記基板本体の裏面に形成され且つ上記パッドの厚みよりも厚い突部と、を含む、ことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention forms a sufficient gap between a pad formed on the back surface of a ceramic substrate body and an electrode located on the surface of the printed circuit board to be mounted. Invented.
That is, a wiring board according to the present invention (Claim 1) includes a substrate body made of ceramic and having a front surface and a back surface, a pad formed on the back surface of the substrate body, a back surface of the substrate body, and And a protrusion that is thicker than the thickness.

これによれば、前記基板本体の裏面に形成されたパッドの厚みよりも厚い突部が実装すべきプリント基板などの表面に接触するため、上記パッドとプリント基板などの表面に形成された電極との間に十分なギャップを形成することができる。このため、かかるギャップに位置するようにハンダを上記パッドと電極との間で溶融・凝固させることで、十分な厚みがあり且つ熱膨張の差に耐えられ得るハンダを介して、配線基板をプリント基板などの表面に強固に実装できる。従って、実装すべきプリント基板などとの間で十分な導通が取れる配線基板となる。
尚、前記セラミックには、アルミナ、ムライト、窒化アルミニウムなどのセラミックのほか、低温焼成セラミックの一種であるガラス−セラミックも含まれる。
また、前記基板本体には、平坦な表面および裏面を有する全体がほぼ直方体を呈する形態のほか、表面に開口し且つ側面および電子部品を搭載する底面からなるキャビティを有する形態も含まれる。
更に、前記突部には、複数個のほぼ円柱形、複数個のほぼ長方形、複数個のほぼ正方形、単数の長方形、単数の正方形などからなる形態など含まれる。
本明細書におけるハンダは、低融点の金属または合金からなり、接合(ハンダ付け)すべき前記パッドおよび電極の各融点よりも低い融点を有するものを指す。
According to this, since the protrusion thicker than the thickness of the pad formed on the back surface of the substrate body comes into contact with the surface of the printed board or the like to be mounted, the pad and the electrode formed on the surface of the printed board or the like A sufficient gap can be formed between the two. For this reason, the wiring board is printed through the solder that has sufficient thickness and can withstand the difference in thermal expansion by melting and solidifying the solder between the pad and the electrode so as to be located in the gap. It can be firmly mounted on the surface of a substrate. Therefore, the wiring board can be sufficiently connected to the printed board to be mounted.
The ceramic includes not only ceramics such as alumina, mullite and aluminum nitride, but also glass-ceramic which is a kind of low-temperature fired ceramic.
Further, the substrate main body includes a form having a flat surface and a back face as a whole and a cavity having an opening on the front face and a bottom face for mounting electronic parts.
Further, the protrusion includes a plurality of substantially cylindrical shapes, a plurality of substantially rectangular shapes, a plurality of substantially square shapes, a single rectangular shape, a single square shape, and the like.
The solder in this specification refers to a solder made of a low melting point metal or alloy and having a melting point lower than the melting points of the pads and electrodes to be joined (soldered).

また、本発明には、前記突部の厚みは、前記パッドの厚みよりも20μm以上厚い、配線基板(請求項2)も含まれる。
これによれば、前記パッドとプリント基板などの表面に形成された電極との間に十分なギャップを確実に形成することができるため、かかるギャップに位置する厚いハンダを介して、配線基板をプリント基板などの表面に強固に実装できる。
更に、本発明には、前記突部は、単数で且つ前記基板本体の裏面における中心を含むか、あるいは、複数個で且つ上記基板本体の裏面において互いに離間している、配線基板(請求項3)も含まれる。
これによれば、前記パッドとプリント基板などの表面に形成された電極との間に十分なギャップを、配線基板の裏面とプリント基板などの表面との間で均一にして形成することができる。このため、配線基板を所定の姿勢にして、プリント基板などの表面に強固に実装することが可能となる。
Further, the present invention includes a wiring board (Claim 2) in which the thickness of the protrusion is 20 μm or more larger than the thickness of the pad.
According to this, since a sufficient gap can be surely formed between the pad and the electrode formed on the surface of the printed board or the like, the wiring board is printed via the thick solder located in the gap. It can be firmly mounted on the surface of a substrate.
Further, according to the present invention, there is provided a wiring board having a single protrusion and a center on the back surface of the substrate body, or a plurality of protrusions spaced apart from each other on the back surface of the substrate body. ) Is also included.
According to this, it is possible to form a sufficient gap between the pad and the electrode formed on the surface of the printed board or the like uniformly between the back surface of the wiring board and the surface of the printed board or the like. Therefore, the wiring board can be firmly mounted on the surface of a printed board or the like with a predetermined posture.

付言すれば、本発明は、前記突部は、絶縁体または導電体で構成されている、配線基板も含み得る。上記絶縁材がセラミックである場合には、基板本体の裏面を形成するグリーンシートに同じか同種のセラミックからなるペーストを印刷することで、基板本体と突部とを同時に焼成することが可能となる。一方、上記導電体の場合には、基板本体の裏面を形成するグリーンシートに前記パッドと同様に導電性ペーストを印刷することで、上記焼成工程でパッドと同時に焼成可能となる。   In other words, the present invention may include a wiring board in which the protrusion is made of an insulator or a conductor. When the insulating material is ceramic, it is possible to simultaneously fire the substrate body and the protrusions by printing a paste made of the same or the same kind of ceramic on the green sheet forming the back surface of the substrate body. . On the other hand, in the case of the conductor, by printing a conductive paste on the green sheet forming the back surface of the substrate body in the same manner as the pad, it can be fired simultaneously with the pad in the firing step.

また、本発明は、前記導電体からなる突部は、前記基板本体の裏面に形成したメタライズ層、あるいは、上記基板本体の裏面に下端部が突出するヒートシンクである、配線基板も含み得る。
突部が上記メタライズ層の場合には、基板本体の裏面を形成するグリーンシートに前記パッドと同様に導電性ペーストを印刷することで、上記焼成工程でパッドと同時に焼成できる。しかも、かかるメタライズ層からなる突部を更にパッドとして活用することも可能である。一方、突部が上記ヒートシンクの場合には、かかるヒートシンクを前記基板本体の表面またはキャビティの底面と裏面との間を貫通させ、当該ヒートシンクの上に発光素子やICチップなどの電子部品を搭載した際に、かかる電子部品からの放熱性を向上させることも可能となる。
In addition, the present invention may include a wiring board in which the protrusion made of the conductor is a metallized layer formed on the back surface of the substrate body or a heat sink whose lower end protrudes from the back surface of the substrate body.
When the protrusion is the metallized layer, the conductive paste can be printed on the green sheet forming the back surface of the substrate body in the same manner as the pad, and can be fired simultaneously with the pad in the firing step. Moreover, it is possible to further utilize the protrusions made of the metallized layer as pads. On the other hand, when the protrusion is the heat sink, the heat sink is inserted between the front surface of the substrate body or the bottom surface and the back surface of the cavity, and an electronic component such as a light emitting element or an IC chip is mounted on the heat sink. In this case, it is possible to improve the heat dissipation from such electronic components.

更に、本発明は、前記単数の突部は、前記基板本体を形成するセラミックと同種のセラミック層である、配線基板も含み得る。
これによる場合、前記基板本体の裏面を形成するグリーンシートに同じか同種のセラミックからなるやや小さいグリーンシートを積層することで、前記ギャップを確実且つ容易に形成することが可能となる。
加えて、本発明は、前記複数個の突部は、前記基板本体の裏面において、かかる裏面の中心に対して点対称の位置に形成されている、配線基板も含み得る。
これによる場合、配線基板全体を、その裏面と実装すべきプリント基板などの表面との間で均一なギャップを確実に形成することが可能となる。
Furthermore, the present invention can also include a wiring board in which the single protrusion is a ceramic layer of the same type as the ceramic forming the substrate body.
In this case, the gap can be reliably and easily formed by laminating a slightly small green sheet made of the same or the same kind of ceramic on the green sheet forming the back surface of the substrate body.
In addition, the present invention may also include a wiring board in which the plurality of protrusions are formed at point-symmetrical positions with respect to the center of the back surface on the back surface of the substrate body.
In this case, the entire wiring board can be surely formed with a uniform gap between the back surface thereof and the front surface of the printed board or the like to be mounted.

以下において、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図1は、本発明による一形態の配線基板1を示す平面図、図2は、図1中のX−X線の矢視に沿った垂直断面図、図3は、かかる配線基板1の底面図である。
配線基板1は、図1〜図3に示すように、表面3および裏面4を有する基板本体2と、かかる基板本体2の表面3に開口し且つ底面6および側面7を有するキャビティ5と、上記基板本体2の裏面4および側面に形成された一対のパッド12と、かかる裏面4に形成され且つパッド12の水平片13の厚みtよりも厚い複数の突部15と、を備えている。尚、パッド12の水平片13は、狭義のパッドであり且つ本発明のパッドでもある。
In the following, the best mode for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 is a plan view showing a wiring board 1 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a vertical sectional view taken along the line XX in FIG. 1, and FIG. FIG.
As shown in FIGS. 1 to 3, the wiring substrate 1 includes a substrate body 2 having a front surface 3 and a back surface 4, a cavity 5 having an opening on the front surface 3 of the substrate body 2 and having a bottom surface 6 and side surfaces 7, A pair of pads 12 formed on the back surface 4 and the side surface of the substrate body 2 and a plurality of protrusions 15 formed on the back surface 4 and thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of the pad 12 are provided. The horizontal piece 13 of the pad 12 is a narrowly defined pad and also a pad of the present invention.

前記基板本体2は、図2に示すように、アルミナを主成分とする複数のグリーンシートを積層して焼成したセラミック層c1〜c6からなる。かかるセラミック層c1〜c6間には、WまたはMoからなる所定パターンの配線層が位置し、これらの間を接続するビア導体(何れも図示せず)が貫通して形成されている。
また、図1,図2に示すように、キャビティ5は、平面視が円形の底面6と、かかる底面6の周辺から基板本体2の表面3に向かって斜めに立ち上がる全体がほぼ円錐形の側面7と、からなる。かかる側面7の上には、WまたはMoからなるメタライズ層、Niメッキ層、およびAgメッキ層からなる光反射層11が全面に形成されている。キャビティ5の底面6における中央部には、例えば導電性樹脂8を介して、LEDなどの発光素子10が搭載される。かかる発光素子10は、キャビティ5の底面6に形成された電極9と、図示しないボンデイングワイヤを介して導通される。
As shown in FIG. 2, the substrate body 2 is composed of ceramic layers c1 to c6 obtained by laminating and firing a plurality of green sheets mainly composed of alumina. Between the ceramic layers c1 to c6, a wiring layer of a predetermined pattern made of W or Mo is located, and a via conductor (none of which is shown) connecting between these is formed.
As shown in FIGS. 1 and 2, the cavity 5 has a bottom surface 6 that is circular in plan view, and a generally conical side surface that rises obliquely from the periphery of the bottom surface 6 toward the surface 3 of the substrate body 2. 7 and. On the side surface 7, a light reflecting layer 11 made of a metallized layer made of W or Mo, a Ni plated layer, and an Ag plated layer is formed on the entire surface. A light emitting element 10 such as an LED is mounted on the central portion of the bottom surface 6 of the cavity 5 via, for example, a conductive resin 8. The light emitting element 10 is electrically connected to the electrode 9 formed on the bottom surface 6 of the cavity 5 through a bonding wire (not shown).

更に、基板本体2の裏面4には、図2,図3に示すように、底面視が長方形を呈する左右一対のパッド12の水平片(パッド)13が形成されている。かかるパッド12は、基板本体2の側面に形成した垂直片14と、上記水平片13とを一体に有すると共に、基板本体2中の前記配線層やビア導体を介して、キャビティ5の底面6に搭載する前記発光素子10や前記電極9と導通可能とされている。
図2,図3に示すように、基板本体2におけるパッド各12の水平片13,13間の裏面4には、前記セラミック層c1〜c6と同じか同種のセラミックからなる複数(6個)の突部15が格子状に突設されている。かかる突部15は、ほぼ円柱形を呈すると共に、その厚みTは、上記パッド12の水平片13の厚みtよりも20μm厚い。
Further, as shown in FIGS. 2 and 3, a horizontal piece (pad) 13 of a pair of left and right pads 12 having a rectangular bottom view is formed on the back surface 4 of the substrate body 2. The pad 12 integrally has a vertical piece 14 formed on the side surface of the substrate body 2 and the horizontal piece 13, and is formed on the bottom surface 6 of the cavity 5 via the wiring layer and via conductor in the substrate body 2. The light-emitting element 10 and the electrode 9 to be mounted can be electrically connected.
As shown in FIGS. 2 and 3, the back surface 4 between the horizontal pieces 13 and 13 of each pad 12 in the substrate body 2 has a plurality (six) of the same or the same kind of ceramics as the ceramic layers c1 to c6. The protrusions 15 are provided in a grid pattern. The protrusion 15 has a substantially cylindrical shape, and its thickness T is 20 μm thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of the pad 12.

前記のような配線基板1は、以下のようにして製造した。
予め、アルミナ粉末粒子、樹脂バインダ、可塑剤、および溶剤などからなる原料を所要量ずつ混合して、セラミックスラリを製作した。かかるセラミックスラリに対しドクターブレード法を施して、厚みが約50〜750μmのグリーンシートを複数枚形成した。尚、かかるグリーンシートは、多数個取り用である大版タイプのものとしても良い。
3枚のグリーンシートに対し、断面が円形のパンチと、かかるパンチの断面よりも大径の受入孔を有するダイとを用いる打ち抜き加工を施すことにより、上記パンチと受入孔との剪断作用によって、ほぼ円錐形で且つ互いに連通可能な貫通孔を個別に形成した。これらの貫通孔が連通するように、上記3枚のグリーンシートを積層し、得られたほぼ円錐形の貫通孔の内面に、WまたはMo粉末を含む導電性ペーストを印刷した。
The wiring board 1 as described above was manufactured as follows.
A ceramic slurry was produced by mixing raw materials composed of alumina powder particles, a resin binder, a plasticizer, a solvent, and the like in advance. The ceramic blade was subjected to a doctor blade method to form a plurality of green sheets having a thickness of about 50 to 750 μm. The green sheet may be of a large plate type for taking a large number.
By punching the three green sheets with a punch having a circular cross section and a die having a receiving hole larger in diameter than the cross section of the punch, the shearing action between the punch and the receiving hole allows The through holes that are substantially conical and can communicate with each other are individually formed. The three green sheets were laminated so that these through holes communicated, and a conductive paste containing W or Mo powder was printed on the inner surface of the obtained substantially conical through holes.

残り3枚の平坦なグリーンシートにおける表面および裏面の少なくとも一方に、スクリーン印刷により、WまたはMo粉末を含む導電性ペーストを所定パターンで印刷して配線層を形成する共に、上記各グリーンシートにおける表面と裏面との間を貫通するビアホールに上記導電性ペーストを充填してビア導体を形成した。更に、最下層のグリーンシートの裏面に対し、かかるグリーンシートと同じか同種のセラミックからなる複数の突部15を、その焼成後における厚みTが40μmとなるように、セラミックペーストのスクリーン印刷を2回行うことによって形成した。尚、突部15の焼成後における厚みTは、焼成後のパッド12の水平片13の厚みt(焼成後は20μm)よりも20μm厚くなる。
次いで、上記3枚の平坦なグリーンシートを積層し、更にその上に前記ほぼ円錐形を呈する貫通孔の内面に導電性ペーストを印刷した前記3枚のグリーンシートを積層した。この結果、表面2、裏面3、および表面3に開口する底面6および側面7からなるキャビティ5を有するグリーンシート積層体が得られた。
A conductive paste containing W or Mo powder is printed in a predetermined pattern on at least one of the front and back surfaces of the remaining three flat green sheets by screen printing to form a wiring layer. A via conductor was formed by filling the via hole penetrating between the first and second surfaces with the conductive paste. Furthermore, screen printing of the ceramic paste 2 is performed on the back surface of the lowermost green sheet so that a plurality of protrusions 15 made of the same or the same kind of ceramic as the green sheet have a thickness T after firing of 40 μm. Formed by performing once. The thickness T of the protrusion 15 after firing is 20 μm thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of the pad 12 after firing (20 μm after firing).
Next, the three flat green sheets were laminated, and the three green sheets printed with conductive paste were laminated on the inner surface of the substantially conical through hole. As a result, a green sheet laminate having a front surface 2, a back surface 3, and a cavity 5 including a bottom surface 6 and a side surface 7 opening on the front surface 3 was obtained.

次に、かかるグリーンシート積層体を図示しない焼成炉に挿入し、所定の温度帯に加熱して焼成した。この結果、前記6枚のグリーンシートは、前記セラミック層c1〜c6になって基板本体2が得られると共に、かかる基板本体2の側面と裏面4とにまたがる断面ほぼL字形のメタライズ層、キャビティ5の側面7を覆うほぼ円錐形のメタライズ層、およびキャビティ5の底面6に位置する平面視がほぼ正方形のメタライズ層が形成された。
そして、焼成された基板本体2における上記断面ほぼL字形とほぼ正方形との各メタライズ層に対し、NiメッキおよびAuメッキを施してメッキ層を被覆して、前記パッド12および電極9を形成した。更に、上記ほぼ円錐形のメタライズ層に対し、NiメッキおよびAgメッキを施して、光反射層11を形成した。
その結果、図1〜図3に示した配線基板1が得られた。かかる配線基板1におけるキャビティ5の底面6中央部に、導電性樹脂8またはエポキシ樹脂を介して前記発光素子10を搭載した。
Next, the green sheet laminate was inserted into a firing furnace (not shown), heated to a predetermined temperature zone, and fired. As a result, the six green sheets become the ceramic layers c1 to c6 to obtain the substrate body 2, and the metallized layer having the substantially L-shaped cross section extending between the side surface and the back surface 4 of the substrate body 2 and the cavity 5 A substantially conical metallization layer covering the side surface 7 and a metallization layer having a substantially square shape in plan view located on the bottom surface 6 of the cavity 5 were formed.
Then, the pad 12 and the electrode 9 were formed by applying Ni plating and Au plating to each of the metallized layers having a substantially L-shaped cross section and a substantially square cross section in the fired substrate body 2 to coat the plated layers. Further, the light reflecting layer 11 was formed by applying Ni plating and Ag plating to the substantially conical metallized layer.
As a result, the wiring board 1 shown in FIGS. 1 to 3 was obtained. The light emitting element 10 is mounted on the central portion of the bottom surface 6 of the cavity 5 in the wiring substrate 1 via a conductive resin 8 or an epoxy resin.

図4は、前記配線基板1をプリント基板20の表面21に実装した状態を示す。
プリント基板20は、エポキシ系などの樹脂を主な絶縁材とし、その表面21には、Cuメッキ層からなる厚みが20μmである複数の電極22、およびこれと同じ厚みのソルダーレジスト層23が形成されていた。
先ず、上記電極22ごとの表面上に、予め所定断面にプリフォームされたハンダ24を載置した。尚、かかるハンダ24は、Sn−Au合金からなる。
次に、図4に示すように、プリント基板20の表面21に、配線基板1の基板本体2の裏面4側を接近させると、セラミックからなる複数の突部15がソルダーレジスト層23の表面に当接した。
FIG. 4 shows a state in which the wiring board 1 is mounted on the surface 21 of the printed board 20.
The printed circuit board 20 uses an epoxy resin or the like as a main insulating material, and a plurality of electrodes 22 each having a thickness of 20 μm made of a Cu plating layer and a solder resist layer 23 having the same thickness are formed on the surface 21 thereof. It had been.
First, the solder 24 preformed in a predetermined cross section was placed on the surface of each electrode 22. The solder 24 is made of an Sn—Au alloy.
Next, as shown in FIG. 4, when the back surface 4 side of the board body 2 of the wiring board 1 is brought close to the front surface 21 of the printed circuit board 20, a plurality of ceramic protrusions 15 are formed on the surface of the solder resist layer 23. Abutted.

この際、複数の電極22の表面と、配線基板1の各パッド12における水平片13との間には、20μm以上のギャップが位置し、かかるギャップを上記ハンダ24が占めている。即ち、各電極22の上に、ハンダ24を介して、配線基板1における各パッド12の水平片13が載置された状態となった。
かかる状態で、プリント基板20および配線基板1を、図示しない加熱炉に挿入し、ハンダ24の融点の直上の温度まで加熱(リフロー)した。その結果、図4に示すように、ハンダ24は、一端溶けた後に再凝固して、各パッド12の水平片13と電極22との間を約20μmの厚みをもってハンダ付けすることができた。尚、ハンダ24の一部は、垂直片14の表面に沿って凝固した。
At this time, a gap of 20 μm or more is located between the surface of the plurality of electrodes 22 and the horizontal piece 13 in each pad 12 of the wiring board 1, and the solder 24 occupies such a gap. That is, the horizontal piece 13 of each pad 12 in the wiring board 1 was placed on each electrode 22 via the solder 24.
In this state, the printed circuit board 20 and the wiring board 1 were inserted into a heating furnace (not shown) and heated (reflowed) to a temperature just above the melting point of the solder 24. As a result, as shown in FIG. 4, the solder 24 melted at one end and then re-solidified, and the solder between the horizontal piece 13 of each pad 12 and the electrode 22 could be soldered with a thickness of about 20 μm. A part of the solder 24 was solidified along the surface of the vertical piece 14.

以上のように、配線基板1によれば、前記基板本体2の裏面4に形成したパッド12の水平片13の厚みtよりも厚い厚みTの突部15が実装すべきプリント基板20の表面21に接触するため、上記パッド12の水平片13とプリント基板20の表面21に形成された電極22との間に十分なギャップを形成することができた。このため、かかるギャップに位置するようにハンダ24を上記パッド12と電極22との間で溶融・凝固させることで、約20μm程度の十分な厚みがあり且つ熱膨張の差に耐えられ得るハンダ24を介して、配線基板1をプリント基板20の表面21に強固に実装できた。従って、配線基板1は、複数の突部15を有することで、プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。   As described above, according to the wiring board 1, the surface 21 of the printed board 20 to be mounted with the protrusion 15 having a thickness T larger than the thickness t of the horizontal piece 13 of the pad 12 formed on the back surface 4 of the board body 2. Therefore, a sufficient gap could be formed between the horizontal piece 13 of the pad 12 and the electrode 22 formed on the surface 21 of the printed board 20. Therefore, by melting and solidifying the solder 24 between the pad 12 and the electrode 22 so as to be positioned in the gap, the solder 24 has a sufficient thickness of about 20 μm and can withstand the difference in thermal expansion. Thus, the wiring board 1 can be firmly mounted on the surface 21 of the printed board 20. Therefore, the wiring board 1 has a plurality of protrusions 15, so that sufficient conduction with the printed circuit board 20 can be obtained.

図5は、前記配線基板1の変形形態である配線基板1aを示す底面図であり、かかる配線基板1aは、基板本体2の裏面4に、前記一対のパッド12の水平片13と、これらに挟まれた裏面4において、当該裏面4の中心を含む位置と、その周囲の互いに離間した位置とに合計5個の突部15を突設している。
また、図6は、前記配線基板1の異なる変形形態である配線基板1bを示す底面図で、かかる配線基板1bは、基板本体2の裏面4の四隅に底面視がほぼ正方形のパッド19を有し、これらに挟まれた裏面4に当該裏面4の中心を含む位置と、当該中心に対し点対称となる位置と、に合計5個の突部15を突設している。
更に、図7は、前記配線基板1の変形形態である配線基板1cを示す底面図で、かかる配線基板1cは、基板本体2の裏面4に、前記一対のパッド12の水平片13と、これらに挟まれた裏面4の中心に対して点対称となる位置に合計4個の突部15を突設している。
以上のような配線基板1a〜1cによっても、前記配線基板1と同様に、複数の突部15を基板本体2の裏面4に突設していたため、ハンダ24を介してプリント基板20の表面21に強固にハンダ付けでき、且つ当該プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。
FIG. 5 is a bottom view showing a wiring board 1a which is a modified form of the wiring board 1. The wiring board 1a is provided on the back surface 4 of the board body 2, on the horizontal piece 13 of the pair of pads 12, and on these. In the sandwiched back surface 4, a total of five projecting portions 15 project from a position including the center of the back surface 4 and positions around the back surface 4.
FIG. 6 is a bottom view showing a wiring board 1b which is a different modification of the wiring board 1. The wiring board 1b has pads 19 that are substantially square in bottom view at the four corners of the back surface 4 of the board body 2. FIG. In addition, a total of five protrusions 15 project from the back surface 4 sandwiched between them at a position including the center of the back surface 4 and a position that is point-symmetric with respect to the center.
Further, FIG. 7 is a bottom view showing a wiring board 1c which is a modified form of the wiring board 1. The wiring board 1c is formed on the back surface 4 of the board body 2 on the horizontal pieces 13 of the pair of pads 12. A total of four protrusions 15 are provided at positions that are point-symmetric with respect to the center of the back surface 4 sandwiched between the protrusions 15.
Also with the wiring boards 1 a to 1 c as described above, since the plurality of protrusions 15 protrude from the back surface 4 of the board body 2 in the same manner as the wiring board 1, the surface 21 of the printed circuit board 20 through the solder 24. The printed circuit board 20 can be sufficiently connected to the printed circuit board 20.

図8は、異なる形態の配線基板1dの部分断面とこれをプリント基板20の表面21に実装した状態を示し、図9は、かかる配線基板1dの底面図を示す。
配線基板1dは、図8,図9に示すように、前記同様のセラミックからなる基板本体2と、その裏面4に形成した一対のパッド12の水平片13と、かかる水平片13の厚みtよりも少なくとも20μm以上厚み(T)が厚い一対のメタライズ層(突部)16と、を備えている。かかる突部である一対のメタライズ層16は、底面視でほぼ長方形を呈し、パッド12と同様のWまたはMo粉末を含む導電性ペーストを、セラミック層c1となる前記グリーンシートの裏面にパッド12の水平片13と同様に印刷形成し、焼成した後、その表面にNiメッキおよびAuメッキを施してメッキ層を被覆したものである。
FIG. 8 shows a partial cross section of a wiring board 1d of a different form and a state where it is mounted on the surface 21 of the printed board 20, and FIG. 9 shows a bottom view of the wiring board 1d.
As shown in FIGS. 8 and 9, the wiring board 1 d includes a substrate body 2 made of the same ceramic as described above, a horizontal piece 13 of a pair of pads 12 formed on the back surface 4, and a thickness t of the horizontal piece 13. And a pair of metallized layers (protrusions) 16 having a thickness (T) of at least 20 μm or more. The pair of metallized layers 16 that are such protrusions are substantially rectangular in bottom view, and the same conductive paste containing W or Mo powder as the pad 12 is applied to the back surface of the green sheet that becomes the ceramic layer c1. In the same manner as the horizontal piece 13, it is printed and fired, and then the surface thereof is plated with Ni and Au to coat the plating layer.

図8に示すように、プリント基板20の表面21に、配線基板1dの基板本体2の裏面4側を接近させると、導電材からなる一対のメタライズ層16がソルダーレジスト層23の表面に当接した。この際、複数の電極22の各表面と、配線基板1dの各パッド12における水平片13との間には、20μm以上のギャップが形成され、かかるギャップを上記ハンダ24が占め、各電極22の上に、かかるハンダ24を介して、配線基板1dの各パッド12の水平片13が載置された状態となった。
かかる状態で、プリント基板20と配線基板1dとを前記同様に、ハンダ24の融点の直上の温度まで加熱(リフロー)した。その結果、図8に示すように、ハンダ24は、一端溶けた後に再凝固して、各パッド12の水平片13および垂直片14と電極22とを約20μmの厚みでハンダ付けすることができた。
As shown in FIG. 8, when the back surface 4 side of the substrate body 2 of the wiring substrate 1 d is brought close to the front surface 21 of the printed circuit board 20, the pair of metallized layers 16 made of a conductive material come into contact with the surface of the solder resist layer 23. did. At this time, a gap of 20 μm or more is formed between each surface of the plurality of electrodes 22 and the horizontal piece 13 in each pad 12 of the wiring board 1 d, and the solder 24 occupies such a gap. On top, the horizontal piece 13 of each pad 12 of the wiring board 1d is placed via the solder 24.
In this state, the printed circuit board 20 and the wiring board 1d were heated (reflowed) to a temperature just above the melting point of the solder 24 in the same manner as described above. As a result, as shown in FIG. 8, the solder 24 is melted at one end and then re-solidified, so that the horizontal piece 13 and the vertical piece 14 of each pad 12 and the electrode 22 can be soldered to a thickness of about 20 μm. It was.

図10は、前記配線基板1dの変形形態である配線基板1eの底面図であり、かかる配線基板1eは、基板本体2の裏面4の四隅に、底面視がほぼ正方形のパッド19と、これらに挟まれた裏面4に当該裏面4の中心と、かかる中心に対して点対称となる位置とに合計5個のメタライズ層(突部)17を突設している。当該メタライズ層17は、底面視でほぼ正方形を呈し、前記同様の導電材からなる。
以上のような配線基板1d,1eによっても、前記配線基板1と同様に、突部である複数のメタライズ層16,17を基板本体2の裏面4に突設していたため、ハンダ24を介してプリント基板20の表面21に強固にハンダ付けでき、且つ当該前記プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。
FIG. 10 is a bottom view of a wiring board 1e which is a modification of the wiring board 1d. The wiring board 1e has pads 19 which are substantially square in a bottom view at four corners of the back surface 4 of the board body 2. A total of five metallized layers (protrusions) 17 project from the center of the back surface 4 on the sandwiched back surface 4 and at positions that are point-symmetric with respect to the center. The metallized layer 17 is substantially square when viewed from the bottom, and is made of the same conductive material as described above.
Also with the wiring boards 1d and 1e as described above, the plurality of metallized layers 16 and 17 that are protrusions are provided on the back surface 4 of the board body 2 in the same manner as the wiring board 1, and therefore, via the solder 24. It was possible to firmly solder the surface 21 of the printed circuit board 20 and to obtain sufficient conduction with the printed circuit board 20.

図11は、更に異なる形態の配線基板30の断面とこれをプリント基板20の表面21に実装した状態を示し、図12は、かかる配線基板30の底面図を示す。
配線基板30は、図11,図12に示すように、表面33および裏面34を有する基板本体32と、かかる基板本体32の表面33に開口し且つ底面36および側面37を有するキャビティ35と、上記基板本体32の裏面34に形成された一対のパッド12と、かかる裏面34の中央部に突出し且つパッド12の水平片13の厚みtよりも厚く裏面34に突き出たヒートシンク38の下端部(突部)38aと、を備えている。
FIG. 11 shows a cross section of a wiring board 30 of a different form and a state in which the wiring board 30 is mounted on the surface 21 of the printed circuit board 20, and FIG. 12 shows a bottom view of the wiring board 30.
As shown in FIGS. 11 and 12, the wiring substrate 30 includes a substrate body 32 having a front surface 33 and a back surface 34, a cavity 35 having an opening on the surface 33 of the substrate body 32 and having a bottom surface 36 and side surfaces 37, and A pair of pads 12 formed on the back surface 34 of the substrate body 32 and a lower end portion (projection portion) of the heat sink 38 that protrudes from the center portion of the back surface 34 and protrudes to the back surface 34 thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of the pad 12. 38a.

基板本体32は、図11に示すように、アルミナを主成分とする複数のグリーンシートを積層して焼成したセラミック層c1〜c3,c7,c8からなる。かかるセラミック層c1〜c3,c7,c8間には、前記同様の所定パターンの配線層が形成され、これらの間を接続するビア導体(何れも図示せず)がセラミック層c1〜c3,c7,c8を貫通して形成されている。
また、図11に示すように、キャビティ35は、平面視が矩形(正方形)の底面36と、かかる底面36の周辺から基板本体32の表面33に向かって垂直に立ち上がる全体が四角柱形である側面37と、からなる。尚、側面37は、セラミック層c7,c8となる各グリーンシートを断面正方形に打ち抜いて形成した。
As shown in FIG. 11, the substrate body 32 includes ceramic layers c1 to c3, c7, and c8 obtained by laminating and firing a plurality of green sheets mainly composed of alumina. Between the ceramic layers c1 to c3, c7, and c8, a wiring layer having a predetermined pattern similar to that described above is formed, and via conductors (none of which are shown) are connected to the ceramic layers c1 to c3, c7, It is formed through c8.
Further, as shown in FIG. 11, the cavity 35 has a rectangular (square) bottom surface 36 in a plan view, and the whole rising vertically from the periphery of the bottom surface 36 toward the surface 33 of the substrate body 32 has a quadrangular prism shape. Side surface 37. The side surface 37 was formed by punching each green sheet to be the ceramic layers c7 and c8 into a square cross section.

図11,図12に示すように、キャビティ35の底面36の中央部と基板本体32の裏面34との間には、断面がほぼ正方形の貫通孔31が形成され、かかる貫通孔31には、Cu(導電材)製のヒートシンク38が挿入されている。当該ヒートシンク38は、全体がほぼ四角柱を呈し、その上端にはキャビティ35の底面36に接する板状のフランジ39を一体に有し、当該フランジ39の上にICチップなどの電子部品40が図示しない樹脂またはハンダを介して搭載される。
図11,図12に示すように、ヒートシンク38の下端部38aは、基板本体32の裏面34よりも下方に、各パッド12の水平片13の厚みtよりも厚い厚み(T:80μm)で突出している。かかる下端部38aは、本発明の導電材からなる突部でもあり、その底面の広さは、基板本体32を単独で支持可能な面積とした。
As shown in FIGS. 11 and 12, a through hole 31 having a substantially square cross section is formed between the center of the bottom surface 36 of the cavity 35 and the back surface 34 of the substrate body 32. A heat sink 38 made of Cu (conductive material) is inserted. The heat sink 38 has a substantially quadrangular prism shape as a whole, and has a plate-like flange 39 in contact with the bottom surface 36 of the cavity 35 at its upper end, and an electronic component 40 such as an IC chip is shown on the flange 39. Not mounted via resin or solder.
As shown in FIGS. 11 and 12, the lower end portion 38 a of the heat sink 38 protrudes below the back surface 34 of the substrate body 32 with a thickness (T: 80 μm) thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of each pad 12. ing. The lower end 38a is also a protrusion made of the conductive material of the present invention, and the width of the bottom surface is an area that can support the substrate body 32 independently.

図11に示すように、プリント基板20の表面21に、配線基板30の基板本体32の裏面34側を接近させると、ヒートシンク38の下端部38aがソルダーレジスト層23の表面に当接した。この際、複数の電極22の各表面とヒートシンク38の下端部38aとの間には、60μm以上のギャップが形成され、当該ギャップを上記ハンダ24が占めように、各電極22の上にハンダ24を介して、配線基板30における各パッド12の水平片13を載置した状態となった。
かかる状態で、プリント基板20と配線基板30とを前記同様に、ハンダ24の融点の直上の温度まで加熱(リフロー)した。その結果、図11に示すように、ハンダ24は、一端溶けた後に再凝固して、各パッド12の水平片13および垂直片14と電極22とを約60μmの厚みでハンダ付けすることができた。
As shown in FIG. 11, when the back surface 34 side of the board body 32 of the wiring board 30 was brought close to the front surface 21 of the printed circuit board 20, the lower end portion 38 a of the heat sink 38 contacted the surface of the solder resist layer 23. At this time, a gap of 60 μm or more is formed between each surface of the plurality of electrodes 22 and the lower end portion 38 a of the heat sink 38, and the solder 24 is placed on each electrode 22 so that the solder 24 occupies the gap. Thus, the horizontal piece 13 of each pad 12 on the wiring board 30 is placed.
In this state, the printed circuit board 20 and the wiring board 30 were heated (reflowed) to a temperature just above the melting point of the solder 24 in the same manner as described above. As a result, as shown in FIG. 11, the solder 24 is melted at one end and then re-solidified, so that the horizontal piece 13 and the vertical piece 14 of each pad 12 and the electrode 22 can be soldered to a thickness of about 60 μm. It was.

以上のような配線基板30によっても、前記配線基板1と同様に、単数の突部であるヒートシンク38の下端部38aを基板本体32の裏面34に突設していたため、ハンダ24を介してプリント基板20の表面21に強固にハンダ付けできると共に、当該プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。しかも、ヒートシンク38の下端部38aがプリント基板20のソルダーレジスト層23の表面に接触したため、前記ICチップ40からの熱を効率良く放熱することもできた。   Also with the wiring board 30 as described above, since the lower end portion 38a of the heat sink 38, which is a single protrusion, protrudes from the back surface 34 of the board body 32, as with the wiring board 1, printing is performed via the solder 24. While being able to be firmly soldered to the surface 21 of the substrate 20, sufficient conduction could be established with the printed circuit board 20. In addition, since the lower end portion 38a of the heat sink 38 is in contact with the surface of the solder resist layer 23 of the printed circuit board 20, the heat from the IC chip 40 can be efficiently radiated.

図13は、前記配線基板1の別なる形態の配線基板1fを示す断面図である。
配線基板1fは、前記同様の基板本体2、キャビティ5、光反射層11、水平片13を含む一対のパッド12、および基板本体2の裏面4において各パッド12の水平片13,13間の裏面4のほぼ全面に形成した突部であるセラミック層c9を備えている。かかるセラミック層c9は、基板本体2を形成するセラミック層c1〜c6と同じか同種のグリーンシートを前記同様に積層し、同時に焼成したもので、底面視で長方形を呈する。絶縁体の突部であるセラミック層c9の厚み(T:50μm)は、各パッド12の水平片13の厚みtよりも30μm厚い。尚、一対の上記パッド12に替えて、前記4個のパッド19としても良い。
以上のような配線基板1fによっても、前記配線基板1と同様に、単数の突部であるセラミック層c9を基板本体2の裏面4に突設していたため、ハンダ24を介してプリント基板20の表面21に強固にハンダ付けでき且つ当該プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。尚、突部のセラミック層c9は、底面視で正方形、菱形、平行四辺形、円形、または楕円形などにしても良い。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a wiring board 1 f in another form of the wiring board 1.
The wiring board 1 f includes a substrate body 2, a cavity 5, a light reflecting layer 11, a pair of pads 12 including a horizontal piece 13, and a back surface between the horizontal pieces 13 and 13 of each pad 12 on the back surface 4 of the substrate body 2. 4 is provided with a ceramic layer c9 which is a protrusion formed on almost the entire surface. The ceramic layer c9 is obtained by laminating the same or the same type of green sheets as the ceramic layers c1 to c6 forming the substrate body 2 in the same manner as described above and firing them at the same time, and has a rectangular shape in a bottom view. The thickness (T: 50 μm) of the ceramic layer c9 that is the protrusion of the insulator is 30 μm thicker than the thickness t of the horizontal piece 13 of each pad 12. The four pads 19 may be used instead of the pair of pads 12.
Also with the wiring board 1f as described above, since the ceramic layer c9, which is a single protrusion, protrudes from the back surface 4 of the board body 2 in the same manner as the wiring board 1, the printed circuit board 20 is connected via the solder 24. The surface 21 could be firmly soldered and sufficient conduction could be obtained with the printed circuit board 20. Note that the projecting ceramic layer c9 may have a square shape, a rhombus shape, a parallelogram shape, a circular shape, an oval shape, or the like in a bottom view.

図14は、前記配線基板30の異なる形態の配線基板30aを示す断面図である。かかる配線基板30aは、前記同様の基板本体32、キャビティ35、水平片13を含む一対のパッド12、および基板本体32の裏面34において各パッド12の水平片13,13間の裏面34のほぼ全面に形成した突部であるセラミック層c9を備えている。尚、配線基板30aは、前記貫通孔31およびヒートシンク38を備えていない。また、一対の上記パッド12に替えて、前記4個のパッド19としても良い。
図15は、前記配線基板30の更に異なる形態の配線基板30bを示す断面図である。かかる配線基板30bは、前記同様の基板本体32、キャビティ35、水平片13を含む一対のパッド12、ヒートシンク38、および基板本体32の裏面34において各パッド12の水平片13,13間の裏面34のほぼ全面に形成した突部であるセラミック層c9を備えている。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a wiring board 30a of a different form of the wiring board 30. As shown in FIG. The wiring board 30a includes a substrate body 32, a cavity 35, a pair of pads 12 including the horizontal piece 13, and the substantially entire back surface 34 between the horizontal pieces 13 and 13 of the pads 12 on the back surface 34 of the substrate body 32. The ceramic layer c9 which is the protrusion formed in the above is provided. The wiring board 30 a does not include the through hole 31 and the heat sink 38. Further, the four pads 19 may be used instead of the pair of pads 12.
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a wiring board 30 b having a further different form from the wiring board 30. The wiring board 30b includes a board body 32, a cavity 35, a pair of pads 12 including the horizontal piece 13, a heat sink 38, and a back face 34 between the horizontal pieces 13 and 13 of each pad 12 on the back face 34 of the board body 32. Are provided with a ceramic layer c9 which is a protrusion formed on almost the entire surface.

前記セラミック層c9の中央部には、ヒートシンク38の下端部38aが貫通する貫通孔31が形成され、かかる下端部38aの底面は、セラミック層c9の表面(裏面)とほぼ面一とされ、図15に示すように、プリント基板20のソルダーレジスト層23の表面に接触可能とした。尚、一対の上記パッド12に替えて、前記4個のパッド19としても良い。
以上のような配線基板30a,30bによっても、前記配線基板30と同様に、単数の突部であるセラミック層c9を基板本体32の裏面34に突設していたため、ハンダ24を介してプリント基板20の表面21に強固にハンダ付けでき且つ当該プリント基板20との間で十分な導通を取ることができた。また、配線基板30bでは、ヒートシンク38の下端部38aがプリント基板20の表面21に接触しているため、前記ICチップ40からの熱を効率良く放熱できた。
A through hole 31 through which the lower end 38a of the heat sink 38 passes is formed at the center of the ceramic layer c9, and the bottom surface of the lower end 38a is substantially flush with the front surface (back surface) of the ceramic layer c9. As shown in FIG. 15, the surface of the solder resist layer 23 of the printed circuit board 20 can be contacted. The four pads 19 may be used instead of the pair of pads 12.
Also with the wiring boards 30a and 30b as described above, since the ceramic layer c9, which is a single protrusion, protrudes from the back surface 34 of the board body 32, similarly to the wiring board 30, the printed circuit board is provided via the solder 24. 20 could be firmly soldered to the surface 21 and sufficient conduction could be obtained with the printed circuit board 20. Further, in the wiring board 30b, the lower end portion 38a of the heat sink 38 is in contact with the surface 21 of the printed circuit board 20, so that the heat from the IC chip 40 can be efficiently radiated.

本発明は、以上において説明した各形態に限定されるものではない。
前記基板本体2,32を形成するセラミックは、低温焼成セラミックの一種であるガラス−セラミックとしても良い。
また、基板本体2,32は、前記キャビティ5,35を有しない平坦な表面の形態としても良い。かかる形態の基板本体32では、前記ヒートシンク38のフランジ39は、上記平坦な表面に接触する。
更に、前記パッド12は、水平片13のみからなる平坦な形態としても良い。
また、前記ヒートシンク38は、基板本体2およびキャビティ5を含む前記配線基板1,1a〜1fに対し、前記突部15〜17に替えて、あるいは突部15〜17と併用して適用しても良い。
加えて、ヒートシンクにおける基板本体2,32を貫通する部位は、複数箇所であっても良い。
The present invention is not limited to the embodiments described above.
The ceramic forming the substrate bodies 2 and 32 may be a glass-ceramic which is a kind of low-temperature fired ceramic.
The substrate bodies 2 and 32 may have a flat surface shape that does not have the cavities 5 and 35. In the substrate main body 32 having such a configuration, the flange 39 of the heat sink 38 is in contact with the flat surface.
Further, the pad 12 may have a flat shape composed of only the horizontal piece 13.
Further, the heat sink 38 may be applied to the wiring boards 1, 1 a to 1 f including the substrate body 2 and the cavity 5 instead of the protrusions 15 to 17 or in combination with the protrusions 15 to 17. good.
In addition, the portion of the heat sink that penetrates the substrate bodies 2 and 32 may be a plurality of locations.

本発明における一形態の配線基板を示す平面図。The top view which shows the wiring board of one form in this invention. 図1中のX−X線の矢視に沿った垂直断面図。FIG. 2 is a vertical sectional view taken along line XX in FIG. 1. 図1の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of FIG. 図1〜図3の配線基板の実装状態を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the mounting state of the wiring board of FIGS. 上記配線基板の変形形態の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of the deformation | transformation form of the said wiring board. 上記配線基板の異なる変形形態の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of the deformation | transformation form from which the said wiring board differs. 上記配線基板の更に異なる変形形態の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of the further different deformation | transformation form of the said wiring board. 前記配線基板の異なる形態の配線基板の実装状態を示す部分断面図。The fragmentary sectional view which shows the mounting state of the wiring board of a different form of the said wiring board. 図8の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of FIG. 図8の配線基板の変形形態の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of the deformation | transformation form of the wiring board of FIG. 前記配線基板の更に異なる形態の配線基板とその実装状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board of the further another form of the said wiring board, and its mounting state. 図11の配線基板を示す底面図。The bottom view which shows the wiring board of FIG. 別なる形態の配線基板およびその実装状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board of another form, and its mounting state. 更に別なる形態の配線基板およびその実装状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board of another form, and its mounting state. 別異なる形態の配線基板およびその実装状態を示す断面図。Sectional drawing which shows the wiring board of another different form, and its mounting state.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a〜1f,30,30a,30b…配線基板
2,32……………………………………基板本体
3,33……………………………………表面
4,34……………………………………裏面
12,19…………………………………パッド
13…………………………………………水平片(パッド)
15…………………………………………突部
16,17…………………………………メタライズ層(突部)
38…………………………………………ヒートシンク
38a………………………………………ヒートシンクの下端部(突部)
c9…………………………………………セラミック層(突部)
t……………………………………………パッドの厚み
T……………………………………………突部の厚み
1, 1a to 1f, 30, 30a, 30b ... Wiring board 2, 32 …………………………………… Board body 3, 33 …………………………………… Front side 4,34 …………………………………… Back side 12, 19 ………………………………… Pad 13 ………………………………… ……… Horizontal piece (pad)
15 ………………………………………… Protrusion 16, 17 ………………………………… Metalized layer (protrusion)
38 ………………………………………… Heat Sink 38a ……………………………………… Lower end (projection) of heat sink
c9 ………………………………………… Ceramic layer (protrusion)
t …………………………………………… Pad thickness T …………………………………………… Thickness of protrusion

Claims (3)

セラミックからなり表面および裏面を有する基板本体と、
上記基板本体の裏面に形成されたパッドと、
上記基板本体の裏面に形成され且つ上記パッドの厚みよりも厚い突部と、を含む、ことを特徴とする配線基板。
A substrate body made of ceramic and having a front surface and a back surface;
A pad formed on the back surface of the substrate body;
And a protrusion formed on the back surface of the substrate body and thicker than the thickness of the pad.
前記突部の厚みは、前記パッドの厚みよりも20μm以上厚い、
ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
The protrusion has a thickness that is 20 μm or more thicker than the pad.
The wiring board according to claim 1.
前記突部は、単数で且つ前記基板本体の裏面における中心を含むか、あるいは、複数個で且つ上記基板本体の裏面において互いに離間している、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
The protrusions are singular and include the center of the back surface of the substrate body, or are plural and spaced apart from each other on the back surface of the substrate body.
The wiring board according to claim 1 or 2, wherein
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009295624A (en) * 2008-06-02 2009-12-17 Fujitsu Media Device Kk Electronic component and manufacturing method thereof

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