JP2007199519A - 光合分波器製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】所期の特性を有する光合分波器を容易に製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る光合分波器製造方法は、(1) 並列配置された複数の第１部材１０を一体にして含む第１基板を製造し、光フィルタ３０が配置されるべき第１部材１０の端面が所定平面となるように第１基板を整形する第１基板製造工程と、(2)第１基板製造工程により製造され整形された第１基板に含まれる複数の第１部材１０を個々に分離する第１部材分離工程と、(3) 第１部材分離工程により個々に分離された第１部材１０と第２部材２０との間に光フィルタ３０を挟んで光合分波器１を組み立てる組立工程と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、光を合波または分波する光合分波器を製造する方法に関するものである。

複数波長の信号光を伝送する光伝送システムでは、これら複数波長の信号光を合波または分波する光合分波器が用いられる。特に、端局と加入者宅との間の光伝送システム（ＦＴＴＨ: fiber to the home）では、光合分波器は小型で安価であることが要求される。

例えば非特許文献１に記載された光合分波器は、互いに交差するように２本の光導波路が形成された１つの部材において、当該交差部を通るようにＶ溝が形成され、そのＶ溝内に光フィルタが挿入されて接着剤で固定されたものである。この光合分波器では、一方の光導波路を導波して来てＶ溝に達した光のうち、或る波長の光は光フィルタを透過して更に該光導波路を導波していき、他の波長の光は光フィルタにより反射されて他方の光導波路を導波していく。

また、他の構成の光合分波器は、各々光導波路が形成された第１部材および第２部材と、これら第１部材および第２部材それぞれに形成された光導波路の端面間に設けられた光フィルタとを備える。
M. Yanagisawa, et al., "Low-lossand compact TFF-embedded silica-waveguide WDM filter for video distributionservices in FTTH systems", OFC2004, TuI4

上記のような光合分波器は、従来の製造方法により製造された場合、各光導波路と光フィルタとの間の相対的位置関係が設計と異なったものとなって、所期の特性を有しないことがある。

本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、所期の特性を有する光合分波器を容易に製造することができる方法を提供することを目的とする。

第１の発明に係る光合分波器製造方法は、光導波路が形成された第１部材と、第１部材に形成された光導波路の端面に設けられた光フィルタとを備え、第１部材に形成された光導波路および光フィルタにより光を合波または分波する光合分波器を製造する方法である。この第１の発明に係る光合分波器製造方法は、(1) 並列配置された複数の第１部材を一体にして含む第１基板を作製し、光フィルタが配置されるべき第１部材の端面が所定平面となるように第１基板を整形する第１基板製造工程と、(2)第１基板製造工程により作製され整形された第１基板に含まれる複数の第１部材を個々に分離する第１部材分離工程と、(3) 第１部材分離工程により個々に分離された第１部材の端面に光フィルタを設置して光合分波器を組み立てる組立工程と、を備えることを特徴とする。

また、第１の発明に係る光合分波器製造方法は、(4) 前記光フィルタを挟んで前記第１部材に対向する光導波路が形成された第２部材をさらに有する光合分波器を製造する方法であって、並列配置された複数の第２部材を一体にして含む第２基板を作製し、光フィルタが配置されるべき第２部材の端面が所定平面となるように第２基板を整形する第２基板製造工程と、(5)第２基板製造工程により製造され整形された第２基板に含まれる複数の第２部材を個々に分離する第２部材分離工程と、を更に備えるのが好適である。そして、組立工程において、第１部材分離工程により個々に分離された第１部材と、第２部材分離工程により個々に分離された第２部材との間に、光フィルタを挟んで、光合分波器を組み立てるのが好適である。

また、第１の発明に係る光合分波器製造方法は、第１基板製造工程および第２基板製造工程において、各々並列配置された複数の第１部材および複数の第２部材を一体にして含む共通基板を作製し、この共通基板を切断して第１基板および第２基板を製造するのが好適である。

第２の発明に係る光合分波器製造方法は、光導波路が形成されているとともに該光導波路を横切る溝が形成された部材と、部材に形成された溝に設けられた光フィルタとを備え、部材に形成された光導波路および光フィルタにより光を合波または分波する光合分波器を製造する方法であって、この第２の発明に係る光合分波器製造方法は、(1) 並列配置された溝形成前の複数の部材を一体にして含む基板を作製し、複数の部材それぞれに形成された光導波路を横切るように溝を基板に形成する基板製造工程と、(2)基板製造工程により作製され溝形成された基板に含まれる複数の部材を個々に分離する部材分離工程と、(3) 部材分離工程により個々に分離された部材の溝に光フィルタを配置して光合分波器を組み立てる組立工程と、を備えることを特徴とする。

本発明によれば、所期の特性を有する光合分波器を容易に製造することができる。

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

（第１実施形態）
先ず、本発明に係る光合分波器製造方法の第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る光合分波器製造方法により製造されるべき光合分波器１の平面である。この図に示される光合分波器１は、光導波路１１，１２が形成された第１部材１０と、光導波路２１が形成された第２部材２０と、第１部材１０および第２部材２０それぞれに形成された光導波路の端面間に設けられた光フィルタ３０と、を含むものを１組として、これらを複数組備える。

この光合分波器１は、各組において、光導波路１１，１２，２１および光フィルタ３０により光を合波または分波する。すなわち、光導波路１１を導波して来て光フィルタ３０に達した光のうち、光フィルタ３０の透過波長帯域に含まれる波長λ_Ｔ（例えば波長１３１０ｎｍ）の光は光フィルタ３０を透過して光導波路２１を導波して行き、また、光フィルタ３０の反射波長帯域に含まれる波長λ_Ｒ（例えば波長１５５０ｎｍ）の光は光フィルタ３０で反射して光導波路１２を導波して行く。逆に、光導波路２１を導波して来て光フィルタ３０に達した波長λ_Ｔの光は光フィルタ３０を透過して光導波路１１を導波して行き、また、光導波路１２を導波して来て光フィルタ３０に達した波長λ_Ｒの光は光フィルタ３０で反射して光導波路１１を導波して行く。

図２は、光合分波器１における光導波路１１，１２，２１と光フィルタ３０との間の相対的位置関係を説明する図である。この図に示されるように、光導波路１１と光導波路１２との対称軸（図において一点鎖線で示す。）と、光フィルタ３０の垂線（図において破線で示す。）とは、角度θ_１をなしているとする。また、光導波路１１の光軸を第２部材２０へ延長した線（図において点線で示す。）と、光導波路２１の光軸とは、角度θ_２をなしているとする。なお、光フィルタ３０として誘電体多層膜フィルタ等が用いられる場合には、光フィルタ３０内部における光の多重干渉により光フィルタ３０の前後で光軸がシフトするが、図２では便宜上そのシフトを無視して描いている。

図３は、光導波路１１から光導波路１２への波長λ_Ｒの光の結合の際の損失と角度θ_１との関係の一例を示す図である。また、図４は、光導波路１１から光導波路２１への波長λ_Ｔの光の結合の際の損失と角度θ_２との関係の一例を示す図である。各々の光結合損失は、「θ_１＝θ_２＝０」であるときの値を０ｄＢとしている。これらの図から判るように、角度θ_１の絶対値が大きいほど、光導波路１１から光導波路１２への波長λ_Ｒの光の結合の際の損失が大きい。また、角度θ_２の絶対値が大きいほど、光導波路１１から光導波路２１への波長λ_Ｔの光の結合の際の損失が大きい。理想的には「θ_１＝θ_２＝０」なる関係が成り立つべきである。

しかし、従来の製造方法で実際に製造した光合分波器１では、必ずしも上記関係が成り立つとは限らず、それ故、所期の特性を有しないことがある。これに対して、以下に説明する第１実施形態に係る光合分波器製造方法は、上記の角度θ_１および角度θ_２それぞれの絶対値を略０に容易にすることができ、所期の特性を有する光合分波器１を容易に製造することができる。

図５は、第１実施形態に係る光合分波器製造方法を説明するフローチャートである。第１実施形態に係る光合分波器製造方法は、第１基板製造工程（ステップＳ１１）、第２基板製造工程（ステップＳ１２）、第１部材分離工程（ステップＳ１３）、第２部材分離工程（ステップＳ１４）および組立工程（ステップＳ１５）を備える。ただし、第１基板製造工程（ステップＳ１１）および第２基板製造工程（ステップＳ１２）それぞれの一部を共通の工程とすることが可能であるので、以下では、そのような場合について説明する。

図６および図７は、第１実施形態に係る光合分波器製造方法を説明する工程図である。初めに、第１基板製造工程（ステップＳ１１）および第２基板製造工程（ステップＳ１２）において、シリコンまたは石英ガラスからなる共通基板１００が作製される（図６（ａ））。この共通基板１００は、クラッド層およびコア層が堆積された後、コアパターンが描かれたマスクが用いられて露光やエッチングが行われ、光導波路が形成されたものである。そして、共通基板１００は、各々並列配置された複数の第１部材１０および複数の第２部材２０を一体にして含む。すなわち、この共通基板１００の領域Ａ，Ｂそれぞれにおいて複数の第１部材１０が所定方向に並列配置されており、領域Ｃ，Ｄそれぞれにおいて複数の第２部材２０が同じ所定方向に並列配置されている。

続いて、共通基板１００が領域Ａ〜Ｄの個々に切断されて、第１基板１１１，１１２および第２基板１２１，１２２が作製される（図６（ｂ））。第１基板１１１，１１２それぞれは、並列配置された複数の第１部材１０を一体にして含む。また、第２基板１２１，１２２それぞれは、並列配置された複数の第２部材２０を一体にして含む。

その後、第１基板１１１，１１２および第２基板１２１，１２２それぞれが整形される（図７（ａ））。このとき、第１基板１１１，１１２それぞれは、光フィルタ３０が配置されるべき第１部材１０の端面が所定平面となるように整形される。同様に、第２基板１２１，１２２それぞれは、光フィルタ３０が配置されるべき第２部材２０の端面が所定平面となるように整形される。この整形に際して、第１基板１１１，１１２および第２基板１２１，１２２それぞれは、概略的に整形された後に端面が研磨紙１３０や研磨剤で研磨されてもよいし、概略的に整形された後にエッチングにより平坦化されてもよい。また、共通基板１００が領域Ａ〜Ｄの個々に切断される際に、例えば非常に目の細かいブレードが用いられることで、切断後の端面が平坦化されていてもよい。

以上のようにして第１基板製造工程（ステップＳ１１）および第２基板製造工程（ステップＳ１２）が終了すると、続いて、第１部材分離工程（ステップＳ１３）において、第１基板１１１，１１２それぞれが切断されて、第１基板１１１，１１２それぞれに含まれる複数の第１部材１０が個々に分離される（図７（ｂ））。同様に、第２部材分離工程（ステップＳ１４）において、第２基板１２１，１２２それぞれが切断されて、第２基板１２１，１２２それぞれに含まれる複数の第２部材２０が個々に分離される。そして、組立工程（ステップＳ１５）において、個々に分離された第１部材１０と第２部材２０との間に光フィルタ３０が挟まれて光合分波器１が組み立てられる（図７（ｃ））。

一般に、このような構成の光合分波器において用いられる光フィルタは、厚さが数十μｍ〜数百μｍであって大きさが数ｍｍ程度の小さいものである。したがって、組立工程の際に光フィルタ３０を把持することは困難である。それ故、第１部材１０，第２部材２０および光フィルタ３０それぞれを別個のステージ等に固定して上記の角度θ_１，θ_２が零になるように位置調整するのは困難である。

そこで、組立工程の際に、第１部材１０および第２部材２０のうち一方の部材の端面に光フィルタ３０が載せられ、その後に、他方の部材が光フィルタ３０に押し当てられて、これにより、第１部材１０と第２部材２０との間に光フィルタ３０が挟まれるのが、容易であって好ましい。なお、組立工程の際に、第１部材１０，第２部材２０および光フィルタ３０は、図示の如く垂直方向に配置されてもよいし、第１部材１０または第２部材２０の端面から光フィルタが表面張力等で落ちない場合には、水平方向に配置されてもよい。

ところで、第１基板製造工程（ステップＳ１１）および第２基板製造工程（ステップＳ１２）において、共通基板１００上の光導波路は極めて高精度に形成される。これに対して、第１基板１１１，１１２および第２基板１２１，１２２それぞれの端面は研磨剤や研磨紙に押し当てられながら研磨されるのが一般的であり、このとき、図７（ａ）中に示されるように、各基板の端面と研磨紙の面との間に角度θがあるとする。その結果、切断された後の個々の第１部材１０と第２部材２０との間に光フィルタ３０が挟まれて光合分波器１が組み立てられたときに、「θ_１＝θ_２＝θ」なる式で表される上記の角度θ_１および角度θ_２が生じる。

しかし、第１実施形態に係る光合分波器製造方法により製造された光合分波器１では、以下に説明する理由により、角度θ_１および角度θ_２それぞれの絶対値が小さくなり、光結合損失が小さくなる。

図６（ｂ）中に示されるように、第１基板１１１，１１２それぞれにおいて複数の第１部材１０が並列配置された方向の寸法をＬとし、第２基板１２１，１２２それぞれにおいて複数の第２部材２０が並列配置された方向の寸法をＬとする。また、図７（ａ）中に示されるように、各基板の端面と研磨紙の面との間に角度θが存在することに因る両端の高さの差をΔＨとする。このとき、これらのパラメータの間に「ΔＨ＝Ｌ・tanθ」なる近似式が成り立つ。

この式から判るように、第１実施形態に係る光合分波器製造方法では、上記寸法Ｌを大きくすることができるので、角度θが小さくも、高さ差ΔＨは大きくなり、角度θの検出感度が高い。したがって、第１基板および第２基板それぞれの端面が所定平面となるように整形する際に、角度θの絶対値が小さくなるように第１基板および第２基板それぞれの配置が決定され得る。このことから、第１実施形態に係る光合分波器製造方法により製造された光合分波器１では、角度θ_１および角度θ_２それぞれの絶対値が小さくなり、光結合損失が小さくなって、所期の特性を有するものとなる。

一般に、光通信分野における要求としては、光合分波器１における光結合損失は１ｄＢ以下であり、そのうち組立誤差に因る損失は０.０５ｄＢ以下である。したがって、角度θの絶対値は０.１度以下であることが要求される。高さ差ΔＨの検出感度が３０μｍであるとすると、第１基板および第２基板それぞれの寸法Ｌは１７ｍｍ以上であることが望ましい。第１部材および第２部材それぞれのサイズが４ｍｍ×８ｍｍであるとすると、第１基板および第２基板それぞれの寸法Ｌが１７ｍｍというのは、これらの各基板が４個以上の部材を一体にして含むことに相当する。また、高さ差ΔＨの検出感度が５０μｍであるとすると、第１基板および第２基板それぞれの寸法Ｌは２９ｍｍ以上であることが望ましい。

（第２実施形態）
次に、本発明に係る光合分波器製造方法の第２実施形態について説明する。図８は、第２実施形態に係る光合分波器製造方法により製造されるべき光合分波器２の平面である。この図に示される光合分波器２は、部材６０および光フィルタ７０を備える。部材６０上には、光導波路６１〜６３を１組として、これらが複数組形成され、また、溝６４が形成されている。部材６０上において、溝６４に対して一方の側に光導波路６１，６２が形成され、溝６４に対して他方の側に光導波路６３が形成されている。溝６４に光フィルタ７０が挿入されている。

この光合分波器２は、各組において、光導波路６１〜６３および光フィルタ７０により光を合波または分波する。すなわち、光導波路６１を導波して来て光フィルタ７０に達した光のうち、光フィルタ７０の透過波長帯域に含まれる波長λ_Ｔ（例えば波長１３１０ｎｍ）の光は光フィルタ７０を透過して光導波路６３を導波して行き、また、光フィルタ７０の反射波長帯域に含まれる波長λ_Ｒ（例えば波長１５５０ｎｍ）の光は光フィルタ７０で反射して光導波路６２を導波して行く。逆に、光導波路６３を導波して来て光フィルタ７０に達した波長λ_Ｔの光は光フィルタ７０を透過して光導波路６１を導波して行き、また、光導波路６２を導波して来て光フィルタ７０に達した波長λ_Ｒの光は光フィルタ７０で反射して光導波路６１を導波して行く。

このように構成される光合分波器２においても、光導波路６１から光導波路６２への波長λ_Ｒの光の結合の際の損失は、光導波路６１と光導波路６２との対称軸と光フィルタ７０の垂線とがなす角度θ_１に対して、図３に示されたような関係がある。また、光導波路６１から光導波路６３への波長λ_Ｔの光の結合の際の損失は、光導波路６１の光軸と光導波路６３の光軸とがなす角度θ_２に対して、図４に示されたような関係がある。以下に説明する第２実施形態に係る光合分波器製造方法は、上記の角度θ_１および角度θ_２それぞれの絶対値を略０に容易にすることができ、所期の特性を有する光合分波器２を容易に製造することができる。

図９は、第２実施形態に係る光合分波器製造方法を説明するフローチャートである。第１実施形態に係る光合分波器製造方法は、基板製造工程（ステップＳ２１）、部材分離工程（ステップＳ２２）および組立工程（ステップＳ２３）を備える。初めに、基板製造工程（ステップＳ２１）において、並列配置された溝形成前の複数の部材６０を一体にして含む基板が作製され、その後、複数の部材６０それぞれに形成された光導波路を横切るように溝６４が基板に形成される。続く、部材分離工程（ステップＳ２２）において、基板製造工程により作製され溝形成された基板が切断されて、基板に含まれる複数の部材６０が個々に分離される。そして、組立工程（ステップＳ２３）において、切断工程により個々に分離された部材６０の溝に光フィルタ７０が配置されて、光合分波器２が組み立てられる。

このように第２実施形態において、個々に分離した後に部材６０に溝６４が形成されるのでは無く、並列配置された溝形成前の複数の部材６０を一体にして含む基板に対して一括して溝６４が形成され、その後に個々の部材６０に分離される。このことから、この第２実施形態に係る光合分波器製造方法により製造された光合分波器２でも、角度θ_１および角度θ_２それぞれの絶対値が小さくなり、光結合損失が小さくなって、所期の特性を有するものとなる。

（他の実施形態）
上記の各実施形態においては、個々の部材に分離された後に光フィルタとともに光合分波器が組み立てられた。しかし、並列配置された複数の第１部材を一体にして含む第１基板を作製し、光フィルタが配置されるべき第１部材の端面が所定平面となるように第１基板を整形する第１基板製造工程を行い、第１基板製造工程により作製され整形された第１基板に含まれる複数の第１部材の端面に一括して一体の光フィルタを設置し、その後、第１部材と光フィルタを備えた個々の光合分波器を分離する工程を行なうこと、更には、並列配置された複数の第２部材を一体にして含む第２基板を作製し、光フィルタが配置されるべき第２部材の端面が所定平面となるように第２基板を整形する第２基板製造工程を行い、各々整形された第1基板と第２基板の端面間に光フィルタを挟んだ後、第１部材と第２部材と光フィルタとを備えた個々の光合分波器に分離するように、第１基板の端面に光フィルタを設置した後、あるいは、第１基板と第２基板との間に光フィルタが挟まれた後に個々の光合分波器に分離してもよい。並列配置された溝形成前の複数の部材を一体にして含む基板を作製し、複数の部材それぞれに形成された光導波路を横切るように溝を基板に形成する基板製造工程を行ない、基板製造工程により作製され溝形成された基板に含まれる複数の部材の溝に一括して一体の光フィルタを設置し、その後に部材の溝に光フィルタを有する個々の光合分波器に分離するように、基板の溝に光フィルタが挿入された後に個々の光合分波器に分離したりしてもよい。また、上記の例では別途作製した光フィルタを設置する場合の形態について説明したが、第１部材あるいは第２部材の端面に直接薄膜を蒸着して光フィルタを形成して設置することも可能である。

なお、第１実施形態に係る光合分波器製造方法により製造されるべき光合分波器は、図１０および図１１に示されるような構成のものであってもよい。

図１０に示される光合分波器３は、光導波路１１，１２が形成された部材１０と、この部材１０の端面に設けられた光フィルタ３０とを備える。この光合分波器３では、光導波路１１を導波して来て光フィルタ３０に達した光のうち、光フィルタ３０の透過波長帯域に含まれる波長λ_Ｔ（例えば波長１３１０ｎｍ）の光は光フィルタ３０を透過し、また、光フィルタ３０の反射波長帯域に含まれる波長λ_Ｒ（例えば波長１５５０ｎｍ）の光は光フィルタ３０で反射して光導波路１２を導波して行く。

図１１に示される光合分波器４は、光導波路１１が形成された部材１０Ａと、この部材１０Ａの端面に設けられた光フィルタ３０とを備える。この光合分波器４では、光導波路１１を導波して来て光フィルタ３０に達した光のうち、光フィルタ３０の透過波長帯域に含まれる波長λ_Ｔ（例えば波長１３１０ｎｍ）の光は光フィルタ３０を透過し、また、光フィルタ３０の反射波長帯域に含まれる波長λ_Ｒ（例えば波長１５５０ｎｍ）の光は光フィルタ３０で反射して光導波路１１を導波して行く。

これらの図に示される光合分波器３，４も、上述した第１実施形態に係る光合分波器製造方法により、所期の特性を有する物を容易に製造することができる。

第１実施形態に係る光合分波器製造方法により製造されるべき光合分波器１の平面である。 光合分波器１における光導波路１１，１２，２１と光フィルタ３０との間の相対的位置関係を説明する図である。 光導波路１１から光導波路１２への波長λ_Ｒの光の結合の際の損失と角度θ_１との関係の一例を示す図である。 光導波路１１から光導波路２１への波長λ_Ｔの光の結合の際の損失と角度θ_２との関係の一例を示す図である。 第１実施形態に係る光合分波器製造方法を説明するフローチャートである。 第１実施形態に係る光合分波器製造方法を説明する工程図である。 第１実施形態に係る光合分波器製造方法を説明する工程図である。 第２実施形態に係る光合分波器製造方法により製造されるべき光合分波器２の平面である。 第２実施形態に係る光合分波器製造方法を説明するフローチャートである。 本発明に係る光合分波器製造方法により製造されるべき他の例の光合分波器の平面である。 本発明に係る光合分波器製造方法により製造されるべき更に他の例の光合分波器の平面である。

符号の説明

１〜４…光合分波器、１０…第１部材、１１，１２…光導波路、２０…第２部材、２１…光導波路、３０…光フィルタ、６０…部材、６１〜６３…光導波路、６４…溝、７０…光フィルタ、１００…共通基板、１１１，１１２…第１基板、１２１，１２２…第２基板。

Claims (4)

1. 光導波路が形成された第１部材と、前記第１部材に形成された光導波路の端面に設けられた光フィルタとを備え、前記第１部材に形成された光導波路および前記光フィルタにより光を合波または分波する光合分波器を製造する方法であって、
   並列配置された複数の前記第１部材を一体にして含む第１基板を作製し、前記光フィルタが配置されるべき前記第１部材の端面が所定平面となるように前記第１基板を整形する第１基板製造工程と、
   前記第１基板製造工程により作製され整形された前記第１基板に含まれる前記複数の前記第１部材を個々に分離する第１部材分離工程と、
   前記第１部材分離工程により個々に分離された前記第１部材の端面に前記光フィルタを設置して前記光合分波器を組み立てる組立工程と、
   を備えることを特徴とする光合分波器製造方法。
2. 前記光フィルタを挟んで前記第１部材に対向する光導波路が形成された第２部材をさらに有する光合分波器を製造する方法であって、
   並列配置された複数の前記第２部材を一体にして含む第２基板を作製し、前記光フィルタが配置されるべき前記第２部材の端面が所定平面となるように前記第２基板を整形する第２基板製造工程と、
   前記第２基板製造工程により作製され整形された前記第２基板に含まれる前記複数の前記第２部材を個々に分離する第２部材分離工程と、
   を更に備え、
   前記組立工程において、前記第１部材分離工程により個々に分離された前記第１部材と、前記第２部材分離工程により個々に分離された前記第２部材との間に、前記光フィルタを挟んで、前記光合分波器を組み立てる、
   ことを特徴とする請求項１記載の光合分波器製造方法。
3. 前記第１基板製造工程および前記第２基板製造工程において、各々並列配置された複数の前記第１部材および複数の前記第２部材を一体にして含む共通基板を作製し、この共通基板を切断して前記第１基板および前記第２基板を製造する、
   ことを特徴とする請求項２記載の光合分波器製造方法。
4. 光導波路が形成されているとともに該光導波路を横切る溝が形成された部材と、前記部材に形成された溝に設けられた光フィルタとを備え、前記部材に形成された光導波路および前記光フィルタにより光を合波または分波する光合分波器を製造する方法であって、
   並列配置された溝形成前の複数の前記部材を一体にして含む基板を作製し、前記複数の部材それぞれに形成された光導波路を横切るように溝を前記基板に形成する基板製造工程と、
   前記基板製造工程により作製され溝形成された前記基板に含まれる前記複数の前記部材を個々に分離する部材分離工程と、
   前記部材分離工程により個々に分離された前記部材の溝に前記光フィルタを配置して前記光合分波器を組み立てる組立工程と、
   を備えることを特徴とする光合分波器製造方法。
   

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