JP2007185685A - レーザー加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザー加工時に発生する塵埃が被加工体に付着するのを防止することができるレーザー加工装置を提供すること。
【解決手段】被加工体1にレーザー光を照射するレーザー装置30と、レーザー光によって加工される被加工体1のスキャンエリアに向く噴出口12を備え、この噴出口12からスキャンエリアにエアーを噴き付けるエアー噴出装置10と、レーザー光によって被加工体から発生する塵埃を集塵する集塵装置20とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】被加工体1にレーザー光を照射するレーザー装置30と、レーザー光によって加工される被加工体1のスキャンエリアに向く噴出口12を備え、この噴出口12からスキャンエリアにエアーを噴き付けるエアー噴出装置10と、レーザー光によって被加工体から発生する塵埃を集塵する集塵装置20とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザー加工装置に関するものである。特に、レーザー加工時の塵埃などが被加工体に付着するのを防ぐレーザー加工装置に関するものである。
従来、レーザー加工装置として特許文献1に示すものがあった。図4は、従来技術(特許文献1)におけるレーザー加工装置の概略構成を示すブロック図である。
特許文献1に示すレーザー加工装置は、ガルバノミラー駆動装置などを備えるレーザー装置100、集塵ダクト310を備える集塵機300などを備える。
このレーザー加工装置は、レーザー装置100から被加工体200に対してレーザー光を照射することによって、被加工体200を加工する。そして、集塵機300の集塵ダクト310によってレーザー加工時に発生する塵埃を集塵することによって、レーザー装置100、特にレーザー装置100のレンズ(図示せず)や保護ガラスに塵埃が付着するのを防止するものである。
特開2002−316292号公報
しかしながら、特許文献1に示すレーザー加工装置においては、レーザー加工時に発生する塵埃を集塵機300の集塵ダクト310によって集塵するのみであり、被加工体200に塵埃が付着するのを防止することは考慮されておらず、被加工体200に塵埃が付着するのを十分に防止できない可能性があった。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、レーザー加工時に発生する塵埃が被加工体に付着するのを防止することができるレーザー加工装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために請求項1に記載のレーザー加工装置は、被加工体にレーザー光を照射するレーザー装置と、レーザー光によって加工される被加工体の加工エリアに向くエアー噴出口を備え、このエアー噴出口から加工エリアにエアーを噴き付けるエアー噴出装置と、レーザー光によって被加工体から発生する塵埃を集塵する集塵装置とを備えることを特徴とするものである。
このように、被加工体の加工エリアに向くエアー噴出口から加工エリアにエアーを噴き付け、さらにレーザー光によって被加工体から発生する塵埃を集塵することによって、レーザー加工時に発生する塵埃が被加工体に付着するのを防止することができる。
また、請求項2に記載のレーザー加工装置では、エアー噴出装置は、フィルターを備え、このフィルターを介してエアーを噴出すことを特徴とするものである。
このように、フィルターを介してエアーを噴出すことによって、エアーに塵埃が含まれて汚れていた場合であっても、このエアーに含まれる塵埃が被加工体に付着するのを防止することができる。
また、フィルターとしては、請求項3に示すように、0.01μm程度の塵埃を捕捉可能であると好ましい。
また、請求項4に記載のレーザー加工装置では、被加工体を保持する保持テーブルと、保持テーブルを駆動する駆動装置と、レーザー装置にて被加工体の複数個所を加工する場合、エアーの風上に位置する部位から加工するように駆動装置にて保持テーブルを駆動するテーブル制御装置とを備えることを特徴とするものである。
このように、エアーの風上に位置する部位から加工するように駆動装置にて保持テーブルを駆動することによって、既に加工した部位に塵埃が入り込むことを防止することができる。
また、請求項5に示すように、レーザー光の照射位置を調整する照射位置調整装置と、レーザー装置にて被加工体の複数個所を加工する場合、エアーの風上に位置する部位から加工するように照射位置調整装置にてレーザー光の照射位置を調整するレーザー制御装置とを備えることによっても、既に加工した部位に塵埃が入り込むことを防止することができる。
また、多層基板を構成する保護フィルムが形成された熱可塑性樹脂フィルムは、液相洗浄することによって、熱可塑性樹脂フィルムが加水分解を起こしたり、保護フィルムが熱可塑性樹脂フィルムから剥がれにくくなったり、また、液相洗浄そのもので破れやすいものである。したがって、請求項6に示すように、被加工体として、多層基板を構成する保護フィルムが形成された熱可塑性樹脂フィルムを適用すると好ましい。
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるレーザー加工装置の概略構成を示すブロック図である。図2は、本発明の実施の形態におけるレーザー加工装置の加工対象である被加工体の一例を示す断面図であり、(a)はレーザー加工前であり、(b)はレーザー加工後である。図3は、本発明の実施の形態におけるXYテーブルにて加工位置を移動させる一例を示す平面図である。
図1に示すように、本実施の形態におけるレーザー加工装置は、エアー噴出装置10、集塵装置20、レーザー装置30、ベース40、駆動装置41、XYテーブル42などを備える。
エアー噴出装置10は、レーザー加工時に被加工体1から発生する塵埃(被加工体1の削りかすなどの加工くず)を吹き飛ばすための装置である。エアー噴出装置10は、エアーの噴出口12が被加工体1の加工エリア(以下、スキャンエリアとも称する)に向くように構成され、この噴出口12から図1の矢印に示すように、スキャンエリアにエアーを噴き付ける。
また、被加工体1に噴き付けるエアーにも塵埃が混じっている可能性があるので、エアー噴出装置10は、エアーの噴出口12にフィルター11を備える。このフィルター11の補足能力は、被加工体1の必要な清浄度によるものであり、プリント基板などに用いられるヴィアホールなどをレーザー加工するような場合は、0.01μm程度の塵埃を捕捉可能なフィルターであると好ましい。なお、フィルター11の設置場所に関しては、噴出口12に限定されるものではなく、噴出口12から噴出されるエアーに塵埃が混じるのを防止できる位置であればよい。
なお、被加工体1のスキャンエリアに向くように配置された噴出口12から噴出すエアーは、例えば、レーザー装置30が照射するレーザー光のレーザー光軸と垂直方向から45度程度の範囲内に噴出すと好ましい。すなわち、噴出口12は、レーザー装置30が照射するレーザー光のレーザー光軸と垂直方向から45度程度の範囲内に配置すると好ましい。また、エアー噴出装置10は、レーザー装置30、ベース40、駆動装置41、XYテーブル42などとの公差設計上、レーザー装置30、被加工体1などと接触しない最も近い位置に設置すると望ましい。
さらに、エアー噴出装置10が噴出すエアーのエアー圧は、例えば、150kPa、400kPa以上のような高いエアー圧とすると被加工体1の既にレーザー加工されたヴィアホールなどに塵埃が堆積されるのをより一層防止できるので好ましい。
集塵装置20は、図1の矢印に示すように、エアー噴出装置10が噴出したエアーによって吹き飛ばされた塵埃を集塵するものである。この集塵装置20は、エアーを噴出すエアー噴出装置10とは逆に、エアー噴出装置10が噴出したエアーを吸引することによって塵埃を集塵するものである。なお、集塵装置20は、エアー噴出装置10が噴出したエアーによって吹き飛ばされた塵埃を集塵するので、エアー噴出装置10が噴出すエアーの流量を超える流量を吸引できると好ましい。
レーザー装置30は、被加工体1にレーザー光を照射して被加工体1を加工するものである。レーザー装置30は、例えば、図示しないレーザー発振器からのレーザー光を反射する複数の反射ミラーをそれぞれ回動するガルバノメータ、被加工体の表面にレーザー光を集光するf−θレンズ、増幅器、ガルバノ制御回路(レーザー制御装置)、ガルバノメータ駆動回路(照射位置調整装置)などを備える。そして、レーザー装置30は、ガルバノ制御回路、ガルバノメータ駆動回路などによってガルバノメータを駆動することによって加工部位(スキャンエリア)にレーザー光を照射して被加工体1をレーザー加工する。なお、レーザー装置30は、特に上記構成に限定されるものではなく、被加工体1をレーザー加工できるものであれば本発明の目的を達成できるものである。
このレーザー装置30によって加工される被加工体1の一例をここで説明する。例えば、被加工体1としては、図2(a)に示すように、多層基板を構成する保護フィルム1b及びランド1cが形成された熱可塑性樹脂フィルム1aなどがある。この熱可塑性樹脂フィルム1aは、図2(b)に示すように、層間接続部材を形成するためにヴィアホール1dがレーザー装置30によるレーザー加工によって形成される。
この熱可塑性樹脂フィルム1aを多層基板にする場合、ランド1c、層間接続部材などが形成され、保護フィルム1bが剥がされた複数の熱可塑性樹脂フィルム1aを積層し、この積層した熱可塑性樹脂フィルム1aを加熱しながら両面から圧力をかけて熱圧着する。
このように、熱圧着によって多層基板となる熱可塑性樹脂フィルム1aの場合、液相洗浄を行うと、乾燥が不十分であった場合に、熱可塑性樹脂フィルム1aが加水分解を行う可能性がある。また、乾燥が不十分であった場合に、保護フィルム1bが熱可塑性樹脂フィルム1aから剥がれにくくなる。さらに、熱可塑性樹脂フィルム1aは、液相洗浄を行うだけでも破れやすいものである。このように熱可塑性樹脂フィルム1aは、液相洗浄を行うことは好ましくないので、レーザー加工によって発生する塵埃の付着を防止し、液相洗浄を行わないことが好ましい。
したがって、本実施の形態におけるレーザー加工装置は、多層基板を構成する保護フィルム1b形成された熱可塑性樹脂フィルム1aのような液相洗浄が行いにくい被加工体1
をレーザー加工する場合に好適である。
をレーザー加工する場合に好適である。
次に、被加工体1を保持する部分について説明する。ベース40は、XYテーブル42、駆動装置41、制御装置41aなどが設置されるレーザー加工装置の土台である。このXYテーブル42、駆動装置41、制御装置41aは、被加工体1のレーザー装置30によって加工される位置を移動させるものである。XYテーブル42は、本発明における保持テーブルに相当するものであり、被加工体1を保持するものである。駆動装置41は、XYテーブル42を駆動するものであり、制御装置(テーブル制御装置)41aによって駆動制御される。
例えば、図3に示すように、被加工体1のスキャンエリアに複数個所(ここでは、6個)にレーザー加工(ヴィアホール1d形成)を施す場合を例として説明する。このような場合、制御装置41aは、エアー噴出装置10が噴出すエアーの風上から順次加工するように制御する。すなわち、制御装置41aは、A→B→C→D→E→Fの順にヴィアホール1dをレーザー加工するように、駆動装置41によってXYテーブル42を駆動制御する。
このように、被加工体1に複数の加工を施す場合は、エアー噴出装置10が噴出すエアーの風上から順次加工することによって、既に加工した部位に塵埃が入り込むことを防止することができる。
なお、被加工体1に複数の加工を施す際にエアー噴出装置10が噴出すエアーの風上から順次加工する場合、上述のレーザー装置30によるレーザー光の照射位置をガルバノ制御回路、ガルバノメータ駆動回路などによって調整するようにしてもよい。したがって、XYテーブル42、駆動装置41、制御装置41aは、レーザー装置30のレーザー光の照射位置が固定であるような場合に特に好適である。
このように、被加工体1のスキャンエリアに向く噴出口12からスキャンエリアにエアーを噴き付け、さらにレーザー光によって被加工体1から発生する塵埃を集塵することによって、レーザー加工時に発生する塵埃が被加工体に付着するのを防止することができる。
1 被加工体、1a 熱可塑性樹脂フィルム、1b 保護フィルム、1c ランド、1d ヴィアホール、10 エアー噴出装置、11 フィルター、12 噴出口、20 集塵装置、30 レーザー装置、40 ベース、41 駆動装置、42 XYテーブル
Claims (6)
- 被加工体にレーザー光を照射するレーザー装置と、
前記レーザー光によって加工される前記被加工体の加工エリアに向くエアー噴出口を備え、当該エアー噴出口から当該加工エリアにエアーを噴き付けるエアー噴出装置と、
前記レーザー光によって前記被加工体から発生する塵埃を集塵する集塵装置と、
を備えることを特徴とするレーザー加工装置。 - 前記エアー噴出装置は、フィルターを備え、当該フィルターを介してエアーを噴出すことを特徴とする請求項1に記載のレーザー加工装置。
- 前記フィルターは、0.01μm程度の塵埃を捕捉可能であることを特徴とする請求項2に記載のレーザー加工装置。
- 前記被加工体を保持する保持テーブルと、前記保持テーブルを駆動する駆動装置と、前記レーザー装置にて前記被加工体の複数個所を加工する場合、前記エアーの風上に位置する部位から加工するように前記駆動装置にて前記保持テーブルを駆動するテーブル制御装置とを備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のレーザー加工装置。
- 前記レーザー光の照射位置を調整する照射位置調整装置と、前記レーザー装置にて前記被加工体の複数個所を加工する場合、前記エアーの風上に位置する部位から加工するように前記照射位置調整装置にて前記レーザー光の照射位置を調整するレーザー制御装置とを備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のレーザー加工装置。
- 前記被加工体は、多層基板を構成する保護フィルムが形成された熱可塑性樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のレーザー加工装置。
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---|---|---|---|---|
JP2010253506A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Hitachi High-Technologies Corp | レーザ加工方法、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 |
JP2011230153A (ja) * | 2010-04-27 | 2011-11-17 | Fuji Electric Co Ltd | ウェハ加工方法およびウェハ加工装置 |
JP2012096271A (ja) * | 2010-11-03 | 2012-05-24 | Trinity Industrial Co Ltd | レーザー加工装置 |
JP2017087203A (ja) * | 2016-09-26 | 2017-05-25 | 株式会社アフレアー | 加工機用の集塵装置およびレーザ加工機 |
US10950391B2 (en) * | 2017-09-15 | 2021-03-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photoelectric conversion device and manufacturing method and apparatus thereof |
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- 2006-01-12 JP JP2006005331A patent/JP2007185685A/ja active Pending
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