JP2007183627A - インクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
本発明によるインクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法は、内側面に微細ホールを含む長いチューブ形状のノズルから微細なインクの滴を滴下することによって、微細な幅の薄膜を形成することができる。
【解決手段】
本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムは、基板が搭載されるステージ、基板上にインクを滴下するヘッドユニット、そしてヘッドユニットを所定の位置に移動させる移送装置を含み、ヘッドユニットは、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドの底面に付着されている長いチューブ形状の複数のノズルを含むのが好ましい。
【選択図】図３

Description

本発明は、インクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法に関する。

一般に、写真エッチング工程を利用して液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）や有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ ｄｉｓｐｌａｙ、ＯＬＥＤ ｄｉｓｐｌａｙ）などの平板表示装置の多様な薄膜パターンを形成する。しかし、平板表示装置が大型化されるほど、薄膜パターンを形成するために基板に塗布される感光膜などの材料の量が増加して製造費用が増加し、写真エッチング工程に使用される製造設備も大型化される。

このような問題を最少化するために、インクを滴下して薄膜パターンを形成するインクジェットプリンティングシステム（ｉｎｋｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｓｙｓｔｅｍ）が開発された。
インクジェットプリンティングシステムにおいて、インクを滴下するインクジェットヘッドは、長い棒形状の構造物に複数のホールを形成し、前記ホール、つまりノズルからインクを滴下する構造である。
特開平12-187206号公報

しかし、インクの濃度が水っぽい場合には、ノズルの周囲にインクが付着しやすい。そのため、ノズルの周囲に付着したインクが、ノズルから滴下されるインクの進行を妨害して、滴下されるインクの滴の大きさ、方向、及び安定性を大きく妨害するようになり、プロファイル及び厚さが均一な薄膜を形成するのが難しい。
また、ノズルの直径が大きい場合には、微細にインクを滴下するのが難しいので、分解能が低下する。

本発明の技術的課題は、プロファイル及び厚さが均一な薄膜を形成することができる、インクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法を提供することにある。

本発明１によるインクジェットプリンティングシステムは、基板が搭載されるステージ、前記基板上にインクを滴下するヘッドユニット、そして前記ヘッドユニットを所定の位置に移動させる移送装置を含み、前記ヘッドユニットは、インクジェットヘッド、そして前記インクジェットヘッドの底面に付着されている長いチューブ形状の複数のノズルを含むのが好ましい。

インクジェットヘッドは長いチューブ形状のノズルを有しており、このノズルから微細なインクの滴を滴下することによって、微細な幅の薄膜を形成することができる。
発明２は、発明１において、前記ノズルの内側面には、前記インクが進む通路である微細ホールが形成されているのが好ましい。
ノズルの内側面には微細ホールが形成されているため、インクの滴を微細にし、微細な薄膜を形成することができる。

発明３は、発明２において、前記ノズルの端部は、テーパ形状である。
ノズルの端部をテーパ形状に形成することによって、インクの濃度が水っぽい場合にも、ノズルの端部にインクが付着しにくく、インクの滴の大きさ及び方向を一定化して、プロファイル及び厚さが均一な薄膜を形成することができる。
発明４は、発明３において、前記ノズルは、炭素ナノチューブからなる。炭素ナノチューブは、引張力が鋼鉄より１００倍強く、柔軟性が優れていて、内部が空なので軽い。よって、炭素ナノチューブをノズルとして用いると、耐久性が強いインクジェットヘッドを構成することができる。また、微細な空洞部分によりインクの滴を微細にし、微細な薄膜を形成することができる
発明５は、発明１において、前記ノズルの直径は、数百ｎｍ乃至１ｎｍであるのが好ましい。

発明６は、発明２において、前記基板は、液晶表示装置用基板または有機発光表示装置用基板である。
発明７は、発明６において、前記インクは、カラーフィルター用インク、有機発光部材用インク、または金属配線用インクから選択されるいずれか一つであるのが好ましい。
発明８は、発明７において、前記基板には、滴下された前記インクを閉込める隔壁部材が形成されている。

発明９は、発明８において、前記隔壁部材は、前記液晶表示装置の遮光部材または前記有機発光表示装置の隔壁であるのが好ましい。
発明１０は、発明７において、前記金属配線用インクは、ゲート線、維持電極線、またはデータ線から選択されるいずれか一つの金属配線用インクであるのが好ましい。
また、本発明１１による表示装置の製造方法は、複数のノズルが付着されているインクジェットヘッドを含むヘッドユニットを基板上に位置させる段階、そして前記ヘッドユニットを移動させて、前記インクジェットヘッドのノズルから基板上にインクを滴下する段階を含み、前記ノズルは、長いチューブ形状で、前記インクジェットヘッドの底面に付着されるのが好ましい。

発明１２は、発明１１において、前記ノズルの内側面には、前記インクが進む通路である微細ホールが形成されているのが好ましい。
発明１３は、発明１２において、前記ノズルの端部は、テーパ形状である。
発明１４は、発明１３において、前記ノズルは、炭素ナノチューブからなる。
発明１５は、発明１２において、前記ノズルの直径は、数百ｎｍ乃至１ｎｍであるのが好ましい。

発明１６は、発明１２において、前記基板は、液晶表示装置用基板または有機発光表示装置用基板である。
発明１７は、発明１６において、前記インクは、カラーフィルター用インク、有機発光部材用インク、または金属配線用インクから選択されるいずれか一つであるのが好ましい。

発明１８は、発明１７において、前記インクは、前記基板の隔壁部材に滴下される。
発明１９は、発明１８において、前記隔壁部材は、前記液晶表示装置の遮光部材または前記有機発光表示装置の隔壁であるのが好ましい。
発明２０は、発明１７において、前記金属配線用インクは、ゲート線、維持電極線、またはデータ線から選択されるいずれか一つの金属配線用インクであるのが好ましい。

本発明２１による表示装置の製造方法は、インクジェットプリンティングシステムを利用した表示装置の製造方法において、前記インクジェットプリンティングシステムのノズルから金属配線用インクを滴下して前記基板上にゲート線を形成する段階、前記ゲート線上にゲート絶縁膜及び半導体層を形成する段階、前記インクジェットプリンティングシステムのノズルから金属配線用インクを滴下して前記基板及び半導体層上にデータ線を形成する段階、前記データ線上に接触孔を含む保護膜を形成する段階、前記保護膜上に前記データ線の一部に連結される画素電極を形成する段階を含み、前記ノズルは、長いチューブ形状で、前記インクジェットヘッドの底面に付着されるのが好ましい。

本発明によるインクジェットプリンティングシステム及びこれを利用した表示装置の製造方法によれば、プロファイル及び厚さが均一な薄膜を形成することができる。

以下、添付した図面を参照して、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な相異した形態で実現でき、ここで説明する実施例に限定されない。
図面では、各層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。明細書全体を通して類似した部分については、同一な図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上”にあるとする時、これは他の部分の“真上”にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も意味する。反対に、ある部分が他の部分の“真上”にあるとする時、これはその中間に他の部分がない場合を意味する。

それでは、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムについて、図１乃至図４を参照して詳細に説明する。
図１は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの斜視図であり、図２は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのヘッドユニット、乾燥ユニット、及び移送装置の底面図であり、図３は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのインクジェットヘッドを利用してインクをプリントする方法を概略的に説明した図面であり、図４は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのインクジェットヘッドを利用してカラーフィルターを形成するためにインクを滴下する状態を示した図面である。

図１乃至図４に示したように、インクジェットプリンティングシステムは、母基板２が搭載されるステージ５００、ステージ５００上に所定の間隔で離隔して位置するヘッドユニット７００、そしてヘッドユニット７００を所定の位置に移動させる移送装置３００を含む。
ステージ５００は、母基板２を支持することができるように、母基板２より大きいのが好ましい。母基板２は、液晶表示装置のカラーフィルター表示板、有機発光表示装置の薄膜トランジスタ表示板などの支持板として利用される複数の基板２１０からなる。

図１には、液晶表示装置のカラーフィルター表示板を形成するための母基板２が示されており、各基板２１０上には、複数の開口部２２５を含む遮光部材２２０が形成されている。
ヘッドユニット７００は、インクジェットヘッド４００、及びインクジェットヘッド４００を移送装置３００に付着させる連結部７１０（図示せず）を含む。インクジェットヘッド４００は、長い棒形状からなり、その底面に複数のノズル４１０が付着されている。

ノズル４１０は、長いチューブ形状からなり、ノズル４１０の内側面に形成された微細ホール４０２からインク５が基板２１０上に滴下される。ノズル４１０の直径は、数百ｎｍ乃至１ｎｍであるのが好ましく、ノズル４１０は、炭素ナノチューブ（ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ）を利用して形成するのが好ましい。炭素ナノチューブは、６角形環に連結された炭素が長い筒形状を構成する直径１ｎｍの大きさの微細な分子である。炭素原子が３個ずつ結合したハニカム形状の炭素の平面が巻かれてチューブ形状を構成している。炭素ナノチューブは、引張力が鋼鉄より１００倍強く、柔軟性が優れていて、内部が空なので軽い。よって、炭素ナノチューブをノズルとして用いると、耐久性が強いインクジェットヘッドを構成することができる。また、微細な空洞部分によりインクの滴を微細にし、微細な薄膜を形成することができる。

このように、インクジェットヘッドは長いチューブ形状のノズルを有しており、またノズルの内側面には微細ホールが形成されているため、微細なインクの滴を滴下することができるので、微細な幅の薄膜を形成することができる。そして、微細なインクの滴の滴下数を調節することによって、多様な形状の薄膜パターンを形成することができる。
また、ノズル４１０の端部４１０ａは、テーパ形状に形成することによって、インク５の濃度が水っぽい場合にも、ノズル４１０にインク５が付着しにくくする。この場合、インク５の進行を妨害する要素がないので、インクの滴の大きさ及び方向が一定になって、プロファイル及び厚さが均一な薄膜を形成することができる。

インクジェットヘッド４００は、所定の角度（θ）でＹ方向に対して傾いている。つまり、インクジェットヘッド４００から互いに隣接するノズル４１０の間の距離であるノズルピッチ（Ｄ）及びプリントされる画素の間の距離である画素ピッチ（Ｐ）に差があるので、インクジェットヘッド４００を所定の角度（θ）に回転させることによって、ノズル４１０から滴下されるインク５の間の間隔を画素ピッチ（Ｐ）に一致させる。このとき、例えば、画素ピッチ（Ｐ）＝ノズルピッチ（Ｄ）×ｃｏｓθとなる。図２では、インクジェットヘッド４００を一つだけ示したが、複数でありうる。

移送装置３００は、ヘッドユニット７００を基板２１０から上側に所定の間隔で離隔するように位置させて、ヘッドユニット７００をＹ方向に移送させるＹ方向移送部３１０、ヘッドユニット７００及び乾燥ユニット５０（図示せず）をＸ方向に移送させるＸ方向移送部３２０、そしてヘッドユニット７００を昇降させる昇降部３３０、昇降部３４０（図示せず）を含む。

このような構造からなるインクジェットプリンティングシステムを利用して基板２１０上にカラーフィルターを形成する動作について説明する。
まず、インクジェットプリンティングシステムの移送装置３００のＸまたはＹ方向移送部３２０、３１０及び昇降部３３０の動作によって、ヘッドユニット７００は、当該基板２１０上に位置する。

次に、移送装置３００のＸ方向移送部３２０及びインクジェットヘッド４００のノズル４１０を駆動してヘッドユニット７００をＸ方向に移動させながらインク５を滴下する。
この時、長いチューブ形状のノズル４１０を利用して大きさ及び方向が一定のインクの滴を滴下することによって、プロファイル及び厚さが均一なカラーフィルター２３０を形成することができる。

一方、このような一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して製造される表示板は、液晶表示装置のカラーフィルター表示板または有機発光表示装置の薄膜トランジスタ表示板でありうる。つまり、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムによって、液晶表示装置のカラーフィルターまたは有機発光表示装置の有機発光部材を形成することができる。

図５は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した液晶表示装置の配置図であり、図６は図５の液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ線による断面図である。
図５及び図６に示したように、液晶表示装置は、下側の薄膜トランジスタ表示板１００、これと対向している上側のカラーフィルター表示板２００、及びこれら二つの表示板１００、２００の間に形成されている液晶層３からなる。

まず、図５及び図６を参照して、薄膜トランジスタ表示板１００について詳細に説明する。
透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板１１０上に、複数のゲート線（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）１２１及び複数の維持電極線（ｓｔｏｒａｇｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ｌｉｎｅ）１３１が形成されている。ゲート線１２１は、ゲート信号を伝達し、主に横方向にのびている。各ゲート線１２１は、下上に突出した複数のゲート電極（ｇａｔｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２４及び他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１２９を含む。維持電極線１３１は、所定の電圧の印加を受け、ゲート線１２１とほぼ平行にのびた幹線及びこれから分かれた複数対の第１及び第２維持電極１３３ａ、１３３ｂを含む。維持電極線１３１の各々は、隣接する二つのゲート線１２１の間に位置し、幹線は二つのゲート線１２１のうちの下側に近く形成されている。

ゲート線１２１及び維持電極線１３１上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなるゲート絶縁膜（ｇａｔｅ ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）１４０が形成されている。
ゲート絶縁膜１４０上には、水素化非晶質シリコン（ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）（非晶質シリコンは略してａ−Ｓｉとする）または多結晶シリコン（ｐｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎ）などからなる複数の線状半導体１５１が形成されている。線状半導体１５１は、主に縦方向にのびていて、ゲート電極１２４に向かってのびた複数の突出部（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ）１５４を含む。線状半導体１５１は、ゲート線１２１及び維持電極線１３１付近で面積が広くなって、これらを幅広く覆っている。

半導体１５１上には、複数の線状及び島型抵抗性接触部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ）１６１、１６５が形成されている。抵抗性接触部材１６１、１６５は、リンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどからなったり、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）からなることができる。線状抵抗性接触部材１６１は、複数の突出部１６３を含み、前記突出部１６３及び島型抵抗性接触部材１６５は、対をなして半導体１５１の突出部１５４上に位置している。

抵抗性接触部材１６１、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、複数のデータ線（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）１７１及び複数のドレイン電極（ｄｒａｉｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７５が形成されている。
データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差している。各データ線１７１は、また、維持電極線１３１と交差して、隣接する維持電極１３３ａ及び１３３ｂの間に配列されている。各データ線１７１は、ゲート電極１２４に向かってのびた複数のソース電極（ｓｏｕｒｃｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７３及び他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１７９を含む。

ドレイン電極１７５は、データ線１７１と分離されていて、ゲート電極１２４を中心にソース電極１７３と対向する。各ドレイン電極１７５は、面積が広い一側端部及び棒形状の他側端部を含む。面積が広い端部は維持電極１３７と重畳し、棒形状の端部は屈曲したソース電極１７３により取り囲まれている。
一つのゲート電極１２４、一つのソース電極１７３、及び一つのドレイン電極１７５は、半導体１５１の突出部１５４と共に一つの薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）を構成し、薄膜トランジスタのチャンネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、ソース電極１７３及びドレイン電極１７５の間の突出部１５４に形成される。

抵抗性接触部材１６１、１６５は、その下の半導体１５１及びその上のデータ線１７１及びドレイン電極１７５の間にだけ位置して、これらの間の接触抵抗を低くする。
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び露出された半導体１５１の部分上には、保護膜（ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）１８０が形成されている。保護膜１８０は、無機絶縁物または有機絶縁物などからなり、表面が平坦でありうる。

保護膜１８０には、データ線１７１の端部１７９及びドレイン電極１７５を各々露出する複数の接触孔（ｃｏｎｔａｃｔ ｈｏｌｅ）１８２、１８５が形成されており、保護膜１８０及びゲート絶縁膜１４０には、ゲート線１２１の端部１２９を露出する複数の接触孔１８１、第１維持電極１３３ａの固定端付近の維持電極線１３１の一部を露出する複数の接触孔１８３ａ、そして第１維持電極１３３ａの自由端の突出部を露出する複数の接触孔１８３ｂが形成されている。

保護膜１８０上には、複数の画素電極（ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１９１、複数の連結橋（ｏｖｅｒｐａｓｓ）８３、及び複数の接触補助部材（ｃｏｎｔａｃｔ ａｓｓｉｓｔａｎｔ）８１、８２が形成されている。
画素電極１９１は、接触孔１８５を通じてドレイン電極１７５に物理的、電気的に連結されており、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。データ電圧の印加を受けた画素電極１９１は、共通電圧（ｃｏｍｍｏｎ ｖｏｌｔａｇｅ）の印加を受ける他の表示板２００の共通電極（ｃｏｍｍｏｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）２７０と共に電場を生成することによって、二つの電極の間の液晶層３の液晶分子の配向方向を決定する。このように決定された液晶分子の配向方向によって、液晶層を通過する光の偏光が変化する。画素電極１９１及び共通電極２７０は、キャパシタ（以下、液晶キャパシタ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）とする）を構成して、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持する。

画素電極１９１及びこれに連結されたドレイン電極１７５は、維持電極１３３ａ、１３３ｂをはじめとする維持電極線１３１と重畳する。画素電極１９１及びこれに電気的に連結されたドレイン電極１７５が維持電極線１３１と重畳して構成するキャパシタをストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）といい、ストレージキャパシタは、液晶キャパシタの電圧を維持する能力を強化する。

接触補助部材８１、８２は、各々接触孔１８１、１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９に連結されている。接触補助部材８１、８２は、ゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９と外部装置との接続性を補完して、これらを保護する。
連結橋８３は、ゲート線１２１を横切り、ゲート線１２１を間にはさんで反対側に位置する接触孔１８３ａ、１８３ｂを通じて維持電極線１３１の露出された部分及び維持電極１３３ｂの自由端の露出された端部に連結されている。維持電極１３３ａ、１３３ｂをはじめとする維持電極線１３１は、連結橋８３と共に、ゲート線１２１、データ線１７１、または薄膜トランジスタの欠陥を修理するための冗長配線として使用される。

それでは、図５及び図６に示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法について、詳細に説明する。
透明なガラスなどからなる絶縁基板１１０上に、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの長いチューブ形状のノズル４１０を利用して金属配線用インク５を滴下してゲート線１２１及び維持電極線１３１を形成する。金属配線用インク５は、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなる。

また、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなる導電膜をスパッタリング蒸着して順次に湿式または乾式エッチングして、複数のゲート線１２１及び複数の維持電極線１３１を形成することができる。

次に、約１，５００−５，０００Åの厚さのゲート絶縁膜１４０、約５００−２，０００Åの厚さの真性非晶質シリコン層（ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）、約３００−６００Åの厚さの不純物非晶質シリコン層（ｅｘｔｒｉｎｓｉｃ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）の３層膜を連続して積層し、不純物非晶質シリコン層及び真性非晶質シリコン層を写真エッチングして、ゲート絶縁膜１４０上に複数の線状不純物半導体及び複数の突出部１５４を含む複数の線状真性半導体１５１を形成する。

次に、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの長いチューブ形状のノズル４１０を利用して金属配線用インク５を滴下して複数のソース電極１７３及び端部１７９を含む複数のデータ線１７１及び複数のドレイン電極１７５を形成する。金属配線用インク５は、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなる。

また、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなる導電膜をスパッタリングなどによって１，５００Å乃至３，０００Åの厚さに蒸着した後でパターニングして、複数のソース電極１７３及び端部１７９を含む複数のデータ線１７１及び複数のドレイン電極１７５を形成することができる。

次に、データ線１７１及びドレイン電極１７５で覆われずに露出された不純物半導体の部分を除去することによって、複数の突出部１６３を含む複数の線状抵抗性接触部材１６１及び複数の島型抵抗性接触部材１６５を完成する一方で、その下の真性半導体１５１の部分を露出させる。露出された真性半導体１５１の部分の表面を安定化させるために、酸素プラズマを続けて行うのが好ましい。

次に、保護膜１８０を塗布した後で保護膜１８０を写真エッチングして、データ線１７１の端部１７９及びドレイン電極１７５の一部を露出させる複数の接触孔１８２、１８５を形成し、ゲート線１２１の端部１２９上に位置するゲート絶縁膜１４０の部分を露出させる複数の接触孔１８１を形成する。
最後に、約４００−５００Åの厚さのＩＺＯ膜またはＩＴＯ膜をスパッタリングによって積層して写真エッチングして、保護膜１８０、ゲート線１２１の端部１２９の露出された部分、ドレイン電極１７５、データ線１７１の端部１７９の露出された部分上に複数の画素電極１９１及び複数の接触補助部材８１、８２を形成する。

それでは、カラーフィルター表示板２００について、図５及び図６を参照して説明する。
透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板２１０上に、遮光部材（ｌｉｇｈｔ ｂｌｏｃｋｉｎｇ ｍｅｍｂｅｒ）２２０が形成されている。遮光部材２２０は、ブラックマトリックス（ｂｌａｃｋ ｍａｔｒｉｘ）ともいい、光漏れを防止する。遮光部材２２０は、画素電極１９１と対向して、画素電極１９１とほぼ同一な形状の複数の開口部２２５を含み、画素電極１９１の間の光漏れを防止する。しかし、遮光部材２２０は、ゲート線１２１及びデータ線１７１に対応する部分及び薄膜トランジスタに対応する部分からなることができる。このような遮光部材２２０は、インクジェットプリンティングシステムを利用したカラーフィルター表示板の製造工程時に、カラーフィルター用インクを閉込める隔壁部材の役割を果たす。

遮光部材２２０の開口部２２５には、インクジェットプリンティングシステムを利用して形成された複数のカラーフィルター２３０が形成されている。カラーフィルター２３０は、遮光部材２２０に囲まれた領域内に大部分が位置し、画素電極１９１の列に沿って縦方向に長くのびている。各カラーフィルター２３０は、赤色、緑色、及び青色の三原色など基本色（ｐｒｉｍａｒｙ ｃｏｌｏｒ）のうちの一つを表示することができる。

カラーフィルター２３０及び遮光部材２２０上には、蓋膜（ｏｖｅｒｃｏａｔ）２５０が形成されている。蓋膜２５０は、（有機）絶縁物からなることができ、カラーフィルター２３０が露出されるのを防止して、平坦な表面を提供する。蓋膜２５０は省略することができる。
蓋膜２５０上には、共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電物質などからなる。

表示板１００、２００の内側面には、配向膜（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｌａｙｅｒ）１１、２１が塗布されており、これらは水平配向膜または垂直配向膜でありうる。表示板１００、２００の外側面には、偏光フィルム（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ）１２、２２が付着されており、二つの偏光フィルム１２、２２の偏光軸は直交し、このうちの一つの偏光軸はゲート線１２１に対して平行であるのが好ましい。反射型液晶表示装置の場合には、二つの偏光フィルム１２、２２のうちの一つを省略することができる。

それでは、図５及び図６に示したカラーフィルター表示板を製造する方法について、詳細に説明する。
まず、透明なガラスなどからなる絶縁基板２１０上に、クロムなどの金属膜を真空蒸着などによって形成して写真エッチングして、複数の開口部２２５を含む遮光部材２２０を形成する。また、遮光部材２２０は、絶縁基板２１０上に高分子樹脂溶液を積層してスピンコーティング処理して写真エッチングして形成されることもでき、慣用的な多様な方法で形成されることができる。

次に、遮光部材２２０の開口部２２５内にインクジェットプリンティングシステムを利用してカラーフィルター２３０を形成する。つまり、ヘッドユニット７００を移動させながらノズル４１０から開口部２２５に赤色カラーフィルター、緑色カラーフィルター、または青色カラーフィルターに相当する液体の顔料ペースト（ｐａｓｔｅ）、つまりカラーフィルター用インク５を滴下して開口部２２５に充填することによって、カラーフィルター２３０を形成する。そして、ヘッドユニット７００に隣接する乾燥ユニット５０を滴下されたインク上に位置させて、真空及び熱を利用してインクを乾燥させてカラーフィルター２３０を完成する。したがって、カラーフィルター２３０のプロファイル及び厚さが均一になる。

次に、カラーフィルター２３０及び遮光部材２２０上に、（有機）絶縁物で蓋膜２５０を形成する。次に、蓋膜２５０上に、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電物質などで共通電極２７０を形成する。
それでは、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した有機発光表示装置について以下で説明する。

まず、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した有機発光表示装置の等価回路について、図７を参照して詳細に説明する。図７は本発明の一実施例による有機発光表示装置の等価回路図である。
図７を参照すれば、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した有機発光表示装置は、複数の信号線１２１、１７１、１７２、及びこれらに連結されていて、ほぼ行列形態に配列された複数の画素（ｐｉｘｅｌ、ＰＸ）を含む。

信号線は、ゲート信号（または走査信号）を伝達する複数のゲート線（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）１２１、データ信号を伝達する複数のデータ線（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）１７１、及び駆動電圧を伝達する複数の駆動電圧線（ｄｒｉｖｉｎｇ ｖｏｌｔａｇｅ ｌｉｎｅ）１７２を含む。ゲート線１２１は、ほぼ行方向にのびていて、互いにほぼ平行であり、データ線１７１及び駆動電圧線１７２は、ほぼ列方向にのびていて、互いにほぼ平行である。

各画素（ＰＸ）は、スイッチングトランジスタ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、Ｑｓ）、駆動トランジスタ（ｄｒｉｖｉｎｇ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、Ｑｄ）、ストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ、Ｃｓｔ）、及び有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ、ＬＤ）を含む。

スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）は、制御端子（ｃｏｎｔｒｏｌ ｔｅｒｍｉｎａｌ）、入力端子（ｉｎｐｕｔ ｔｅｒｍｉｎａｌ）、及び出力端子（ｏｕｔｐｕｔ ｔｅｒｍｉｎａｌ）を含み、制御端子はゲート線１２１に連結されており、入力端子はデータ線１７１に連結されており、出力端子は駆動トランジスタ（Ｑｄ）に連結されている。スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）は、ゲート線１２１に印加される走査信号に応答して、データ線１７１に印加されるデータ信号を駆動トランジスタ（Ｑｄ）に伝達する。

駆動トランジスタ（Ｑｄ）も、制御端子、入力端子、及び出力端子を含み、制御端子はスイッチングトランジスタ（Ｑｓ）に連結されており、入力端子は駆動電圧線１７２に連結されており、出力端子は有機発光ダイオード（ＬＤ）に連結されている。駆動トランジスタ（Ｑｄ）は、制御端子及び出力端子の間にかかる電圧によってその大きさが変化する出力電流（ＩＬＤ）を流す。

ストレージキャパシタ（Ｃｓｔ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の制御端子及び入力端子の間に連結されている。前記キャパシタ（Ｃｓｔ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の制御端子に印加されるデータ信号を充電して、スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）がターンオフされた後にもこれを維持する。
有機発光ダイオード（ＬＤ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の出力端子に連結されているアノード（ａｎｏｄｅ）及び共通電圧（Ｖｓｓ）に連結されているカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）を含む。有機発光ダイオード（ＬＤ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の出力電流（ＩＬＤ）によって異なった強さで発光することによって、画像を表示する。

スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）及び駆動トランジスタ（Ｑｄ）は、ｎ−チャンネル電界効果トランジスタ（ｆｉｅｌｄ ｅｆｆｅｃｔ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＦＥＴ）である。しかし、スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）及び駆動トランジスタ（Ｑｄ）のうちの少なくとも一つは、ｐ−チャンネル電界効果トランジスタでありうる。また、トランジスタ（Ｑｓ、Ｑｄ）、キャパシタ（Ｃｓｔ）、及び有機発光ダイオード（ＬＤ）の連結関係は、変更することもできる。

それでは、図７に示した有機発光表示装置用表示板の構造について、図８及び図９を参照して詳細に説明する。
図８は本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した有機発光表示装置の有機発光表示板の配置図であり、図９は図８の有機発光表示板のＩＸ−ＩＸ線による断面図である。

図８及び図９に示したように、透明なガラスまたはプラスチックなどからなる絶縁基板１１０上に、第１制御電極（ｃｏｎｔｒｏｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２４ａを含む複数のゲート線１２１及び複数の第２制御電極１２４ｂを含む複数のゲート導電体（ｇａｔｅ ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）が形成されている。このようなゲート導電体は、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの長いチューブ形状のノズル４１０を利用して形成する。

ゲート線１２１は、ゲート信号を伝達し、主に横方向にのびている。各ゲート線１２１は、他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１２９を含み、第１制御電極１２４ａは、ゲート線１２１から上にのびている。
第２制御電極１２４ｂは、図８に示すように、ゲート線１２１と分離されていて、下方向にのびてから右方向に若干方向を変化させた後で上に長くのびた維持電極（ｓｔｏｒａｇｅ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１２７を含む。つまり、第２制御電極１２４ｂはゲート線１２１に向かってデータ線１７１と平行な方向に延在する端部と、データ線１７１と平行に長く延在する延長部と、連結されるように配置されている。

ゲート導電体１２１、１２４ｂは、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなることができる。
ゲート導電体１２１、１２４ｂ上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなるゲート絶縁膜（ｇａｔｅ ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）１４０が形成されている。

ゲート絶縁膜１４０上には、水素化非晶質シリコン（ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）（非晶質シリコンは略してａ−Ｓｉとする）または多結晶シリコン（ｐｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎ）などからなる複数の第１及び第２島型半導体１５４ａ、１５４ｂが形成されている。第１及び第２半導体１５４ａ、１５４ｂは、各々第１及び第２制御電極１２４ａ、１２４ｂ上に位置している。

第１及び第２半導体１５４ａ、１５４ｂ上には、各々複数対の第１抵抗性接触部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ）１６３ａ、１６５ａ及び複数対の第２抵抗性接触部材１６３ｂ、１６５ｂが形成されている。抵抗性接触部材１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂは島形であって、リンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどからなったり、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）からなることができる。第１抵抗性接触部材１６３ａ、１６５ａは対をなして第１半導体１５４ａ上に位置しており、第２抵抗性接触部材１６３ｂ、１６５ｂも対をなして第２半導体１５４ｂ上に位置している。

抵抗性接触部材１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂ及びゲート絶縁膜１４０上には、複数のデータ線１７１、複数の駆動電圧線１７２、複数の第１及び第２出力電極（ｏｕｔｐｕｔｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７５ａ、１７５ｂを含む複数のデータ導電体（ｄａｔａ ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）が形成されている。このようなデータ導電体は、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの長いチューブ形状のノズル４１０を利用して形成する。

データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差している。各データ線１７１は、第１制御電極１２４ａに向かってのびた複数の第１入力電極（ｉｎｐｕｔ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１７３ａ及び他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１７９を含む。
駆動電圧線１７２は、駆動電圧を伝達し、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差している。各駆動電圧線１７２は、第２制御電極１２４ｂに向かってのびた複数の第２入力電極１７３ｂを含む。駆動電圧線１７２は、維持電極１２７と重畳して互いに連結されている。

第１及び第２出力電極１７５ａ、１７５ｂは、互いに分離されていて、データ線１７１及び駆動電圧線１７２とも分離されている。第１入力電極１７３ａ及び第１出力電極１７５ａは、第１制御電極１２４ａを中心に互いに対向し、第２入力電極１７３ｂ及び第２出力電極１７５ｂは、第２制御電極１２４ｂを中心に互いに対向している。
データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂは、モリブデン、クロム、タンタル、及びチタニウムなどの耐火性金属、またはこれらの合金からなるのが好ましく、耐火性金属膜（図示せず）及び低抵抗導電膜（図示せず）を含む多重膜構造からなることができる。

抵抗性接触部材１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂは、その下の半導体１５４ａ、１５４ｂ及びその上のデータ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂの間にだけ位置して、接触抵抗を低くする。半導体１５４ａ、１５４ｂには、入力電極１７３ａ、１７３ｂ及び出力電極１７５ａ、１７５ｂの間をはじめとして、データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂで覆われずに露出された部分がある。

データ導電体１７１、１７２、１７５ａ、１７５ｂ及び露出された半導体１５４ａ、１５４ｂの部分上には、保護膜（ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）１８０が形成されている。保護膜１８０は、窒化ケイ素や酸化ケイ素などの無機絶縁物、有機絶縁物、低誘電率絶縁物などからなる。また、保護膜１８０は、半導体１５４の露出された部分を保護しつつ有機膜の長所をいかすことができるように、下部無機膜及び上部有機膜の二重膜構造からなることができる。

保護膜１８０には、データ線１７１の端部１７９及び第１及び第２出力電極１７５ｂを各々露出する複数の接触孔（ｃｏｎｔａｃｔ ｈｏｌｅ）１８２、１８５ａ、１８５ｂが形成されており、保護膜１８０及びゲート絶縁膜１４０には、ゲート線１２１の端部１２９及び第２入力電極１２４ｂを各々露出する複数の接触孔１８１、１８４が形成されている。

保護膜１８０上には、複数の画素電極（ｐｉｘｅｌ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）１９１、複数の連結部材（ｃｏｎｎｅｃｔｉｎｇ ｍｅｍｂｅｒ）８５、及び複数の接触補助部材（ｃｏｎｔａｃｔ ａｓｓｉｓｔａｎｔ）８１、８２が形成されている。これらは、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質や、アルミニウム、銀、またはその合金などの反射性金属からなることができる。

画素電極１９１は、接触孔１８５ｂを通じて第２出力電極１７５ｂに物理的、電気的に連結されており、連結部材８５は、接触孔１８４、１８５ａを通じて第２制御電極１２４ｂ及び第１出力電極１７５ａに連結されている。
接触補助部材８１、８２は、各々接触孔１８１、１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９に連結されている。接触補助部材８１、８２は、ゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９と外部装置との接続性を補完して、これらを保護する。

保護膜１８０上には、隔壁（ｐａｒｔｉｔｉｏｎ）３６１が形成されている。隔壁３６１は、画素電極１９１周縁周辺を堤防（ｂａｎｋ）のように囲んで開口部（ｏｐｅｎｉｎｇ）３６５を定義し、有機絶縁物または無機絶縁物からなる。隔壁３６１は、また、黒色顔料を含む感光剤からなることもでき、この場合、隔壁３６１は、遮光部材の役割を果たし、その形成工程が簡単である。

隔壁３６１が定義する画素電極１９１上の開口部３６５内には、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して形成された有機発光部材（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｍｅｍｂｅｒ）３７０が位置している。つまり、有機発光部材３７０は、本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの長いチューブ形状のノズル４１０を利用して、所定の色の有機発光部材用インクを滴下することにより形成する。有機発光部材３７０は、赤色、緑色、青色の三原色など基本色（ｐｒｉｍａｒｙ ｃｏｌｏｒ）のうちのいずれか一つの光を固有に放出する有機物質からなる。有機発光表示装置は、有機発光部材３７０が放出する基本色光の空間的な合計によって所望の画像を表示する。

有機発光部材３７０は、光を放出する発光層（ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）（図示せず）以外にも、発光層の発光効率を向上させるための付帯層（ａｕｘｉｌｉａｒｙ ｌａｙｅｒ）（図示せず）を含む多層構造からなることができる。付帯層には、電子及び正孔の均衡を合せるための電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）（図示せず）及び正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）（図示せず）、そして電子及び正孔の注入を強化するための電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）（図示せず）及び正孔注入層（ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）（図示せず）などがある。

有機発光部材３７０上には、共通電極（ｃｏｍｍｏｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）２７０が形成されている。共通電極２７０は、共通電圧（Ｖｓｓ）の印加を受け、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム、銀などを含む反射性金属、またはＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電物質からなる。
このような有機発光表示装置において、ゲート線１２１に連結されている第１制御電極１２４ａ、データ線１７１に連結されている第１入力電極１７３ａ及び第１出力電極１７５ａは、第１半導体１５４ａと共にスイッチング薄膜トランジスタ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ＴＦＴ）（Ｑｓ）を構成し、スイッチング薄膜トランジスタ（Ｑｓ）のチャンネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、第１入力電極１７３ａ及び第１出力電極１７５ａの間の第１半導体１５４ａに形成される。第１出力電極１７５ａに連結されている第２制御電極１２４ｂ、駆動電圧線１７２に連結されている第２入力電極１７３ｂ、及び画素電極１９１に連結されている第２出力電極１７５ｂは、第２半導体１５４ｂと共に駆動薄膜トランジスタ（ｄｒｉｖｉｎｇ ＴＦＴ）（Ｑｄ）を構成し、駆動薄膜トランジスタ（Ｑｄ）のチャンネルは、第２入力電極１７３ｂ及び第２出力電極１７５ｂの間の第２半導体１５４ｂに形成される。画素電極１９１、有機発光部材３７０、及び共通電極２７０は、有機発光ダイオード（ＬＤ）を構成し、画素電極１９１がアノード（ａｎｏｄｅ）になって共通電極２７０がカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）になったり、反対に画素電極１９１がカソードになって共通電極２７０がアノードになる。互いに重畳する維持電極１２７及び駆動電圧線１７２は、ストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）（Ｃｓｔ）を構成する。

このような有機発光表示装置は、基板１１０の上側または下側に光を放出して画像を表示する。不透明な画素電極１９１及び透明な共通電極２７０は、基板１１０の上側方向に画像を表示する前面発光（ｔｏｐ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式の有機発光表示装置に適用され、透明な画素電極１９１及び不透明な共通電極２７０は、基板１１０の下側方向に画像を表示する背面発光（ｂｏｔｔｏｍ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）方式の有機発光表示装置に適用される。

一方、半導体１５４ａ、１５４ｂが多結晶シリコンである場合には、制御電極１２４ａ、１２４ｂと対向する真性領域（ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ ｒｅｇｉｏｎ）（図示せず）及びその両側に位置する不純物領域（ｅｘｔｒｉｎｓｉｃ ｒｅｇｉｏｎ）（図示せず）を含む。不純物領域は、入力電極１７３ａ、１７３ｂ及び出力電極１７５ａ、１７５ｂに電気的に連結されており、抵抗性接触部材１６３ａ、１６３ｂ、１６５ａ、１６５ｂは省略することができる。

また、制御電極１２４ａ、１２４ｂを半導体１５４ａ、１５４ｂ上に位置させることもでき、この時にも、ゲート絶縁膜１４０は、半導体１５４ａ、１５４ｂ及び制御電極１２４ａ、１２４ｂの間に位置している。この時、データ導電体１７１、１７２、１７３ｂ、１７５ｂは、ゲート絶縁膜１４０上に位置して、ゲート絶縁膜１４０に形成された接触孔（図示せず）を通じて半導体１５４ａ、１５４ｂに電気的に連結されている。これとは異なって、データ導電体１７１、１７２、１７３ｂ、１７５ｂが半導体１５４ａ、１５４ｂ下に位置して、その上の半導体１５４ａ、１５４ｂに電気的に接触することもできる。

以上で、本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、これから多様な変形及び均等な実施例が可能であるということを理解することができる。したがって、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の多様な変形及び改良形態も、本発明の権利範囲に属する。

本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムの斜視図である。 本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのヘッドユニット及び移送装置の底面図である。 本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのインクジェットヘッドを利用してインクをプリントする方法を概略的に説明した図面である。 本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムのインクジェットヘッドを利用してカラーフィルターを形成するためにインクを滴下する状態を示した図面である。 本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した液晶表示装置の配置図である。 図５の液晶表示装置のＶＩ−ＶＩ線による断面図である。 本発明の一実施例による有機発光表示装置の等価回路図である。 本発明の一実施例によるインクジェットプリンティングシステムを利用して完成した有機発光表示装置の有機発光表示板の配置図である。 図８の有機発光表示板のＩＸ−ＩＸ線による断面図である。

符号の説明

３００ 移送装置
３１０ Ｙ方向移送部
３２０ Ｘ方向移送部
３３０、３４０ 昇降部
４００ インクジェットヘッド
４０２ 微細ホール
４１０ ノズル
５００ ステージ
７００ ヘッドユニット

Claims (21)

1. 基板が搭載されるステージ、
   前記基板上にインクを滴下するヘッドユニット、そして
   前記ヘッドユニットを所定の位置に移動させる移送装置を含み、
   前記ヘッドユニットは、インクジェットヘッド、そして前記インクジェットヘッドの底面に付着されている長いチューブ形状の複数のノズルを含む、インクジェットプリンティングシステム。
2. 前記ノズルの内側面には、前記インクが進む通路である微細ホールが形成されている、請求項１に記載のインクジェットプリンティングシステム。
3. 前記ノズルの端部は、テーパ形状である、請求項２に記載のインクジェットプリンティングシステム。
4. 前記ノズルは、炭素ナノチューブからなる、請求項３に記載のインクジェットプリンティングシステム。
5. 前記ノズルの直径は、数百ｎｍ乃至１ｎｍである、請求項１に記載のインクジェットプリンティングシステム。
6. 前記基板は、液晶表示装置用基板または有機発光表示装置用基板である、請求項２に記載のインクジェットプリンティングシステム。
7. 前記インクは、カラーフィルター用インク、有機発光部材用インク、または金属配線用インクから選択されるいずれか一つである、請求項６に記載のインクジェットプリンティングシステム。
8. 前記基板には、滴下された前記インクを閉じ込める隔壁部材が形成されている、請求項７に記載のインクジェットプリンティングシステム。
9. 前記隔壁部材は、前記液晶表示装置の遮光部材または前記有機発光表示装置の隔壁である、請求項８に記載のインクジェットプリンティングシステム。
10. 前記金属配線用インクは、ゲート線、維持電極線、またはデータ線から選択されるいずれか一つの金属配線用インクである、請求項７に記載のインクジェットプリンティングシステム。
11. 複数のノズルが付着されているインクジェットヘッドを含むヘッドユニットを基板上に位置させる段階、そして
    前記ヘッドユニットを移動させて、前記インクジェットヘッドのノズルから基板上にインクを滴下する段階を含み、
    前記ノズルは、長いチューブ形状で、前記インクジェットヘッドの底面に付着される、表示装置の製造方法。
12. 前記ノズルの内側面には、前記インクが進む通路である微細ホールが形成されている、請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
13. 前記ノズルの端部は、テーパ形状である、請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
14. 前記ノズルは、炭素ナノチューブからなる、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
15. 前記ノズルの直径は、数百ｎｍ乃至１ｎｍである、請求項１２に記載のインクジェットプリンティングシステム（表示装置の製造方法）。
16. 前記基板は、液晶表示装置用基板または有機発光表示装置用基板である、請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
17. 前記インクは、カラーフィルター用インク、有機発光部材用インク、または金属配線用インクから選択されるいずれか一つである、請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
18. 前記インクは、前記基板の隔壁部材に滴下される、請求項１７に記載の表示装置の製造方法。
19. 前記隔壁部材は、前記液晶表示装置の遮光部材または前記有機発光表示装置の隔壁である、請求項１８に記載の表示装置の製造方法。
20. 前記金属配線用インクは、ゲート線、維持電極線、またはデータ線から選択されるいずれか一つの金属配線用インクである、請求項１７に記載の表示装置の製造方法。
21. インクジェットプリンティングシステムを利用した表示装置の製造方法において、
    前記インクジェットプリンティングシステムのノズルから金属配線用インクを滴下して前記基板上にゲート線を形成する段階、
    前記ゲート線上にゲート絶縁膜及び半導体層を形成する段階、
    前記インクジェットプリンティングシステムのノズルから金属配線用インクを滴下して前記基板及び半導体層上にデータ線を形成する段階、
    前記データ線上に接触孔を含む保護膜を形成する段階、
    前記保護膜上に前記データ線の一部に連結される画素電極を形成する段階を含み、
    前記ノズルは、長いチューブ形状で、前記インクジェットヘッドの底面に付着される、表示装置の製造方法。

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