JP2007183416A - 光路切替型光学系、これを用いた多方向観察光学系および多方向電磁波照射光学系 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光路転換部位置可変手段は、対象物体99の底面の光路5a1と側面の光路5b1と上面の光路5c1とがそれぞれ光路転換部、光路補正部を含むプリズム2a1が90°回転することによって、光路を切り替える。
【選択図】図1
Description
(3_1) 一の電磁波発生源から被処理物体の上面および一もしくは二以上の側面に対して該被処理物体を動かすことなく電磁波を照射することのできる一または二以上の側面照射用プリズム系、もしくは底面に対して該被処理物体を動かすことなく電磁波を照射することのできる底面照射用プリズム系の少なくともいずれかを有してなる被処理物体多方向電磁波照射系であって、該側面照射用プリズム系は、光路方向転換用プリズムまたは光路方向転換用プリズム機能を有しており、該プリズム系は、被処理物体の真上方向には該電磁波発生源からの電磁波照射を直接得るための開放空間が確保されるとともに被処理物体載置部が確保されるように該空間の側方に設けられ、該プリズム系は、それぞれの上方から入射する電磁波の光路が前記光路方向転換用プリズム等を経て被処理物体の側方から側面へ到達するように、かつ光路を遮られないように配置されており、該電磁波発生源は該プリズム系それぞれの真上から該プリズム系に向かって電磁波の発生が可能に構成されていることを特徴とする、被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_2) 一の電磁波発生源から被処理物体の上面および一もしくは二以上の側面に対して、該被処理物体を動かすことなく電磁波を照射することのできる、一または二以上の側面照射用プリズム系と、底面に対して、該被処理物体を動かすことなく電磁波を照射することのできる、底面照射用プリズム系とからなる被処理物体多方向電磁波照射系であって、該側面照射用プリズム系および該底面照射用プリズム系はそれぞれ、光路方向転換用プリズムまたは光路方向転換用プリズム機能を有しており、該各プリズム系は、被処理物体の真上方向には該電磁波発生源からの電磁波照射を直接得るための開放空間が確保されるとともに被処理物体載置部が確保されるように該空間の側方周囲および一部は下方位置を占めて設けられ、該各プリズム系は、それぞれの上方から入射する電磁波の光路が前記光路方向転換用プリズム等を経て被処理物体の側方から側面へまたは下方から底面へ到達するように、かつ光路を遮られないように配置されており、該電磁波発生源は該プリズム系それぞれの真上から該プリズム系に向かって電磁波の発生が可能に構成されていることを特徴とする、被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_3) 前記光路方向転換用プリズムまたは光路方向転換用プリズム機能には、前記側面照射用プリズム系においては45°ミラープリズム、正立像を得ることのできるペンタプリズムもしくはそのいずれかの機能を有するプリズムが用いられ、前記底面照射用プリズム系においては二度の方向転換を得ることのできる台形プリズム、三角プリズムもしくはそのいずれかの機能を有するプリズムが用いられることを特徴とする、(3_1)または(3_2)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_4) 前記側面照射用プリズム系、前記底面照射用プリズム系および被処理物体載置部は一体に形成されていることを特徴とする、(3_3)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_5) 前記電磁波発生源は、前記被処理物体の各面同時に合焦面を合わせるのに充分な被写界深度の位置に設けられていることを特徴とする、(3_1)ないし(3_4)のいずれかに記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_6) 前記電磁波発生源は、前記プリズム系それぞれの真上に移動可能に構成されていることを特徴とする、(3_5)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_7) 前記電磁波発生源は、YAG、CO2等の加工用レーザー源であり、それにより被処理物体を動かすことなくその複数の面に同一のレーザー加工を施せることを特徴とする、(3_5)または(3_6)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_8) (3_7)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系を用いたレーザー加工装置。
(3_9) 前記電磁波発生源は、紫外線源であり、それにより被処理物体を動かすことなくその複数の面に紫外線照射を施せることを特徴とする、(3_5)または(3_6)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系。
(3_10) (3_9)に記載の被処理物体多方向電磁波照射系を用いた紫外線硬化型樹脂接着加工装置。
(3_11) 前記紫外線源には、被処理物体である紫外線硬化型樹脂の任意箇所の接着加工を行うために、紫外線のマスキングを行うマスキング部が設けられていることを特徴とする、(3_10)に記載の紫外線硬化型樹脂接着加工装置。
(1) 下記〔I〕または〔II〕のいずれかの光学系を構成可能な光路切替型光学系であって、該光路切替型光学系は、後記対象物体が載置される載置部と、該対象物体において取扱い対象となる各面に係る光路が画像取得位置もしくは電磁波発生位置において同一光軸かつ同一方向となるように構成された複合プリズム構造と、必要に応じて前記光路の方向転換や通過・遮断を切替え可能なように構成された光路切替手段とを有してなり、該複合プリズム構造は光路転換部ならびに光路長補正部を有してなり、該光路切替手段により該光路が切り替えられることによって、選択的に該対象物体の各面画像の取得や各面への電磁波照射を行うことが可能であることを特徴とする、光路切替型光学系。
〔I〕被検物体たる対象物体の上面画像、および一もしくは二以上の側面画像または底面画像すなわち非上面画像のうち少なくともいずれかの画像について、それらの面のいずれの画像についても、同一方向上において取得することのできる多方向観察光学系。
〔II〕一の電磁波発生源から被処理物体たる対象物体の上面、および一もしくは二以上の側面または底面すなわち非上面のうち少なくともいずれかの面に対して、それらの面のいずれに対しても、同一方向からの電磁波照射により電磁波を照射することのできる多方向電磁波照射光学系。
(2) 前記複合プリズム構造は、プリズムまたは平面ミラーを用いて構成されることを特徴とする、(1)に記載の光路切替型光学系。
(3) 前記光路切替手段は、前記複合プリズム構造中の少なくとも一部の光路転換部について、これらの配設位置または姿勢を前記載置部に対して変化させることの可能な光路転換部位置可変手段であることを特徴とする、(1)または(2)に記載の光路切替型光学系。
(4) 前記光路転換部位置可変手段は、前記対象物体の各面に対応する前記各光路転換部を、個別に位置変化させることが可能であることを特徴とする、(3)に記載の光路切替型光学系。
(5) 前記光路転換部位置可変手段は、前記載置部の上下方向軸上から前記各光路転換部を外すことが可能なように前記複合プリズム構造を上下方向軸周りに回動させる手段であることを特徴とする、(4)に記載の光路切替型光学系。
(6) 前記光路転換部は、位置の固定された固定光路転換部と、これに対する入射を制御するための位置可変の可動光路転換部とからなり、前記光路転換部位置可変手段は、該可動光路転換部を角度変化させる角度可変手段であることを特徴とする、(3)に記載の光路切替型光学系。
(7) 前記可動光路転換部は、一の前記固定光路転換部を通過する光路の前後各側に設けられ、前記角度可変手段により制御されるそれらの角度の組合せによって、該固定光路転換部における入射ならびに遮断、および入射方向ならびに光路転換方向を切替可能であることを特徴とする、(6)に記載の光路切替型光学系。
(8) 前記複合プリズム構造は底面用プリズムおよび少なくとも一の側面用プリズムを有し、前記可動光路転換部は前記載置部の上方に設けられた光路切替部材であり、前記角度可変手段により該光路切替部材の角度を変化させることによって、該底面用プリズム方向か、該側面用プリズム方向かに光路転換方向を切替可能であることを特徴とする、(6)に記載の光路切替型光学系。
(9) 前記光路切替部材は複数の前記側面用プリズムに対応できるよう複数の側面プリズム用の光路転換機能を備え、かつ複数の平面内においてそれぞれ角度変化が可能であり、前記角度可変手段は該光路切替部材を該複数の平面内においてそれぞれ角度変化させることが可能であることを特徴とする、(8)に記載の光路切替型光学系。
(10) 前記光路転換部は、位置の固定された固定光路転換部と、これに対する入射を制御するための位置可変の可動光路転換部とからなり、前記光路転換部位置可変手段は、該可動光路転換部を平行移動させる手段であることを特徴とする、(3)に記載の光路切替型光学系。
(11) 前記光路転換部は、そのすべてが相対位置を固定されて前記複合プリズム構造中に形成されており、前記光路転換部位置可変手段は、該複合プリズム構造全体を前記載置部に対して水平方向に移動させる手段であることを特徴とする、(3)に記載の光路切替型光学系。
(13) 前記光路通過制御手段は、前記載置部の上方位置、および下方位置または一もしくは二以上の側方位置の少なくともいずれか一方位置にそれぞれ設けられた、光路の通過および遮断のため開閉可能に形成された遮蔽板構造であることを特徴とする、(12)に記載の光路切替型光学系。
(14) 前記光路切替手段は、前記光路転換部自体に備えられたまたは該光路転換部に付加もしくは挿入可能な屈折可変構造と、該屈折可変構造の機能を制御する屈折制御手段からなり、これらにより、該光路転換部における入射光線もしくは電磁波の透過および反射を屈折率の変化を利用して制御可能であることを特徴とする、(1)または(2)に記載の光路切替型光学系。
(15) 前記屈折可変構造は、前記光路転換部とは相互に屈折率の異なる物質を含めて二種類以上の物質を用いてなり、これが該光路転換部の光路転換面部分に接して可逆的に付加もしくは挿入されることにより該光路転換部における透過や反射が制御されて、光路切替が可能であることを特徴とする、請求項14に記載の光路切替型光学系。
(16) 前記屈折可変構造は、屈折率が前記光路転換部と近似する物質からなる透過用構造と、屈折率が該光路転換部よりも充分に小さい物質からなる反射用構造とを備えてなることを特徴とする、(15)に記載の光路切替型光学系。
(17) 前記光路転換部は前記屈折可変構造を具備して前記載置部の上方に設けられた一の屈折型光路切替部材であり、該屈折型光路切替部材は入射光線もしくは電磁波の透過および、一または二以上の方向へのもしくは一または二以上の角度での屈折が可能に形成され、前記屈折制御手段は、該屈折型光路切替部材における透過および屈折を制御可能であることを特徴とする、(14)に記載の光路切替型光学系。
(19) 前記光路分岐手段により、切替可能な複数の光路方向のうち少なくとも二方向について同時に光路通過させることが可能であることを特徴とする、(18)に記載の光路切替型光学系。
(20) 前記光路切替手段は、駆動機構を用いて機械的に駆動されることを特徴とする、(3)ないし(19)のいずれかに記載の光路切替型光学系。
(21) 前記光路切替手段は、加熱もしくは加圧手段、または電圧の印加その他の電磁的手段により駆動されることを特徴とする、(3)ないし(19)のいずれかに記載の光路切替型光学系。
(22) (1)ないし(21)のいずれかに記載の光路切替型光学系を用いてなり、被検物体たる対象物体の上面画像、および一もしくは二以上の側面画像または底面画像すなわち非上面画像のうち少なくともいずれかの画像について、それらの面のいずれの画像についても、同一方向上において取得可能であることを特徴とする、多方向観察光学系。
(23) 前記複合プリズム構造の上方すなわち画像取得方向に、画像取得用レンズが設けられていることを特徴とする、(22)に記載の多方向観察光学系。
(24) 前記画像取得用レンズを介して得られる光を光電変換処理するためのCCD、CMOSもしくはラインCCDその他の電子撮像素子を備えてなり、画像計測を含む画像解析が可能であることを特徴とする、(23)に記載の多方向観察光学系。
(25) (1)ないし(21)のいずれかに記載の光路切替型光学系を用いてなり、一の電磁波発生源から被処理物体たる対象物体の上面、および一もしくは二以上の側面または底面すなわち非上面のうち少なくともいずれかの面に対して、それらの面のいずれに対しても、同一方向からの電磁波照射により電磁波を照射可能であることを特徴とする、多方向電磁波照射光学系。
図B−1は、本発明の光路切替型光学系の原理構成を示す概念図である。図示するように本光学系1は、後記対象物体99が載置される載置部8と、該対象物体99において取扱い対象となる各面に係る光路L1あるいはL2が画像取得位置もしくは電磁波発生位置P9において同一光軸かつ同一方向となるように構成された複合プリズム構造2と、必要に応じて前記光路L1等の方向転換や通過・遮断を切替え可能なように構成された光路切替手段4とを有してなり、該複合プリズム構造2は光路転換部2Tならびに光路長補正部2Aを有してなることを、原理構成とする。該複合プリズム構造2は、プリズムまたは平面ミラーを用いて構成するものとすることができる。
<方式I> 光路転換部位置可変手段
光路切替手段として、複合プリズム構造中の少なくとも一部の光路転換部について、これらの配設位置または姿勢を前記載置部に対して変化させることの可能な光路転換部位置可変手段を用いる方式。
<方式II> 光路通過制御手段
光路切替手段として、光路転換部外の光路上に配設された、光路の通過および遮断制御可能な光路通過制御手段を用いる方式。
<方式III> 屈折可変構造および屈折制御手段
光路切替手段として、光路転換部自体に備えられた、または光路転換部に付加もしくは挿入可能な屈折可変構造と、屈折可変構造の機能を制御する屈折制御手段を用いる方式。
<方式IV> 光路分岐手段
光路切替手段として光路分岐手段、およびそれによる光路分岐方向に設けられた、光路の通過および遮断のため開閉可能に形成された遮蔽板構造を用いる方式。
各方式は、これらをそれぞれ単独で用いることのほか、方式によっては適宜併用することも、本発明から排除されない。以下、各方式による本発明光学系について順次説明する。
<I−1> 光路転換部位置可変手段として、前記対象物体の各面に対応する前記各光路転換部を、個別に位置変化させることが可能な手段を用いる方式。つまり、各光路転換部自体、もしくはこれを備えた複合プリズム構造中の個別の部位あるいは部品を、各個別々に位置変化可能な構成であり、それにより、光路転換部と対象物体の対応面との間の光路の断続状態を制御することをもって、光路切替の手段とするものである。下記に述べる実施例1は、これに該当する。
光路切替手段として、光路転換部外の光路上に配設された光路通過制御手段をもって光路切替の手段とする方式である。下記に述べる実施例6は、これに該当する。
光路切替手段として、光路転換部自体に備えられた、または光路転換部に付加もしくは挿入可能な屈折可変構造と、その機能を制御する屈折制御手段を用いる方式である。
<III−1> 光路転換部とは相互に屈折率の異なる物質を含む二以上の物質から屈折可変構造を構成し、これを光路転換部の光路転換面部分に接して可逆的に付加もしくは挿入することをもって、光路切替手段とする方式。つまり本方式は、屈折可変構造の挿入等により光路転換部における透過や反射を制御することをもって、光路切替の手段とするものである。下記に述べる実施例7、8は、これに該当する。
図7−2は、実施例7において、光路転換部における透過・反射が制御される仕組みを説明する説明図である。これらに図示するように実施例7では、たとえば光路転換部417を構成するプリズム部材4171、4172とは屈折率の異なる物質からなる屈折可変構造7100、屈折率の近似した屈折率可変構造7200を用意し、これを光路転換部417の光路転換面部分に接して可逆的に付加もしくは挿入することをもって、光路切替手段とする構成である。
光路切替手段として光路分岐手段、およびそれによる光路分岐方向に設けられた、光路の通過および遮断のため開閉可能に形成された遮蔽板構造をもって、光路切替の手段とするものである。下記に述べる実施例10、11および12はいずれもこれに該当する。後述する各実施例の説明は、画像取得目的の多方向観察光学系を例にしているが、光路方向を逆にすれば電磁波照射光学系にも該当することは、上述した通りである。
2…複合プリズム構造
2T…光路転換部
2A…光路長補正部
4…光路切替手段
8…載置部
9A…画像取得手段
9B…電磁波発生源
99…対象物体
L1、L2…光路
P9…画像取得位置もしくは電磁波発生位置
5a1、5a2、5a3、5a4、5a5、5a6、5a7、5a8、5a9、5a10、5a11、5a12…対象物体の底面に係る光路
5b1、5b2、5b3、5b4、5b5、5b6、5b7、5b8、5b9、5b10、5b12、5b’12…対象物体の側面に係る光路
5c1、5c2、5c3、5c4、5c5、5c6、5c7、5c8、5c9、5c11、5c12…対象物体の上面に係る光路
3c21、3c22…可動光路転換部(平面ミラー)
2a3…底面用プリズム
2b3…側面用プリズム
413…光路切替部材
3c40…可動光路転換部(平面ミラー)
2c5…複合プリズム構造
416、436…光路転換部(ハーフミラー付き)
426、446、456…光路転換部
6061、6062、6063…遮蔽板構造
417、427…光路転換部
4171、4172…プリズム部材
5100…光線
7100、7200…屈折可変構造
2a9、2b9…プリズム
429…屈折型光路切替部材
2a10、2b10、2a11、2a12、2b12、2c12…プリズム
3a10、3c10、3a11、3a12、3c12…光路転換部(平面ミラー)
60a10、60b10、60a11、60c11、60a12、60b12、60b’12、60c12…遮蔽板構造
7010…反射構造
8010、8011、8012…ビームスプリッタ
8312F、8312G、8312H…光路転換面
Claims (25)
- 下記〔I〕または〔II〕のいずれかの光学系を構成可能な光路切替型光学系であって、該光路切替型光学系は、後記対象物体が載置される載置部と、該対象物体において取扱い対象となる各面に係る光路が画像取得位置もしくは電磁波発生位置において同一光軸かつ同一方向となるように構成された複合プリズム構造と、必要に応じて前記光路の方向転換や通過・遮断を切替え可能なように構成された光路切替手段とを有してなり、該複合プリズム構造は光路転換部ならびに光路長補正部を有してなり、該光路切替手段により該光路が切り替えられることによって、選択的に該対象物体の各面画像の取得や各面への電磁波照射を行うことが可能であることを特徴とする、光路切替型光学系。
〔I〕被検物体たる対象物体の上面画像、および一もしくは二以上の側面画像または底面画像すなわち非上面画像のうち少なくともいずれかの画像について、それらの面のいずれの画像についても、同一方向上において取得することのできる多方向観察光学系。
〔II〕一の電磁波発生源から被処理物体たる対象物体の上面、および一もしくは二以上の側面または底面すなわち非上面のうち少なくともいずれかの面に対して、それらの面のいずれに対しても、同一方向からの電磁波照射により電磁波を照射することのできる多方向電磁波照射光学系。 - 前記複合プリズム構造は、プリズムまたは平面ミラーを用いて構成されることを特徴とする、請求項1に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段は、前記複合プリズム構造中の少なくとも一部の光路転換部について、これらの配設位置または姿勢を前記載置部に対して変化させることの可能な光路転換部位置可変手段であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部位置可変手段は、前記対象物体の各面に対応する前記各光路転換部を、個別に位置変化させることが可能であることを特徴とする、請求項3に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部位置可変手段は、前記載置部の上下方向軸上から前記各光路転換部を外すことが可能なように前記複合プリズム構造を上下方向軸周りに回動させる手段であることを特徴とする、請求項4に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部は、位置の固定された固定光路転換部と、これに対する入射を制御するための位置可変の可動光路転換部とからなり、前記光路転換部位置可変手段は、該可動光路転換部を角度変化させる角度可変手段であることを特徴とする、請求項3に記載の光路切替型光学系。
- 前記可動光路転換部は、一の前記固定光路転換部を通過する光路の前後各側に設けられ、前記角度可変手段により制御されるそれらの角度の組合せによって、該固定光路転換部における入射ならびに遮断、および入射方向ならびに光路転換方向を切替可能であることを特徴とする、請求項6に記載の光路切替型光学系。
- 前記複合プリズム構造は底面用プリズムおよび少なくとも一の側面用プリズムを有し、前記可動光路転換部は前記載置部の上方に設けられた光路切替部材であり、前記角度可変手段により該光路切替部材の角度を変化させることによって、該底面用プリズム方向か、該側面用プリズム方向かに光路転換方向を切替可能であることを特徴とする、請求項6に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替部材は複数の前記側面用プリズムに対応できるよう複数の側面プリズム用の光路転換機能を備え、かつ複数の平面内においてそれぞれ角度変化が可能であり、前記角度可変手段は該光路切替部材を該複数の平面内においてそれぞれ角度変化させることが可能であることを特徴とする、請求項8に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部は、位置の固定された固定光路転換部と、これに対する入射を制御するための位置可変の可動光路転換部とからなり、前記光路転換部位置可変手段は、該可動光路転換部を平行移動させる手段であることを特徴とする、請求項3に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部は、そのすべてが相対位置を固定されて前記複合プリズム構造中に形成されており、前記光路転換部位置可変手段は、該複合プリズム構造全体を前記載置部に対して水平方向に移動させる手段であることを特徴とする、請求項3に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段は、前記光路転換部外の光路上に配設された、光路の通過および遮断制御可能な光路通過制御手段であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路通過制御手段は、前記載置部の上方位置、および下方位置または一もしくは二以上の側方位置の少なくともいずれか一方位置にそれぞれ設けられた、光路の通過および遮断のため開閉可能に形成された遮蔽板構造であることを特徴とする、請求項12に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段は、前記光路転換部自体に備えられたまたは該光路転換部に付加もしくは挿入可能な屈折可変構造と、該屈折可変構造の機能を制御する屈折制御手段からなり、これらにより、該光路転換部における入射光線もしくは電磁波の透過および反射を屈折率の変化を利用して制御可能であることを特徴とする、請求項1または2に記載の光路切替型光学系。
- 前記屈折可変構造は、前記光路転換部とは相互に屈折率の異なる物質を含めて二種類以上の物質を用いてなり、これが該光路転換部の光路転換面部分に接して可逆的に付加もしくは挿入されることにより該光路転換部における透過や反射が制御されて、光路切替が可能であることを特徴とする、請求項14に記載の光路切替型光学系。
- 前記屈折可変構造は、屈折率が前記光路転換部と近似する物質からなる透過用構造と、屈折率が該光路転換部よりも充分に小さい物質からなる反射用構造とを備えてなることを特徴とする、請求項15に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路転換部は前記屈折可変構造を具備して前記載置部の上方に設けられた一の屈折型光路切替部材であり、該屈折型光路切替部材は入射光線もしくは電磁波の透過および、一または二以上の方向へのもしくは一または二以上の角度での屈折が可能に形成され、前記屈折制御手段は、該屈折型光路切替部材における透過および屈折を制御可能であることを特徴とする、請求項14に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段として光路分岐手段、およびそれによる光路分岐方向に設けられた、光路の通過および遮断のため開閉可能に形成された遮蔽板構造を用いることを特徴とする、請求項3ないし17のいずれかに記載の光路切替型光学系。
- 前記光路分岐手段により、切替可能な複数の光路方向のうち少なくとも二方向について同時に光路通過させることが可能であることを特徴とする、請求項18に記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段は、駆動機構を用いて機械的に駆動されることを特徴とする、請求項3ないし19のいずれかに記載の光路切替型光学系。
- 前記光路切替手段は、加熱もしくは加圧手段、または電圧の印加その他の電磁的手段により駆動されることを特徴とする、請求項3ないし19のいずれかに記載の光路切替型光学系。
- 請求項1ないし21のいずれかに記載の光路切替型光学系を用いてなり、被検物体たる対象物体の上面画像、および一もしくは二以上の側面画像または底面画像すなわち非上面画像のうち少なくともいずれかの画像について、それらの面のいずれの画像についても、同一方向上において取得可能であることを特徴とする、多方向観察光学系。
- 前記複合プリズム構造の上方すなわち画像取得方向に、画像取得用レンズが設けられていることを特徴とする、請求項22に記載の多方向観察光学系。
- 前記画像取得用レンズを介して得られる光を光電変換処理するためのCCD、CMOSもしくはラインCCDその他の電子撮像素子を備えてなり、画像計測を含む画像解析が可能であることを特徴とする、請求項23に記載の多方向観察光学系。
- 請求項1ないし21のいずれかに記載の光路切替型光学系を用いてなり、一の電磁波発生源から被処理物体たる対象物体の上面、および一もしくは二以上の側面または底面すなわち非上面のうち少なくともいずれかの面に対して、それらの面のいずれに対しても、同一方向からの電磁波照射により電磁波を照射可能であることを特徴とする、多方向電磁波照射光学系。
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JP2006001512A JP2007183416A (ja) | 2006-01-06 | 2006-01-06 | 光路切替型光学系、これを用いた多方向観察光学系および多方向電磁波照射光学系 |
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---|---|---|---|---|
CN112805583A (zh) * | 2018-09-26 | 2021-05-14 | 京瓷株式会社 | 电磁波检测装置以及信息获取系统 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS542146A (en) * | 1977-05-31 | 1979-01-09 | Ets Pieeru Anjiniyuu Sa | Optical device |
JPH02206037A (ja) * | 1989-02-03 | 1990-08-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光記録再生装置 |
JPH04273008A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Canon Inc | 表面状態検査装置 |
JPH04307435A (ja) * | 1991-04-05 | 1992-10-29 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク装置 |
JPH04339245A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-11-26 | Canon Inc | 表面状態検査装置 |
JP2000356751A (ja) * | 1999-06-16 | 2000-12-26 | Canon Inc | 光スイッチ |
JP2003167205A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Olympus Optical Co Ltd | 複合光学素子 |
-
2006
- 2006-01-06 JP JP2006001512A patent/JP2007183416A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS542146A (en) * | 1977-05-31 | 1979-01-09 | Ets Pieeru Anjiniyuu Sa | Optical device |
JPH02206037A (ja) * | 1989-02-03 | 1990-08-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光記録再生装置 |
JPH04339245A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-11-26 | Canon Inc | 表面状態検査装置 |
JPH04273008A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Canon Inc | 表面状態検査装置 |
JPH04307435A (ja) * | 1991-04-05 | 1992-10-29 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク装置 |
JP2000356751A (ja) * | 1999-06-16 | 2000-12-26 | Canon Inc | 光スイッチ |
JP2003167205A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Olympus Optical Co Ltd | 複合光学素子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112805583A (zh) * | 2018-09-26 | 2021-05-14 | 京瓷株式会社 | 电磁波检测装置以及信息获取系统 |
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