JP2007169705A - 非平衡マグネトロンスパッタ用カソード - Google Patents
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Abstract
【課題】 良好なターゲット利用率を有する非平衡マグネトロンスパッタ(UBMS)用カソードを提供する。
【解決手段】 ターゲット4と、これに対向するように設けられた基板Wに伸びる磁力線が形成されるように設けられた中央磁石1と、中央磁石1の外周部に設けられた外周磁石2と、これらの磁石1,2を磁気的に接続するヨーク3を備える。前記中央磁石1と外周磁石2とは、各々の磁石のターゲット側端部はヨーク3に対して同一ないしほぼ同一の高さになるように配置されると共に前記中央磁石1は、磁気的空間部7を介して前記ヨーク3に磁気的に接続される。また、前記ターゲット4の基板側表面に凸状に形成される磁力線を平坦状に制御する薄板状の磁性体部材5が前記中央磁石1と外周磁石2との間に設けられる。
【選択図】 図1
【解決手段】 ターゲット4と、これに対向するように設けられた基板Wに伸びる磁力線が形成されるように設けられた中央磁石1と、中央磁石1の外周部に設けられた外周磁石2と、これらの磁石1,2を磁気的に接続するヨーク3を備える。前記中央磁石1と外周磁石2とは、各々の磁石のターゲット側端部はヨーク3に対して同一ないしほぼ同一の高さになるように配置されると共に前記中央磁石1は、磁気的空間部7を介して前記ヨーク3に磁気的に接続される。また、前記ターゲット4の基板側表面に凸状に形成される磁力線を平坦状に制御する薄板状の磁性体部材5が前記中央磁石1と外周磁石2との間に設けられる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、基材の表面に透明導電膜などの機能膜を成膜する非平衡マグネトロンスパッタ装置に用いられるカソードに関する。
マグネトロンスパッタ装置に用いられるカソードとして、ターゲットの表面側に漏洩する磁界により高密度プラズマを形成して基板Wの表面にスパッタリングを行うものが知られている。図8は、マグネトロンスパッタ用カソードの断面構造図であり、ターゲット34と、前記ターゲット34を裏面側から支持する支持板(バッキングプレート)38と、前記支持板38によって開口部が閉塞されたケース39と、前記ケース39内に設けられた中央磁石31と、この中央磁石と反対の極性で中央磁石31の外周部に設けられた外周磁石32と、前記中央磁石31と外周磁石32とを磁気的に接続するヨーク33とを備えている。前記中央磁石31と外周磁石32とのよって前記ターゲットの表面側に漏洩磁界が形成され、ターゲット34の表面側に凸状となる磁力線が形成される。前記支持板38は、通常、銅板で形成され、SiやITOなどの脆性ターゲット材のターゲットを用いる場合使用される。前記ターゲット34は支持板38に銀ろう付けされ、支持板38を水冷することにより、スパッタによるターゲットの発熱が除去される。
従来、図8に示すように、前記中央磁石31と外周磁石32の磁場強度を同程度として磁場分布をバランスさせることで、ターゲット34の上側に対称な円弧状の磁力線を形成し、この部分にプラズマを閉じ込めることで、高速スパッタリングが実現されるようになった。このようにターゲット上に対称形の磁力線を形成してスパッタリングを行う装置は、平衡マグネトロンスパッタ装置(これを「BMS装置」と略称し、このBMS装置に用いられるカソードをBMS用カソード」という。)と呼ばれている。
近年、図6に示すように、中央磁石1に対して外周磁石2の磁場強度を強くし、意図的に磁場の分布を崩して、ターゲット4に対向して設けられる基板(被処理材)Wに磁力線が伸びるようにした非平衡マグネトロンスパッタ装置(これを「UBMS装置」と略称し、このUBMS装置に用いられるカソードをUBMS用カソードという。)が実用されている。UBMS用カソードでは、外周磁石2からの磁力線の一部が基板W側まで伸びるため、ターゲット4の近傍に収束していたプラズマの一部が磁力線に沿って基板近傍まで到達するようになる。このため、プラズマアシスト効果(イオン照射、電子照射)が働き、低温で低抵抗率の透明性導電膜であるITO(インジウムとスズの酸化物合金)膜が成膜される等の膜質改善がなされる。なお、図6は、カソードの縦断面の半部を示しており、また磁界の分布に直接影響を与えない支持板、ケースは記載省略されている。
前記UBMS用カソードにおける非平衡磁場は、例えば、中央磁石1、外周磁石2として永久磁石を用いる場合、中央磁石1に起磁力の弱いフェライト磁石を、外周磁石2に強いネオジウム磁石を用いることで形成することができる。また、磁石の材質が同じ場合、図7に示すように、外周磁石2に対して中央磁石1のヨーク3からの高さを低くする(磁石体積を小さくする)ようにしたり、また磁石体積を小さくするため、中央磁石1と外周磁石2との高さを同程度とし、中央磁石1の太さを細くすることによっても非平衡磁場を形成することができる。
前記BMS用カソードを用いる場合、特公平6−80187号公報(特許文献1)に記載されているように、中央磁石と外周磁石との間でターゲット表面にプラズマが収束するため、その部位においてターゲットにV形のエロージョンが生じる(図8のターゲット34参照)。このような局所的なエロージョン生じると、ターゲット材の利用効率が極めて低下するという問題がある。
そこで、同文献には、中央磁石と外周磁石との間に位置して、ターゲットの支持板側に磁性体を埋設する技術が提案されている。また、特開2005−008917号公報(特許文献2)には、特許文献1に開示の手法では磁性体を支持板に埋設するのに手間がかかることから、中央磁石と外周磁石との間に位置した磁性体を、非磁性体で形成された支持部材を介してヨークに設けることが提案されている。
特公平6−80187号公報
特開2005−008917号公報
UBMS用カソードの場合、図6に示すように、基板W側へ収束する磁場形状が得られが、起磁力の弱い中央磁石1の影響で中央磁石1の上面と側面から外周磁石2へと繋がる磁力線が形成される。特に中央磁石1の側面からの磁力線は、ヨーク3側に歪んで外周磁石2と繋がる形状となるため、ターゲット4上の磁力線は外周磁石2側に押しやられて偏り、ターゲットの表面上では曲率半径の小さい、ターゲット表面での幅が狭い凸形状となっている。この磁力線形状は、結果として、強いプラズマ閉じ込め効果を狭い凸形状部に集中させ、ここに閉じ込められたプラズマによるスパッタ現象も狭い凸形状部に集中させることとなり、この局所部位でエロージョンが集中的に進展する。
また、図7の場合も、中央磁石1の上端から出る磁力線は、外周磁石2の上端と斜めにつながり、ターゲット4上の凸形状の磁力線は狭い凸形状となっており、ターゲットのエロージョンが局所に集中する。また、中央磁石と外周磁石との高さを同程度とし、中央磁石の幅を外周磁石より小さくした場合も図1と同様、ターゲット上の磁力線は狭い凸形状となる。このような幅の狭い凸形状の磁力線が形成されると、そこでエロージョンが局所的に進行するため、ターゲットの寿命が短くなる。
また、図7の場合も、中央磁石1の上端から出る磁力線は、外周磁石2の上端と斜めにつながり、ターゲット4上の凸形状の磁力線は狭い凸形状となっており、ターゲットのエロージョンが局所に集中する。また、中央磁石と外周磁石との高さを同程度とし、中央磁石の幅を外周磁石より小さくした場合も図1と同様、ターゲット上の磁力線は狭い凸形状となる。このような幅の狭い凸形状の磁力線が形成されると、そこでエロージョンが局所的に進行するため、ターゲットの寿命が短くなる。
そこで、UBMS用カソードの場合においても、ターゲットの利用効率を向上させるには、特許文献1や2と同様に、中央磁石と外周磁石との間に磁性体を設ければよいと考えられる。しかし、発明者がUBMS用カソードに対してそのような対策を講じてマグネトロンスパッタを実施したところ、BMS用カソードの場合のように有効な対策にはならないことが判明した。
図5は、図7に対応したUBMS用カソードにおいて、ターゲット4の裏面側において、中央磁石1と外周磁石2との間に磁性体11を付設したものである。この場合、ターゲット4上の磁力線は歪み、ターゲット4の表面上ではやはり幅の狭い凸状磁力線が形成される。このように前記磁性体11を付設するだけでは、ターゲットの局部的エロージョンを有効に抑制することができない。なお、このような磁力線形態は、図6のように中央磁石と外周磁石とが同等の高さを有し、磁力線が中央磁石の側面から外周磁石にヨーク側に偏ってつながる場合においても同様である。
本発明はかかる問題に鑑みなされたもので、ターゲット利用率が改善されたUBMS用カソードを提供することを目的とする。
図5は、図7に対応したUBMS用カソードにおいて、ターゲット4の裏面側において、中央磁石1と外周磁石2との間に磁性体11を付設したものである。この場合、ターゲット4上の磁力線は歪み、ターゲット4の表面上ではやはり幅の狭い凸状磁力線が形成される。このように前記磁性体11を付設するだけでは、ターゲットの局部的エロージョンを有効に抑制することができない。なお、このような磁力線形態は、図6のように中央磁石と外周磁石とが同等の高さを有し、磁力線が中央磁石の側面から外周磁石にヨーク側に偏ってつながる場合においても同様である。
本発明はかかる問題に鑑みなされたもので、ターゲット利用率が改善されたUBMS用カソードを提供することを目的とする。
本発明のUBMS用カソードは、ターゲットと、このターゲットに対向して設けられた中央磁石と、前記ターゲットに対向すると共に前記中央磁石の外周部に設けられ、前記中央磁石と反対の極性を有する外周磁石と、前記中央磁石と外周磁石とを磁気的に接続するヨークを備え、前記中央磁石と外周磁石とによって前記ターゲットに対向するように設けられた基板に伸びる磁力線が形成される非平衡マグネトロンスパッタ用カソードであって、前記中央磁石と外周磁石とは、中央磁石のターゲット側端部と外周磁石のターゲット側端部とがヨークに対して同一ないしほぼ同一の高さになるように配置されると共に前記中央磁石は磁気的空間部を介して前記ヨークに磁気的に接続され、前記中央磁石と外周磁石とによって前記ターゲットの基板側表面に凸状に形成される磁力線をターゲットの表面に平行になるように制御する磁力線制御部材が前記中央磁石と外周磁石との間に設けられたものである。このカソードにおいて、前記中央磁石及び外周磁石として永久磁石を用いることができる。また、前記磁力線制御部材として磁性体又は磁性材料で形成された磁性体部材あるいは凸状磁力線を打ち消す方向の磁力線を形成する磁石部材を用いることができる。
本発明のUBMS用カソードによると、中央磁石はヨークと磁気的に距離を置いて配置されているので、中央磁石の側面から出る磁力線は、中央磁石自身の側面に繋がるループを形成するようになり、中央磁石の側面から外周磁石に繋がる磁力線が減り、中央磁石のターゲット側端面から外周磁石のターゲット側端面に形成される磁力線は、ヨーク側へ偏らず、ターゲット上で円弧凸状に形成されるようになる。このため、所定の部位に磁力線制御部材を設けることで、ターゲット上の凸状磁力線は容易にターゲット表面と平行になるように平坦化され、幅の広い凸状磁力線ないし平坦状磁力線が容易に形成される。このため、プラズマの収束が緩和され、ターゲットの局所的なエロージョンが抑制され、ターゲット寿命が延びて、ーゲット利用効率が改善される。
本発明のUBMS用カソードによれば、外周磁石から収束する様な形状で基板側に伸びる磁力線形態を維持しつつ、中央磁石の側面から外周磁石に繋がる磁力線が減り、中央磁石のターゲット側端面から外周磁石のターゲット側端面に形成される磁力線はヨーク側へ偏らず、円弧状に形成されるため、磁力線制御部材が有効に作用し、ターゲット上の磁力線は幅の広い凸状ないし平坦形状となる。このため、この部分でトラップされる高密度プラズマも幅広となり、ターゲットのエロージョン領域が広がり、ターゲット寿命およびターゲット利用効率が改善される。
以下、本発明のUBMS用カソードの実施形態を図面を参照して説明する。
図1は第1実施形態に係るUBMS用カソードの半縦断面を示しており、図6に示したUBMS用カソードと同部材は同符号が付されている。また、図6と同様、磁界、磁力線の分布に直接影響しないカソード構成部材、例えば支持板、ケースは記載省略されている。
図1は第1実施形態に係るUBMS用カソードの半縦断面を示しており、図6に示したUBMS用カソードと同部材は同符号が付されている。また、図6と同様、磁界、磁力線の分布に直接影響しないカソード構成部材、例えば支持板、ケースは記載省略されている。
この実施形態にかかるUBMS用カソードでは、中央磁石1はネオジウム磁石で形成され、外周磁石2は中央磁石1より起磁力の強い、中央磁石1より大きなネオジウム磁石で形成されており、中央磁石1と外周磁石2とは各々その上端面がヨーク3から同一高さになるように設置されている。このため、両磁石の上端面からターゲット4までの距離が同一になっている。以上の点は従来と同様であるが、本実施形態では、中央磁石1は軟鉄などの磁性体によって形成されたヨーク3から磁気的空間部7を介して距離を置いて配置されている。また、ターゲット4の裏面側(ターゲット4と図示省略した支持板との間)に、中央磁石1と外周磁石2との間に軟鉄等の磁性体からなる板状の磁性体部材(磁力線制御部材)5が付設されている。なお、前記磁性体の代わりに弱いフェライト磁石等の磁性材料を用いることもできる。
前記磁気的空間部4は、実際にはオーステナイトステンレス鋼やアルミなどの非磁性体を間座部材として用いればよく、前記中央磁石1は、かかる間座部材によってヨーク3に支持される。なお、UBMS用カソードの平面形状については、従来と同様、ターゲットの平面形状に対応して円形や矩形に形成される。
ここで、前記磁性体部材5を設けることなく、前記磁気的空間部7のみを設けた場合の磁力線形状を図2に示す。この際の磁力線形状は、同図に示す様に、起磁力の強い外周磁石2の効果で外周磁石2から収束する様に基板Wまで伸びる磁力線形状を維持しつつ、中央磁石2の上端の磁力線はターゲット4側へ凸な凸形状となるが、中央磁石1はヨーク3と磁気的に距離を持ち、切り離されているので、単独の磁石に近い磁場形状になる。すなわち、中央磁石1の側面から出る磁力線は中央磁石1自身の側面に繋がるループを形成し、中央磁石1の上端面から出る磁力線が外周磁石2とつながるようになるため、ターゲット4の上側に形成されるの凸状の磁力線が外周磁石2側に偏るのを防止することができ、中央磁石1と外周磁石2の間で対称な円弧状の磁力線形状になる。
この状態で、前記磁性体部材5を設けると、図1に示すように、中央磁石1と外周磁石2との間のターゲット4上の円弧状の磁力線は、磁性体部材5にその一部が吸収され、ターゲット4の表面に平行ないしほぼ平行な磁力線が形成され、ターゲット4の上に形成される凸状磁力線はターゲット上で幅の広い凸状ないし平坦状磁力線となる。このため、より広い領域でターゲットエロージョンを生じさせることができ、ターゲット寿命を延長することができ、ターゲット利用効率が向上する。
上記実施形態では、前記磁性体部材5は、ターゲット4の裏側(磁石側)に直接配置したが、磁性体部材5の配置はこれに限るものではなく、ヨーク3に非磁性体で形成された支持部材を介して中央磁石1と外周磁石2との間に配置するようにしてもよい。
また、上記実施形態では、磁力線制御部材として磁力線を吸収する磁性体部材5を用いたが、磁力線制御部材としてはこれに限るものではなく、磁石で構成された磁石部材を用いてもよい。図3は、磁力線制御部材として板状の磁石部材5Aを用いたUBMS用カソードの例であり、中央磁石1と外周磁石2との間のターゲット4上の磁力線と逆向きに磁化された薄い磁石からなる磁石部材5Aを配置したものである。磁石部材としては、図3に限らず、図4に示す様に、中央磁石1と外周磁石2の間に中央磁石1と外周磁石2とによって形成される磁力線の向きと反対方向の向きとなる磁力線が形成されるように複数個の磁石8、8と磁気連結部材9からなる磁石部材5Bとしてもよい。これらの磁石部材5A、5Bを用いた場合も前記磁性体部材5と同様の効果が得られる。
上記実施形態は、一般的なプレーナー型(平板型)マグネトロンスパッタにおけるUBMS用カソードを示したが、本発明は円筒型ターゲットを用いるロータリーマグネトロンスパッタ用カソードに対しても適用することができる。また、中央磁石、外周磁石を構成する磁石としては、永久磁石に限らず、中央にコアを配置した電磁石であってもよい。
1 中央磁石
2 外周磁石
4 ターゲット
5 磁性体部材(磁力線制御部材)
5A,5B 磁石部材(磁力線制御部材)
7 磁気的空間部
2 外周磁石
4 ターゲット
5 磁性体部材(磁力線制御部材)
5A,5B 磁石部材(磁力線制御部材)
7 磁気的空間部
Claims (4)
- ターゲットと、このターゲットに対向して設けられた中央磁石と、前記ターゲットに対向すると共に前記中央磁石の外周部に設けられ、前記中央磁石と反対の極性を有する外周磁石と、前記中央磁石と外周磁石とを磁気的に接続するヨークを備え、前記中央磁石と外周磁石とによって前記ターゲットに対向するように設けられた基板に伸びる磁力線が形成される非平衡マグネトロンスパッタ用カソードであって、
前記中央磁石と外周磁石とは、中央磁石のターゲット側端部と外周磁石のターゲット側端部とがヨークに対して同一ないしほぼ同一の高さになるように配置されると共に前記中央磁石は磁気的空間部を介して前記ヨークに磁気的に接続され、
前記中央磁石と外周磁石とによって前記ターゲットの基板側表面に凸状に形成される磁力線をターゲットの表面に平行になるように制御する磁力線制御部材が前記中央磁石と外周磁石との間に設けられた、非平衡マグネトロンスパッタ用カソード。 - 前記中央磁石及び外周磁石が永久磁石からなる請求項1に記載したカソード。
- 前記磁力線制御部材が磁性体又は磁性材料で形成された磁性体部材からなる請求項1又は2に記載したカソード。
- 前記磁力線制御部材が凸状磁力線を打ち消す方向の磁力線を形成する磁石部材からなる請求項1又は2に記載したカソード。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005368177A JP2007169705A (ja) | 2005-12-21 | 2005-12-21 | 非平衡マグネトロンスパッタ用カソード |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012237047A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | マグネトロンスパッタリングカソード及びスパッタリング装置 |
JP2013508565A (ja) * | 2009-10-26 | 2013-03-07 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | ロータリーマグネトロンマグネットバー、およびこれを含む高いターゲット利用のための装置 |
JP2014095122A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパッタ装置 |
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2005
- 2005-12-21 JP JP2005368177A patent/JP2007169705A/ja active Pending
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