JP2007161517A - F2ガスの製造方法 - Google Patents
F2ガスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007161517A JP2007161517A JP2005358391A JP2005358391A JP2007161517A JP 2007161517 A JP2007161517 A JP 2007161517A JP 2005358391 A JP2005358391 A JP 2005358391A JP 2005358391 A JP2005358391 A JP 2005358391A JP 2007161517 A JP2007161517 A JP 2007161517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- plasma
- pressure
- pump
- storage tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 NF3の分解装置内でNF3ガスをプラズマ分解させ、F2を含む分解ガスを、真空ポンプで排出し、該分解ガスを昇圧用ガスポンプで昇圧したガスを貯蔵タンクに保存する。その後、F2を含む分解ガスを成膜装置等に供給する。さらには、貯蔵タンクの前段に加熱分解装置を具備する。
【選択図】 図1
Description
図1は、F2ガス製造装置の構成の概念図である。本実施例ではガス分解装置に誘導結合型マイクロ波プラズマ発生装置(2.45GHz)を使用した。圧力調整は、圧力調整弁9に圧力計8の信号を送り、0.5kPaに制御した。また圧力調整弁16は、圧力計15での計測値がゲ−ジ圧で0.22MPaGを越えると強制的に開き、0.2MPaGで閉止するように設定した。ガス流通を始める前に、ガスポンプ内にはN2を大気圧で封入し、加熱分解装置18と貯蔵タンク12は真空状態に保持した。まずArガスを0.5SLM流通させ、Arプラズマを発生させた後、NF3を供給し、徐々にAr流量を下げ、NF3流量を増加させた。最終的には2分後にNF3を1.0SLM、Arを0.1SLMとしてプラズマ分解を行った。真空ポンプ10には、ガス供給ボンベ14からArを0.2SLMほど供給した。NF3を流通させ始めるまではパージ弁20から排気した。また、弁21を通してN2をガスポンプに流通させ、圧力調整弁16を介して除害装置を通過させた後、大気中に放出させた。NF3流通開始と共に弁20、21、16を閉止し、貯蔵タンクにガスを捕集した。ドライポンプからの排出ガスをサンプリングし、GCMS(ガスクロマトグラフィー質量分析計)で定性分析を行ったところN2F4、N2F2などの生成は認められなかったため、加熱分解装置18は室温のままで、大凡、2時間ガスを捕集したところで流量計3,4からのNF3とArの供給を止めた。貯蔵タンク内のガスをUV及びGCMSで濃度分析を行った。その結果、F2が65%、N2が22%、Arが13%の組成のガスが得られた。得られたF2ガスの圧力は、0.2MPaGであった。次に、減圧弁22で2次圧を0.1MPaGに調圧して流量計13で流量制御しながらF2ガスの供給を行った。なお真空ポンプからの排出ガスは接ガス部がステンレス鋼、アルミとフッ素樹脂で構成された昇圧用ポンプ(ダイヤフラム型ガスポンプ)11で吸引した。この際、昇圧用ポンプ入り口の圧力は大気圧、出口側の圧力は2.0MPa(ゲージ圧)に設定した。
実施例1と同様の操作手順でNF3流量を4SLMまで増加させ、圧力を1kPaに設定した。真空ポンプ後段のガスを捕集し、GCMS分析を行ったところ、N2F2、N2F4の生成が認められた。そのため、加熱器の温度を200℃に設定したところ、加熱出口ではN2F2、N2F4は消失し、N2とF2、Arの混合ガスを得られた。
加熱器をドライポンプ後段に設置し、実施例2と同様の実験を行った。その結果、N2F2、N2F4は消失していた。
加熱分解装置を捕集タンクの後段に設置し、実施例2と同様の実験を行ったが、実施例3と同様の結果が得られた。
2:Arボンベ
3:NF3用ガス流量計
4:Ar用ガス流量計
5:NF3用圧力調整弁
6:Ar用圧力調整弁
7:プラズマ分解装置
8:圧力計
9:圧力調整弁
10:真空ポンプ
11:昇圧用ポンプ
12:貯蔵タンク(100L)
13:流量計
14:ArもしくはN2もしくは乾燥空気の供給ボンベ又は供給装置
15:圧力計
16:圧力調整弁
17:除害装置(100L)
18:加熱分解装置
19:切り替え弁
20:パージ弁
21:N2流通用弁
22:減圧弁
Claims (2)
- NF3の分解装置内でNF3ガスをプラズマ分解させ、F2を含む分解ガスを、真空ポンプで排出し、該分解ガスを昇圧用ガスポンプで昇圧したガスを貯蔵タンクに保存することを特徴とするF2ガスの製造方法。
- 貯蔵タンクの前段に加熱分解装置を具備したことを特徴とする請求項1記載のF2ガスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005358391A JP4621126B2 (ja) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | F2ガスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005358391A JP4621126B2 (ja) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | F2ガスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007161517A true JP2007161517A (ja) | 2007-06-28 |
JP4621126B2 JP4621126B2 (ja) | 2011-01-26 |
Family
ID=38244836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005358391A Expired - Fee Related JP4621126B2 (ja) | 2005-12-13 | 2005-12-13 | F2ガスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4621126B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007060515A1 (de) | 2007-12-13 | 2009-06-18 | Christof-Herbert Diener | Oberflächenbehandlungsverfahren |
WO2010113576A1 (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガスのin-situガス混合および希釈システム |
WO2013145955A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガスの製造方法とその装置 |
CN113406243A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-09-17 | 沈阳工业大学 | 一种气体分解产物组分检测系统及方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003046244A2 (en) * | 2001-11-26 | 2003-06-05 | Fluorine On Call, Ltd. | Generation, distribution, and use of molecular fluorine within a fabrication facility |
JP2004010478A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Boc Group Inc:The | 吸着精製プロセスを用いるフッ素の回収方法 |
WO2004053198A2 (en) * | 2002-12-06 | 2004-06-24 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for fluorine generation and recirculation |
JP2005061636A (ja) * | 2004-09-10 | 2005-03-10 | Toyo Tanso Kk | ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスの供給方法、半導体製造装置のクリーニングルームのクリーニング方法、ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスを用いる表面処理方法、半導体製造装置、及び表面処理装置 |
-
2005
- 2005-12-13 JP JP2005358391A patent/JP4621126B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003046244A2 (en) * | 2001-11-26 | 2003-06-05 | Fluorine On Call, Ltd. | Generation, distribution, and use of molecular fluorine within a fabrication facility |
JP2004010478A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Boc Group Inc:The | 吸着精製プロセスを用いるフッ素の回収方法 |
WO2004053198A2 (en) * | 2002-12-06 | 2004-06-24 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for fluorine generation and recirculation |
JP2005061636A (ja) * | 2004-09-10 | 2005-03-10 | Toyo Tanso Kk | ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスの供給方法、半導体製造装置のクリーニングルームのクリーニング方法、ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスを用いる表面処理方法、半導体製造装置、及び表面処理装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007060515A1 (de) | 2007-12-13 | 2009-06-18 | Christof-Herbert Diener | Oberflächenbehandlungsverfahren |
WO2009074132A1 (de) * | 2007-12-13 | 2009-06-18 | Christof-Herbert Diener | Oberflächenbehandlungsverfahren |
WO2010113576A1 (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガスのin-situガス混合および希釈システム |
JP2010245226A (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-28 | Central Glass Co Ltd | フッ素ガスのin−situガス混合および希釈システム |
CN102369591A (zh) * | 2009-04-03 | 2012-03-07 | 中央硝子株式会社 | 氟气的当场气体混合及稀释系统 |
WO2013145955A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | セントラル硝子株式会社 | フッ素ガスの製造方法とその装置 |
CN113406243A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-09-17 | 沈阳工业大学 | 一种气体分解产物组分检测系统及方法 |
CN113406243B (zh) * | 2021-07-26 | 2023-08-08 | 沈阳工业大学 | 一种气体分解产物组分检测系统及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4621126B2 (ja) | 2011-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6375756B1 (en) | Method for removing a deposited film | |
US6841141B2 (en) | System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (XFn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers | |
JP4895612B2 (ja) | 排ガス処理方法および排ガス処理装置 | |
CN100480170C (zh) | 用于制备含f2气体的方法和装置以及用于制品表面改性的方法和装置 | |
US6942892B1 (en) | Hot element CVD apparatus and a method for removing a deposited film | |
US10889891B2 (en) | Apparatus for gaseous byproduct abatement and foreline cleaning | |
TW201632224A (zh) | 使用水蒸氣連同氫氣或含氫氣體之電漿減量 | |
JP4621126B2 (ja) | F2ガスの製造方法 | |
TWI247053B (en) | Fluorine gas generator | |
JP2004273750A (ja) | クリーニング方法及び半導体製造装置 | |
US5714011A (en) | Diluted nitrogen trifluoride thermal cleaning process | |
TW200403187A (en) | Apparatus and method for fluorine production | |
JP5037021B2 (ja) | フッ素ガスの供給方法およびその装置 | |
WO2013145955A1 (ja) | フッ素ガスの製造方法とその装置 | |
US7201807B2 (en) | Method for cleaning a deposition chamber and deposition apparatus for performing in situ cleaning | |
JP2012175108A (ja) | 予備の三フッ化窒素を用いるフッ素系のチャンバー洗浄方法 | |
CN112458435B (zh) | 原子层沉积设备及清洗方法 | |
US20140079617A1 (en) | Apparatus for treating a gas stream | |
JP2000323467A (ja) | 遠隔プラズマ放電室を有する半導体処理装置 | |
JP2010058009A (ja) | 三フッ化窒素分解処理方法および三フッ化窒素分解処理装置 | |
TWI551711B (zh) | 薄膜形成裝置及薄膜形成裝置之清潔方法 | |
JP4230169B2 (ja) | フッ素の発生方法 | |
Cigal et al. | On-site fluorine chamber cleaning for semiconductor thin-film processes: Shorter cycle times, lower greenhouse gas emissions, and lower power requirements | |
TW524713B (en) | Method and device for treatment and recovery of CVD waste gas | |
TW201900266A (zh) | 廢氣的減壓除害方法及其裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080827 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100325 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100326 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100823 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101026 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101029 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |