JP2007149962A - ウェハ搬送用ピックアップ - Google Patents
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Abstract
【課題の解決手段】ウェハ搬送用ピックアップ1は、ウェハ10との接触面を、例えばポリシリコンからなるシリコン膜6で被覆してなるもので、シリコン膜6はCVD法で形成すると好適であり、また、シリコン膜6に導電性を高めるための不純物、例えばリン、ボロン、ヒ素、アンチモンなどを添加し、この添加量を調整することで導電性を制御することができる。
【選択図】図1
Description
2 アーム
3 吸気枝路
5 吸気幹路
6 シリコン膜
7 吸気口
9 負圧吸引装置
10 ウェハ
Claims (3)
- ウェハを保持して搬送する絶縁体からなるウェハ搬送用ピックアップであって、ウェハとの接触面をシリコン膜で被覆してなる
ことを特徴とするウェハ搬送用ピックアップ。 - シリコン膜はCVD法で形成してなることを特徴とする請求項1記載のウェハ搬送用ピックアップ。
- シリコン膜に導電性を高めるための不純物を添加してなることを特徴とする請求項1または請求項2記載のウェハ搬送用ピックアップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005342281A JP2007149962A (ja) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | ウェハ搬送用ピックアップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005342281A JP2007149962A (ja) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | ウェハ搬送用ピックアップ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007149962A true JP2007149962A (ja) | 2007-06-14 |
Family
ID=38211001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005342281A Pending JP2007149962A (ja) | 2005-11-28 | 2005-11-28 | ウェハ搬送用ピックアップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007149962A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010109106A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Kyocera Corp | 吸着盤および真空吸着装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0547906A (ja) * | 1991-08-08 | 1993-02-26 | Hitachi Ltd | 板状物保持手段およびそれを用いた装置 |
JPH10298780A (ja) * | 1997-02-20 | 1998-11-10 | Citizen Watch Co Ltd | 絶縁材への被膜形成方法 |
JPH11238780A (ja) * | 1998-02-19 | 1999-08-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体シリコンウエーハ搬送保持具およびこれを用いた半導体プロセス装置 |
-
2005
- 2005-11-28 JP JP2005342281A patent/JP2007149962A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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