JP2007144323A

JP2007144323A - パターン設計方法および液滴配置方法

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Publication number: JP2007144323A
Application number: JP2005343301A
Authority: JP
Inventors: Koichi Mizugaki; 浩一水垣
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2005-11-29
Filing date: 2005-11-29
Publication date: 2007-06-14

Abstract

【課題】インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供すること。
【解決手段】パターン設計方法は、設計パターンを含んだ描画範囲に、２次元的に配列された複数のブロック１を対応付ける工程と、面積の所定割合以上が設計パターンに重なる基準ブロック１Ｒを検出する工程と、検出された基準ブロック１Ｒを有したブロック群１Ｇを重畳ブロック群１ＧＲとして記録する工程と、任意の一つのブロック群１Ｇに隣接する重畳ブロック群１ＧＲの相対位置と数とに応じて、その任意の一つのブロック群１Ｇ内で液滴が配置されるブロック１を決める工程と、を包含している。
【選択図】図３

Description

本発明は、インクジェットプロセスにおいて利用されるパターン設計方法、およびパターン設計方法によって得られた描画データに基づいた液滴配置方法に関する。

液滴吐出装置を用いて線状パターンを形成することが知られている（特許文献１）。

特開２００５−３４８３７号公報

インクジェットプロセスは、設計パターンに応じて、液滴吐出装置から吐出される液滴を物体表面に配置する工程を含む。そして、配置された液滴から実パターンが得られる。ところで、物体表面に液滴が配置されると、その表面上で液滴は濡れ拡がる。このため、実パターンの面積が設計パターンの面積よりも大きくなる。

このことから、実パターンの面積を設計パターンの面積に近づけるためには、液滴の濡れ拡がりの面積が考慮された「描画データ」を生成することが好ましい。描画データとは、液滴を配置すべき位置を示したデータのことであり、液滴吐出装置は、描画データが示す位置に液滴を配置していく。

本発明は上記課題を鑑みてなされ、その目的の一つは、インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供することである。

本発明のパターン設計方法は、設計パターンを含んだ描画範囲に、２次元的に配列された複数のブロックを対応付ける工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを検出する工程Ｂと、前記検出された基準ブロックを有した前記ブロック群を重畳ブロック群として記録する工程Ｃと、任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｄと、を包含している。

本発明のパターン設計方法は、設計パターンを含んだ描画範囲に、２次元的に配列された複数のブロックを対応付ける工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを重畳基準ブロックとして検出する工程Ｂと、任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記基準ブロックを含んだ前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｃと、を包含している。

本発明によれば、コンピュータを用いたパターン設計方法が、設計パターンを含むとともに２次元的に配列された複数のブロックに対応付けられた描画範囲を表すデータを第１の記憶領域に格納する工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、前記第１の記憶領域に格納された情報に基づいて、所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを検出する工程Ｂと、前記検出された基準ブロックを有した前記ブロック群を重畳ブロック群として検出する工程Ｃと、前記重畳ブロック群を識別する情報を第２の記憶領域に記録する工程Ｄと、前記第２の記憶領域に記憶された情報に基づいて、任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｅと、を包含している。

ある態様では、前記工程Ｅは、前記任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、評価値を求める工程Ｅ１と、前記評価値に関連付けられた配置パターンデータセットを変換テーブルから読み出す工程Ｅ２であって、前記配置パターンデータセットは前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを指定するデータである工程Ｅ２と、を含んでいる。

本発明によれば、コンピュータを用いたパターン設計方法が、設計パターンを含むとともに２次元的に配列された複数のブロックに対応付けられた描画範囲を表すデータを第１の記憶領域に格納する工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを重畳基準ブロックとして検出する工程Ｂと、前記重畳基準ブロックを識別する情報を第２の記憶領域に記録する工程Ｃと、前記第２の記憶領域に記録された情報に基づいて、任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記基準ブロックを含んだ前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｄと、を包含している。

ある態様では、前記工程Ｄは、前記任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、評価値を求める工程Ｄ１と、前記評価値に関連付けられた配置パターンデータセットを変換テーブルから読み出す工程Ｄ２であって、前記配置パターンデータセットは前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを指定するデータである工程Ｄ２と、を含んでいる。

好ましくは、前記複数のブロック群に亘って同じ相対位置に位置する前記ブロックへは、同じ走査期間中に前記液滴が配置されるとともに、前記基準ブロックに前記液滴を配置するための前記走査期間は他の前記ブロックに前記液滴を配置するための前記走査期間に先立って行われる場合に、前記基準ブロックに配置された直後の前記液滴が表面上で互いから孤立するように前記複数のブロック群が設定されている。

本発明のある態様によれば、上記パターン設計方法によって決められた前記ブロックに前記液滴を配置する工程を包含した液滴配置方法。

以上のような本発明によって得られる効果の一つは、液滴が配置されることで得られる実パターンの面積が、設計パターンの面積に近づくことである。

（実施形態１）
本実施形態のパターン設計方法は、インクジェットプロセスによってターゲットの表面上に導電パターンを設ける場合に利用される。ここで、インクジェットプロセスは、液滴吐出装置による機能液の配置工程を含んでいる。液滴吐出装置は、好適には、ターゲットを載置するステージと、ステージ上のターゲットに向けて機能液を液滴として吐出するヘッドと、ターゲットに対するヘッドの相対位置が変化するようにステージとヘッドとの少なくとも一方を他方に対して相対移動させる走査機構と、を備えたインクジェット装置である。

以下では、ターゲットの例としてグリーンシートを採用している。そして、本実施形態のパターン設計方法は、図９に示すグリーンシートの表面１０Ａに、２つのランドパターン８Ａ，８Ｂを設ける場合の前工程として実現している。なお、本実施形態では、理解を容易にすることを目的として、２つのランドパターン８Ａ，８Ｂの形状は、どちらも矩形である。

Ａ．設計パターンの作成：
図１（ａ）に示すように、設計パターン２Ａ，２Ｂを含んだ描画範囲図２Ｄを作図する。描画範囲図２Ｄは、描画範囲２を表している。描画範囲２とは、液滴吐出装置が液滴を配置し得る範囲のことである。また、設計パターン２Ａ，２Ｂのそれぞれは、外周と、外周に囲まれた内部と、からなる図形である。ここでの設計パターン２Ａ，２Ｂのそれぞれは、ランドパターン８Ａ，８Ｂ（図９）をそれぞれ表している。なお、描画範囲図２Ｄは、ＣＡＤデータの形態で準備されてもよいし、紙上に描かれてもよい。

Ｂ．グリッドの重畳：
次に、図１（ｂ）に示すグリッド３Ｄを準備する。そして、図１（ｃ）に示すように、グリッド３Ｄを描画範囲２に重ねる。グリッド３Ｄとは、複数のブロック１を規定する仮想的な格子パターンのことである。ここで、複数のブロック１は、Ｘ軸方向、およびＸ軸方向に垂直なＹ軸方向に並んでいる。つまり、複数のブロック１は２次元的に配置されている。そして、このようなグリッド３Ｄを描画範囲２に重ねることで、描画範囲２は、複数のブロック１に対応付けられる。なお、複数のブロック１の位置は、液滴吐出装置のヘッドからの液滴が着弾し得る位置に対応する。また、図１では、紙面の上下方向がＸ軸方向であり、左右方向がＹ軸方向である。

ここで、説明の便宜上、描画範囲２とグリッド３Ｄとを重ね合せた後の工程を説明する前に、グリッド３Ｄによって定義されるブロック１の種類と、その種類に応じたブロック１の表記の仕方と、ブロック１の種類と液滴を配置する順序との間の関係と、を説明する。

Ｂ−１．ブロック１の種類と表記：
本実施形態では、複数のブロック１のそれぞれのＸ軸方向の長さは１１μｍに対応する。また、複数のブロック１のそれぞれのＹ軸方向の長さは１５μｍに対応する。さらに、複数のブロック１のいくつかは、「基準ブロック１Ｒ」（図２）として定義されている。具体的には、基準ブロック１Ｒは、Ｘ軸方向に４個のブロック１毎に位置し、Ｙ軸方向にも４個のブロック１毎に位置している。

そして、図２に示すように、Ｘ軸方向の４個のブロック１と、Ｙ軸方向の４個のブロック１と、で決まる１６個のブロック１の集合毎に、「ブロック群１Ｇ」が定義されている。そして、それぞれのブロック群１Ｇは、それぞれ１つの基準ブロック１Ｒを有している。図２では、それぞれのブロック群１Ｇにおいて左上に位置するブロック１が基準ブロック１Ｒである。

もちろん、ブロック群１Ｇを構成するブロック１の数は、１６個以外でもよい。具体的には、複数のブロック群１Ｇのそれぞれが、Ｌブロック×Ｍブロックのブロック１からなってもよい。そして、この場合には、基準ブロック１Ｒは、Ｘ軸方向にＬ個のブロック１毎に位置し、Ｙ軸方向にＭ個のブロック１毎に位置する。ここで、ＬおよびＭは、それぞれ正の整数である。

また、それぞれのブロック群１Ｇにおける１６個のブロック１のそれぞれを識別する目的で、それら１６個のブロック１のそれぞれは、文字「Ｃ」と２桁のサフィックスとからなる符号（例えばＣ１１）で表記されている。ここで、サフィックスの右側の数値はブロック群１ＧにおけるＹ軸方向に沿った位置を表しており、１から４までの整数である。一方、サフィックスの左側の数値はブロック群１ＧにおけるＸ軸方向の位置を表しており、１から４までの整数である。このような表記にしたがうと、それぞれのブロック群１Ｇにおいて基準ブロック１Ｒは、Ｃ１１である。

さて、上述のように、複数のブロック１のそれぞれは、液滴が配置され得る領域である。本実施形態では、ある１つのブロック１に液滴が配置される場合には、そのブロック１の中心と、配置される液滴の中心とがほぼ一致するように、液滴が配置される。ここで、複数のブロック１のＸ軸方向のピッチは、Ｘ軸方向に隣合う２つの液滴の中心間距離の最小値に対応する。同様に、複数のブロック１のＹ軸方向のピッチは、Ｙ軸方向に隣合う２つの液滴の中心間距離の最小値に対応する。

Ｂ−２．配置パターン：
後に詳細に説明するが、図７（ａ）〜（ｋ）に示すように、ブロック群１Ｇのそれぞれには、互いに異なる１１種類の配置パターンＰ１〜Ｐ１１のいずれかが割り当てられる。そして、例えば、図７（ａ）の配置パターンＰ１が割り当てられたブロック群１Ｇについては、Ｃ１１だけに液滴が配置される。また、図７（ｂ）の配置パターンＰ２が割り当てられたブロック群１Ｇについては、Ｃ１１，Ｃ２１，Ｃ３１，Ｃ４１のみに液滴が配置される。さらに、図７（ｃ）の配置パターンＰ３が割り当てられたブロック群１Ｇについては、Ｃ１１，Ｃ１２，Ｃ１３，Ｃ１４のみに液滴が配置される。そして、図７（ｊ）の配置パターンＰ１０が割り当てられたブロック群１Ｇについては、１６個のブロック１のすべてにそれぞれ液滴が配置される。また、図７（ｋ）の配置パターンＰ１１が割り当てられたブロック群１Ｇについては、１６個のブロック１のいずれにも液滴は配置されない。

Ｂ−３．液滴を配置する順序：
本実施形態では、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、１６個のブロック１に液滴を配置する順序が同じである。具体的には本実施形態では、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、Ｃ１１、Ｃ３１，Ｃ１３，Ｃ３３，Ｃ２１，Ｃ４１，Ｃ２３，Ｃ４３，Ｃ１２，Ｃ３２，Ｃ１４，Ｃ３４，Ｃ２２，Ｃ４２，Ｃ２４，Ｃ４４の順序で、それぞれの液滴が配置される。これを「基本順序」と呼ぶ。ただし、上述のように、ブロック群１Ｇに割り当てられた「配置パターン」によっては、これら１６個のブロック１の全てに液滴が配置されない場合もある。そして、１６個のブロック１の全てに液滴が配置されないブロック群１Ｇに関しては、液滴が配置されないブロック１の順番が「基本順序」においてスキップされる。

例として、表１は、配置パターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ７，Ｐ１０が割り当てられたそれぞれのブロック群１Ｇについて、１６個のブロック１に液滴が配置されるタイミングを示している。

表１における最上段のロウは、１番目から１６番目までの走査期間Ｍ１〜Ｍ１６を示している。これら走査期間Ｍ１〜Ｍ１６は、それらの数字の順番にしたがって実行される。また、表１の２段目のロウは、Ｃ１１からＣ４４までの１６個のブロック１を示している。これら１６個のブロック１の並び方は、上述の「基本順序」にしたがっており、かつ、走査期間Ｍ１〜Ｍ１６に対応している。例えば、表１によれば、１番目の走査期間Ｍ１内では、基本順序の１番目のブロック１（つまりＣ１１）に液滴が配置される。

さらに、表１中の印「○」は、対応するブロック１へ液滴が配置されることを意味している。印「○」がないブロック１への液滴の配置は、スキップされる。そして、表１の最も左のカラムにおける複数の数字のそれぞれは、配置パターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ７，Ｐ１０のそれぞれを示している。

ここで、「走査期間」とは、物体表面に対するヘッドの相対移動が、描画範囲２の全体におよぶために必要な時間期間である。あるいは、１つの「走査期間」とは、１つの種類に属するブロック１（例えばＣ１１）のすべてに、液滴を配置し始めてからし終えるまでの時間期間である。例えば、走査期間Ｍ１は、Ｃ１１のうち、液滴が配置されるべきＣ１１の全てに液滴を配置するための時間期間である。表１に示す例では、走査期間Ｍ１内に、配置パターンＰ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ１０がそれぞれ割り当てられたブロック群１ＧのそれぞれにおけるＣ１１に、液滴が配置される。ただし、表１の例では、走査期間Ｍ１内では、配置パターンＰ５，Ｐ７がそれぞれ割り当てられたブロック群１ＧのそれぞれにおけるＣ１１への液滴の配置は、スキップされる。つまり、このような２つのブロック群１ＧのＣ１１へは、なんら液滴が配置されない。

さて、同じ種類に属するブロック１は、複数のブロック群１Ｇに亘っていずれも同じ相対位置に位置している。例えば、図２上では、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、Ｃ１１はいずれも左上に位置している。また、複数のブロック群１Ｇのそれぞれにおいて、Ｃ４４はいずれも右下に位置している。したがって、本実施形態では、複数のブロック群１Ｇに亘って同じ相対位置に位置するブロック１へは、同じ走査期間内に液滴が配置される。しかも、Ｃ１１に液滴を配置するための走査期間Ｍ１は他の種類のブロック１に液滴を配置するための走査期間Ｍ２からＭ１６のいずれにも先立って行われる。

また、任意の隣合う２つのＣ１１のそれぞれに実際に液滴がそれぞれ配置された場合に、それら２つの液滴が表面上で互いから孤立するように、ブロック１の大きさおよび液滴の着弾径が設定されている。そして、Ｃ１１に液滴が配置された後で、Ｃ１１上の液滴がＣ１１に対して固定される。具体的には、Ｃ１１上で液滴が流動性を失うように、液滴が乾燥させられる。そしてこの結果、たとえ表面１０Ａ（図９）が液滴に対して撥液性を有していても、液滴は表面に対して固定される。

なお、表面１０Ａが液滴に対して撥液性を有している場合には、液滴が表面１０Ａ上で動き易い。したがって、液滴の大きさに対して十分広い面積を有する実パターン（ベタ状の実パターン）を設けようとすると、得られるべた状の実パターンに穴が生じ易い。しかしながら、Ｃ１１上の液滴をＣ１１に固定したうえで、上述の基本順序にしたがって液滴を配置すれば、たとえ表面１０Ａが液滴に対して撥液性を有していても、実パターンに穴が生じ難い。

Ｃ．重畳基準ブロックの検出：
図３以降を参照しながら、描画範囲２とグリッド３Ｄとを重ね合せた後の工程を説明する。

まず、図３に示すように、複数のブロック１のうち、設計パターン２Ａ，２Ｂに重なった面積が所定割合以上のブロック１を、「重畳ブロック」として記録する。具体的には、複数のブロック１のそれぞれについて、面積の５０％以上１００％以下が、設計パターン２Ａ，２Ｂの外周および内部の少なくとも一方に重なるか否かを判定する。そして、この重なりが面積の５０％以上１００％以下であるブロック１は、「重畳ブロック」である。なお、図３では、「重畳ブロック」にはハッチングが付されている。

そして、図４に示すように、「重畳ブロック」として記録されたブロック１のうちから、基準ブロック１Ｒを検出する。本実施形態では、「重畳ブロック」である基準ブロック１Ｒを、「重畳基準ブロック１ＲＲ」と表記する。なお、重畳基準ブロック１ＲＲの検出工程は、目視で行われてもよいし、コンピュータによる画像処理によって行われてもよい。

Ｄ．重畳ブロック群の検出：
次に、図５に示すように、複数のブロック群１Ｇのうちで、重畳基準ブロック１ＲＲを有するブロック群１Ｇを、「重畳ブロック群１ＧＲ」として記録する。図５に示す例では、重畳ブロック群１ＧＲであるブロック群１Ｇには「１」の値を有するフラグが割り当てられており、それ以外のブロック群１Ｇには「０（ゼロ）」の値を有するフラグが割り当てられている。

ここで、ある１つのブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲになるか否かは、そのブロック群１Ｇに対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状に依存する。したがって、描画範囲２内の重畳ブロック群１ＧＲの分布は、設計パターン２Ａ，２Ｂの形状を反映している。

Ｅ．評価値の導出：
そして、任意の一つのブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲか否かの情報と、そのブロック群１Ｇに隣接する重畳ブロック群１ＧＲの相対位置と数と、に応じて、この任意の一つのブロック群１Ｇ内で液滴が配置されるべきブロック１を決める。

具体的には、図６（ａ）に示す評価テーブルを用いて、対象となるブロック群１Ｇの評価値を求める。評価テーブルは、３×３のマトリクスとして定義されている。評価テーブルは、対象となるブロック群１Ｇと、その周りの８つのブロック群１Ｇのそれぞれと、にそれぞれの重み、すなわち係数、を割り当てている。ここでは、対象となるブロック群１Ｇを中心にして、左上、上、右上、左、右、左下、下、および右下に位置するブロック群１Ｇのそれぞれの重みを、それぞれＡ１１、Ａ１２、Ａ１３、Ａ２１、Ａ２３、Ａ３１、Ａ３２、およびＡ３３と表記する。また、対象となるブロック群１Ｇ自体の重みをＡ２２と表記する。

本実施形態では、図６（ｂ）に示すように、Ａ１１の値は、１（＝２⁰）である。同様に、Ａ１２、Ａ１３、Ａ２１、Ａ２３、Ａ３１、Ａ３２、Ａ３３のそれぞれの値は、それぞれ２（＝２¹）、４（＝２²）、８（＝２³）、１６（＝２⁴）、３２（＝２⁵）、６４（＝２⁶）、１２８（＝２⁷）である。また、対象となるブロック群１ＧのＡ２２の値は、２５６＝（２⁸）である。

そして、座標（ｉ，ｊ）に位置するブロック群１Ｇの評価値をｖａ（ｉ，ｊ）と表記すると、ｖａ（ｉ，ｊ）は、下記（式１）で表される。
ｖａ（ｉ，ｊ）
＝Ａ１１・Ｆ（ｉ−１，ｊ−１）
＋Ａ１２・Ｆ（ｉ−１，ｊ）
＋Ａ１３・Ｆ（ｉ−１，Ｊ＋１）
＋Ａ２１・Ｆ（ｉ，ｊ−１）
＋Ａ２２・Ｆ（ｉ，ｊ）
＋Ａ２３・Ｆ（ｉ，ｊ＋１）
＋Ａ３１・Ｆ（ｉ＋１，ｊ−１）
＋Ａ３２・Ｆ（ｉ＋１，ｊ）
＋Ａ３３・Ｆ（ｉ＋１，ｊ＋１）…（式１）

上記（式１）において、Ｆ（ｉ，ｊ）は、描画範囲２内の座標（ｉ，ｊ）に位置するブロック群１Ｇのフラグの値を表している。ここで、ｉおよびｊはそれぞれ整数である。そして、Ｆ（ｉ，ｊ）の値は、「０（ゼロ）」または「１」である。上述のように、あるブロック群１Ｇのフラグが「１」の場合には、そのブロック群１Ｇは重畳ブロック群１ＧＲであり、ブロック群１Ｇのフラグが「０」の場合には、そのブロック群１Ｇは重畳ブロック群１ＧＲでない。なお、評価値の導出の対象となるブロック群１Ｇが描画範囲２の境界に接している場合には、描画範囲２の内側に存在するブロック群１Ｇに関してのみ、上記（式１）を適用する。

このように、まず、対象となるブロック群１Ｇに隣接するブロック群１Ｇのフラグの値と相対位置に応じた重みと、の積の結果を求める。ここでの相対位置とは、評価値の導出の対象となるブロック群１Ｇを基準にした位置のことである。さらに、本実施形態では、対象となるブロック群１Ｇ自体のフラグの値と重みとの積の結果も求める。そして、これら積の結果を加算する。そうすると、対象となるブロック群１Ｇの評価値が得られる。

また、上記（式１）において、ブロック群１Ｇのフラグが「０（ゼロ）」または「１」の２値である。そして、重みＡ１１〜Ａ３３のそれぞれが、相対位置に応じてべき指数が異なる２のべき乗の値である。これらのことから、評価値は、対象となるブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲであるか否かの情報と、対象となるブロック群１Ｇに隣接した重畳ブロック群１ＧＲの相対位置と数との情報と、に応じて、異なる値を取る。

上述のように、ある１つのブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲであるか否かの情報は、その１つのブロック群１Ｇに対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状を反映している。一方で評価値は、対象となるブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲであるか否かの情報に加えて、対象となるブロック群１Ｇに隣接した重畳ブロック群１ＧＲの相対位置と数との情報を含んでいる。このため、ある１つのブロック群１Ｇの評価値は、そのブロック群１Ｇに対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、そのブロック群１Ｇの周囲に対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、を反映している。

評価値は、「０（ゼロ）」から「５１１」までの５１２通りの整数値を取る。そして、本実施形態では、対象となるブロック群１Ｇの評価値が、以下の範囲Ｒ１からＲ２０のいずれか一つの範囲内にある場合に、その対象となるブロック群１Ｇの内部の少なくとも１つのブロック１に液滴が配置される。
・８０以上９５以下の範囲Ｒ１，
・１１２以上１２７以下の範囲Ｒ２，
・２０８以上２２３以下の範囲Ｒ３，
・２４０以上２５５以下の範囲Ｒ４，
・２５６以上２７１以下の範囲Ｒ５，
・２７２以上２８７以下の範囲Ｒ６，
・２８８以上３０３以下の範囲Ｒ７，
・３０４以上３１９以下の範囲Ｒ８，
・３２０以上３３５以下の範囲Ｒ９，
・３３６以上３５１以下の範囲Ｒ１０，
・３５２以上３６７以下の範囲Ｒ１１，
・３６８以上３８３以下の範囲Ｒ１２，
・３８４以上３９５以下の範囲Ｒ１３，
・４００以上４１５以下の範囲Ｒ１４，
・４１６以上４３１以下の範囲Ｒ１５，
・４３２以上４４７以下の範囲Ｒ１６，
・４４８以上４６３以下の範囲Ｒ１７，
・４６４以上４７９以下の範囲Ｒ１８，
・４８０以上４９５以下の範囲Ｒ１９，
・４９６以上５１１以下の範囲Ｒ２０。

一方で、対象となるブロック群１Ｇの評価値が、これら範囲Ｒ１からＲ２０のいずれにも属さない場合には、その対象となるブロック群１Ｇの内部には、なんら液滴は配置されない。なお、ブロック群１Ｇの内部に液滴が配置される場合の評価値は、本実施形態では３１６通りである。

さて、評価値が「２５６」から「５１１」までの範囲内であれば、その評価値を有するブロック群１Ｇ自体が、重畳ブロック群１ＧＲである。ただし、本実施形態によれば、たとえあるブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲであっても、評価値がＲ１からＲ２０のいずれにも属していない場合には、そのブロック群１Ｇにはなんら液滴が配置されない。また、あるブロック群１Ｇが重畳ブロック群１ＧＲでなくても、評価値が範囲Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４のいずれかに属していれば、そのブロック群１Ｇには、少なくとも一つの液滴が配置される。

本実施形態では、描画範囲２内のすべてのブロック群１Ｇについて、それぞれの評価値を導出する。そして、図６（ｃ）に示すように、複数のブロック群１Ｇのそれぞれに、それぞれの評価値を対応付ける。

Ｆ．配置パターンの割り当て：
次に、評価値に基づいて、ブロック群１Ｇに配置パターンを割り当てる。例えば、図７（ａ）に示すように、範囲Ｒ５，Ｒ７のいずれかに属する評価値を有したブロック群１Ｇには、配置パターンＰ１を割り当てる。配置パターンＰ１によれば、ブロック群１Ｇのうち、Ｃ１１だけに液滴が配置される。また、図７（ｂ）に示すように、範囲Ｒ９，Ｒ１１のいずれかに属する評価値を有したブロック群１Ｇには、配置パターンＰ２を割り当てる。配置パターンＰ２によれば、Ｃ１１，Ｃ２１，Ｃ３１，Ｃ４１の４つのみに、液滴が配置される。そして、図７（ｃ）に示すように、範囲Ｒ６，Ｒ８のいずれかに属する評価値を有したブロック群１Ｇには、配置パターンＰ３を割り当てる。配置パターンＰ３によれば、Ｃ１１，Ｃ１２，Ｃ１３，Ｃ１４の４つのみに、液滴が配置される。

さらに、図７（ｄ）から図７（ｋ）についても同様に、評価値に応じて、対応するブロック群１Ｇに、配置パターンＰ４からＰ１１のいずれかが割り当てられる。なお、図７（ｊ）に示すように、配置パターンＰ１０によれば、ブロック群１Ｇにおけるブロック１のすべてにそれぞれの液滴が配置される。一方で、図７（ｋ）に示すように、配置パターンＰ１１によれば、ブロック群１Ｇにおけるいずれのブロック１にも液滴は配置されない。このように、配置パターンＰ１からＰ１１は互いに異なっている。

上述の図６（ｃ）に示す評価値に基づけば、図８に示す描画パターン７Ａ，７Ｂを含んだ描画データ７が得られる。描画データ７は、配置パターンＰ１〜Ｐ１１の分布によって表されている。なお、図８の描画データ７において、液滴が配置されるブロック１にはハッチングが付されている。

そして、図８に示す描画データ７にしたがって液滴を配置する。そうすると、図９に示すように、ターゲットの表面１０Ａ上にランドパターン８Ａ，８Ｂが得られる。得られたランドパターン８Ａ，８Ｂのそれぞれが、「実パターン」の一例である。

上述のように、本実施形態によれば、ブロック群１Ｇに評価値が与えられる。そして、ある１つのブロック群１Ｇの評価値は、そのブロック群１Ｇに対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、そのブロック群１Ｇの周囲に対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、を反映している。したがって、評価値に基づけば、そのブロック群１Ｇが設計パターン２Ａ，２Ｂのどの部分に対応するかが分かる。

例えば、評価値に基づいて、そのブロック群１Ｇが、設計パターン２Ａ，２Ｂの周辺部に対応するのか、内部に対応するのか、が分かる。そして、設計パターン２Ａ，２Ｂの周辺部を示す評価値には、周辺部に適した配置パターンを関連付けておく。また、設計パターン２Ａ，２Ｂの内部を示す評価値には、内部に適した配置パターンを割り当てておく。具体的には、内部に適した配置パターンとは、１６個のブロック１のすべてに液滴を配置させるパターンである。一方で、周辺部に適した配置パターンとは、１６個のブロック１のうちの全てには液滴を配置させないパターンである。

そして、このような配置パターンに応じて液滴が配置されると、設計パターン２Ａ，２Ｂの周辺部での液滴の数を制限できるので、周辺部での液滴の濡れ拡がりが制限される。そして、この結果として、得られる実パターンの面積は設計パターンの面積に近くなる。

このように、本実施形態によれば、上述のパターン設計方法によって得られる描画データ７を用いてインクジェットプロセスを実行するので、得られる２つの実パターンの面積は、それぞれ対応する設計パターン２Ａ，２Ｂの面積にほぼ近くなる。

（実施形態２）
本実施形態は、パターン設計方法がパターン設計装置によって実行される点を除いて、実施形態１と基本的に同じである。以下で説明するように、パターン設計装置１００は、コンピュータである。

図１０に示すパターン設計装置１００は、中央処理装置（ＣＰＵ）１０と、主記憶装置２０と、インターフェース部３０と、外部記憶装置４０と、バス５０と、データ入出力部６０と、バス５０上の通信を制御するコントローラ（不図示）と、を備えている。これらのうち、中央処理装置１０と、主記憶装置２０と、インターフェース部３０と、は、バス５０によって通信可能に接続されている。一方、外部記憶装置４０とデータ入出力部６０とは、それぞれインターフェース部３０を介してバス５０に接続されている。外部記憶装置４０は、ハードディスクドライブによって実現された記憶装置であり、以下で説明するパターン設計装置１００の機能を実現するコンピュータプログラムを記憶している。

また、主記憶装置２０は、ＲＡＭである。そして、主記憶装置２０は、重畳面積格納部２１と、ブロックフラグ格納部２２と、ブロック群フラグ格納部２３と、評価値格納部２４と、係数格納部２５と、ＬＵＴ２６と、を有している。これら重畳面積格納部２１と、ブロックフラグ格納部２２と、ブロック群フラグ格納部２３と、評価値格納部２４と、係数格納部２５と、ＬＵＴ２６とは、いずれも主記憶装置２０における記憶領域上に存在している。

以下では、パターン設計装置１００が行うパターン設計方法を説明する。

まず、図示はされていないが、中央処理装置１０は、データ入出力部６０を介してパターン設計装置１００に供給されるビットマップデータを、主記憶装置２０に格納する。このビットマップデータは描画範囲２を表すデータである。ここでの描画範囲２には、設計パターン２Ａ，２Ｂ（図１）が含まれている。

その後、図１１のステップＳ１では、中央処理装置１０は、描画範囲２と、グリッド３Ｄとを互いに重ね合わせた状態を表すビットマップデータを生成する。ここで、実施形態１で説明した複数のブロック１のそれぞれが、複数のピクセルによって表されるように、グリッド３Ｄの大きさが定義されている。そして、中央処理装置１０は、複数のブロック１のそれぞれについて、設計パターン２Ａ（または２Ｂ）の外周または内部に重なるピクセルの数をカウントするとともに、ブロック１毎に設計パターン２Ａ，２Ｂに重なるピクセルの数を重畳面積格納部２１に格納する。

なお、実施形態１で説明した複数の基準ブロック１Ｒのそれぞれの座標、複数のブロック群１Ｇのそれぞれの座標、および複数のブロック群１Ｇのそれぞれを構成するブロック１の数は、主記憶装置２０に記憶されている。なお、複数のブロック群１Ｇのそれぞれの座標は、それぞれ対応する基準ブロック１Ｒの座標で表されている。

そして、中央処理装置１０は、重畳面積格納部２１に格納された情報に基づいて、複数の基準ブロック１Ｒのうち、面積の５０％以上１００％以下が設計パターン２Ａ，２Ｂに重なる基準ブロック１Ｒを検出する。具体的には、中央処理装置１０は、基準ブロック１Ｒを構成する複数のピクセルの半数以上が設計パターン２Ａ，２Ｂの外周または内部に重なっている基準ブロック１Ｒを検出する。

さらに、ステップＳ２として、中央処理装置１０は、検出された基準ブロック１Ｒを重畳基準ブロック１ＲＲとして記録する。具体的には、中央処理装置１０は、検出された基準ブロック１Ｒのフラグの値を「１」にする。一方で、中央処理装置１０は、面積の０％から５０％未満が設計パターン２Ａ，２Ｂに重なる基準ブロック１Ｒのフラグを、デフォルト値の「０（ゼロ）」のままにする。その後、中央処理装置１０は、それぞれの基準ブロック１Ｒの座標に関連付けて、対応するフラグをブロックフラグ格納部２２に格納する。

なお、ブロックフラグ格納部２２へ基準ブロック１Ｒのフラグを格納する際には、それぞれのフラグは配列型の変数の値として扱われる。例えば、ある１つの基準ブロック１Ｒのフラグは、ＦＢ（ｉ，ｊ）の値としてブロックフラグ格納部２２に格納される。ここで、括弧内のｉおよびｊはいずれも整数であり、ｉおよびｊの組合せは、基準ブロック１Ｒの座標に対応している。

ステップＳ３では、中央処理装置１０は、ブロックフラグ格納部２２に格納された情報（フラグの値）に基づいて、重畳基準ブロック１ＲＲを有するブロック群１Ｇを検出する。そして、検出されたブロック群１Ｇを重畳ブロック群１ＧＲとして記録する。具体的には、中央処理装置１０は、ある１つのブロック群１Ｇに対応する基準ブロック１Ｒのフラグの値が「１」である場合に、そのブロック群１Ｇのフラグの値を「１」にする。一方で、ブロック群１Ｇに対応する基準ブロック１Ｒのフラグの値が「０（ゼロ）」である場合には、ブロック群１Ｇのフラグの値をデフォルト値の「０（ゼロ）」のままにする。そして、中央処理装置１０は、それぞれのブロック群１Ｇの座標に関連付けて、対応するフラグをブロック群フラグ格納部２３に格納する。

なお、ブロック群フラグ格納部２３へブロック群１Ｇのフラグを格納する際には、それぞれのフラグは配列型の変数の値として扱われる。例えば、ある１つのブロック群１Ｇのフラグは、Ｆ（ｉ，ｊ）の値としてブロック群フラグ格納部２３に格納される。ここで、括弧内のｉおよびｊはいずれも整数であり、ｉおよびｊの組合せは、ブロック群１Ｇの座標に対応している。

ステップＳ４では、中央処理装置１０は、ブロック群フラグ格納部２３に格納された情報（フラグの値）に基づいて、複数のブロック群１Ｇのそれぞれの評価値を求める。具体的には、中央処理装置１０は、係数格納部２５から読み出された重みＡ１１〜Ａ３３と、ブロック群フラグ格納部２３から読み出されたＦ（ｉ，ｊ）と、に基づいて、座標（ｉ，ｊ）に位置するブロック群１Ｇの評価値を求める。評価値をｖａ（ｉ，ｊ）とすると、ｖａ（ｉ，ｊ）は下記（式２）から導出される。
ｖａ（ｉ，ｊ）
＝Ａ１１・Ｆ（ｉ−１，ｊ−１）
＋Ａ１２・Ｆ（ｉ−１，ｊ）
＋Ａ１３・Ｆ（ｉ−１，ｊ＋１）
＋Ａ２１・Ｆ（ｉ，ｊ−１）
＋Ａ２２・Ｆ（ｉ，ｊ）
＋Ａ２３・Ｆ（ｉ，ｊ＋１）
＋Ａ３１・Ｆ（ｉ＋１，ｊ−１）
＋Ａ３２・Ｆ（ｉ＋１，ｊ）
＋Ａ３３・Ｆ（ｉ＋１，ｊ＋１）…（式２）

そして、中央処理装置１０は、求めた評価値を、対応するブロック群１Ｇの座標（ｉ，ｊ）に関連付けて評価値格納部２４に格納する。

ステップＳ５では、中央処理装置１０は、評価値格納部２４に格納された評価値に基づいて、配置パターンを得る。具体的には、中央処理装置１０は、評価値をＬＵＴ２６に供給する。ここで、ＬＵＴ２６は、評価値と、評価値に関連付けられた配置パターンを表す配置パターンデータセットと、を記憶している。そして、ＬＵＴ２６は、供給された評価値に関連付けられた配置パターンデータセットを中央処理装置１０に供給する。

配置パターンデータセットとは、図７（ａ）から（ｋ）に示した配置パターンＰ１〜Ｐ１１のいずれかを表すデータセットである。具体的には、配置パターンデータセットは、対応するブロック群１Ｇにおける１６個のブロック１のうちで、液滴を配置すべきブロック１の座標を含んでいる。なお、液滴を配置すべきブロック１の座標は、基準ブロック１Ｒの座標を原点とした相対座標で表されている。

中央処理装置１０が描画範囲２内のブロック群１Ｇの全てについて、それぞれの配置データセット受け取ると、ステップＳ６として、中央処理装置１０は、配置データセットに基づいて描画データ７（図８）を生成する。なお、本実施形態の描画データ７はビットマップデータである。

そして、液滴吐出装置（不図示）は、描画データ７に基づいて、液滴を配置する。そうすると、設計パターン２Ａ，２Ｂに対応するランドパターン８Ａ，８Ｂ（図９）が、グリーンシートの表面１０Ａ上に得られる。なお、上述のように、ランドパターン８Ａ，８Ｂのそれぞれが、「実パターン」の一例である。

上述のように、本実施形態によれば、ブロック群１Ｇに評価値が与えられる。そして、実施形態１において説明したように、ある１つのブロック群１Ｇの評価値は、そのブロック群１Ｇに対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、そのブロック群１Ｇの周囲に対応する部分での設計パターン２Ａ，２Ｂの形状と、を反映している。したがって、評価値に基づけば、そのブロック群１Ｇが設計パターン２Ａ，２Ｂのどの部分に対応するかが分かる。

例えば、評価値に基づいて、そのブロック群１Ｇが、設計パターン２Ａ，２Ｂの周辺部に対応するのか、内部に対応するのか、が分かる。そして、実施形態１において説明したように、設計パターン２Ａ，２Ｂの周辺部を示す評価値には、周辺部に適した配置パターンを関連付けておく。また、設計パターン２Ａ，２Ｂの内部を示す評価値には、内部に適した配置パターンを割り当てておく。具体的には、内部に適した配置パターンとは、１６個のブロック１のすべてに液滴を配置させるパターンである。一方で、周辺部に適した配置パターンとは、１６個のブロック１のうちの全てには液滴を配置させないパターンである。

（変形例１）実施形態１および２では、実パターンは、ランドパターン８Ａ，８Ｂである。ただし、ランドパターン８Ａ，８Ｂに代えて、実パターンは、配線パターンなど、他の導電パターンでもよい。また、実パターンは、絶縁パターンでもよい。また、実施形態１および２では、ターゲットはグリーンシートである。ただし、グリーンシートに代えて、ターゲットは、ポリイミドからなるフレキシブル基板でもよいし、ガラス基板でもよいし、ガラス・エポキシ基板でもよいし、セラミック基板でもよい。また、ターゲットは、多層構造を有する多層基板であってもよい。

（変形例２）実施形態１および２のパターン設計方法によれば、描画範囲２における複数のブロック１のそれぞれについて、設計パターン２Ａ，２Ｂに重なり合う面積を求める。そして、そのうえで、面積の所定割合以上が設計パターン２Ａ，２Ｂに重なり合う基準ブロック１Ｒを検出する。

ただし、このような構成に代えて、基準パターン１Ｒのみについて、設計パターン２Ａ，２Ｂに重なり合う面積を求めてもよい。そして、そのうえで、面積の所定割合以上が設計パターン２Ａ，２Ｂに重なり合う基準ブロック１Ｒを検出してもよい。つまり、描画範囲２に亘って、面積の所定割合以上が設計パターン２Ａ，２Ｂに重なり合う基準ブロック１Ｒを検出できるのであれば、上記２つの方法のどちらが選択されてもよい。

（変形例３）実施形態１および２では、重畳基準ブロック１ＲＲを含んだブロック群１Ｇを検出して、そして、検出されたブロック群１Ｇを重畳ブロック群１ＧＲとして記録する。ただし、重畳基準ブロック１ＲＲを含んだブロック群１Ｇを検出する工程と、検出されたブロック群１Ｇを重畳ブロック群１ＧＲとしてを記録する工程とは、どちらも省略されてもよい。

上記２つの工程を省略する場合には、任意の一つの基準ブロック１Ｒに隣合う基準ブロック１Ｒのうちの重畳基準ブロック１ＲＲの相対位置と数とに応じて、その任意の一つの基準ブロック１Ｒを含んだブロック群Ｇ内で液滴が配置されるべきブロック１を決めればよい。より具体的には、上記（式１）および（式２）が、基準ブロック１Ｒに対して適用されてよい。この場合、（式１）および（式２）におけるＦ（ｉ，ｊ）として、座標（ｉ，ｊ）における基準ブロック１Ｒのフラグが用いられればよい。そして、このような構成によっても、実施形態１および２で説明された効果と同様の効果が得られる。なお、基準ブロック１Ｒのフラグとは、上述のように、その基準ブロック１Ｒが重畳基準ブロック１ＲＲであるか否かを示す情報であり、「１」または「０（ゼロ）」の値を取る。

（ａ）は、描画範囲内に描かれた設計パターンを示す模式図であり、（ｂ）は、描画範囲に重ね合せられるグリッドを示す模式図であり、（ｃ）は、設計パターンとグリッドとを重ね合せた状態を示す模式図である。グリッドによって定義される複数のブロックを示す模式図。描画範囲とグリッドとを重ね合せた状態を示す模式図。重畳基準ブロックを示す模式図。描画範囲におけるブロック群のフラグを示す模式図。（ａ）は、重みを示すマトリクスであり、（ｂ）は、重みの値を示すマトリクスであり、（ｃ）は、描画範囲におけるブロック群の評価値を示す模式図である。（ａ）から（ｋ）は、評価値と配置パターンとの対応を示す説明図である。配置パターンからなる描画データを示す模式図。図８の描画データに基づいて液滴が配置された場合の２つのランドパターンを示す模式図。パターン設計装置を示す模式図。パターン設計装置が行うパターン設計方法のフローチャート。

符号の説明

１…ブロック、１Ｇ…ブロック群、１ＧＲ…重畳ブロック群、１Ｒ…基準ブロック、１ＲＲ…重畳基準ブロック、２Ａ，２Ｂ…設計パターン、２…描画範囲、２Ｄ…描画範囲図、３Ｄ…グリッド、８Ａ，８Ｂ…ランドパターン、１０Ａ…グリーンシートの表面、Ｐ１〜Ｐ１１…配置パターン、Ｍ１〜Ｍ１６…走査期間、１０…中央処理装置、２０…主記憶装置、３０…インターフェース部、４０…外部記憶装置、５０…バス、２１…重畳面積格納部、２２…ブロックフラグ格納部、２３…ブロック群フラグ格納部、２４…評価値格納部、２５…係数格納部、２６…ＬＵＴ、１００…パターン設計装置。

Claims

設計パターンを含んだ描画範囲に、２次元的に配列された複数のブロックを対応付ける工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、
所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを検出する工程Ｂと、
前記検出された基準ブロックを有した前記ブロック群を重畳ブロック群として記録する工程Ｃと、
任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｄと、
を包含したパターン設計方法。
設計パターンを含んだ描画範囲に、２次元的に配列された複数のブロックを対応付ける工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、
所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを重畳基準ブロックとして検出する工程Ｂと、
任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記基準ブロックを含んだ前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｃと、
を包含したパターン設計方法。
コンピュータを用いたパターン設計方法であって、
設計パターンを含むとともに２次元的に配列された複数のブロックに対応付けられた描画範囲を表すデータを第１の記憶領域に格納する工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、
前記第１の記憶領域に格納された情報に基づいて、所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを検出する工程Ｂと、
前記検出された基準ブロックを有した前記ブロック群を重畳ブロック群として検出する工程Ｃと、
前記重畳ブロック群を識別する情報を第２の記憶領域に記録する工程Ｄと、
前記第２の記憶領域に記憶された情報に基づいて、任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｅと、
を包含したパターン設計方法。
請求項３記載のパターン設計方法であって、
前記工程Ｅは、
前記任意の一つの前記ブロック群に隣接する前記ブロック群のうちの前記重畳ブロック群の相対位置と数とに応じて、評価値を求める工程Ｅ１と、
前記評価値に関連付けられた配置パターンデータセットを変換テーブルから読み出す工程Ｅ２であって、前記配置パターンデータセットは前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを指定するデータである工程Ｅ２と、
を含んでいる、
パターン設計方法。
コンピュータを用いたパターン設計方法であって、
設計パターンを含むとともに２次元的に配列された複数のブロックに対応付けられた描画範囲を表すデータを第１の記憶領域に格納する工程Ａであって、前記複数のブロックのそれぞれは液滴が配置され得る領域を表しており、ＬおよびＭがそれぞれ正の整数を表す場合に、それぞれが（Ｌ×Ｍ）個の前記ブロックからなるとともに、いずれも同じ相対位置にある１つの前記ブロックを基準ブロックとして有した複数のブロック群が定義されている工程Ａと、
所定割合以上の面積が前記設計パターンに重なっている前記基準ブロックを重畳基準ブロックとして検出する工程Ｂと、
前記重畳基準ブロックを識別する情報を第２の記憶領域に記録する工程Ｃと、
前記第２の記憶領域に記録された情報に基づいて、任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、前記任意の一つの前記基準ブロックを含んだ前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを決める工程Ｄと、
を包含したパターン設計方法。
請求項５記載のパターン設計方法であって、
前記工程Ｄは、
前記任意の一つの前記基準ブロックに隣合う前記基準ブロックのうちの前記重畳基準ブロックの相対位置と数とに応じて、評価値を求める工程Ｄ１と、
前記評価値に関連付けられた配置パターンデータセットを変換テーブルから読み出す工程Ｄ２であって、前記配置パターンデータセットは前記ブロック群内で前記液滴が配置される前記ブロックを指定するデータである工程Ｄ２と、
を含んでいる、
パターン設計方法。
請求項１から６のいずれか一つに記載のパターン設計方法であって、
前記複数のブロック群に亘って同じ相対位置に位置する前記ブロックへは、同じ走査期間中に前記液滴が配置されるとともに、前記基準ブロックに前記液滴を配置するための前記走査期間は他の前記ブロックに前記液滴を配置するための前記走査期間に先立って行われる場合に、前記基準ブロックに配置された直後の前記液滴が表面上で互いから孤立するように前記複数のブロック群が設定されているパターン設計方法。
請求項１から７のいずれか一つに記載のパターン設計方法によって決められた前記ブロックに前記液滴を配置する工程を包含した液滴配置方法。