JP2007141689A - 荷電粒子ビーム照射装置 - Google Patents
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【課題】荷電粒子ビーム源の複数の縮小光学系から構成された荷電粒子ビーム源を備える荷電粒子ビーム照射装置であって、試料面上では、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができる荷電粒子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源6と、複数の荷電粒子ビーム源6から発生された複数の荷電粒子ビームBを試料5上に収束させるための電子光学系(2、3、4)とを備えた荷電粒子ビーム照射装置10である。複数の荷電粒子ビーム源6から発生された複数の荷電粒子ビームBが試料5上で1つの点状ビームになるように構成または設定されている。
【選択図】図1
【解決手段】荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源6と、複数の荷電粒子ビーム源6から発生された複数の荷電粒子ビームBを試料5上に収束させるための電子光学系(2、3、4)とを備えた荷電粒子ビーム照射装置10である。複数の荷電粒子ビーム源6から発生された複数の荷電粒子ビームBが試料5上で1つの点状ビームになるように構成または設定されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、ウェハ等の試料に荷電粒子ビームを照射し、その試料から放出された2次荷電粒子ビームを検出し、これにより得られた2次電子画像に基づいて試料を観察評価する荷電粒子ビーム照射装置に関する。
従来から、先端TIPの半径Rが0.5〜数μmの熱電解放射型(TFE:Thermal Field Emission)の電子銃(荷電粒子ビーム源)が走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、半導体製造・検査装置などの荷電粒子ビーム照射装置に広く用いられている(例えば、特許文献1参照)。
図4は、従来の荷電粒子ビーム照射装置50の一例を示す。荷電粒子ビーム照射装置50では、電子ビームが使用されており、TFEの発生源51の直径は0.2μm程度とされており、このような電子ビーム源(51)から発生した電子ビームがレンズ系で縮小されて試料面52に照射され、この照射個所では直径5(nm)とされ10(nA)程度の電流が流れている。
特開2003−132834号公報
しかしながら、従来の荷電粒子ビーム照射装置50のように発生源51の直径が0.2μm程度であると、電子ビーム電流を増加させようとすると、発生した電子同士のクーロン力により反発してしまい、電子ビーム径が増大してしまう。例えば、電流I、加速電圧V、電子ビーム源の径Dと、電子ビームのビームウェストΔとの関係は次式(1)で表わされ、100(nm)のビーム径で100(nA)が限界とされる。すなわち、100(nA)の電子ビーム電流値を得るためには、100(nm)のビーム径が必要となる。
Δ ∝ (I/D)V2/3 (1)
そのため、図4に示すように、5 〜 10(nm)ビーム径で100(nA)にするために、電子ビームのクロスオーバを作らないようにすること、磁場重畳させるようにすること等の方法が考えられているが、うまく行かず、極めて細く絞った電子ビームスポットを試料面52上に照射することは極めて困難であった。
そのため、図4に示すように、5 〜 10(nm)ビーム径で100(nA)にするために、電子ビームのクロスオーバを作らないようにすること、磁場重畳させるようにすること等の方法が考えられているが、うまく行かず、極めて細く絞った電子ビームスポットを試料面52上に照射することは極めて困難であった。
そこで、本発明では、荷電粒子ビーム源の複数の縮小光学系から構成された荷電粒子ビーム源を備える荷電粒子ビーム照射装置であって、試料面上では、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができる荷電粒子ビーム照射装置を提供することを目的とする。
上記した課題を解決するために、請求項1に記載の荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、前記複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームが前記試料上で1つの点状ビームになるように構成または設定したことを特徴とする。
請求項2の荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、前記複数の荷電粒子ビーム源の大きさおよび前記電子光学系の縮小倍率から決定される前記試料上で収束された荷電粒子ビームの理想的な大きさを、前記各荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの収差等によるボケの範囲以下となるように構成したことを特徴とする。
請求項3の荷電粒子ビーム照射装置は、荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、前記複数の荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの前記試料上の結像スポット径が、前記各荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの収差等によるボケの径よりも小さくなるように構成したことを特徴とする。
本発明によれば、複数の荷電粒子ビームが前記試料上で1つの点状ビームとされるので、従来の荷電粒子ビーム照射装置に比較して、小さなビーム径であっても大きな荷電粒子ビーム電流を得ることができる。
本発明によれば、試料面上では、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができ、荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームが試料上に結像する領域と、荷電粒子ビームの収差等によるボケとを略同等にすることができる。
数式で表すと、縮小光学系のトータル倍率(縮小系)をβ、光源における、複数の荷電粒子ビーム源を含めた大きさをD、収差などを含めた縮小光学系のスポット径(光源を1個の無限小の線源とした場合)をdとすれば、d>β*Dを満たすようにすれば、複数の荷電粒子ビーム源は、試料面上で重畳することになり、荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームが試料上に結像する領域と、荷電粒子ビームの収差等によるボケとを略同等にするように構成することができる。
また、複数の荷電粒子ビーム源による荷電粒子ビーム発生領域の直径と、荷電粒子ビームが試料上に収束されたときのスポット径との比が所望の割合であるように構成することができる。これにより、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができる。
さらに、試料面上では、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができ、複数の荷電粒子ビーム源からの複数の荷電粒子ビームが試料上に収束された理想的な大きさを、荷電粒子ビームの収差等によるボケの範囲以下とすることができる。
以上述べたように、本発明によれば、荷電粒子ビーム源の複数の縮小光学系から構成された荷電粒子ビーム源を備える荷電粒子ビーム照射装置であって、試料面上では、複数の荷電粒子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができる荷電粒子ビーム照射装置を提供することができる。
以下に、図面を参照しつつ本発明の実施例を説明する。
図1は、本発明に係る荷電粒子ビーム照射装置の一例としての電子ビーム照射装置10を模式的に示す。電子ビーム照射装置10は、本実施例では、電子ビーム源1と、第1のコンデンサレンズ2と、第2のコンデンサレンズ3と、対物レンズ4とを備える。この第1のコンデンサレンズ2、第2のコンデンサレンズ3および対物レンズ4は、電子ビーム照射装置10における電子光学系を構成している。なお、電子光学系は、本実施例に限定されるものではない。
電子ビーム照射装置10では、電子ビーム源1が1次電子ビームを放出し、この1次電子ビームが電子光学系となる第1のコンデンサレンズ2、第2のコンデンサレンズ3および対物レンズ4を経てウェハ等の試料5に照射される。本実施例では、電子ビーム照射装置10は、図示を略すが2次電子ビーム検出装置、画像表示装置等を備える走査型電子顕微鏡であり、照射された試料5から放出された2次電子ビームを2次電子ビーム検出装置等(図示せず。)が検出し、この検出した2次電子ビームに基づいて得られた2次電子画像を画像表示装置等(図示せず。)により表示し、この2次電子画像に基づいて試料を観察評価することができる。
電子ビーム照射装置10の電子ビーム源1には、複数のフィールドエミッションアレイ(図2(a)参照。)が用いられている。図2(a)に示すように、フィールドエミッターアレイの各エミッター6は、本実施例では、3×3すなわち縦3列、横3列で正方形を描くように配置されている。なお、電子ビーム源1としてのフィールドエミッターアレイの各エミッター6は、1列でも任意の行列数でもよい。すなわち、フィールドエミッションアレイの複数の電子ビーム源(各エミッター6)は、縦横3個ずつの合計9個である必要はなく、縦横2個ずつ配置された電子線源でもよく、縦横4個、5個、・・・であってもよい。さらに、矩形状に配置される必要もなく、縦横2個×3個、3個×4個、・・・であってもよく、図2(b)に示すように、円形に配置されていてもよい。ここで、電子ビーム源1は、その光軸(各エミッター6から放射される複数の電子ビームの中心位置)に対して垂直な面上において、光軸を中心とする点対称をなす配置関係となるように、各エミッター6が設けられていることが望ましい。
電子ビーム源1であるフィールドエミッションアレイは、Si基板に配置された複数のMoエミッターと、Si基板と略平行に配置され、且つ、各エミッターの先端用の開口を有するAu引出し電極と、各エミッタ間を絶縁するSi3N4絶縁膜とを備える(特許文献1参照)。
フィールドエミッションアレイは、Siテクノロジーで多数のエミッターを容易に作れる上に、電界放出電子銃であるからエネルギー幅の小さいビームを高輝度で発生させるので、小さいビーム径で大電流を得ることができる。
電子ビーム照射装置10では、図1に示すように、第2のコンデンサレンズ3を透過した電子ビームは、円形の破線で囲まれた範囲を拡大して示しているように、複数の電子ビームが縮小され、ウェハ等の試料5の面上に1個のスポットを形成する。
電子ビーム源1のフィールドエミッションアレイの各エミッター6は、電子ビーム源1からの電子ビームが試料5の面上に結像する領域と、電子ビームの収差等によるボケとを略同等にするように構成または設定されている。
言い換えると、縮小光学系(電子光学系)のトータル倍率(縮小系)をβ、光源における、複数の電子ビーム源を含めた大きさをD、収差などを含めた縮小光学系のスポット径(光源を1個の無限小の線源とした場合)をdとして、d>β*Dを満たすように構成または設定されている。このようにすれば、複数の電子ビーム源は、試料5の面上で重畳する。
図3は、複数の電子ビームが重畳された様子を模式的に示す正面図である。電子ビーム照射装置10では、電子ビーム源1からの電子ビームが第2のコンデンサレンズ3を透過されると、試料5の面上では、各エミッター6からの各電子ビームBが照射されるが、上記した構成または設定により、前述したように3×3に設定された電子ビーム源1のフィールドエミッションアレイの各エミッター6(図2(a)参照。)からの各電子ビームBのボケの範囲S(ボケの径またはボケのスポット径)により、各電子ビームB(の照射範囲)の間に生じる隙間が埋められることとなる。換言すると、針状の電子銃(電子ビーム源1のフィールドエミッションアレイの各エミッター6)から発生した各電子ビームBが、試料5の面上でぼやけて、あたかも1つの点状のビームのように(図3の二点鎖線参照。)試料5の面に照射されることとなる。なお、図3の下方に示すグラフは、電子ビーム源1からの電子ビームの強度分布を模式的に示しており、小さな山は各電子ビームBの強度分布を示し、大きな山は各電子ビームBが重ねられて形成された電子ビーム源1からの電子ビームの強度分布、すなわち1つの点状のビーム(図3の二点鎖線参照。)として試料5の面に照射される電子ビームの強度分布を示している。
また、複数の電子ビーム源による電子ビーム発生領域の直径Rと、電子ビームが試料上に収束されたときのスポット径の大きさrとの比が所望の割合であるように構成する。本実施例では、直径Rは、電子ビーム源1のフィールドエミッションアレイの各エミッター6の設置範囲の直径であり(図2(a)参照。)、スポット径rは、各電子ビームBが重ねられた電子ビームの照射範囲(図3の二点鎖線参照。)である。
このように、電子ビーム照射装置10では、複数の電子ビームが試料5の面上で1つの点状ビームとされるので、従来の電子ビーム照射装置に比較して、小さなビーム径であっても大きな電子ビーム電流を得ることができる。
したがって、本発明に係る電子ビーム照射装置では、電子ビーム源の複数の縮小光学系から構成された電子ビーム源を備える電子ビーム照射装置であって、試料面上では、複数の電子ビームが縮小され、かつ重畳されて、1個のスポットを形成することができる。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく本発明の範囲内で任意好適に変更可能である。例えば、試料としてウェハを掲げたが、これに限定されず、電子ビームによって欠陥を検出可能なパターン等が形成されたマスク等の任意の試料であってもよい。
また、電子ビーム照射装置は、走査型電子顕微鏡に限定されず、半導体製造・検査装置などの電子ビーム照射装置であってもよい。
また、上記した実施例では、電子ビームが使用されていたが、イオンビームなどの荷電粒子ビームであっても適用可能であり、上記した実施例に限定されるものではない。
1 (フィールドエミッションアレイとしての)荷電粒子ビーム源
2 (電子光学系としての)第1のコンデンサレンズ
3 (電子光学系としての)第2のコンデンサレンズ
4 (電子光学系としての)対物レンズ
5 試料
6 (複数の荷電粒子ビーム源としての)エミッタ−
10 荷電粒子ビーム照射装置
B (荷電粒子ビームとしての)電子ビーム
S ボケの範囲
2 (電子光学系としての)第1のコンデンサレンズ
3 (電子光学系としての)第2のコンデンサレンズ
4 (電子光学系としての)対物レンズ
5 試料
6 (複数の荷電粒子ビーム源としての)エミッタ−
10 荷電粒子ビーム照射装置
B (荷電粒子ビームとしての)電子ビーム
S ボケの範囲
Claims (6)
- 荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、
前記複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームが前記試料上で1つの点状ビームになるように構成または設定したことを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。 - 荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、
前記複数の荷電粒子ビーム源の大きさおよび前記電子光学系の縮小倍率から決定される前記試料上で収束された荷電粒子ビームの理想的な大きさを、前記各荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの収差等によるボケの範囲以下となるように構成したことを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。 - 荷電粒子ビームを発生させるための複数の荷電粒子ビーム源と、該複数の荷電粒子ビーム源から発生された複数の荷電粒子ビームを試料上に収束させるための電子光学系とを備えた荷電粒子ビーム照射装置であって、
前記複数の荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの前記試料上の結像スポット径が、前記各荷電粒子ビーム源からの荷電粒子ビームの収差等によるボケの径よりも小さくなるように構成したことを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。 - 前記複数の荷電粒子ビーム源は、光軸に対して垂直な面上において、光軸を中心とする点対称をなす配置関係とされていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム照装置。
- 複数の荷電粒子ビーム源は、複数の針状の電子光学系が近接して配置されたフィールドエミッションアレイであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム照射装置。
- 前記電子光学系は、多段の縮小光学系から構成されることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の荷電粒子ビーム照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005335000A JP2007141689A (ja) | 2005-11-18 | 2005-11-18 | 荷電粒子ビーム照射装置 |
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JP2007141689A true JP2007141689A (ja) | 2007-06-07 |
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JP2005335000A Pending JP2007141689A (ja) | 2005-11-18 | 2005-11-18 | 荷電粒子ビーム照射装置 |
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- 2005-11-18 JP JP2005335000A patent/JP2007141689A/ja active Pending
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