JP2007141488A - 電子線装置及びパターン評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子銃1から放出された電子線は、マルチ開口2、縮小レンズ3、非分散のウィーンフィルタ5、タブレットレンズ10、電磁偏向器11、ビーム分離器12及び対物レンズを構成するタブレットレンズ17を介して試料18上に縮小像を形成する。ビーム分離器12は、2次電子ビームのビーム分離器12内の通過距離が、1次電子ビームのビーム分離器12内の通過距離の3倍程度となるよう構成されているため、ビーム分離器12における磁界を、1次電子ビームを約10度以下の小角度だけ偏向するように設定しても、2次電子ビームを約30度以上偏向させることができ、1次及び2次電子ビームは十分に分離される。また、1次電子ビームを小角度だけ偏向することにより、1次電子ビームに生じる収差が小さい。
【選択図】図1
Description
ビーム分離器は、磁気偏向器であって、1次電子ビーム及び2次電子の一方に対しては通過する領域が短く、他方に対しては通過する領域が前記した短い領域の2倍以上となるように構成されている
ことを特徴としている。
1次電子線を小角度だけ偏向してビーム分離器に入射させるステップと、
ビーム分離器により、1次電子線を試料に対して垂直方向に偏向させて試料に照射するステップと、
ビーム分離器により、試料面から放出された2次電子を大きく偏向して2次電子光学系に導くステップと、
検出器により、2次電子光学系を介して受け取った2次電子を検出するステップと
を含んでいることを特徴としている。
Claims (5)
- 1次電子ビームを試料に照射し、これにより試料から放出される2次電子をビーム分離器で1次電子ビームから分離し、分離された2次電子を2次電子光学系を介して検出するようにした電子線装置において、
ビーム分離器は、磁気偏向器であって、1次電子ビーム及び2次電子の一方に対しては通過する領域が短く、他方に対しては通過する領域が前記した短い領域の2倍以上となるように構成されている
ことを特徴とする電子線装置。 - 請求項1記載の電子線装置において、
ビーム分離器は、2つの磁極面を連接する強磁性体と、該強磁性体に巻回した励磁コイルとからなる
ことを特徴とする電子線装置。 - 請求項1記載の電子線装置において、
2次電子光学系は写像投影光学系であり、
ビーム分離器は、1次電子ビームを偏向させて試料面の法線から小角度傾いた角度で試料上に入射させ、かつ2次電子を偏向する角度がゼロとなるよう構成されている
ことを特徴とする電子線装置。 - 請求項3記載の電子線装置において、
ビーム分離器は、2つの磁極面を連接する強磁性体と、該強磁性体に巻回した励磁コイルとからなり、
2次電子光学系は、その光軸の周囲に、ビーム分離器により生じる磁界が光軸に侵入するのを防止する軸対称シールドを備えている
ことを特徴とする電子線装置。 - 電子線装置により、試料上に形成されたパターンを評価するための評価方法において、
1次電子線を小角度だけ偏向してビーム分離器に入射させるステップと、
ビーム分離器により、1次電子線を試料に対して垂直方向に偏向させて試料に照射するステップと、
ビーム分離器により、試料面から放出された2次電子を大きく偏向して2次電子光学系に導くステップと、
検出器により、2次電子光学系を介して受け取った2次電子を検出するステップと
を含んでいることを特徴とする評価方法。
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- 2005-11-15 JP JP2005329825A patent/JP2007141488A/ja active Pending
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