JP2007138208A - Liquid-wiping device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液体ワイピング装置に関する。 The present invention relates to a liquid wiping apparatus.
一般に、鋼板の製造ラインには、圧延工程、酸洗工程、焼鈍工程等の後に、鋼板の表面にめっきを施すめっき工程が設けられている。このめっき工程においては、溶融金属めっき浴中に、その上方から鋼板を連続的に浸漬させた後、更に、鋼板を溶融金属めっき浴内に設けられたシンクロールにより上向きに方向転換させて引き上げ、この上昇過程においてワイピングすることによりめっきが施される。そして、このワイピング時に用いられるのが液体ワイピング装置である。 In general, a steel sheet production line is provided with a plating process for plating the surface of a steel sheet after a rolling process, a pickling process, an annealing process, and the like. In this plating step, after the steel plate is continuously immersed from above in the molten metal plating bath, the steel plate is further turned upward by a sink roll provided in the molten metal plating bath, Plating is performed by wiping in this ascending process. A liquid wiping device is used during this wiping.
液体ワイピング装置は、溶融金属めっき浴から連続的に引き上げられた鋼板を、対向する一対のワイパー(ノズル)間に通板させると共に、高圧の無酸化ガスを噴射させてワイピングすることにより、鋼板の表面に付着しためっき液の余剰分を掻き取り、めっき層の膜厚を調整するものである。そして、溶融金属めっき浴の表面からワイピング点までは不活性雰囲気で保たれており、これにより、めっき液の酸化を防止している。 The liquid wiping device allows a steel plate continuously pulled up from a molten metal plating bath to pass between a pair of opposing wipers (nozzles) and to inject a high-pressure non-oxidizing gas to perform wiping. The excess of the plating solution adhering to the surface is scraped off to adjust the thickness of the plating layer. The surface from the surface of the molten metal plating bath to the wiping point is maintained in an inert atmosphere, thereby preventing the plating solution from being oxidized.
このような、従来の液体ワイピング装置は、例えば、特許文献1に開示されている。 Such a conventional liquid wiping apparatus is disclosed in Patent Document 1, for example.
しかしながら、従来の液体ワイピング装置においては、ワイパーの据付精度が悪いとノズル同士が対向しなくなるので、無酸化ガスを噴射すると、鋼板の無酸化ガスが衝突した付近では負圧になり易く、特に、鋼板の両端側においてはシール性が低下してしまう。これにより、ノズルから噴射された無酸化ガスが鋼板に衝突した後、鋼板の搬送方向に沿って流れると、この流れとは逆に大気が侵入して、不活性雰囲気の濃度が低下してしまい、酸化物が発生し付着する、即ち、鋼板の品質に影響を与えるおそれがある。 However, in the conventional liquid wiping device, the nozzles do not face each other if the installation accuracy of the wiper is poor, so when non-oxidizing gas is injected, it tends to be negative pressure near the non-oxidizing gas of the steel plate, Sealing performance is deteriorated at both ends of the steel plate. As a result, when the non-oxidizing gas injected from the nozzle collides with the steel sheet and then flows along the direction of conveyance of the steel sheet, the air enters in the opposite direction and the concentration of the inert atmosphere decreases. Oxide is generated and adhered, that is, the quality of the steel sheet may be affected.
従って、本発明は上記課題を解決するものであって、シール性を向上させることにより外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる液体ワイピング装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid wiping device that solves the above-described problems and can reliably prevent the intrusion of an external atmosphere by improving the sealing performance.
上記課題を解決する第1の発明に係る液体ワイピング装置は、
下端が液体浴に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴に浸漬された後引き上げられた帯板を囲むように形成し、
前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする。
A liquid wiping apparatus according to a first invention for solving the above-described problem is
The lower end is immersed in a liquid bath to form a seal box filled with a gas different from the outside atmosphere so as to surround the strip that has been pulled up after being immersed in the liquid bath,
A pair of nozzles arranged oppositely so as to approach and separate in accordance with the thickness of the strip plate across the strip plate discharged from the seal box is provided in multiple stages in the transport direction on the exit side of the opening of the seal box ,
A liquid different from an external atmosphere is jetted from the nozzle toward the band plate to wipe the liquid.
上記課題を解決する第2の発明に係る液体ワイピング装置は、
第1の発明に係る液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする。
A liquid wiping apparatus according to a second invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
In the liquid wiping apparatus according to the first invention,
The gas injected from the nozzle flowing into the seal box is cooled to remove the vaporized component of the liquid and then used as the atmospheric gas for the pretreatment process, while the heat deprived during the cooling of the gas is newly supplied. It is transmitted to the gas to be ejected from the nozzle.
上記課題を解決する第3の発明に係る液体ワイピング装置は、
第1の発明に係る液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする。
A liquid wiping apparatus according to a third invention for solving the above-described problem is
In the liquid wiping apparatus according to the first invention,
The gas injected from the nozzle flowing into the seal box is cooled to remove the vaporized component of the liquid, while the heat taken away during the cooling of the gas is transferred to the newly supplied gas, and the heat transferred The gas is jetted from the nozzle together with the gas from which the vaporized component has been removed.
上記課題を解決する第4の発明に係る液体ワイピング装置は、
内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴の上方に配置し、
液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする。
A liquid wiping device according to a fourth aspect of the present invention for solving the above problem is as follows.
A seal box filled inside with a gas different from the outside atmosphere is placed above the liquid bath,
A pair of nozzles arranged opposite to each other so as to approach and separate in accordance with the thickness of the strip plate across the strip plate that is pulled up after being immersed in the liquid bath is multi-staged in the transport direction on the entrance side of the carry-in entrance of the seal box Provided,
A liquid different from an external atmosphere is jetted from the nozzle toward the band plate to wipe the liquid.
上記課題を解決する第5の発明に係る液体ワイピング装置は、
第1乃至4のいずれかの発明に係る液体ワイピング装置において、
前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設ける
ことを特徴とする。
A liquid wiping apparatus according to a fifth invention for solving the above-described problems is
In the liquid wiping device according to any one of the first to fourth inventions,
A side seal block is provided between the pair of nozzles so as to approach and separate according to the width of the strip.
第1の発明に係る液体ワイピング装置によれば、下端が液体浴に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴に浸漬された後引き上げられた帯板を囲むように形成し、前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングすることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる。 According to the liquid wiping apparatus according to the first aspect of the invention, the belt is pulled up after being immersed in the liquid bath with the seal box filled with a gas different from the outside atmosphere by being immersed in the liquid bath at the lower end. A pair of nozzles, which are formed so as to surround the plate and are arranged so as to approach and separate according to the thickness of the strip plate with the strip plate discharged from the seal box interposed therebetween, are provided at the opening of the seal box. By providing a multi-stage in the transport direction on the side and wiping the liquid by injecting a gas different from the external atmosphere toward the band plate from the nozzle, the sealing performance can be improved, so that the inside of the seal box Intrusion of the external atmosphere can be reliably prevented.
第2の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第1の発明に係る液体ワイピング装置において、前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができ、且つ、熱回収とガスの有効利用とによりランニングコストを低減させることができる。 According to the liquid wiping device of the second invention, in the liquid wiping device of the first invention, the gas jetted from the nozzle that has flowed into the seal box is cooled and the vaporized component of the liquid is removed. While being used as an atmospheric gas in the processing step, the heat taken during cooling of the gas is transferred to the newly supplied gas and injected from the nozzle, so that the sealing performance can be improved. Intrusion of the external atmosphere into the box can be reliably prevented, and the running cost can be reduced by heat recovery and effective use of gas.
第3の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第1の発明に係る液体ワイピング装置において、前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができ、且つ、熱回収とガスの再利用とによりランニングコストを低減させることができる。 According to the liquid wiping apparatus according to the third aspect of the invention, in the liquid wiping apparatus according to the first aspect of the invention, the gas injected from the nozzle that has flowed into the seal box is cooled to remove the vaporized component of the liquid, It is possible to improve the sealing performance by transferring the heat taken during cooling of the gas to the newly supplied gas and injecting the heat transferred gas from the nozzle together with the gas from which the vaporized component has been removed. Therefore, it is possible to reliably prevent the outside atmosphere from entering the seal box, and to reduce the running cost by heat recovery and gas reuse.
第4の発明に係る液体ワイピング装置によれば、内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴の上方に配置し、液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングすることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる。 According to the liquid wiping apparatus according to the fourth aspect of the invention, the seal box filled inside with a gas different from the external atmosphere is disposed above the liquid bath, and the strip is pulled up after being immersed in the liquid bath. A pair of nozzles arranged facing each other so as to approach and separate according to the thickness of the strip is provided in multiple stages in the transport direction on the entrance side of the seal box, and a gas different from the external atmosphere toward the strip Since the sealing property can be improved by wiping the liquid by ejecting the liquid from the nozzle, it is possible to reliably prevent the external atmosphere from entering the seal box.
第5の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第1乃至4のいずれかの発明に係る液体ワイピング装置において、前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設けることにより、前記帯板の両端側においてもシール性を向上させることができる。 According to the liquid wiping device of the fifth invention, in the liquid wiping device according to any one of the first to fourth inventions, the side seal block that approaches and separates according to the width of the band plate between the pair of nozzles. By providing this, it is possible to improve the sealing performance at both ends of the band plate.
以下、本発明に係る液体ワイピング装置を図面を用いて詳細に説明する。図1は本発明の第1実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図、図2は液体ワイピング装置の概略断面図、図3は図2の平断面図、図4は本発明の第2実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図、図5は本発明の第3実施例に係る液体ワイピング装置を備えた塗装設備の概略断面図、図6は本発明の第4実施例に係る液体ワイピング装置を備えた焼鈍炉の概略断面図である。 Hereinafter, a liquid wiping apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 is a schematic cross-sectional view of a molten metal plating facility equipped with a liquid wiping apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid wiping apparatus, FIG. 3 is a plan cross-sectional view of FIG. Is a schematic sectional view of a molten metal plating facility equipped with a liquid wiping device according to a second embodiment of the present invention, FIG. 5 is a schematic sectional view of a coating facility equipped with a liquid wiping device according to a third embodiment of the present invention, FIG. 6 is a schematic sectional view of an annealing furnace equipped with a liquid wiping apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
先ず、図1乃至3を用いて本発明の第1実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備について説明する。 First, a molten metal plating facility equipped with a liquid wiping apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1に示すように、鋼板Sは焼鈍炉1から溶融金属めっき設備2に連続的に供給されている。焼鈍炉1内には搬送ロール3が回転可能に設けられており、この搬送ロール3の回転方向下流側に搬送通路4が形成されている。そして、搬送通路4が溶融金属めっき設備2の溶融金属めっき浴5内と連通されることにより、焼鈍炉1内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の無酸化ガスGが充満され不活性雰囲気に保たれている。
As shown in FIG. 1, the steel sheet S is continuously supplied from the annealing furnace 1 to the molten
一方、溶融金属めっき設備2の下部には、めっき液Mが貯溜される溶融金属めっき浴5が設けられている。この溶融金属めっき浴5内には、搬送される鋼板Sを略鉛直方向上方に搬送させるシンクロール6と、このシンクロール6から搬送される鋼板Sを矯正して溶融金属めっき装置2の上方へ搬送させる上下一対の矯正ロール7とが回転可能に設けられている。
On the other hand, a molten
また、溶融金属めっき浴5の上方にはシールボックス8が設けられている。このシールボックス8の下端は溶融金属めっき浴5に浸漬されており、これにより、シールボックス8内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の無酸化ガスGが充満され不活性雰囲気に保たれている。そして、シールボックス8の上面には開口部9が開口される一方、その側壁には排気口10が形成されている。
A
更に、シールボックス8の上部にはシール材11を介して液体ワイピング装置12が設けられている。この液体ワイピング装置12は騒音低減ケーシング13で覆われており、騒音低減ケーシング13の上面には開口部14が開口されている。この開口部14の上方には、搬送される鋼板Sを挟んで対向するように配置される一対の制振装置15が設けられている。
Furthermore, a
そして、排気口10は気化金属成分除去手段16を介して焼鈍炉1内に連通している。一方、液体ワイピング装置12は気化金属成分除去手段16と加熱手段17とを介してワイピングガス供給装置18に連通されている。
The
次に、図2,3を用いて液体ワイピング装置12を詳細に説明する。図2、3に示すように、液体ワイピング装置12は一対のワイパー21と、一対の側面シールブロック22とから構成されている。ワイパー21は、鋼板Sの厚さ方向において対向すると共に、互いに接近離間するように移動可能に支持されている。一方、側面シールブロック22は、鋼板Sの板幅方向において対向すると共に、互いに接近離間するように移動可能に支持されている。つまり、ワイパー21及び側面シールブロック22は、鋼板Sの板厚(めっきの膜厚)及び板幅に応じてシール材11上を移動できる。なお、図3に示す矢印は、ワイパー21及び側面シールブロック22の移動方向を示している。
Next, the
ワイパー21は、シール材11の上部に配置され、且つ鋼板Sの厚さ方向において対向する一対のケーシング23を備えており、このケーシング23内には板幅方向に延設するチャンバ24が形成されている。このチャンバ24は、上述したワイピングガス供給装置18と気化金属成分除去手段16及び加熱手段17を介して接続されている。そして、チャンバ24の内側(鋼板S側)には板幅以上に延設する上スリットノズル25a及び下スリットノズル25bが形成されている。
The
従って、上述した構成をなすことにより、焼鈍炉1内に搬送された鋼板Sは不活性雰囲気中で焼鈍された後、搬送ロール3の回転により搬送通路4を通り溶融金属めっき浴5内に搬送される。そして、溶融金属めっき浴5内に搬送された鋼板Sは、シンクロール6により略鉛直方向上方に引き上げられると共に、その表面にめっき液Mが付着された後、矯正ロール7間で矯正される。次いで、めっき液Mが付着された鋼板Sは、開口部9からワイパー21間及び側面シールブロック22間に搬送され、スリットノズル25a,25bから噴射される無酸化ガスGによりワイピングされることで、余剰に付着されためっき液Mが掻き取られ、所定の膜厚のめっきが施される。このとき、ワイパー21及び側面シールブロック22は、鋼板Sの搬送速度,板厚,板幅及びめっき膜厚等に応じて、予め所定の位置に配置されている。その後、めっきが施された鋼板Sは、開口部14から排出され次工程へ搬送される。
Therefore, by making the above-described configuration, the steel sheet S conveyed into the annealing furnace 1 is annealed in an inert atmosphere, and then conveyed into the molten
なお、ワイピング時においては、無酸化ガスGの噴射による風切り音が発生するが、液体ワイピング装置12は騒音低減ケーシング13で覆われているので、これらの騒音は外部に漏れることがない。また、搬送時においては、焼鈍、めっき及びワイピングにより鋼板Sに振動が発生するが、制振装置15によりその振動が低減されている。しかも、制振装置15は溶融金属めっき設備2(液体ワイピング装置12)の出側直後、即ち、次工程の入側直前に設けられているので、振動によって次工程での作業を阻害することはない。
At the time of wiping, wind noise is generated by the injection of the non-oxidizing gas G. However, since the
次に、ワイピング時における無酸化ガスGの噴き付け及び循環について説明する。ワイピングガス供給装置18により圧送された無酸化ガスGは、後述する気化金属成分除去手段16を通過することにより熱が伝達され、更に加熱手段17を通過することにより所定の温度に加熱される。そして、加熱された無酸化ガスGは、ワイパー21のチャンバ24内に供給され、スリットノズル25a,25bから鋼板Sに向けて噴射される。スリットノズル25a,25bから噴射された無酸化ガスGは鋼板Sに衝突した後、鋼板Sに沿って上向き及び下向きに流される。
Next, spraying and circulation of the non-oxidizing gas G during wiping will be described. Heat is transmitted to the non-oxidizing gas G fed by the wiping
ここで、上スリットノズル25aから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGは、搬送される鋼板Sと共に開口部14から排出される。一方、下スリット25bから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGは、シールボックス8内に流れ込み、シールボックス8内を不活性雰囲気に保持する。また、上スリットノズル25aから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGと、下スリットノズル25bから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGとは、鋼板Sとワイパー21とに囲まれた空間に流れ込み、その空間において静圧を生じさせ、静圧保持部Pを形成させる。この静圧保持部Pは、溶融金属めっき設備2の外部雰囲気である大気とシールボックス8内との圧力よりも高くなるので、開口部14からの大気の侵入と、開口部9からの無酸化ガスGの排出とを防止している。
Here, the non-oxidizing gas G sprayed from the
つまり、上スリットノズル25aから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGにより大気をシールすると共に、下スリットノズル25bから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGによりめっき液Mのワイピングを行う。一方、上スリットノズル25aから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGと、下スリットノズル25bから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGとにより、静圧保持部Pを形成させ、シール性を向上させている。これにより、大気の侵入を防止でき、溶融金属めっき浴5の浴面からワイピング点までが不活性雰囲気で保たれるので、めっき液Mの酸化が防止される。
That is, the atmosphere is sealed by the non-oxidizing gas G injected from the
また、鋼板Sの板幅に応じて側面シールブロック22を配置させているので、鋼板Sの両端と側面シールブロック22とに囲まれた空間にも静圧保持部Pを形成することができ、鋼板Sの両側方のシール性も向上される。
Moreover, since the
そして、シールボックス8内に流れ込んだ無酸化ガスGは排気口10から排気され、気化金属成分除去手段16を通り焼鈍炉1内に供給される。このとき、排気された無酸化ガスG中には、溶融金属めっき浴5(めっき液M)の一部が気化した成分が含まれている。そこで、気化金属成分除去手段16において、排気された無酸化ガスGをめっき液Mの沸点以下に冷却することにより、めっき液Mの気化した成分を固体にして除去する。これにより、清浄された無酸化ガスGを焼鈍炉1内に供給することができるので、焼鈍炉1内がめっき液Mの気化した成分で汚染されることがない。
Then, the non-oxidizing gas G flowing into the
更に、気化金属成分除去手段16において、排気された無酸化ガスGから奪った熱は、ワイピングガス供給装置18から圧送される無酸化ガスGに伝えられる。これにより、加熱手段17の負荷が低減される。
Further, the heat removed from the exhausted non-oxidizing gas G in the vaporized metal
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス8の開口部9の出側において、ワイパー21及び側面シールブロック22を備え、搬送方向にスリットノズル25a,25bを設けて静圧保持部Pを形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、開口部14からの大気の侵入と、開口部9からの無酸化ガスGの排出とを防止することができる。また、鋼板Sの両側方に側面シールブロック22を備えているので、鋼板Sの両端側においてもシール性を向上させることができる。しかも、ワイピングとシールとを同時に行うことができるので、例えば、従来の液体ワイピング装置のように、シールボックスにシール専用のノズルを設ける必要がなくなるので、簡素な構成とすることができる。
Therefore, according to the liquid wiping apparatus according to the present invention, the
更には、排気された無酸化ガスGを清浄にして焼鈍炉1に供給することにより、ワイピングガス用の無酸化ガスGを焼鈍用のガスと兼用に使用できるので、鋼板Sの製造ライン全体を簡素な構成にするだけでなく、無酸化ガスGの消費を抑制させることができる。そして、排気された無酸化ガスGの清浄時に発生する熱を、新たに供給する無酸化ガスGに伝熱させているので、加熱手段17の負荷を低減させることができる。 Further, by cleaning the exhausted non-oxidizing gas G and supplying it to the annealing furnace 1, the non-oxidizing gas G for wiping gas can be used also as the annealing gas. In addition to the simple configuration, consumption of the non-oxidizing gas G can be suppressed. And since the heat | fever generate | occur | produced at the time of the cleaning of the exhausted non-oxidized gas G is transmitted to the newly supplied non-oxidized gas G, the load of the heating means 17 can be reduced.
図4を用いて本発明の第2実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備について説明する。なお、第1実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。 A molten metal plating facility equipped with a liquid wiping apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member which has the same function as what was demonstrated in 1st Example, and description is abbreviate | omitted.
図4に示すように、鋼板Sは焼鈍炉1から溶融金属めっき設備31に連続的に共有されている。溶融金属めっき浴5には、搬送される鋼板Sを略鉛直方向上方に搬送させる浸漬ロール32が回転可能に設けられている。浸漬ロール32は図示しない軸受により支持されており、この軸受は溶融金属めっき浴5の上方に設けられている。また、シールボックス8の開口部9の出側には、搬送される鋼板Sを挟んで一対のブレード33が設けられている。このブレード33は鋼板Sとの間で所定の角度を有して支持されている。
As shown in FIG. 4, the steel sheet S is continuously shared from the annealing furnace 1 to the molten
更に、液体ワイピング装置12は保温材34で覆われており、この保温材34の上面には開口部35が開口されている。ワイパー21にはスリットノズル25a,25b間に中間スリットノズル25cが形成されている。そして、加熱手段17とワイピングガス供給装置18との間には昇圧手段36が設けられており、排気口10は気化金属成分除去手段16を介してワイピングガス供給装置18と、この昇圧手段36の上流側に接続されている。
Further, the
従って、上述した構成をなすことにより、溶融金属めっき浴5内に搬送された鋼板Sは、浸漬ロール32により略鉛直方向上方に引き上げられると共に、その表面にめっき液Mが付着される。そして、鋼板Sがブレード33間に搬送されることにより、その表面の余剰なめっき液Mが一次的に削ぎ取られる(ワイピング)。次いで、一次的にワイピングされた鋼板Sは、開口部9からワイパー21間及び側面シールブロック22間に搬送される。ここで、更に、スリットノズル25a,25b,25cから噴射される無酸化ガスGにより二次的にワイピングされることで、余剰に付着されためっき液Mが掻き取られ、所定の膜厚のめっきが施される。なお、浸漬ロール32の軸受を溶融金属めっき浴5外に設置しているので、軸受の劣化を抑制させている。
Therefore, by making the above-described configuration, the steel sheet S conveyed into the molten
そして、ワイピングガス供給装置18により圧送された無酸化ガスGは、気化金属成分除去手段16を通過することにより熱が伝達され、また昇圧手段36を通過することにより昇圧され、更に加熱手段17を通過することにより所定の温度に加熱される。そして、昇圧及び加熱された無酸化ガスGは、ワイパー21のチャンバ24内に供給されるが、ワイパー21は保温材34で覆われているので、供給された無酸化ガスGの温度は殆ど低下することがない。そして、無酸化ガスGは、スリットノズル25a,25b,25cから鋼板Sに向けて噴射されて衝突した後、鋼板Sに沿って上向き及び下向きに流される。
Then, the non-oxidizing gas G pumped by the wiping
ここで、上スリットノズル25aから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGは、搬送される鋼板Sと共に開口部14から排出される。一方、下スリット25bから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGは、シールボックス8内に流れ込み、シールボックス8内を不活性雰囲気に保持する。また、中間スリットノズル26cから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGは、上スリットノズル25aから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGと共に静圧を生じさせ、静圧保持部P1を形成させる。一方、中間スリットノズル26cから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGは、下スリットノズル25bから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGと共に静圧を生じさせ、静圧保持部P2を形成させる。これにより、開口部35からの大気の侵入と、開口部9からの無酸化ガスGの排出とを防止している。
Here, the non-oxidizing gas G sprayed from the
つまり、上スリットノズル25aから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGにより大気をシールすると共に、下スリットノズル25bから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGによりめっき液Mのワイピングを行う。一方、上スリットノズル25aから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGと、中間スリットノズル25cから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGとにより静圧保持部P1を形成させると共に、中間スリットノズル25cから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスGと、下スリットノズル25bから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスGとにより静圧保持部P2を形成させることにより、シール性を向上させている。これにより、大気の侵入を防止でき、溶融金属めっき浴5の浴面からワイピング点までが不活性雰囲気で保たれるので、めっき液Mの酸化が防止される。
That is, the atmosphere is sealed by the non-oxidizing gas G injected from the
また、鋼板Sの板幅に応じて側面シールブロック22を配置させているので、鋼板Sの両端と側面シールブロック22とに囲まれた空間にも静圧保持部Pを形成することができ、鋼板Sの両側方のシール性も向上される。
Moreover, since the
そして、シールボックス8内に流れ込んだ無酸化ガスGは排気口10から排気され、気化金属成分除去手段16を通ることで清浄にされ、ワイピングガス供給装置18の下流側に供給される。一方、ワイピングガス供給装置18から圧送された無酸化ガスGは、気化金属成分除去手段16を通ることで伝熱され、清浄にされた無酸化ガスGと合流する。次いで、合流した無酸化ガスGは昇圧及び加熱されて、スリットノズル25a,25b,25cから噴射される。
The non-oxidizing gas G flowing into the
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス8の開口部9の出側において、ワイパー21及び側面シールブロック22を備え、搬送方向にスリットノズル25a,25b,25cを設けて静圧保持部P1,P2を形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、開口部35からの大気の侵入と、開口部9からの無酸化ガスGの排出とを防止することができる。また、鋼板Sの両側方に側面シールブロック22を備えているので、鋼板Sの両端側においてもシール性を向上させることができる。
Therefore, according to the liquid wiping device of the present invention, the
更に、排気口10をワイピングガス供給装置18の下流側に接続させているので、排気した無酸化ガスGを循環させて利用する共に、開口部35から排出した分だけ、無酸化ガスGをワイピングガス供給装置18から供給すればよいので、鋼板Sの製造ライン全体を簡素な構成にするだけでなく、無酸化ガスGの消費を抑制させることができる。これにより、ワイピングガス供給装置18の負荷を低減させることができる。また、ワイピングガス供給装置18から供給される無酸化ガスGにより、循環する無酸化ガスGの温度が低下されるので、昇圧手段36の負荷を低減させることができる。
Further, since the
なお、本実施例においては、スリットノズル25a,25b,25cを3段する構成にしたが、4段以上に構成して、静圧保持部Pを多段に形成させるようにしても構わない。
In the present embodiment, the
図5を用いて本発明の第3実施例に係る液体ワイピング装置を備えた塗装設備について説明する。なお、第1実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。 The coating equipment provided with the liquid wiping apparatus according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member which has the same function as what was demonstrated in 1st Example, and description is abbreviate | omitted.
図5に示す塗装設備41は有害な塗料Nを用いて連続的に搬送される鋼板Sを塗装する装置である。塗装設備41の下部には塗料Nが貯溜される塗料浴42が設けられており、この塗料浴42の上部にはシールボックス8と液体ワイピング装置12が設けられている。そして、チャンバ24には加圧手段43が接続され、排気口10は後処理設備44に接続されている。
The
従って、上述した構成をなすことにより、塗料浴42内に搬送された鋼板Sは略鉛直方向上方に引き上げられることにより、その表面に塗料Nが付着される。そして、塗料が付着した鋼板Sはワイパー21間及び側面シールブロック22(図3参照)間に搬送される。このとき、加圧手段43により昇圧及び昇温されたガスAが圧送され、スリットノズル25a,25bからこのガスAが噴射されることにより、余剰に付着された塗料Nが掻き取られ、所定の膜厚で塗装される。また、上述したように上スリットノズル25aから噴射されて下向きに流れたガスAと、下スリットノズル25bから噴射されて上向きに流れたガスAとにより静圧保持部Pが形成されるので、シール性が向上される。
Therefore, by making the above-described configuration, the steel sheet S transported into the
そして、シールボックス8内に流れ込んだガスAは排気口10から排気される。このとき、排気されたガスA中には塗料浴5(塗料N)の一部が気化した有害成分が含まれているので、後処理設備44においてこの有害成分が除去される。
The gas A flowing into the
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス8の開口部9の出側において、ワイパー21及び側面シールブロック22を備え、搬送方向にスリットノズル25a,25bを設けて静圧保持部Pを形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、ワイパー21間からの大気の侵入と、開口部9からの無酸化ガスGの排出とを防止することができる。また、鋼板Sの両側方に側面シールブロック22を備えているので、鋼板Sの両端側においてもシール性を向上させることができる。
Therefore, according to the liquid wiping apparatus according to the present invention, the
なお、本実施例においては液体ワイピング装置12を塗装設備41に適用したが、例えば、有害な化成処理液を用いて連続的に搬送される鋼板を化成処理する化成処理装置に適用しても構わない。
In the present embodiment, the
図6を用いて本発明の第4実施例に係る液体ワイピング装置を備えた焼鈍炉について説明する。なお、第1実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。 An annealing furnace equipped with a liquid wiping apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member which has the same function as what was demonstrated in 1st Example, and description is abbreviate | omitted.
図6に示すように、鋼板Sは焼鈍炉51に連続的に供給されている。焼鈍炉51には鋼板Sを低露点雰囲気中で焼鈍する低露点雰囲気シールボックス52が設けられており、この低露点雰囲気シールボックス52内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の低露点ガスgにより不活性雰囲気に保たれている。そして、低露点雰囲気シールボックス52において、鋼板Sの入側には入側シール手段66及び加熱手段67が設けられる一方、鋼板Sの出側には出側シール手段68が設けられると共に出側シールボックス69が形成されている。この出側シールボックス69には排気口70排出口71が形成されており、排出口71の入側には液体ワイピング装置12及び乾燥手段72が設けられている。
As shown in FIG. 6, the steel sheet S is continuously supplied to the
また、低露点雰囲気シールボックス52の下面には排出口53及び搬入口54が開口されており、この排出口53及び搬入口54の下方にはシール材11を介して液体ワイピング装置12が設けられている。この液体ワイピング装置12のスリットノズル25a,25bから低露点ガスgが噴射される。
In addition, a
更に、液体ワイピング装置12の下方にはシール材11を介して排出側ケーシング55及び搬入側ケーシング56が設けられている。この排出側ケーシング55には、開口部57、排出路58及び排気口59が形成される一方、搬入側ケーシング56には、搬入路60、開口部61及び排気口62が形成されている。排出路58及び搬入路60の下端は後述する冷却水浴63に浸漬され、排気口59,62は大気に連通している。また、排出路58及び搬入路60の下部には冷却水Wが貯溜される冷却水浴63が設けられており、この冷却水浴63内には排出側シンクロール64及び搬入側シンクロール65が回転可能に設けられている。
Further, a
従って、上述した構成をなすことにより、低露点雰囲気シールボックス52内に搬送された鋼板Sは不活性雰囲気中で加熱手段67により焼鈍された後、排出側シンクロール64の回転により排出口53から排出される。そして、排出側の液体ワイピング装置12においてシールされながら排出側ケーシング55を通り、冷却水浴63内に搬送される。次いで、冷却された鋼板Sは、搬入側シンクロール65の回転により引き上げられ搬入側ケーシング56内に搬送される。このとき、鋼板Sの表面には冷却水Wが多量に付着されている。そして、冷却水Wが付着した鋼板Sは搬入側の液体ワイピング装置12においてワイピング及びシールされ、再び低露点雰囲気シールボックス52内に搬送された後、乾燥手段72により乾燥されて次工程へと排出される。
Therefore, by making the above-described configuration, the steel sheet S conveyed into the low dew point
ここで、鋼板Sを冷却水浴63内で急冷すると、排出側シンクロール64の近傍においては、水蒸気wが発生する。この水蒸気wは排出路58から排出側ケーシング55内に侵入し、開口部57を通り排出口53から低露点雰囲気シールボックス52内に侵入しようとする。しかしながら、低露点雰囲気シールボックス52と排出側ケーシング55との間に液体ワイピング装置12を配置させているので、その侵入を防止できる。つまり、スリットノズル25a,25bから噴射された低露点ガスgにより静圧保持部Pを形成し、シール性を向上させることにより、排出口53からの水蒸気wの侵入及び低露点ガスgとの排出とを防止している。
Here, when the steel sheet S is rapidly cooled in the cooling
一方、搬入側シンクロール65の近傍においても水蒸気wが発生する。鋼板Sの搬入と共に搬入側ケーシング56内の水蒸気wが開口部61を通り搬入口54から低露点雰囲気シールボックス52内に侵入しようとする。しかしながら、低露点雰囲気シールボックス52と搬入側ケーシング56との間に液体ワイピング装置12を配置させているので、その侵入を防止できる。つまり、スリットノズル25a,25bから噴射された低露点ガスgによりワイピングすると共に、静圧保持部Pを形成し、シール性を向上させることにより、搬入口54からの水蒸気wの侵入及び低露点ガスgの排出を防止している。
On the other hand, water vapor w is also generated in the vicinity of the carry-in
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、低露点雰囲気シールボックス52の排出口53の出側及び搬入口54の入側において、ワイパー21及び側面シールブロック22を備え、搬送方向にスリットノズル25a,25bを設けて静圧保持部Pを形成させることができる。これにより、排出口53側においては、シール性を向上させることができるので、水蒸気wの侵入を防止すると共に、低露点ガスgの排出とを防止することができる。一方、搬入口43側においては、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、水蒸気wの侵入を防止すると共に、低露点ガスgの排出を防止することができる。また、鋼板Sの両側方に側面シールブロック22を備えているので、鋼板Sの両端側においてもシール性を向上させることができる。なお、乾燥手段72の搬送方向下流側における液体ワイピング装置12においても、同様の作用効果を得ることができる。
Therefore, according to the liquid wiping apparatus of the present invention, the
ワイピングとシールとを兼用する液体ワイピング装置に適用可能である。 The present invention can be applied to a liquid wiping device that combines wiping and sealing.
1,31,51 焼鈍炉
2 溶融金属めっき設備
5 溶融金属めっき浴
8 シールボックス
9 開口部
12 液体ワイピング装置
16 気化金属成分除去手段
18 ワイピングガス供給装置
21 ワイパー
22 側面シールブロック
23 ケーシング
24 チャンバ
25a 上スリットノズル
25b 下スリットノズル
25c 中間スリットノズル
41 塗装設備
42 塗料浴
52 低露点雰囲気シールボックス
53 排出口
54 搬入口
63 冷却水浴
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする液体ワイピング装置。 The lower end is immersed in a liquid bath to form a seal box filled with a gas different from the outside atmosphere so as to surround the strip that has been pulled up after being immersed in the liquid bath,
A pair of nozzles arranged oppositely so as to approach and separate in accordance with the thickness of the strip plate across the strip plate discharged from the seal box is provided in multiple stages in the transport direction on the exit side of the opening of the seal box ,
A liquid wiping apparatus, wherein the liquid is wiped by ejecting a gas different from an external atmosphere from the nozzle toward the strip.
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする液体ワイピング装置。 The liquid wiping device according to claim 1.
The gas injected from the nozzle flowing into the seal box is cooled to remove the vaporized component of the liquid and then used as the atmospheric gas for the pretreatment process, while the heat deprived during the cooling of the gas is newly supplied. A liquid wiping apparatus, wherein the liquid wiping apparatus transmits the gas to the gas and ejects the gas from the nozzle.
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする液体ワイピング装置。 The liquid wiping device according to claim 1.
The gas injected from the nozzle flowing into the seal box is cooled to remove the vaporized component of the liquid, while the heat taken away during the cooling of the gas is transferred to the newly supplied gas, and the heat transferred A liquid wiping apparatus, wherein gas is ejected from the nozzle together with the gas from which vaporized components have been removed.
液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする液体ワイピング装置。 A seal box filled inside with a gas different from the outside atmosphere is placed above the liquid bath,
A pair of nozzles arranged opposite to each other so as to approach and separate in accordance with the thickness of the strip plate across the strip plate that is pulled up after being immersed in the liquid bath is multi-staged in the transport direction on the entrance side of the carry-in entrance of the seal box Provided,
A liquid wiping apparatus, wherein the liquid is wiped by ejecting a gas different from an external atmosphere from the nozzle toward the strip.
前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設ける
ことを特徴とする液体ワイピング装置。 The liquid wiping apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A liquid wiping apparatus, wherein a side seal block is provided between the pair of nozzles so as to approach and separate according to the width of the strip.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2005
- 2005-11-16 JP JP2005331141A patent/JP2007138208A/en not_active Withdrawn
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